CN102184841A - 晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 - Google Patents
晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102184841A CN102184841A CN2010105934156A CN201010593415A CN102184841A CN 102184841 A CN102184841 A CN 102184841A CN 2010105934156 A CN2010105934156 A CN 2010105934156A CN 201010593415 A CN201010593415 A CN 201010593415A CN 102184841 A CN102184841 A CN 102184841A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- waste water
- board
- ultra
- foundry
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
本发明公开一种晶圆代工机台超纯水回收方法及系统,对晶圆代工机台外输废水采用传感器检测其水质,经控制系统判断后控制阀门使相应管路导通,使符合超纯水回收标准的进入超纯水回收系统;否则进入废水处理系统。由控制系统根据传感器测得的数据控制阀门,使晶圆代工机台外输废水进入相应的管路,从而实现了符合回收标准的超纯水得以进入超纯水回收系统,处理后重新使用,能够使晶圆代工机台废水合理分流,降低了废水处理系统处理负荷和运行成本,同步提高制程纯水回收率,节约了用水。
Description
技术领域
本发明涉及一种超纯水回收方法及系统,尤其是一种应用于半导体制程Wetbench/CMP机台的超纯水回收方法及系统。
背景技术
一般而言,CMP(Chemical Mechanical Planarization,化学机械平坦化)所使用的研磨液都是水溶液、二氧化硅或氧化铁(或其它物质)形成的悬浮液,在氧化物的抛光机制中,水扮演了很重要的角色,湿式工艺中常采用的APM溶液一般是氢氧化铵、过氧化氢和水的混合物,用于制程过程中的清洗。目前在生产过程中,湿法机台使用过后的水均排入FAB厂废水处理系统,但在实际的生产过程中,湿法机台各个处理槽所排水的氨氮或氟含量并不是相同的,存在着相当大的差异,如Wet bench机台APM槽超声波清洗(Mega sonic)排水中的氨氮含量很低,经取样后证实几乎为零,但该排水在机台内部固化为排放至氨氮处理系统;QDR槽(Quick Dump Rinse Tank快速清洗排水槽)排水中氨氮含量在晶片刚进入时最高,在出槽时最低,目前只是粗略依据清洗时间决定排入氨氮处理系统还是超纯水回水系统,以上种种,一方面造成氨氮处理系统负荷和运行成本增加,另一方面使制程水回收率降低,并造成可回收纯水的浪费。
发明内容
针对以上缺陷,本发明的目的是提供一种晶圆代工机台超纯水回收方法及系统,可有效解决以上存在的问题。
为实现上述目的,本发明通过以下技术方案实现:
一种晶圆代工机台超纯水回收方法,对晶圆代工机台外输废水采用传感器检测其水质,经控制系统判断后控制阀门使相应管路导通,使符合超纯水回收标准的进入超纯水回收系统;否则进行入废水处理系统。
根据对回收超纯水所需参数的要求不同,传感器可采用电导率计或PH计。
所述控制系统在现场采用PLC作为控制器,数据可上传至中控室SCADA系统。
同时提供一种采用上述方法的晶圆代工机台超纯水回收系统,包括检测水质的传感器、控制系统、控制阀门和分别与超纯水回收系统和废水处理系统相连的并联管路,控制系统根据传感器测得的数据控制阀门,使晶圆代工机台外输废水进入相应的管路;所述传感器采用电导率计或PH计;所述控制系统在现场采用PLC作为控制器;所述控制阀门为气动阀或电动阀;所述废水为氨氮废水、含氟废水或一般酸废水;所述晶圆代工机台为Wet bench、CMP或Diff的tuber washer、parts clean机台。
本发明所述的晶圆代工机台超纯水回收方法及系统,由控制系统根据传感器测得的数据控制阀门,使晶圆代工机台外输废水进入相应的管路,从而实现了符合回收标准的超纯水得以进入超纯水回收系统,处理后重新使用,能够使湿机台废水合理分流,降低了废水处理系统处理负荷和运行成本,同步提高制程纯水回收率,节约了用水。
附图说明
下面根据实施例与附图对本发明作进一步详细说明。
图1是本发明所述晶圆代工机台超纯水回收系统的一个具体实施例。
图中:
1、QDR槽;2、APM槽;3、湿法机台;4、电导率计;5、管路;6、PLC控制器;7、SCADA系统;8、气动阀。
具体实施方式
如图1所示,给出了本发明所述湿法机台超纯水回收系统的一个具体实施例。其所采用的方法为:对湿法机台外输废水采用传感器检测其水质,经控制系统判断后控制阀门使相应管路导通,使符合超纯水回收标准的进入超纯水回收系统;否则进入氨氮处理系统。具体如下:
湿机台3内的QDR槽1和APM槽2的废水均引入管路5,管路5上安装有在线检测水质情况的电导率计4,对管路中的废水水质的电导率数值实时进行检测,并输入现场安装的PLC控制器6,并且可进一步上传至中控室SCADA系统7进行监控;分别与超纯水回收系统和氨氮处理系统相连的并联管路均同管路5连接,并各自串接有气动阀8,气动阀8在PLC控制器6的作用下进行启闭,当电电导率计4测得废水电导率值达到可回收超纯水指标时,与超纯水回收系统相连的气动阀8开启,废水流入超纯水回收系统进行再处理;否则氨氮处理系统相连的气动阀8开启,废水流入氨氮处理系统进行处理。
上述实施例中所采用的电导率计,根据对回收超纯水所需参数的要求不同,传感器可选用电导率计或PH计,并以相应测得的数值作为气动阀8控制废水排放去向的依据,将废水合理分流,从而可降低氨氮废水处理系统的处理负荷和运行成本,提高制程水回收率、节约用水。
以上显示和描述了本发明的主要特征以及所具有的优点,本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,所述方法可应用于Wet bench、CMP或Diff的tuber washer、parts clean机台,在不脱离本发明主旨和范围的前提下本发明还会有一些变化与改进,如改变控制器的类型,采用电动阀代替气动阀等,这些变化和改进都落入本发明要求保护的范围内。
Claims (5)
1.一种晶圆代工机台超纯水回收方法,其特征在于:对晶圆代工机台外输废水采用传感器检测其水质,经控制系统判断后控制阀门使相应管路导通,使符合超纯水回收标准的进入超纯水回收系统;否则进入废水处理系统。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆代工机台超纯水回收方法,其特征在于:所述传感器采用电导率计或PH计。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆代工机台超纯水回收方法,其特征在于:所述控制系统在现场采用PLC作为控制器,数据可上传至中控室SCADA系统。
4.一种采用权利要求1所述方法的晶圆代工机台超纯水回收系统,其特征在于:包括检测水质的传感器、控制系统、控制阀门和分别与超纯水回收系统和废水处理系统相连的并联管路,控制系统根据传感器测得的数据控制阀门,使晶圆代工机台外输废水进入相应的管路;
所述传感器采用电导率计或PH计;
所述控制系统在现场采用PLC作为控制器;
所述控制阀门为气动阀或电动阀;
所述废水为氨氮废水、含氟废水或一般酸废水。
5.根据权利要求4所述的晶圆代工机台超纯水回收系统,其特征在于:所述晶圆代工机台为Wet bench、CMP或Diff的tuber washer、parts clean机台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010105934156A CN102184841A (zh) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010105934156A CN102184841A (zh) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102184841A true CN102184841A (zh) | 2011-09-14 |
Family
ID=44570997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010105934156A Pending CN102184841A (zh) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102184841A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103408081A (zh) * | 2013-08-29 | 2013-11-27 | 浙江省质量检测科学研究院 | 实验室测试用连续水源水质调节系统和供水方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1447395A (zh) * | 2002-03-27 | 2003-10-08 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理装置 |
CN1531029A (zh) * | 2003-03-12 | 2004-09-22 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN1649100A (zh) * | 2004-07-23 | 2005-08-03 | 王文 | 高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法 |
CN101149570A (zh) * | 2006-09-21 | 2008-03-26 | 英志企业股份有限公司 | 光罩回收处理方法 |
JP2008109124A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 剥離装置および半導体装置の製造装置 |
-
2010
- 2010-12-17 CN CN2010105934156A patent/CN102184841A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1447395A (zh) * | 2002-03-27 | 2003-10-08 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理装置 |
CN1531029A (zh) * | 2003-03-12 | 2004-09-22 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN1649100A (zh) * | 2004-07-23 | 2005-08-03 | 王文 | 高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法 |
CN101149570A (zh) * | 2006-09-21 | 2008-03-26 | 英志企业股份有限公司 | 光罩回收处理方法 |
JP2008109124A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 剥離装置および半導体装置の製造装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103408081A (zh) * | 2013-08-29 | 2013-11-27 | 浙江省质量检测科学研究院 | 实验室测试用连续水源水质调节系统和供水方法 |
CN103408081B (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-25 | 浙江省质量检测科学研究院 | 实验室测试用连续水源水质调节系统和供水方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11498852B2 (en) | Ultrapure water generation and verification system | |
US10562151B2 (en) | Slurry supply and/or chemical blend supply apparatuses, processes, methods of use and methods of manufacture | |
EP2920662A1 (en) | Slurry and/or chemical blend supply apparatuses | |
JP2017143190A (ja) | 基板処理装置用排水システム、排水方法及び排水制御装置並びに記録媒体 | |
CN208913880U (zh) | 研磨液过滤系统、研磨液供应系统及化学机械研磨设备 | |
CN208568759U (zh) | 基于互联网的测量水污染装置 | |
JP2009023061A (ja) | 金属イオン成分の除去・低減方法及び装置 | |
CN102184841A (zh) | 晶圆代工机台超纯水回收方法及系统 | |
CN100467227C (zh) | 化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法 | |
CN109008861A (zh) | 清洗装置及清洗设备 | |
CN108704448A (zh) | 一种带钢酸洗线酸雾处理系统及其控制方法 | |
CN112864050A (zh) | 一种晶圆清洗装置、控制方法、控制器及系统 | |
CN201455812U (zh) | 简易式研磨液供应系统 | |
TWI630639B (zh) | 半導體晶片濕式清洗設備 | |
US20220339757A1 (en) | Polishing liquid supply system, polishing apparatus, exhausting method and polishing method | |
JP2000263441A (ja) | 研磨剤スラリの再利用方法及び装置 | |
CN101683723B (zh) | Cmp设备的死机报警装置 | |
US6953044B2 (en) | Drained water recovery system and method for operating the same | |
CN208561797U (zh) | 一种全自动电絮凝极板清洗系统 | |
CN207641447U (zh) | 一种反应釜压缩空气转料装置 | |
TWI850253B (zh) | 超純水產生及檢定系統 | |
CN219626605U (zh) | 晶硅太阳能电池硅片智能清洗控制系统 | |
CN201000559Y (zh) | 结晶落水池处理水的检测处理装置 | |
TW201302620A (zh) | 排水處理裝置 | |
EP2898377A1 (en) | A method and an apparatus for detecting a transition from a first phase to a second phase |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20110914 |