TW593443B - Organosiloxane polymer, photo-curable resin composition, patterning process, and substrate protective coating - Google Patents

Organosiloxane polymer, photo-curable resin composition, patterning process, and substrate protective coating Download PDF

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Takafumi Ueda
Tomoyoshi Furihata
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Description

593443 A 7 _ B7_ 五、發明説明（1 ) 發明所屬的技術領域 本發明係有關有機矽氧系高分子化合物及含有此化合 物之光硬化性樹脂組成物與其圖型之形成方法，再者採用 此組成物之基板保護用被膜。 習知技術 有機矽氧系光硬化性樹脂組成物，係較合適用作保護 被覆膜，剝離塗料，再者微細加工用光阻等的材料。 向來，至於該種有機矽氧系光硬化性樹脂組成物，以 使用酸發生劑係爲人所知的。例如至於酸發生劑已知有使 用二芳香基鎭鹽之含有環氧基之有機矽氧烷系樹脂組成物· (日本特開昭55 — 105672號公報），或至於酸發 生劑已知有使用鐵鹽之含有乙烯基醚基之有機矽院系樹 脂組成物（日本特表昭5 9 — 5 0 0 5 2 2號公報）等。 然而，於此等樹脂組成物，由於與酸發生劑間之相容 性較惡劣，故僅可使用特定的酸發生劑，有僅可利用有限 的波長之光源的問題。又至於微細加工用光阻材料，已使 用此等的樹脂組成物之情形，樹脂之光硬化物性不足，有 未能良好的形成微細的圖案之缺點。 另一方面，至於上述微細加工用光阻材料，已知有甲 酚酚醛淸漆樹脂或聚羥基苯乙烯樹脂與烷氧基甲基化胺基 樹脂及酸發生劑而成的樹脂組成物（日本特開平4 一 1 3 6 8 6 0號公報）。然而由此樹脂組成物所形成的光 阻，係具有耐氧氣乾鈾性低劣的缺點。又採用上述的組成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 請 先 閲 讀 背 面 之 注
J 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4- 593443 A7 B7 五、發明説明（2 ) 物作爲對基材之保護絕緣材料之情形時，有對基材之接著 性並不足夠的本質問題。 (請先閱讀背面之注意事項#^>^荑) 發明欲解決的課顆 本發明係有鑑於上述實情而完成者，以提供新穎的有 機矽氧烷系高分子化合物，及以寬幅較廣的波長之光可曝 光且不受氧氣障礙可容易形成薄膜之光硬化性樹脂組成物 ，及可形成耐乾蝕性優越的微細的圖案之圖案形成t輯· 再者耐絕緣電壓較高對基板之附著性亦優越的基板保護用 被膜爲目的。 爲解決課顥而採的手段 s 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明人爲達成上述目的，經精心檢討，結果發含 有具有以下述一般式（1 )表示的重複單位之重量平分 子量500〜200，000之有機矽氧烷系高分子化合 物之後述的組成之光硬化性樹脂組成物，於寬幅較廣的波 長之光可曝光且不受氧氣障礙下可容易形成薄膜，藉由後 述的圖案形成方法，可形成耐乾鈾性優越的微細的圖案， 再者由此光硬化性樹脂組成物及圖案形成方法而得的硬化 被膜得知與基板間之附著性，耐熱性，電氣絕緣性優越一 事，以至完成本發明。 R1 R2 ΗΟ • Si ——^CH；
(1) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 593443 A7 B7 五、發明説明（3 ) (式內，R1〜R4表示可爲相同或不同的碳數1〜8之一 價烴基。又，η表示1〜1〇〇〇之整數）。 因此，本發明係以含有由 (I )以下述一般式（1 )表示的重複單位之重量平 均分子量500〜200，000之有機矽氧烷系高分子 化合物， f R1 R2 ΗΟ Si-{〇-Si-HCH2 R3 R4
(請先閲讀背面之注意事項再本頁) (1) (式內’ R1〜R4表示可爲相同或不同的碳數1〜8之一 價烴基。又，η表示1〜1〇〇〇之整數）。 (II) ( A ) (I)記載的有機矽氧烷系高分子化 合物， (B )由甲醛或甲醛一醇改質的胺基縮合物，於一分 子中平均具有二個以上的羥甲基或烷氧基羥曱基之酚化合 物及一分子中平均具有二個以上的環氧基之環氧基選出的 任一種以上， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (C )光酸發生劑爲特徵之光硬化性樹脂組成物， (I I I )含有（i )將（I I )記載之光硬化性樹 脂組成物塗布於基板上的步驟， (i i)介由光罩以波長150〜450nm之光曝 光的步驟， (i i i )用顯影液顯影的步驟 爲特徵之圖案形成方法， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6 - 593443 Α7 Β7 £、發明説明（4 ) (I V)使由（I I I )之方法經予成圖案的薄膜後 硬化而得的基板保護用被膜。 發明之實施形態 以下更詳細說明本發明。 本發明之有機矽氧烷系高分子化合物，係具有以下述 一般式（1 )表示的重複單位之重量平均分子量5 0 0〜 200，000之有機矽氧烷系高分子化合物，
(請先閲讀背面之注意事項再本頁) (1) (式內，R1〜R4表示可爲相同亦可爲不同的碳數1〜8 ，宜爲1〜6之烴基。具體而言，可舉出甲基，乙基，丙 基，異丙基，正丁基，第三丁基，環己基等的直鏈狀，枝 鏈狀或環狀的烷基，乙烯基，烯丙基，丙烯基，丁烯基， 己烯基，環己烯基的直鏈狀，枝鏈狀或環狀的烯基，苯基 ，甲苯基等的芳香基，苄基，苯乙基等的芳烷基等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，η爲1〜1000，宜爲1〜100之整數，η 若超過1 0 0 0時，則與由後述的甲醛或甲醛醇予以改質 的胺基縮合物等及光酸發生劑間之相溶性惡化，變成未能 獲得足夠的光硬化性。 本發明之有機矽氧烷系高分子化合物之重量平均分子 量爲500〜200，000，宜爲1，00 0〜 100，000。重量平均分子量若未滿500時，則未 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） 593443 A7 B7 五、發明説明（5 ) 能獲得足夠的光硬化性，若超過2 0 0，〇 〇 〇時，則由 後述的甲醛或甲醛醇予以改質的胺基縮合物等及光酸發生 劑間之相容性惡化。 本發明之有機矽氧烷系高分子化合物，例如係在觸媒 之存在下，藉由進行所謂「氫甲矽烷化」聚合反應，可予 製造出具有以下述式（2)......... ⑵ ch2=ch-ch2^Q.
OH CHrCH=CH2 請 先 閲 讀 背 面 之 注 ‘再 t 嚷 表示的烯丙基之特定的酚化合物，及以下式（3 R1 R2 (3) 1〜R4及η係與前述者相同）表示的有機氫矽 至於以上述式（3 )表示的有機氫矽氧烷類， 適宜反應條件使相當的有機氫矽氧烷單體類進 ，可製出所期待的寡聚物或預聚物。 發明之具有以一般式（1 )表示的重複單位之 系高分子化合物之重量平均分子量，係藉由調 2 )表示的酚化合物之烯丙基總數及上式（3 機氫矽氧烷類之氫甲矽烷基總數之比（烯丙基 矽烷基總數）係可容易的控制。因此，於上述 成比，若配合上述酚化合物（2 )及有機氫矽 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式內，R 氧焼類。 在此， 藉由設定出 行縮合反應 且，本 有機砂氧院 整以上式（ )表示的有 總數/氫甲 聚合反應組
«I -8 593443 A7 B7 五、發明説明（6 ) (請先閲讀背面之注意事項再¥本頁) 氧烷類（3 )時至成爲可給予所期待的重量平均分子量（ 烯丙基總數/氫甲矽烷基總數）比即可。具體而言，給與 本發明之有機矽氧烷系高分子化合物（1 )之重量平均分 子量500〜200，000之比（烯丙基總數/氫甲矽 烷基總數）爲0 · 5〜2，尤宜爲0 · 8〜1 · 2。因此 ，若配合酚化合物（2 )及有機氫矽氧烷類（3 )時至成 此等之比時即可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於上述聚合反應，至於觸媒例如可舉出使鉑（含鉑黑 )，铑，鈀等鉑族金屬單體。H2PtCl4*nH2〇, H2P t C 16 · nH2〇，NaHP t C 1 6 · 11H2O， KHPtCl6*nH2〇，Na2PtCl6-nH2〇, K2PtC I4· nH2〇，PtCl4· nH2〇， PtCl2，Na2HPtCl4·nH2〇（式內，n宜爲 0〜6之整數，尤宜爲0或6 )等之氯化鉑，氯化鉑酸， 氯化鉑酸酸；醇改質氯化鉑酸（美國專利第 3，220，972號公報）：氯化鉑酸及烯烴之錯合物 (美國專利第3，1 5 9，6 0 1號公報，美國專利第 3，159，662號公報，美國專利第 3，775，452號公報）：鉑黑或鈀等的鈀族金屬担 持於氧化鋁，氧化矽，碳等的担體上者；鍺-烯烴錯合物 ;氯參（三苯基膦）錢（所謂威爾金生觸媒）；含有氯化 鉑，氯化鉑酸或氯化鉑酸鹽及乙烯基之矽氧烷（尤指含有 乙烯基之環狀矽氧烷）之錯合物等。 於上述聚合反應，視必要時使用有機溶劑亦可。至於 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 593443 A7 _B7 五、發明説明（7 ) 有機溶劑，例如宜爲甲苯，二甲苯等的烴系有機溶劑。 至於上述聚合條件，聚合溫度例如4 0〜1 5 0°C， 尤宜爲8 0〜1 2 0°C。聚合溫度若過低時，則有至聚合 結束需要長期間之情形，反之聚合溫度若過高時，則有觸 媒失去活性之顧慮。 又，聚合時間係依聚合物之種類及量而定，惟爲防止 濕氣之介入至聚合系中，大致0 · 5〜1 0小時，尤宜爲 在0·5〜5小時以內結束。又，有機氫矽氧烷類係容易 引起副反應之不均化反應，再者氫甲矽烷化聚合反應由於 通常係放熱反應，故藉由滴下上式（3 )之有機氫矽氧烷 類予以添加爲宜。 如此結束聚合反應後，已使用溶劑時，藉由餾出此溶 劑。可得本發明之具有以一般式（1 )表示的重複單位之 有機矽氧烷系高分子化合物。 其次，本發明之光硬化性樹脂組成物，係含有 (A)以上述一般式（1 )表示的重複單位之有機矽 氧烷系高分子化合物， (B )由甲醛或甲醛-醇改質的胺基縮合物，於一分 子中平均具有二個以上的羥甲基或烷氧基羥曱基之酚化合 物及一分子中平均具有二個以上的環氧基之環氧基選出的 任一種以上， (C )光酸發生劑者。
本發明所使用的（B)成分，係與上述的（A)成分 引起硬化反應，可再提高硬化物之強度者。至於該種（B 請 先 閲 讀 背 面 之 注 項 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 593443 A7 B7 五、發明説明（8 ) )成分之樹脂，宜爲重量平均分子量爲2 〇 〇〜 5，000，尤宜爲300〜3，0〇〇者。 子量若未滿2 0 0時，有未能獲得足夠的光硬 ，若超過5，000時，則有與含有有機矽氧 化合物間之相容性惡化的情形。 至於上述（B)成分之甲醛或甲醛-醇改 合物，例如可舉出：由甲醛或甲醛-醇改質的 合物，或甲醛或甲醛醇改質的脲縮合物。 上述改質三聚氰胺縮合物之製備，例如首 方法以甲醛使三聚氰胺單體羥甲基化予以改質 使此烷氧基化而改質，成爲以下式（4 )表示 氰胺。且，至於上述醇，宜爲低級醇，例如碳 醇0 重量平均分 化性之情形 烷之高分子 質的胺基縮 三聚氰胺縮 先依公知的 ，或再以醇 的改質三聚 數1〜4之 請 先 閲 讀 背 之 注 項
It 頁 訂 (4) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Y1 Y? . \ /
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N丨N II J γ5- N入N八Ν〜γ3 Y6 V4 (式內，Y1〜Y6係可爲相同或可爲不同的羥甲基，含有 碳數1〜4之烷氧基的烷氧基甲基或氫原子，惟至少一者 爲羥甲基或上述烷氧基甲基）。 至於上述Y1〜Y6，例如可舉出：羥甲基，甲氧基甲 基，乙氧基甲基等的烷氧基甲基及氫原子等。 至於上述一般式（4 )之改質三聚氰胺，具體而言可 舉出：三甲氧基甲基單羥甲基三聚氰胺，二甲氧基甲基單 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） -11 - 593443 A7 B7 五、發明説明（9 ) 羥甲三聚氰胺，三羥甲基三聚氰胺，六羥甲基三 六甲氧基羥甲基三聚氰胺等。 接著，依習用方法使一般式（4 )之改質三 此多量體（例如二量體，三量體等寡聚物）與甲 成縮聚合至所期待的分子量爲止，可得利用（B 曱醛或甲醛醇改質的三聚氰胺縮合物。且可使用 的改質三聚氰胺縮合物作爲（B )成分。 又由甲醛或甲醛醇改質的脲縮合物之製備， 知的方法以甲醛對所期待的分子量之脲縮合物予 化並予改質，或將此再以醇予以烷氧基化並予改質 至於上述改質脲縮合物之具體例，例如可舉 甲基化脲縮合物，乙氧基甲基化脲縮合物，丙氧 脲縮合物等。且可使用此等一種以上的改質脲縮 (B )成分。 又，至於（B)分子之一分子中具有平均二 羥甲基或烷氧基羥甲基之酚化合物，例如可舉出 羥基一 5 —甲基）一 1 ，3 —苯二甲醇，2，2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 四甲氧基甲基雙酚等 再者至於（B)分子之一分子中具有平均二 氧基化合物，例如可舉出：雙酚A型環氧基樹脂 型環氧基樹脂等的雙酚型環氧樹脂，酚酚醛淸漆 脂，甲酚酚醛清漆型環氧樹脂等的酚醛淸漆型環 三酚烷型環氧樹脂及其聚合物，聯苯型環氧樹脂 二烯改質酚酚醛淸漆型環氧樹脂，酚芳烷基型環 聚氰胺， 聚氰胺或 醛進行加 )成分之 一種以上 例如依公 以羥甲基 〇 出甲氧基 基甲基化 合物作爲 個以上的 :(2 -一，6， 個以上的 ，雙酚F 型環氧樹 氧樹脂， ，二環戊 氧樹脂， 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 593443 Α7 Β7 五、發明説明（10 ) 聯苯基芳烷基型環氧樹脂，含有萘環之環氧樹脂，縮水甘 油基酯型環氧樹脂，脂環式環氧樹脂，新環型環氧樹脂等 〇 此等（B )成分之胺基縮合物，酚化合物，環氧化合 物係可使用單獨一種或使用混合二種以上。 本發明之（Β )成分的胺基縮合物，酚化合物，環氧 化合物之配合量，對上述有機矽氧烷系高分子化合物 1 0 0重量分，爲1〜5 0重量分，尤宜爲1〜3 0重量 分。若未滿1重量分時，有光照射時未能獲得足夠的硬化 性之情形，反之若超過5 0重量分時，則光硬化性樹脂組 成物中的矽氧烷鍵結之比例降低，而硬化物內有未能顯現 出足夠的本發明功效之顧慮至於（C )成分之光酸發生劑 ，例如可舉出由於光照射而發生酸，此即成硬化觸媒者。 本發明之樹脂組成物由於與酸發生劑間之相溶性優越，故 可使用寬幅較廣的酸發生劑。至於該種酸發生劑，例如可 舉出：鑰鹽，重氮甲烷衍生物，乙二肟衍生物，々-酮基 硕衍生物，二碾衍生物，硝基苄基磺酸鹽衍生物，磺酸酯 衍生物，醯亞胺基磺酸鹽衍生物，肟磺酸鹽衍生物，三啡 衍生物等。 至於上述鍮鹽，例如可舉出下述一般式（5 )表示的 化合物。 (R 5 ) a Μ + Κ "......... ( 5 ) (請先閲讀背面之注意事項再鱗寫本頁) Γ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210x297公董） -13 - 593443 A7 _ B7____ 五、發明説明（11 ) (式內，R5表示具有取代基亦可的碳數1〜1 2之直鏈狀 ，枝鏈狀或環狀的烷基，碳數6〜1 2之芳香基或碳數7 〜1 2芳烷基，M +表示鎭或銃，K —表示非求核性對向離 子，a表示2或3 )。 於上述R 5，至於烷基，例如可舉出甲基，乙基，丙基 ，丁基，環己基，2 -氧基環己基，原冰片烯基，金剛烷 基等。又至於芳香基，例如可舉出：苯基；鄰一，間-或 對-甲氧基苯基，乙氧基苯基，間-或對-第三丁氧基苯 基等的烷氧基苯基；2 —，3—或4 —甲基苯基，乙基苯 基，4 一第三丁基苯基，4 -丁基苯基，二甲基苯基等的 烷基苯基等。又至於芳烷基，例如可舉出苄基’苯乙基等 各基。 至於K _之非求核性對向離子，可舉出：氯化物離子， 溴化物離子等的鹵化物離子；甲苯，三氟甲磺酸酯’ 1 ’ 1，1-三氟乙烷磺酸酯，九氟丁烷磺酸酯等的氟烷基磺 酸鹽；對甲苯磺醯酯，苯磺酸酯，4 一氟苯擴酸酯，1 ， 2，3，4，5 -五氟苯磺酸酯等芳香基磺酸酯；甲磺酸 酯，丁烷磺酸酯等烷基磺酸酯等。 至於重氮甲烷衍生物，可舉出以下述一般式（6 )表 示的化合物。 (6) (式內，R6及R7表示可爲相同亦可爲不同的碳數1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 請 先 閲 讀 背 面 之 注 項 ’寫 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 593443 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（12 ) 1 2之直鏈狀，枝鏈狀或環狀的烷基或鹵化烷基，碳數6 〜1 2之芳香基或鹵化芳香基，或碳數7〜1 2之芳香烷 基）。 於上述R6及R7，至於烷基，例如可舉出甲基，乙基 ’丙基，丁基，戊基，環戊基，環己基，原冰片烷基，金 剛烷基等。 又至於鹵化烷基，例如可舉出：三氟甲基，1，1， 1 一三氟乙基，1 ，1 ，1—三氯乙基，九氟丁基等《至 於芳香基，例如可舉出：苯基；鄰，間或對-甲氧基苯基 ’乙氧基苯基，間或對第三丁氧基苯基等烷氧基苯基；2 一，3 -或4 一甲基苯基，乙基苯基，4 一第三丁基苯基 ，4 -丁基苯基，二甲基苯基等的烷基苯基等。至於鹵化 芳香基，例如可舉出：氟苯，氯苯，1，2，3，4，5 -五氟苯等。至於芳烷基，例如可舉出：苄基，苯乙基等 〇 至於乙二肟衍生物，可舉出以下述一般式（7 )表示 的化合物。 R9 R10 RS-S〇r〇.N=C -C=N.〇-S〇rR8 ···(?) (式內，R8〜R1C)表示可爲相同或亦可不同的碳數1〜 1 2之直鏈狀，枝鏈狀或環狀之烷基或鹵化烷基，碳數6 〜12之芳香基或鹵化芳香基或碳數7〜12之芳烷基。 又，R 9及R 1 G係相互鍵結並形成環狀構造亦可，形成環 (請先閲讀背面之注意事 項再填寫 本買) 、τ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -15· 593443 A7 B7 五、發明説明（13 ) 狀構造時，R9及R1。可爲相同亦 直鏈狀或枝鏈狀伸烷基）。 至於上述R9及R1。之伸烷基 乙基，伸丙基，伸丁基，伸己基等。 至於（C)成分之光酸發生劑 出：三氟甲烷磺酸二苯基鎭，三氟 基苯基）苯基鎭，對-甲苯磺酸二 對第三丁氧基苯基）苯基銚，三氟 氟甲烷磺酸（對第三丁氧基苯基） 酸雙（對第三丁氧基苯基）苯基銃 第三丁氣基苯基）銃，對甲苯磺酸 (對第三丁氧基苯基）二苯基銃， 丁氧基苯基）苯基銃，對甲苯磺酸 )銃，九氟丁烷磺酸三苯基銃，丁 甲烷磺酸三甲基銃，對甲苯磺酸三 環己基甲基（2 -氧基環己基）銃 基（2 -氧基環己基）毓，三氟甲 可不同的碳數1〜6之 可舉出有亞甲基，伸 ，具體而言 甲烷磺酸（ 苯基銚，對 甲烷磺酸三 二苯基銃， ，三氟甲烷 三苯基銃， 對甲苯磺酸 參（對第三 烷磺酸三苯 甲基銃，三 ，對甲苯磺 烷磺酸二甲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對甲苯磺酸二甲基苯基銃，三氟甲烷磺酸二環 ，對甲苯磺酸二環己基苯基銃，雙（4 -第三 銚六氟磷酸酯，二苯基（4 一硫苯氧基苯基） 酯等的鐺鹽，雙（苯銃）重氮甲烷 重氮甲烷，雙（二甲苯磺醯基）重 )重氮甲烷，雙（環戊基磺醯基） 磺醯基）重氮甲烷，雙（異丁基磺 ，雙（對甲 氮甲烷，雙 重氮甲烷， 醯基）重氮 ，例如可舉 對第三丁氧 甲苯磺酸（ 苯基銃，三 三氟甲院磺 磺酸參（對 對甲苯磺酸 雙（對第三 丁氧基苯基 基銃，三氟 氟甲烷磺酸 酸環己基甲 基苯基銃， 己基苯基銃 丁基苯基） 硫六氟銻酸 苯磺醯基） (環己基銃 雙（正丁基 甲烷，雙（ 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項
If% I 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 16 593443 A7 B7 五、發明説明（14 ) 第二丁基磺醯基）重氮甲烷，雙（正丙基磺醯基）重氮甲 烷，雙（異丙基磺醯基）重氮甲烷，雙（第三丁基磺醯基 )重氮甲烷，雙（正戊基磺醯基）重氮甲烷，雙（異戊基 磺醯基）重氮甲烷，雙（第二戊基磺醯基）重氮甲烷，雙 (第三戊基磺醯基）重氮甲烷，1 -環己基磺醯基-（第 三丁基磺醯基）重氮甲烷，1 -環己基磺醯基一（第三戊 基磺醯基）重氮甲烷，1-第三戊基磺醯基-1 一（第三 丁基磺醯基）重氮甲烷等重氮甲烷衍生物；雙-鄰-（對 —甲苯磺醯基）—α —二甲基乙二肟，雙一鄰一（對一甲 苯磺醯基）一 α -二苯基乙二肟，雙一鄰一（對一甲苯擴 醯基）一 α —二環己基乙二肟，雙一鄰一（對一甲苯磺醯 基）一 2，3 -戊二酮乙二肟，雙—（對甲苯磺醯基）— 2 -甲基一 3，4 一戊二酮乙二肟，雙—鄰—（正丁烷磺 醯基）一 α -二甲基乙二肟，雙—鄰—（正丁烷磺醯基） 一 α -二甲基乙二肟，雙—鄰一（正丁烷磺醯基）—α — 二苯基乙二肟，雙一鄰一（正丁烷磺醯基）一 α -二環己 基乙二肟，雙一鄰一（正丁烷磺醯基）一 2，3 -戊二酮 乙二肟，雙—鄰—（正丁烷磺醯基）一 2 —甲基一3，4 一戊二酮乙二肟，雙一鄰—（甲烷磺醯基）一 α —二甲基 乙二肟，雙一鄰—（三氟甲烷磺醯基）一 α —二甲基乙二 肟，雙—鄰—（1，1 ，1—三氟乙烷磺醯基）—α -二 甲基乙二肟，雙—鄰—（第三丁烷磺醯基）—α —二甲基 乙二肟，雙一鄰一（全氟辛烷磺醯基）一^一二甲基乙二 肟，雙-鄰—（環己烷磺醯基）一 α —二甲基乙二肟，雙 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再¥本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -17- 593443 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（15 ) 一鄰一（苯磺醯基）一 α -二甲基乙二肟，雙一鄰一（對 氟苯磺醯基）一 α -二甲基乙二肟，雙一鄰一（對第三丁 基苯磺醯基）一 α -二甲基乙二肟，雙一鄰一（二甲苯磺 醯基）一α-二甲基乙二肟，雙一鄰一（樟腦磺醯基）一 α -二甲苯乙二肟等的乙二肟衍生物；α —（苯銃氧基亞 胺基）- 4 -甲苯苯基乙腈等肟磺酸酯衍生物；2 -環己 基羰基—2 — (Ρ -甲苯磺醯基）丙烷，2 —異丙基羰基 一 2 -（對一甲苯磺醯基）丙烷等的酮基碾衍生物； 二苯基二硕，二環己基二碩等的二碾衍生物；對一甲苯磺 酸2，6 —二硝基苄基酯，對—甲苯磺酸2，4 一二硝基 苄基酯等的硝基苄基磺酸酯衍生物；1 ，2，3 -參（甲 焼磺酸基氧基）苯，1，2，3 -參（三氟甲院磺醯基氧 基）苯，1 ，2，3 -參（對甲苯磺醯基氧基）苯等磺酸 酯衍生物；苯二甲醯亞胺-基-三氟甲磺酸酯，苯二甲醯 亞胺一基—甲苯磺醯酯，5 -原冰片烯2，3 —二羧基醯 亞胺一基一三氟甲磺酸酯，5 —原冰片烯2，3 -二羧基 醯亞胺—基—甲苯磺醯酯，5 —原冰片烯2，3 -二羧基 醯亞胺-基-正丁基磺酸酯，正三氟甲基銃氧基萘基醯亞 胺等醯亞胺基-磺酸酯衍生物等。 此等之中，尤宜爲三氟甲院擴酸三苯基銃，三氧甲院 磺酸（對第三丁氧基苯基）二苯基銃，三氟甲烷磺酸參（ 對第三丁氧基苯基）銃，對甲苯磺酸三苯基銃，對甲苯擴 酸（對第三丁氧基苯基）二苯基銃，對甲苯磺酸參（對第 三丁氧基苯基）銃等鍮鹽；雙（苯磺醯基）重氮甲烷，雙 (請先閲讀背面之注意事項 再 本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇x297公釐） -18- 593443 Α7 Β7 五、發明説明（16 ) (對甲苯磺醯基）重氮甲院，雙（環己基磺醯基）重氮甲 烷，雙（正丁基磺醯基）重氮甲烷，雙（異丁基磺醯基） 重氮甲烷，雙（第二丁基磺醯基）重氮甲烷，雙（正丙基 磺醯基）重氮甲烷，雙（異丙基磺醯基）重氮甲院，雙（ 第三丁基磺醯基）重氮甲烷等重氮甲烷衍生物；雙—鄰-(對甲苯磺醯基）一 α —二甲基乙二肟，雙—鄰一（正丁 烷磺基）—α —二甲基乙二Η亏等的乙二肟衍生物^上述酸 發生劑（1 )可單獨一種或混合二種以上使用。 酸發生劑（C )之配合量，對有機矽氧烷系高分子化 合物（Α)100重量分爲0·1〜20重量分，尤宜爲 0·5〜5重量分。配合量若未滿0·1重量分時，則有 未能獲得足夠的光硬化性之情形。若超過2 0重量分時， 則有由於酸發生劑本身的光吸收在厚膜的光硬化性惡化的 情形。 於本發明之光硬化性樹脂組成物內，視必要時亦可配 合有機溶劑。至於有機溶劑，宜爲上述的有機矽氧烷系高 分子化合物，由甲醛或甲醛-醇改質的胺基縮合物，酚化 合物，環氧化合物及光酸發生劑等的成分係可溶解的溶劑 〇 至於該種有機溶劑，例如可舉出環己酮，環戊酮，甲 基一 2 —正戊酮等的酮類；3 —甲氧基丁醇，3 —甲基一 3-甲氧基丁醇，1_甲氧基一2—丙醇，1一乙氧基一 2 -丙醇等醇類；丙二醇單甲醚，乙二醇單甲醚，丙二醇 單乙醚，乙二醚單乙醚，丙二醇二甲醚，二乙二醇二甲醚 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事' 項再_寫‘ 本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 593443 A7 B7 五、發明説明（17 ) 等醚類；丙二醇單甲醚乙酸酯，丙二醇單乙醚乙酸酯，乳 酸乙酯，丙酮酸乙酯，醋酸丁酯，3 -甲氧基丙酸甲酯， 3 -乙氧基丙酸乙酯，醋酸第三丁酯，丙酸第三丁酯，丙 二醇單第三丁基醚乙酸酯等的酯類等，可單獨使用一種或 可合倂使用二種以上。 此等之中，尤宜爲除酸發生劑之溶解性最優越的二乙 讀 先 閲 讀 背 之 注 二醇二甲醚， 乙氧基- 2 -丙醇之外，安全溶劑之丙 項 二醇單甲醚乙酸酯，乳酸乙酯及其混合溶劑。 上述有機溶劑之使用量，對全固形分1 0 0重量分爲 50〜2，000重量分，尤宜爲100〜1 ，000重 量分。未滿50重量分時，則有上述各成分（A)〜（C )之相容性成爲不足的情形，反之即使超過2 0 0 0重量 分時，相容性亦無變化，又黏度過於變低有不適於樹脂之 塗布的顧慮。 其他，於本發明之光硬化性樹脂組成物內，除上述各 成分以外，再配合添加成分亦可。至於此種添加成分，例 如可添加爲使塗布性提高所慣用的界面活性劑。至於界面 活性劑，宜爲非離子性者，例如可舉出氟系界面活性劑， 具體而言指全氟烷基聚環氧乙烷乙醇，氟化烷基酯’全氟 烷基胺氧化物，含氟有機矽氧烷系化合物等。 此等係可採用經予市售者。例如Flowlard 「FC-430」 及「FC-431」（任一種均爲住友3M (股）製造）， Surflon 「S-141」及「S-145」（任一種均爲旭玻璃（股） 製造），Vnidyne 「DS-4 01」 ， 「DS-4 031」R「DS-451」 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 20 593443 A7 B7 五、發明説明（18 ) (請先閲讀背面之注意事項再本頁) (任一種均爲Daikin工業（股）製造）’ Megafak 「F-8151 」（大日本油墨工業（股）製造）等。此等之中宜爲 Flowlard 「FC-430」（住友3乂（股）製造）及「乂-70-093」（信越化學工業（股）製造）。 又，至於其他的添加成分’爲使光酸發生劑等的光吸 收效率提高，亦可添加吸光劑。至於該種吸收劑’例如可 舉出二芳香基亞碩，二芳香基硕，9，10 -二甲基蒽， 9 -苐酮等。其他例如使用本發明之光硬化性樹脂組成物 於光阻材料時，可添加光阻材料等通常使用的其他任意之 添加成分。 且，上述添加成分之添加量，在不妨礙本發明之效果 的範圍，可爲通常量。 本發明之光硬化性樹脂組成物之製備雖可以通常的方 法進行，惟上述各成分及視必要時攪拌混合上述有機溶劑 ，添加劑等，其後視必要時藉由利用過濾器等過濾固形分 ，可製備本發明之光硬化性樹脂組成物。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此經予製備的本發明之光硬化性樹脂組成物，例如 可較合適的使用作保護被覆膜，絕緣被覆膜，剝離塗料， 再者微細加工用光阻等的材料。 至於採用上述光硬化性樹脂組成物並形成圖案之圖案 形成方法，係含有下述的步驟者。 (i )塗布上述的光硬化性樹脂組成物至基板上的步 驟， (i i)介由光罩在波長150〜450nm之光曝 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 593443 A7 B7 五、發明説明（19 ) 光的步驟， (i i i )以顯影液顯影的步驟。 --：--^------ (請先閲讀背面之注意事項再本頁) 於本發明之圖案形成方法，首先將上述光硬化性樹脂 組成物塗布於基板上。至於上述基板，例如爲矽晶圓，石 英基板等。又至於塗布法可採用公知的微影術予以進行。 例如可利用浸塗法，旋塗法，輥塗法等的技巧塗布。塗布 量係因應目的可適當選擇，惟膜厚設成0 . 1〜 1 0 0 // m 〇 在此爲有效率的進行光硬化反應，視必要時使事先藉 由預熱使溶劑揮發亦可。預熱係例如可在4 0〜1 4 0 °C 進行1〜10分鐘。 其次，介由光罩，以波長1 5 0〜4 5 0 nm之光曝 光，其使硬化。上述光罩，係例如貫穿所期待的圖案者亦 可。且光罩之材質宜爲遮蔽上述波長1 5 0〜4 5 0 nm 之光者，例如鉻等係較合適使用的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至於上述波長1 5 0〜4 5 0 nm之光，例如可舉出 藉由放射線發生裝置所發生的各種波長之光，例如g線， i線等之紫外線光，遠紫外線光（2 4 8 n m， 1 9 8 n m )，電子線等。曝光量例如宜爲l〇〜500 m J / c m 2 〇 在此，視必要時再者爲提高顯影靈敏度，硬化後加熱 處理亦可。上述硬化後加熱處理，例如可設爲4 〇〜 14 0°C，0.5 〜10 分鐘。 上述硬化後，以顯影液顯影。至於顯影液，宜爲向來 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 593443 A7 B7 五、發明説明（20 ) 即被使用的有機溶劑系，例如異丙醇等。 顯影係藉由通常的方法，例如將圖案硬化物浸漬等可 予進行。其後視必要時，進行淸洗，乾燥等，可得具有所 期待的圖案之硬化膜。 且對圖案之形成方法雖如上述般，惟無形成圖案之必 要時，例如欲形成單純的均勻薄膜之情形，除不使用上述 光罩外，以與上述圖案形成方法所述的相同方法進行即可 〇 由上述方法而得的光硬化圖案係可利用此作爲基材之 加工光罩。所得的圖案由於具有矽氧烷鍵結，耐氧電漿性 大，用作此光罩係尤其有用的。 又再採用烘箱或熱板在1 50〜2 5 0 °C藉由加熱所 得的圖案- 1 0分鐘〜2小時，可提高交聯密度，欲去除 殘存的揮發成分一事即成爲可能，故對基材之附著力優越 ，可形成耐熱性或強度，再者電氣特性亦良好的被膜。 由如此而得的上述光硬化性樹脂組成物而得的硬化被 膜，係與基材間之附著性，耐熱性，電氣絕緣性優越，較 合適用作電機，電子組件，半導體元件等之保護膜。 請 先 閲 讀 背 之 注 意 事 項
If 頁I 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例 以下，顯示合成例，實施例及比較例，具體的說明本 發明，惟本發明並非受下列所限制者。且於下列中，分係· 示重量分。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ：297公釐） 23- 593443 A7 ______ B7 五、發明説明（21 ) 〔合成例1〕 於具有攪拌器，溫度計，氮氣取代裝置及迴流冷凝器 之燒瓶內，饋入4，4> — (9H —苐一 9 —亞基）雙〔 (2 -丙烯基）酚〕43 . Og，甲苯60g，氯化鉑酸 0 · 1 g，升溫至 8 0 °C。 其後於此燒瓶中，滴入1，3 -二氫一 1，1，3， 3 -四甲基二矽氧烷13 .4g。滴入後，在100 °C熟 成1小時後餾出甲苯。藉由此等的操作，而得5 4 g之固 態生成物。 此生成物係以I R不具有源自氫甲矽院.基及烯丙基之 吸收波峰，得知氫甲矽烷化反應結束一事。又於1 〇 5 0 c m_1處具有源自矽氧烷鍵結之吸收波峯。再者，若由 G P C測定分子量時，則以聚苯乙烯換算爲重量平均分子 量 1 8，0 0 0。 由以上的構造解析之結果，得知係具有以下的重複單 位之有機矽氧烷系高分子化合物。 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 it 頁 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 r ch3 ch3 —Si-0-Si 一^ ch3 ch3
HO CH OH CH2; 〔合成例2〕 除使用二氫矽氧烷之R1〜R4之中2 0%爲苯基及 80%爲甲基，且η爲19者196 · 0g取代4 ’ 4 —(9H -苐一亞基）—1， 3 ，3 —四甲基二矽氧 烷外，餘以與合成例1同法，而得液狀生成物2 3 〇 g 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 24 593443 A7 B7五、發明説明（22 ) 其後，進行與合成例1相同的構造解析之結果，得知 具有以下的重複單位之重量平均分子量4 0 ’ 〇 〇 〇之有 機矽氧烷系高分子化合物。
=20/80 〔合成例3〕 除使用4，4— 一（1 一甲基亞乙基）雙〔（2 —丙 烯基）酚〕3 · lg取代4，一（9H —荞一 9 一亞 基）雙〔（2-丙烯基）酚〕。使用η爲1200之二羥 基甲基聚矽氧烷889g取代1，3 -二氫一 1，1，3 ，3 -四甲基二矽氧烷外餘以與合成例2同法，而得液狀 生成物8 9 1 g。 其後，進行與合成例1相同的構造解析之結果，得知 具有以下的重複單位之重量平均分子量2 80，0 0 0之 有機矽氧烷系高分子化合物。 ---^---;------- (請先閲讀背面之注意事項\^^寫本頁) ♦ 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
〔實施例1 Γ 以表1所示的組成比率攪拌混合上述合成例1製備的 有機矽氧烷系高分子化合物，表1記載的交聯劑之胺基縮 合物，光酸發生劑，有機溶劑及添加劑，予以攪拌混合後 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- 593443 A7 B7 五、發明説明（23 ) ，以聚四氟乙烯製過濾器固形分，而得本發明之光硬化性 樹脂組成物。 其次，以旋塗法各自對上述光硬化性樹脂組成物塗布 於三片之矽晶圓上至成膜厚1 /zm及1 0 。 其後，爲去除溶劑，使在8 0°C加熱乾燥1分鐘後， 以表1中記載的波長之光及曝光量照射上述塗布基板，照 射後，在6 0 °C加熱1分鐘，其後予以冷卻。 其後，將上述塗布基板浸漬於異丙醇中1分鐘，進行 顯影，結果可得具有表1所示的良好殘膜率之硬化膜。 〔實施例2〕 以表1所示的組成比率攪拌混合上述合成例1製備的 有機矽氧烷系高分子化合物，表1記載的交聯劑之四甲氧 基羥甲基雙酚A，光酸發生劑，溶劑及添加劑，予以攪拌 混合後，以聚四氟乙烯製過濾器過濾固形分，而得本發明 之光硬化性樹脂組成物。 其次，曝光時除使用具有條紋圖案之光罩外，餘以與 上述實施例1同法，將塗布基板予以曝光。 其後，以丙酮進行顯影。結果，未曝光部係溶解於丙 酮內，與膜厚約略同等的線寬度較顯著的條紋圖案可予形 成。 且，硬化膜之殘膜率如表1所示係良好的。 〔實施例3〕 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項
It 頁 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -26- 593443 A7 B7 五、發明説明（24 ) 以表1所示的組成比率攪拌混合上述合成例2製備的 有機矽氧烷系高分子化合物，表1記載的交聯劑之環氧化 合物，光酸發生劑，予以攪拌混合後，以聚四氟乙烯製過 濾器過濾固形分，而得本發明之光硬化性樹脂組成物。 其次，曝光時除使用具有條紋圖案之光罩外，餘以與 上述實施例1同法，將塗布基板予以曝光。 其後，以丙酮進行顯影。結果，未曝光部係溶解於丙 酮內，與膜厚約略同等的線寬度較顯著的條紋圖案可予形 成0 〔比較例1〕 使用合成例3製備的有機矽氧烷系高分子取代上述合 成例1製備的有機矽氧烷系高分子化合物，以表1所示的 組成比例配合表1記載的交聯劑之胺基聚合物，光酸發生 劑，與上述實施例1同法，製備光硬化性樹脂組成物。 其次在曝光前除不加熱乾燥各塗布基板外，餘以與上 述實施例1同法，使各塗布基板曝光，顯影。其結果示於 請 先 閲 讀 背 面 之 注 項 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -27- 593443 A7 B7 五、發明説明（26 ) 且，上述表1中，各光酸發生劑係如下所述
CC1,
C5H„〇H〇- CH=CH ecu π ch3 ch3 H3C-C-^KI^^-C.CH3 pf^ •Π CH, CH, (請先閲讀背面之注意事項再畴寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者，於1 8 0°c將所得的圖案化之硬化膜於烘箱內 各自進行後硬化1小時，其後以方格眼剝離試驗調查其後 氮化矽膜上及銅上之附著性。 其結果，實施例1〜3之硬化膜如表1所示任一者對 基材均顯示出良好的接著性，可得此組成物之硬化物用作 電子組件用保護膜的結果。 發明之功效 藉由使用本發明之新穎有機矽氧烷系高分子化合物， 製造出可在寬幅較廣的波長之光曝光，且不受氧氣妨礙可 容易形成薄膜的硬化性樹脂組成物。再者，欲形成耐乾蝕 性優越的微細的圖案一事係有可能的，再者由此組成物而 得的硬化被膜係與基材之附著性，耐熱性，電氣絕緣性優 越，較合適使用於電機，電子組件，半導體元件等的保護 膜。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29- 742172 ί〇年 9月11日 26 年月ο 案 號 90122506 類 別
Cpf6i 以上各欄由本局填註） 593443 裔望專利説明書(修减) 中 文 發明 新型 名稱 IIISI龍之形成钟 英 文
Organosiloxane Polymer, Photo-Curable Resin Composition, Patterning Process, and Substrate Protective Coating 姓 名 國 籍 人史欣 英貴智 藤田鼓 加上降 ⑴0(3) (1)曰本 0 曰本 (3 曰本 裝 發明 創作> (1)日本國群馬縣碓氷郡松并田町大字人見--- Ο信越化学新按能材料技術研究所内 住、居所 0 日本同群馬縣碓氷郡松井田町大字人見—— 〇倍越化学新機能材料技術研究所内 (3 日本國群馬縣碓氷郡松井田町大宇人見--- Ο信越化学新機能材料技術研究所内 訂 姓 名 (名稱） 國 藉 (1)信越化學工業股份有限公司 倍越化学工業株式会社 (1)曰本 (1)日本國東京都千代田區大手町二丁目六番一號 三、申請人 住、居所 (事務所） 代表人 姓 名 (1)金川千尋 本紙張尺度適用中國國家橾準（CNS ) A4見格（210X297公釐） 593443 第90122506號專利申請案 中文說明書修正頁 A7 B7 五、發明説明（25 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 後硬化後對 基材附著性 冢 麵 ^ Μ Μ 基盤剝離 試驗 無剝離 方格剝離 試驗 無剝離 1 解析性 GO Ο) J . . H-l s tp ε t1 ^ ε i n ° r»H r-H Ιμηι 時： 2μ m L / S 1 0 μ m 時： 1 5 μ m L / S Ιμιη 時： 3pm/S ! 1 0 μ m 時： 20pmL/S 1 顯影後殘 膜率 1 μηι 時： ί 100% ΙΟμηι 時： 98% Ιμιη 時： 100% ΙΟμιη 時： 100% Ιμιη 時： 100% ΙΟμ m 時： 95% Ιμηι 時： 0% ΙΟμηι 時： 0% 光源/ 曝光量 365nm 150mJ/cm2 436iim 150mJ/cm2 248iim 丨 100mJ/cm2 365iim 150mJ/cm2 組成物成分 其他添加劑 _ i|®| 题_l _ Kl ^ ^ g 鍫—^ 〇 環己酮 150重量份 X-70-093 0.001重量份 1 1 光酸發生劑 I 1重量份 1_ II 1重量份 III 0.5重量份 I 1重量份 交聯劑 六甲氧基羥甲 基三聚氰胺 10重量份 四甲氧基羥甲 基雙酚A 20重量份 繫彳蜊S ^ ^ 1 -2焉扭 六甲氧基羥甲 基三聚氰胺 10重量份 -Φ 孱_ 链_ 4π 8 r—( -Φ ^ Μ 哆ω Φ 8 r—Η 匡_ /is? \lmil ig Ptl Φ 8 r—Η 每_ AS? \M] ig Pt] <π 8 ι—Η 實施例1 實施例2 實施例3 1 j 比較例1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 j-i 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -28-

Claims (1)

  1. 593443 A8 B8 C8 ____ D8 六、申請專利範圍 第90122506號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 民國93年3月8日修正 1 · 一種有機矽氧烷系高分子化合物，係具有以下述 一般式（1 )
    (式內，R1〜R4表示可爲相同或不同的碳數1〜8之一 價烴基；又η表示1〜1 〇 〇 0之整數）表示的重複單位 之重量平均分子量500〜200，〇〇〇。 2 · —種光硬化性.樹脂組成物，其特徵在於含有 (A )申請專利範圍第1項之有機聚矽氧烷系高分子 化合物， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (B )由甲醛或甲醛醇改質的胺基縮合物，於一分子 中平均具有二個以上的羥甲基或烷氧基羥甲基之酚化合物 及一分子中平均具有二個以上的環氧基之環氧基選出的任 一種以上， 相對於（A ) 1 〇 〇重量份爲含有1〜5 0 重量份，及 (C )由磺酸鹽、三嗪與鎭中所選出之光酸發生劑， 相對於（A) 10 0重量份爲含有0 · 1〜2 0重量份’ 而成。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 593443 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 · —種圖案形成方法，其特徵在於含有 (i )將申請專利範圍第2項之光硬化性樹脂組成物 塗布於基板上的步驟， (i i )介由光罩以波長1 50〜450nm之光曝 光的步驟及 (i i i )用顯影液顯影的步驟而成。 4 種基板保護用被膜，係由申請專利範圍第3項 之方法經予形成圖案的薄膜後使硬化而得。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐）
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