TW591652B - Method for producing recording medium, method for producing master disk of recording medium, apparatus for producing recording medium, and apparatus for producing master disk of recording medium - Google Patents

Description

591652 五、發明說明（1 ) [發明之技術領域] 本發明係有關記綠媒體之製i告士、t 、 木衣绝万法、記錄媒體製造用原 盤之製造方法、記綠媒體之製造裝置、以及記錄媒體製造 用原盤之製造裝置’其係形成有如構成記綠標示之凹坑或 凹槽等的微細凹凸。 本發明中所謂之圓盤，係指該圓盤本身包含原模 (Stamper)，其係以射出成型或以2p法（光聚合 (Ph〇t〇P〇lymerizatlon)法）形成具有微細凹凸之記錄媒體的 原模；主盤（Master)，其係用於數次拷貝複製該原模；及 第一模盤（Mother Master)，其係用於數次拷貝複製該主 盤。 [先前技術] 近來廣泛要求更高的記綠密度化。 因而，近幾年來，有關對記錄媒體進行光重現的光學拾 取，提出近場的構成，其係將記綠媒體與光學鏡頭的距離 保持在200 nm以下，可以促使光學鏡頭系統的高Ν· Α·(高 開口數）化，及藉由短波長重現雷射光，亦即藉由使用藍 糸雷射光促使光點直徑縮小化，可以達到軌距的縮小化及 記錄標7F寬度與長度的縮小化，以提高更高的記錄密度 化。 然而，爲求可以確貫讀取一般記錄標示，重現光的光點 直徑係選定在約爲記錄標示寬度的兩倍。換言之，形成記 綠媒體的έ己錄標示宜在可以形成重現光之最小光點直徑的 1 / 2以下。 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591652 五、發明說明（2 目則記綠媒體的製造過程，如圓盤的製造過程中，通常 如圖8所示的概略剖面圖，係以自旋式塗敷（Spin Coat)法在 構成ϋ ^的基板1〇1，如玻璃基板上形成感光性材料層 1〇2，以集光鏡頭104將雷射光103集光在該感光性材料層 102上，例如針對記綠之資料照射，之後，將該感光性材 ^層102顯像，例如以雷射光照射除去感光反應之區域， 貫施感光性材料層1〇2的圖案化，將該感光性材料層作爲 这光罩，對基板1 〇 1進行蝕刻，以形成因應記綠資料的微 細凹凸。 尤光丨生材料的特性，如圖9中之r (gamma)曲線所示，由 於某種曝光量之値以上的曝光量，具有急速，亦即幾乎階 躍性的感光反應特性，因此，對該感光性材料以具有圖 1 0A足曲線2〇 1所示之雷射光能分佈的雷射光進行曝光時相 比，以具有大於該光能之圖10B之曲線2〇2之雷射光能分佈 的雷射光進行曝光時，雖然在感光性材料層1〇2上實際的 感光反應區域擴大至某種程度，但是無法因應曝光能而擴 大。 、 因此，上述之記綠媒體製造用原盤的製造步驟中，如藉 由上述足基板1 0 1的旋轉，在感光性材料層1 02上，使該雷 射光如呈螺旋狀掃瞄，如以圖1 1 A之曲線203所示之發光圖 木進行曝光時，如圖1 1 B所示，在基板1 〇 1上之感光性材料 層1 02上形成有因應雷射光照射圖案的曝光部1 〇2 a，藉由 顯像，如除去該曝光部，將該感光性材料層1〇2作爲蚀刻 遮光罩’對基板1 〇 1钱刻所形成的微細凹凸，如圖1 1 C上殘 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐 衣--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ' ^1652 A7 B7 〜丁四圃 五、發明說明（3 不之作爲其記綠榉 圖案。 但是，此時，藉由對感光性材料層之圖案曝光所形成的 微細凹凸，幾乎係由用於曝光之雷射光點直徑來決定，無 法形成超過光學臨界的微細凹凸圖案。因此，縱使儘量縮 小重現雷射光點直fe，仍無法形成小至該重現雷射光點直 徑之1 / 2以下的記綠標示寬度。 此外，雖然開發出電子線描繪裝置等對感光材料層的圖 案曝光裝置，有助於微細圖案的形成，亦即有助於高密度 化，但是由於該電子線描繪裝置須在高度眞空中進行描繪 作業’因此該裝置有體積龐大，且價格昂貴的問題。 [發明所欲解決之課題] 本發明在提供一種記錄媒體之製造方法及記錄媒體製造 用原盤之製造方法，其可不受長短影響而確實的形成微細 凹凸，其具有遠小於用於形成微細凹凸之雷射光之光學臨 界點的寬度或軌距。 " 此外，本發明在提供一種記錄媒體之製造裝置及記綠媒 體製造用原盤之製造裝置，其具有簡單的構造，且其構2 遠比上述之電子線描繪裝置小。 [課題之解決手段] 本發明之記錄媒體之製造方法，係—種具有微細凹凸之 記錄媒體的製造方法，其具有：感熱材料層形成步驟，其 係形成在構成記錄媒體的基板上；圖案之變質部米成^ 驟，其係於該感熱材料層上，照射雷射光在因應所需微= -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線拳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Λ7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（4 ) 凹凸圖案的圖案上，並在咸 ……V材枓層上因應所需微細凹凸 0衣來形成；及圖案化步驟， 其係將孩感熱材料層顯像， 和'琢感熱材料層圖案化。太、 尤其本發明係藉由比微細凹凸之 週"月南頻之頻率所調變的雷 圖案照射。 田射先-、射，來進仃其雷射光的 •、卜本各明足δ己錄媒體製造用原盤之製造方法，係一 1::化具有被細凹凸〈記綠媒體之記綠媒體製造用原盤的 衣垅万法’其具有：感熱材料層形成步驟，其係形成在構 成记錄媒體的基板上；安士 、 . 圖案足變質邵形成步驟，其係於該 L煞材料層上，照射雷射光在因應微細凹凸圖案的圖 上’亚在感熱材料層上因應微細凹凸圖案來形成；及圖 化步驟，其係將該感熱材料層顯像，將該感熱材料層圖 化。尤其本發明係藉由比微細凹凸之週期高頻之頻率所 又的田射光照射，來進行其雷射光的圖案照射。 此外本务明足圮綠媒體之製造裝置，係一種具有微 凹凸之記綠媒體的製造裝置，其構成具有：保持手段， 係保持構成記綠媒體的基板，該記錄媒體至少在一個主 上復盖形成有感熱材料層：雷射光源部；調變手段，其 因應微細凹凸圖案調變自該雷射光源部發射之雷射光， 時以比微細凹凸之圖案週期高頻之頻率來調變：光學 統，其具有使雷射光在感熱材料層上集光的集光鏡頭 統；及移動手段，其係對感熱材料層移動雷射光的照 此外，本發明之記錄媒體製造用原盤之製造裝置， 案案案 調 細其 面 係 系系 射位 係 --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ： -7- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 "" --~ 五、發明說明（5 ) 種具f微細凹凸之記錄媒體的製造裝置，其構成具有··保 寺手&，其係保持構成圓盤的基板，該圓盤至少在一個主 k i形成有感熱材料層；雷射光源部；調變手段，其 ^因應微細凹凸圖案調變自該雷射光源部發射之雷射光， =時以比U細凹凸之圖案週期高頻之頻率來調變；光學系 纟无，其具有使雷射光在感熱材料層上集光的集光鏡頭系 ·,、及私動手饺，其係對感熱材料層移動雷射光的照射位 置。 !如以上所述，本發明之記綠媒體及媒體製造用原盤之製 造：法2藉由-種圖案化的方法，其係採用感熱材料層， W卜先七之叙感光性材料，經由照射雷射光而形成熱變 二σ卩刀二以頭像處理除去該變質部或該變質部以外的部 =，在見度比雷射光點窄的加熱區域形成變質部。亦即， 可以形成雷射光點之光學臨界以下的微細圖案。 、此外，上述本發明之記綠媒體及媒體製造用原盤之製造 =法，特別是指照射經過比微細凹凸之週期高之頻率 變的雷射光，藉此避免因曝光部的長短，亦即因Β暴光2

的長短，而擴大連續照射雷射光所產生的加熱部，可S 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 確的形成特定形&、寬度、間距的變質部，正 微細圖案。 隹化成所需 、此外，由於本發明之記綠媒體及媒體製造用原盤之制1 私置，不需要在鬲度眞空室内實施處理作業，因此，二4 構成簡單、小型的裝置。 可以 [發明之實施形態] I _ 8 - 本紙張尺度適用中國^家標準（CNS)A4規格^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ---- 五、發明說明（6 ) ~-- 本發明之記綠媒體之製造方法，如圖1中所示之其-種 I j勺概略平面圖’係製造—種記綠媒體，其係形成有微 田凹凸2 ’該微細凹凸2排列有構成記綠標示！之或凸 部。 記綠媒體的製造方法’首先準備叫基板，其 f在如構成記錄媒體之透明樹脂基板或玻璃基板上形成有 氧匕夕(_SlC>2)層’並在SlC>2基板上形成感熱材料層。 在該感熱材料層±，依據因應所需微細凹凸2之圖案的 圖案、亦即，如圖1中之記錄標示1的排列圖案，或該圖案 :倒置圖案來照射雷射光，I备由雷射光照射部中的溫度上 昇，在感熱材料層上形成變質部。 一其中雷射光照射點上之能量分佈，如圖2中的曲線3所 示、t…材科層上之貫際的雷射點SP爲例，感熱材料層 上之又貝4，亦即溫度上昇邵4的區域比雷射點窄。亦 :丄該變r部可以比雷射點小，#者，可以藉由雷射能的 選足，來選疋寬度更小的溫度上昇區域4，亦即變質部。 該溫度上昇區域4之光點移動方向的後方的寬度藉由長時 間照射，而比前方大。 ^ 因而，照射該感熱材料層之雷射光的強度因應所需之微 細凹凸圖案而調變。應該記綠在記綠媒體上之記綠資=圖 案若爲圖3 A所示的圖案時，以該資料圖案之記綠資料信號 調變的同時，如圖3B或圖3C所示，調變成比該記綠資料^ 號之頻率高，如爲數百MHz的特定高頻信號。亦即，於感 熱材料層上，選擇性的對形成變質部之部分，進行具有^ -9 - 本紙張尺度適用尹國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱） — --------^---------^91 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591652 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 A7 五、發明說明（7 ) 種裎度以上之能f的雷射光照射’後得能夠在其上產生微 質之溫度上昇的同時，該部分的雷射照射，係如圖3b所 示，藉由反覆以高頻率開啓/關閉，進行以脈衝雷射光照 射的調變，或如圖3C所示，於變質部之形成部上雷射光選 擇性的照射中，某種程度以上的反覆能量，來進行雷射光 的能量調變。 之後，將該感熱材料層顯像，除去該變質部或未變質的 邵分，使感熱材料層圖案化。 如此’由於藉由感熱材料層的圖案化，以該感熱材料層 形成微細凹凸，也可以在此種狀態下構成具有微細凹凸二 記錄媒體，不過，此時微細凹凸的深度（高低差）受到感熱 材料層厚度等的限制，因此，將該感熱材料層作爲蝕刻遮 光罩，如以各向異性蝕刻之RIE(反應性離子蝕刻）將基板 表面姓刻成所需的深度，可以形成具有所需深度的微細凹 凸。 如上所述本發明之記綠媒體的製造方法，除使用感熱材 料層之外，係以雷射光照射來形成變質部，此時，在感熱 材料層上形成變質部的寬度，亦即如圖丨中之記錄標示的 寬度W，可以形成狹窄的軌距p。 因此，採用該方法可以更微細的形成高密度的微細凹 凸。 此外，本發明之方法特別是進行圖3B及圖3C中説明之高 頻調變，並藉由斷續性或強弱反覆來進行雷射照射，因此 所獲得之記綠標示圖案，如圖3D中劃斜線的區域a所示， ---------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ， -10- A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（8 ) 可以不受其長短影響，而確實形成相同寬度。 亦即，僅以資料圖案 钱 ’又 來進行☆射1 而不採本發明之高頻調變， 木進仃田射,¾•、射時，長的變質 又 照射雷射，愈向雷射照射的後端心=時間連續性的 如圖3D中的點線段,所示 射：-域愈大’因而 變大。亦即，因饰m 射邓後端的變質部寬度 、 L4名綠;^不的長短導致寬度改變。 然而，由於本發明$女、、土 ，…”… 係進行高頻調變，並藉由斷續 f生或&弱反覆進^千泰私 π 丁田射^射，因此，縱使標示長度較長 時，仍可以抑制溫度上昇， j以形成榛不長度之長短影響 經過改善的變質部，藉以形成標示圖案。 此一外，本發明之記綠媒體製造用原盤的製造方法，如圖 1中-種範例之概略平面圖所示，係製造圓盤，用於以射 出成土及2P法等後得形成有微細凹凸2之記綠媒體，該微 細凹凸2排列有構成記綠標示1的凹部或凸部。 Μ 0 k〜衣迨方法係準備構成圓盤的基板，並在其上形 成感熱材料層。 因而’在该感熱材料層上，因應所需之微細凹凸的圖 案，亦即，構成圖1之記錄標示的凹部丨圖案，或其倒置圖 案上照射雷射光，在感熱材料層上形成該圖案的變質部。 此時也與圖3中之說明同樣的，照射有經過調變的雷射 光。 之後’將該感熱材料層顯像，除去其變質部或未變質的 部分’將感熱材料層圖案化。此時，亦如圖2中之説明， 可以形成比雷射光點窄的變質部。 11- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 訂---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 一 '~~~*--—___B7___________ 五、發明說明（9 ) 由方、此時亦係藉由感熱材料層的圖案化，以該感熱材料 層形成微細凹凸，因此，在此種狀態下可以形成具有微細 凹凸的記綠媒體用原盤，不過由於微細凹凸的深度（高低 差）I到感為材料層厚度等的限制，因此，可以將該感熱 材料層作爲蝕刻遮光罩，藉由各向異性蝕刻之rIE將基板 表面蝕刻成所需深度，形成具有所需深度之微細凹凸來製 作圓盤。 〜如文頭所述，這些圓盤係指原模，或用於複製形成該原 模的主盤，或用於複製形成該主盤的第一模盤等。 本务明I圓盤的製造方法也與記綠媒體之製造方法同樣 7 i除採用感熱材料層之外，可以11由以雷射光照射形成 •交貝部’更微細的形成高密度的微細凹凸。 此外，由於係進行高頻調變，藉由斷續性或強弱反覆來 進行雷射照射，因此，可以形成標示長度之長短影響經過 改善的微細凹凸。 上述本發明之記綠媒體的製造方法及於記錄媒體製造用 原izr之衣k方去上使用的感熱材料層可以具有至少兩層以 上彼此互異的構成材料，亦即採用至少包含第一及第二材 科f的疊層構造。因而，藉由上述之雷射光照射促使溫度 上昇，在這些構成材料層之間產生相互擴散或溶解，以這 兩種以上材料的混合或反應來形成變質部。 此外，该感熱材料層的構成材料宜爲無機材料。 感熱材料層的具體構成可以採A1層與Cu層的疊層構造、 A1層與Ge層的疊層構造、Si層與八丨層的疊層構造、層與 _____-12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 χ 297公）--------- --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . 591652 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1〇 )

Au層的$層構造’或不限於這些兩層構造，而採用三層以 上的®層構造。此外，亦可以將產生熱氧化顯像之τ丨、U 等至屬的單層膜構造來構成感熱材料層，藉由雷射光的照 射’使其與空氣中的氧氣反應而變質來構成。 照射感熱材料層的雷射光宜採用半導體雷射，尤其是短 波長之監紫雷射光（如波長爲41〇 nm〜390 nm)等之GaN系列 雷射的雷射光。 藉·由此種短波長雷射以促使雷射光的光點直徑微小化。 感熱材料層之圖案化的顯像處理，可藉由1〜3%之 tetramethyl ammonium hydro oxide水溶液來進行。 其次’參照圖4及圖5之步驟圖（之一）及（之二）來説明本 發明之兄綠媒體的製造方法，不過本發明之記綠媒體製造 用原盤之製造方法並不限定於該範例。 如0 4 A所示’準備ί己錄媒體的構成基板，如在玻璃基板 上形成有Si〇2層（圖上未顯示）的圓板狀基板1 1，在該 面上形成感熱材料層12。該感熱材料層12因雷射光的溫度 上昇而變質，亦即構成特性改變的膜。 本範例中之感熱材料層1 2的構成係採用第一及第二材料 層12a及12b的疊層構造。 該第一及第二材料層12a及12b的材料構成係形成變質 部，其係藉由雷射光照射促使溫度上昇，因相互擴散或溶 解而合金化來形成。同時，該變質部係選擇在其與未變質 部分之間對後述之顯像處理步驟中採用之顯像液（溶解 液），在溶解率上產生差異的材料。 —-----------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -13-

經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 591652 五、發明說明（11 ) 此種第-及第二材料層12a及l2b之 含A1與Cu、A1與Ge等。 付智的組成包 如_所示’如藉由基板"的旋轉 Π的半徑方向移動，對該感熱材料層12照射基; 感熱材料層上之雷射光點如該圖中箭 使 的特定方向，如在圓板狀基板 ：’以相對性 動。 /〇原形狀或螺旋狀移 於該相對性移動的同時，如圖3中之說明 所需之資料圖案的圖案進行雷射光照射，：〜：万; 該資料圖案之頻率之如圖3B或圖3。所示之以 ^问於 能量的雷射光照射，在感熱材料層12上形成 溫邵，並在該昇溫部上使感熱材料； 而®木升 層一彼此合金化，形成因應；需二2第Γ:料 變質部12s。 凸足圖案的 如此，如圖5A所示，在感熱材料層12上形成如姑人全化 的變質邵12s與其他未經合金化的非變質部12〇。 口 之後，對感熱材料層12進行顯像處理，如圖5 B所示 例中係除去變質部12s，亦即進行選擇性蝕刻。尸不’ 該顯像液，亦即用於變質部的蝕刻液，係採用約+ ⑻二thyl a_nium hyd…Xlde水溶液，藉&潰= 可以擇性的姓刻除去經合金化的變質部1 ) 材料層P-圖案化。 '、…促使感熱 如圖5C所示，本例中係將該微細圖案化之感熱材料層I: 作爲蚀刻遮光罩，來蝕刻基板1，如其表面 J ύ 1 0 2層，以 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ： 591652 五、發明說明（12 ) 形成微細凹凸1 5。 蝕刻時係採用各向里卜4 $ π 许性蝕刻又RiE(反應性離子蝕刻），可 以形成凹凸剖面富垂直性的微細凹凸丨5。 ° 該微細凹凸1 5之高低笋r ς.π ^ ^ , 低差（/衣度）耩由選擇基板之表面層的 S!〇2層’可以自由選擇 ^ ^ ^ , 力J猎由將Si02表面層下 的底層基板作爲蝕刻制動哭 微細凹凸15的深度。 S!〇2表面層的厚度來決定 之後，依序將感熱材料層12浸潰在第二及第一個材料層 12b及12a之各溶液中，將其除去。 何村居 如此，如圖5D所示，在其柘η τ i5 在基板1 1的表囬上形成有微細凹凸 之後，溶料去感熱材料層12，在形成有該微細凹凸15 的基板η上，形成圖上未顯示之反射膜、保護膜或必要時 形成各種記錄層等之磁性層、相位變化材料層等的記錄 層，如此可以獲得所需記綠媒體16，如光碟、磁碟、相位 變化光碟等。 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 採用上述方法的優點爲，於雷射光照射感熱材料層口之 後的顯像處理中，亦即選擇性㈣中，使用㈣ ammonium hydro oxlde水溶液時，由於其處理作業與先前 使用一般感光性材料層之方法，使用酚醛樹脂作爲其感光 性材料層之圓盤製作方法所採用的處理作業相同，因此， 可以沿用先前步驟中所使用之裝置與步驟。 再者上述例中，係藉由頌像處理，亦即藉由選擇性蝕 刻除去因雷射光照射的變質部，來形成感熱材料層ι2，不 -15- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591652 A7 " -------—_ B7____ 五、發明說明（13 ) ^ -- 過也可以藉由除去變質部以外部分的方法來形成。 /匕時之感熱材料層12係藉由Ge與AI之組成、Si與A丨之組 π人Ge與Au之組成等來構成，可以採用磷酸、水、甘油之 此合政’與酒石酸溶劑及過氧化氫酸之混合液來除去 質部的第一及第二材料。 、又 ^此^，感熱材料層12之變質部，可以藉由相位變化、熱 氧。…、像等來形成，並不限定於多層構造，如以熱氧化顯 象σ 、幵y成支貝邓1 2 s的金屬，構成如欽、赵等的單層構 化，此時係以雷射光的照射促使其與空氣中氧氣反應而變 質。 如上所述，由於本發明可以採用無機材料構成多層或單 層感煞材料層，並藉由濺射法或眞空蒸鍍法等形成此種多 層或單層感熱材料層，因此，與先前採用一般感光性材料 層時之自旋式塗敷法的成膜方法相比，可以形成各部分均 勻的薄膜。 Q此’可以確貫形成微細記綠標示等的微細凹凸。 此外，如上所述，將圖案化之感熱材料層丨2作爲遮光 罩’藉由以RIE對基板1 1進行蝕刻以形成微細凹凸1 5，可 以避免由感熱材料層12本身形成微細凹凸時之因感熱材料 層1 2的厚度、剖面形狀而影響微細凹凸之深度及形狀的問 題發生。 其次，說明本發明之圓盤製造方法的實施例，該圓盤的 製造方法可以採用與圖4及圖5所説明之同樣的方法，該圓 盤的製造中，係以構成圓盤的基板來構成基板1 1。因此， -16- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ： 五、 發明說明（14 此時也可以使用上述之Si〇2基板。 Q而，如此製作之圖5D所示的圓盤26也可以用作原模， 也：以將該圓盤26作爲倒置複製原模的主盤，更可以將該 圓盤26作爲倒置複製原模的第一模盤。 / Q而，使用如此獲得之原模，藉由射出成型、2p法等來 成入有所而之微細凹凸的記錄媒體基板，且與上述記錄 媒體之製造同樣的，可以形成反射膜、保護膜或於必要時 /成口種记綠層等’以獲得所需之光碟、磁碟、相位 光碟等。 此外’本發明之記錄媒體的製造裝置，如圖6中顯示 -種範例的概略構成，包含1持手段41，其係保持如 =^的基板^ 1 ,該基板1 1構成被感熱材料層（圖上未顯- 谈盍所形成的記錄媒體；雷射光源部42;調變手段，其 因應微細凹凸之圖案調變該雷射光源部42發射之雷射 &同時以比微細凹凸圖案之週期高頻的頻率進行二變 先學系統45，其係具有將雷射光集光在感熱材料層上的 先鏡頭系統44 ;及移動手段，其係對感熱材料層移動雷 裝的照射位置。 雷射光源部42若不採用半導體雷射時，可以 … 雷寺甚至採用具備波長轉換器，發射短波長雷射 冓成。此時如圖6所示’低速調變器46與高速調變哭 係設置在自雷射光源部42發射，藉由光學“C射達基 Η上之雷射光13的光路中。 低速調變器46例如藉由圖3所説明之記綠資料信號而 之 圓 係 光 集 射 體 47 板 使 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------t---------^ I -17- 本紙張尺度適用中國國私標準（CNS)AA規格（210 X 297公爱 591652 A7 B7 五、發明說明（15 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雷射光1 3調變，高速調變器4 7藉由圖3所説明之一定之高 頻信號而使雷射光調變。 該低速調變器46可以採用各種已知之利用其電光學（E0) 效果、音響光學（作戰區域）效果及其他各種效果的調變 器。 此外，高速調變器47可以採用如K. Osato, K.Yamamoto, I.Ichimura，F.Maeda，Y.Kasami，M.Yamada，Proceedings of Optical Data Storage* 98， Aspen， Colorado, 80-86， "A rewritable optical disk system with over 10GB of capasity" 中所揭示的調變器。 如此，自雷射光源部42發射之雷射光丨3分別藉由高速調 變器47與低速調變器46調變，藉由具有反射鏡48及集光鏡 頭系統44等的光學系統45，集光照射在基板丨丨上的感熱材 料層。此時，照射孩感熱材料層@雷射光i 3相對性移動來 掃目苗基板η的移動手段，係基㈣之保持手段41旋轉，另 外，光學系統則沿基板U之半徑方向移動，雷射光13呈同 心圓狀或螺旋狀掃目苗基板u上的感熱材料層，並藉•由上述 足雷射光的調變來形成特定圖案的變皙部。 此外，於圖7中顯示概略構成圖的範例中，雷射光 42以半導體雷射構成時，圖7中血 ‘、 η…％ *卜* *丄 ” 口相對應的邵分註記相 同付唬，並名略其重複說明， p π 士 a及次小，丨，丄〜l 守〜過交手段43則係藉由 上述足a己綠資料信號與一定之 高頻信號使注入半導體 内的電流調變。 藉由上述之本發明裝置對 〜煞材枓層進行雷射光 射 照身j ---------i — ΦΜ,------- —訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ， ，， 591652 五、發明說明（16 ) 後:再按照上述之本發明方法進行感熱材料層的顯像、钱 J等，以獲得具有所需之微細凹凸的記綠媒體。 ------------•裝 i , (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 、此外，本發明之記錄媒體製造用原盤之製造裝置的構 成’也可以採用與圖6及圖7所示的相同構成，其中之保持 手& 41係作爲保持圓盤構成基板1 1的手段。 由於採用本發明之記錄媒體之製造裝置及記錄媒體製造 用原盤之製造裝置的構成簡I，因此可以構成小型；廉價 的裝置。 、 尤其疋抓用圖7所示的構成時，藉由使用半導體雷射可 以更小型、更簡單的構成，因此達到低價格化，@時也大 幅精簡保養手續。 ，此時也可以使用GaN系列等短波長雷射來取代半導體雷 射，以形成更小的微細凹凸，以達到高密度化。 線 如上所述，本發明之具有微細凹凸的記錄媒體可以應用 在重現專用光碟、可寫入光碟、相位變化型光碟、光磁碟 及磁碟上，此外，並不限定於圓板狀的碟片，也可以適用 於卡片形狀等其他形狀的記綠媒體上。 邓即，本發明最後形成之記錄媒體上的微細凹凸並不限 足於凹坑，也可以適用於構成具有凹槽等的各種構成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [發明之效果] 如上所述，由於本發明之記錄媒體及記錄媒體製造用原 盤之製造方法係使用感熱材料層，而不使用先前一般的感 光性材料，藉由顯像處理，其係在其上照射雷射光，形^ 受熱而變質的部分，來除去該變質部或非變質部以進行圖 19- 591652 A7 B7 五、發明說明（17 ) 案化的方法，可以在比雷射光點寬度窄的加熱區域上形成 變質邵，因此，使用其形成之微細凹凸可以形成雷射光點 之光學臨界以下的微細圖案。 因此’可以構成咼1己綠密度、高解像度的記綠媒體。 因而’本务明在對該感熱材料層照射雷射光時，除以記 綠資料信號調變外，特別以更高頻率之一定高頻信號進行 調變’可以有效避免在形成長形圖案時溫度因雷射光照射 而上昇’以致在雷射移動的後端，感熱材料層之變質部的 圖案見度擴大。 因此’感熱材料層之變質部的圖案不受圖案長短影響， 可以確實形成所需的圖案，最後可以製造出高記錄密度、 高解像度的記綠媒體。 此外’由於本發明之記綠媒體及媒體製造用原盤之製造 裝置不需要設置高度眞空室等，因此可以構成簡單、小型 的廉價裝置，及構成保養簡單的裝置。 [圖式之簡要說明] 圖1爲以本發明之記綠媒體及記錄媒體製造用原盤之製 造方法獲得之所需微細凹凸圖案一種範例的平面圖。 圖2本發明方法使用之雷射光能量分佈與溫度上昇區域 的關係圖。 圖3爲本發明之記錄媒體及記綠媒體製造用原盤之製造 方法之雷射光調變方法的説明圖，其中A表示資料圖案， B及C表示雷射光照射圖案，〇表示微細凹凸圖案。 圖4 A及B分別爲本發明之記綠媒體及記綠媒體製造用原 •20- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ▼裝--------訂---------' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 591652

經濟部智慧財產局員工消費合作社印制农 1 · · •記錄標示 能量分佈曲線，4 · 骨^•或圓盤構成基板 一材料層，12b · · 13 · 41 · 手段 46 · 射鏡 雷射 記，綠 ♦ · 變質部 •圓盤 焱，製造方法的步驟圖(之一)範例。 ,,",,刀刎爲本發明（記綠媒體及記錄媒體製造用原 盤=製造方法的步驟圖（之二）範例。 ==&月之屺錄媒體及記綠媒體製造用原盤之製造 衣置一種範例的構成圖。 杜:二本&月又"己錄媒體及記錄媒體製造用原盤之製造 私置另一種範例的構成圖。 圖8:供説明使用先前之感光性材料製造圓盤 概略剖面圖。 0 9爲感光性材料的厂曲線圖。 圖1〇爲供說明先前方法的圖’ Α&Β分別爲雷射光之能量 分佈與感光反應區域的關係圖。 圖U A供說明先前方法的圖，其中A爲雷射光圖案圖，王 爲曝光圖案圖，C爲凹部的圖案圖。 [元件符號之說明] 2 · · ·微細凹凸，3 · · ，·溫度上昇區域，11.· 1 2 ···感熱材料層，1 2 a •第二材料層，12s · · •雷射光，15 · · ·微細凹凸，16 · •保持手段，42 · · ·雷射光源部，43 · · · | 44 · · ·集光鏡頭系統，45 · · ·光學系务 •低速調變器，47· ··高速調變器，48· ·, 1〇1· · •基板，1 〇 2 · · ·感光性材料肩 21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ~ 591652 A7 _B7_ 五、發明說明（19 ) 103· ··雷射光，104· ··集光鏡頭，201，202· · · 雷射光能量分佈曲線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 2 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 591652 A8 B8 C8 D8 ~、申請專利範圍 L 一種記綠媒體之製造方法，其特徵爲具有微細凹凸， 且具有：感熱材料層形成步驟，其係形成在構成上述 記綠媒體的基板上； 圖案之變質部形成步驟，其係於該感熱材料層上，照 射雷射光在因應上述微細凹凸圖案的圖案上，^在上述 感熱材料層上因應上述微細凹凸圖案來形成；及 圖案化步驟，其係上述該感熱材料層顯像， 咸 材料層圖案化； 且藉由比上述微細凹凸之週期高頻之頻率所調變的 射光照射，來進行上述雷射光的圖案照射。 2·如申請專利範圍第丨項之記錄媒體之製造方法，其中丄 述感熱材料層係採疊層構造，其包含以彼此互異之構成 材料形成之至少第一及第二材料層； 、 稭由上述雷射光照射促使溫度上昇，使產生相互擴 或溶解，在上述至少第-及第二材料層之構成材料中 生相互擴散或溶解’藉由上述至少第一及第二材料層 構成材料的混合或反應來形成上述變質部。 3.如申請專利範圍第丨臂之記錄媒體之製造方法 述雷射光爲半導體雷射光。 4·如申請專利範圍第1項之記綠媒體之製造方法 述雷射光爲藍紫雷射光。 5·如申請專利範圍第】項之記綠媒體之製造方法 述感熱材料層的構成材料爲無機材料。 6.如申請專利範圍第丨項之記錄媒體之製造方法 熱 雷 上 訂 散 產 線 其中上 其中上 其中上 其中上 (____ -2 3- 本紙張尺度適財關冢標準（CNS)A4規❿心挪公$ 591652

   申請專利範圍 述經圖案化之感熱材料層係作 ,,,^ , 作馬遮光罩，在上述基板上 升> 成微細凹凸。 7. 如申請專利範圍第1項之 H @ β 己綠媒體之製造方法，其中上 述經Θ案化之感熱材料層係作 ^、乍馬遮光罩，藉由反應性離 子蝕刻，在上述基板上形成微細凹凸。 8. 如申請專利範圍第1項之 〈σ己錄媒體之製造方法，其中上 述感熱材料層之圖案步驟中 J ”，、員像’係 |皆由 tetramethyl ammonium hydro oxide水溶液來進行。 9. 一種記綠媒體製造用原盤之制！、 万法，其特徵爲製造具 有微細凹凸的記錄媒體， 且具有：感熱材料層形成步驟，其係形成在構成上述 記錄媒體的基板上； 圖案之變質部形成步驟，其係於該感熱材料層上，照 射雷射光在因應上述微細凹凸圖案的圖案上，並在上述 感熱材料層上因應上述微細凹凸圖案來形成；及 圖案化步驟，其係上述該感熱材料層顯像，將該感熱 材料層圖案化； 且耠由比上述微細凹凸之週期高頻之頻率所調變的雷 射光照射，來進行上述雷射光的圖案照射。 10. 如申請專利範圍第9項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法’其中上述感熱材料層係採疊層構造，其包含以彼此 互異之構成材料形成之至少第一及第二材料層； 藉由上述雷射光照射促使溫度上昇，使產生相互擴散 或溶解，在上述至少第一及第二材料層之構成材料中產 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -n 1 n n n n n 一°JI n n n n n I n I · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 W1652

   申請專利範圍 生相互擴散或溶解，藉由上述至少第一及第二材料層之 構成材料的混合或反應來形成上述變質部。 U·如申請專利範圍第9項之記錄媒體製造用原盤之製造方 去’其中上述雷射光爲半導體雷射光。 I2.如申請專利範圍第9項之記綠媒體製造用原盤之製造 去’其中上述雷射光爲藍紫雷射光。 ° b.如申請專利範圍第9項之記綠媒體製造用原盤之製造 法，其中上述感熱材料層的構成材料爲無機材料f1" 14.如申請專利範圍第9項之記綠媒體之製造方法，其中 述經圖案化之感熱材料層係作爲遮光罩，在上述基板 形成微細凹凸。 土 1：)·如申請專利範圍第9項之記綠媒體製造用原盤之製造 法，其中上述經圖案化之感熱材料層係作爲遮光罩， 由反應性離予钱刻，在上述基板上形成微細凹凸。 16.如申請專利範圍第9項之記綠媒體製造用原盤之製造 法，其中上述感熱材料層之圖案步驟中的顯像，^⑻ramethy! ammonium hydr〇㈣心水溶液來進行。曰 Π.-種記錄媒體之製造裝置，其特徵爲具有微細凹凸， 且具有：保料段，其係保持基板，該基板構成至 在一王面上覆蓋形成有感熱材料層的記錄媒體； 雷射光源部； 调變手段’其係因岸上成 上逑诫細凹凸的圖案調變 射光源邵發射之雷射光，同辛 ， 丨j時凋交成比上述微細凹凸 圖案週期高頻的頻率： 方 万 上 上 方 猎 方 由 線 少 田 之 I -25- 本紙張尺度適用帽國_家標準 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^^1552 C8 ______________ D8 六、申請專利範圍 ^ 光子系、’’先，其係具有將上述雷射光集光在上述感熱材 料層上的集光鏡頭系統；及 〜 和動手&，其係對上述感熱材料層移動上述雷射光的 照射位置。 18·如申專利範圍第17項之記綠媒體之製造裝置，其中上 述凋k：手段係以高速調變器與低速調變器構成。 19·如申凊專利範圍第17項之記錄媒體之製造裝置，其中上 述雷射光源部係以半導體雷射構成， 上述調變手段係調變注入上述半導體雷射的電流。 20. —種記綠媒體製造用原盤之製造裝置，其特徵爲製造具 有微細凹凸的記錄媒體， 且具有：保持手段，其係保持基板，該基板構成至少 在一主面上覆盖形成有感熱材料層的記綠媒體； 雷射光源部； 凋k:手段’其係因應上述微細凹凸的圖案調變自該雷 射光源部發射之雷射光，同時調變成比上述微細凹凸之 圖案週期高頻的頻率； 光學系統’其係具有將上述雷射光集光在上述感熱材 料層上的集光鏡頭系統；及 移動手段，其係對上述感熱材料層移動上述雷射光的 照射位置。 21 ·如申請專利範圍第2 0項之記綠媒體製造用原盤之製造裝 置’其中上述調變手段係以高速調變器與低速調變器構 成。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐〉 I-----------嚷--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591652 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 22.如申請專利範圍第20項之記綠媒體製造用原盤之製造裝 置，其中上述雷射光源部係以半導體雷射構成， 上述調變手段係調變注入上述半導體雷射的電流。 l·—------------------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐〉