JPS5857644A - 情報記録盤の製造法 - Google Patents
情報記録盤の製造法Info
- Publication number
- JPS5857644A JPS5857644A JP15524781A JP15524781A JPS5857644A JP S5857644 A JPS5857644 A JP S5857644A JP 15524781 A JP15524781 A JP 15524781A JP 15524781 A JP15524781 A JP 15524781A JP S5857644 A JPS5857644 A JP S5857644A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- photoresist layer
- film
- light
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0908—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for focusing only
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は情報記録盤の製造法に関する。
光ディスク（以下単にディスクという）は、基板上に設
けた記録層に元ビームを照射して、情報孔（ビット）を
作り、ごのピント配列により情報の記録を行う。情報再
生時にはこの記録層に光ビームを照射してピットの有無
を検出して情報の再生を行う。
けた記録層に元ビームを照射して、情報孔（ビット）を
作り、ごのピント配列により情報の記録を行う。情報再
生時にはこの記録層に光ビームを照射してピットの有無
を検出して情報の再生を行う。
このようなディスクの製造法はオずディスク原盤を作り
、この原盤からディスクを複製する。
、この原盤からディスクを複製する。
ディスク原盤の作り方は、第１図（Ｂ、） ｖｃ示すよ
うＶＣ基板１上にフォトレジスト層２を形成し、紫外線
光に近い波長のレーザビームを記録すべきパターンに対
応して選択的に１１６射する。
うＶＣ基板１上にフォトレジスト層２を形成し、紫外線
光に近い波長のレーザビームを記録すべきパターンに対
応して選択的に１１６射する。
この」劾合、レーザビームの焦点をレジスト層２表面上
に設定するため第２図の如くレーザ光源Ｓからのビーム
径を凹レンズＬ、で拡大（，７た後、凸レンズＬ、で平
行光にし、ハーフミラ−Ｍで集光Ｌ／ ７ 、（Ｌ 、
でレジスト層２表面上に集光していた。
に設定するため第２図の如くレーザ光源Ｓからのビーム
径を凹レンズＬ、で拡大（，７た後、凸レンズＬ、で平
行光にし、ハーフミラ−Ｍで集光Ｌ／ ７ 、（Ｌ 、
でレジスト層２表面上に集光していた。
そしてその反射光を集光レンズＬ３、ハーフミラ−Ｍを
介して集光レンズＬ４へ入射せしめ光検知器りへ集光し
、その光検知器りの出力レベルよりレジスト層２の表面
へ照射される光ビームの焦点ずれを検出していた。
介して集光レンズＬ４へ入射せしめ光検知器りへ集光し
、その光検知器りの出力レベルよりレジスト層２の表面
へ照射される光ビームの焦点ずれを検出していた。
１−かし、レジストＭ２の表面における光反射率Ｃ１Ｊ
、低いｌこめ光検知器Ｉ〕に入射する反射光１も少くな
り、従って光検知器りの出力レベルも低くなる結果、信
号対維音比が低下して焦点ずれを適確に判定することは
困難である。
、低いｌこめ光検知器Ｉ〕に入射する反射光１も少くな
り、従って光検知器りの出力レベルも低くなる結果、信
号対維音比が低下して焦点ずれを適確に判定することは
困難である。
従来はこのため、光源Ｓの出力強度を高くし、光検知器
りへ入射する反射光量を多くするとか、基板１として界
面の平滑性の極めてすぐれたものを使用し、焦点ずれを
なくすといった対策を講じていた。
りへ入射する反射光量を多くするとか、基板１として界
面の平滑性の極めてすぐれたものを使用し、焦点ずれを
なくすといった対策を講じていた。
しかし、前者は、光源Ｓが大型化しかつ高価となり、後
者は基板が高価となり、又基板表面の平滑性を良好にし
ても、回転中の基板の回転運動による上下方向の振動に
伴うビームの焦点ずれが生じる欠点があった・ 本発明はかかる点ＶＣ鑑みなされたもので、バグーユン
グ工程中に基板面上のフォトレジスト層に照射されるビ
ームの焦点ずれを容易に検知し得る情報記録原盤の製造
法を提供することを目的とする。
者は基板が高価となり、又基板表面の平滑性を良好にし
ても、回転中の基板の回転運動による上下方向の振動に
伴うビームの焦点ずれが生じる欠点があった・ 本発明はかかる点ＶＣ鑑みなされたもので、バグーユン
グ工程中に基板面上のフォトレジスト層に照射されるビ
ームの焦点ずれを容易に検知し得る情報記録原盤の製造
法を提供することを目的とする。
以下図面を参朋しながら本発明の奸才しい実施例につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第１図（ａ）で、説明したように基板１上に７オトレジ
スト層２を形成することは従来通りであるがこの後、第
１図（ｂ）ＶＣ示すようにレジスト層２表面上に金属（
例えばビスマス：Ｂｊ ）の薄膜３を真−空蒸着技術で
形成する。
スト層２を形成することは従来通りであるがこの後、第
１図（ｂ）ＶＣ示すようにレジスト層２表面上に金属（
例えばビスマス：Ｂｊ ）の薄膜３を真−空蒸着技術で
形成する。
この後第３図に示１−ように光源Ｓカ・らのレーザビー
ムを金［１１ψ３上に照射しつつ、パターニングを行う
。このとき、金属膜３土Ｖｃ照射ざねるビームの照点ず
れ検出は第１図（ｂ）Ｋ関連して説明また方法と同様で
あり、光検知器りの出力を制御部Ｃへ入力し、検知器り
の出力レベルに対応した駆動電流を、ボイスコイルＢ、
、 Ｂ、へ供給する。
ムを金［１１ψ３上に照射しつつ、パターニングを行う
。このとき、金属膜３土Ｖｃ照射ざねるビームの照点ず
れ検出は第１図（ｂ）Ｋ関連して説明また方法と同様で
あり、光検知器りの出力を制御部Ｃへ入力し、検知器り
の出力レベルに対応した駆動電流を、ボイスコイルＢ、
、 Ｂ、へ供給する。
この駆動電流にエリボイスコイルＢ、、Ｂ２で発生する
ａ場により集光レンズＬ、 ＶＣ固設これたマグネソ）
Ｇ、、Ｇ、が焦点ずれの太きζに対応して上下方向に変
位するため、これと共に集光レンズも変位し、レジスト
層上の金属膜３面−Ｈに照射されるレーザビームの焦点
ずれが補正される。
ａ場により集光レンズＬ、 ＶＣ固設これたマグネソ）
Ｇ、、Ｇ、が焦点ずれの太きζに対応して上下方向に変
位するため、これと共に集光レンズも変位し、レジスト
層上の金属膜３面−Ｈに照射されるレーザビームの焦点
ずれが補正される。
周知のように金属膜３は反射率が高いため、光源Ｓから
集光レンズＬ３を介して回転中の基板上の ３− 金属膜３表面に照射きれるレーザビーム（露光ビーム）
の反射光は前述した従来の場合（レジスト層２土に直接
レーザビームを照射する場合）Ｉｃ比して強要が十分大
きく、従ってハーフミラ−Ｍ、集光レンズＬ４を介して
光検知器りへ入射される反射光強度は、この露光ビーム
の焦点ずれを検出し得るに十分な程度大きく々す、この
検知器りの出力によって前述の如き操作によシ露光ビー
ムの焦点ずれを容易に補正できる。
集光レンズＬ３を介して回転中の基板上の ３− 金属膜３表面に照射きれるレーザビーム（露光ビーム）
の反射光は前述した従来の場合（レジスト層２土に直接
レーザビームを照射する場合）Ｉｃ比して強要が十分大
きく、従ってハーフミラ−Ｍ、集光レンズＬ４を介して
光検知器りへ入射される反射光強度は、この露光ビーム
の焦点ずれを検出し得るに十分な程度大きく々す、この
検知器りの出力によって前述の如き操作によシ露光ビー
ムの焦点ずれを容易に補正できる。
このようにして基板上の金属膜３面上に照射される露光
ビームの焦点ずれは常に補正された状態ＶＣある。
ビームの焦点ずれは常に補正された状態ＶＣある。
レジストＮ２上の金属膜３がレーザビームにより蕗元さ
れた領塚Ｒ１〜Ｒｎの金属膜はレーザビームの熱により
除去される。（第１図（Ｃ））この後、第１図（ｄ）
Ｋ示す如く紫外線光により全面露光を行い、金属膜３が
除去された領域Ｒ８〜Ｒｎのレジスト層２の感光を行う
。そして、功、像を行い、無光領域Ｒ１〜Ｒｎのレジス
トおよび金ＰＡ膜の除去を行う。このようにして第１図
（ｅ）に示−４＝ す情報記録盤であるディスク原盤Ｔが得られる。
れた領塚Ｒ１〜Ｒｎの金属膜はレーザビームの熱により
除去される。（第１図（Ｃ））この後、第１図（ｄ）
Ｋ示す如く紫外線光により全面露光を行い、金属膜３が
除去された領域Ｒ８〜Ｒｎのレジスト層２の感光を行う
。そして、功、像を行い、無光領域Ｒ１〜Ｒｎのレジス
トおよび金ＰＡ膜の除去を行う。このようにして第１図
（ｅ）に示−４＝ す情報記録盤であるディスク原盤Ｔが得られる。
このディスク原盤Ｔを用いてディスクを製造する工程は
従来周知のものと同一であって、第４図（ａ）に示すよ
うに、前記原盤Ｔ上に金属（クロムアルミニウム（Ｃｒ
−Ａｔ）等のメッキ層４を形成した後第４図（ｂ）に示
すようにこのメッキ層をその捷＼剥離していわゆるマザ
ーＦを得る。
従来周知のものと同一であって、第４図（ａ）に示すよ
うに、前記原盤Ｔ上に金属（クロムアルミニウム（Ｃｒ
−Ａｔ）等のメッキ層４を形成した後第４図（ｂ）に示
すようにこのメッキ層をその捷＼剥離していわゆるマザ
ーＦを得る。
このマザーＦ ＶＣ押圧台Ｈ上に載置したプラスチック
モールドＪを押圧すると、第４図（Ｃ）に示す如きディ
スクＶが得られる。
モールドＪを押圧すると、第４図（Ｃ）に示す如きディ
スクＶが得られる。
以上の説明から明らかなように本発明に係る情報記録盤
の製造法は基板面上に形成したレジスト層のＮ元工程前
にこのレジスト層表面上に金Ｍ膜を形成する工程を設け
たため、ｇ光ビームの焦点補正として用いられる被露光
体からの反射光量が十分大きくなシ、この反射光を用い
て露光ビームの焦点補正が可能となり、、鮮明な露光パ
ターンが得られる。
の製造法は基板面上に形成したレジスト層のＮ元工程前
にこのレジスト層表面上に金Ｍ膜を形成する工程を設け
たため、ｇ光ビームの焦点補正として用いられる被露光
体からの反射光量が十分大きくなシ、この反射光を用い
て露光ビームの焦点補正が可能となり、、鮮明な露光パ
ターンが得られる。
第１図（ａ）〜（ｅ）は情報記録盤の製造工程を示す図
、第２図は露光工程を示す図、第３図は金属膜除去工程
を示す図、第４図はディスク製造工程を示す図である。 〕；基板、２．レジスト層、３：金属薄）模、４：メッ
キ層、Ｓ°レーザ光源、Ｌ、：凹レンズ、Ｌ、：凸レン
ズ、Ｌ、：’Ｉｓ元レンズ、Ｍ：ハーフミラ−、Ｌ４：
集光レンズ、Ｄ：ｆｆｉ検知器、Ｃ：制御部、Ｂ、、Ｂ
２ ：ボイスコイル、Ｇ、、Ｇ２：マグネット。 ７− ％ Ｉ 図 第 ２ 図 茅 ３ 口 第４ 図
、第２図は露光工程を示す図、第３図は金属膜除去工程
を示す図、第４図はディスク製造工程を示す図である。 〕；基板、２．レジスト層、３：金属薄）模、４：メッ
キ層、Ｓ°レーザ光源、Ｌ、：凹レンズ、Ｌ、：凸レン
ズ、Ｌ、：’Ｉｓ元レンズ、Ｍ：ハーフミラ−、Ｌ４：
集光レンズ、Ｄ：ｆｆｉ検知器、Ｃ：制御部、Ｂ、、Ｂ
２ ：ボイスコイル、Ｇ、、Ｇ２：マグネット。 ７− ％ Ｉ 図 第 ２ 図 茅 ３ 口 第４ 図
Claims (1)
- 基板面上にフォトレジスト層を形成する工程と、該フォ
トレジスト層を選択的ｖｃＮ光する工程とを含み、該露
光工程後現像により前記フォトレジスト層を選択的に除
去するようにした情報記録盤の製造法において、前記フ
ォトレジスト層形成工程後に該フォトレジスト層表面上
に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜を選択的に除
去する工程とを設け、該金属薄膜除去工程後に前記露光
工程を行うようにしたことを特徴とする情報記録盤の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15524781A JPS5857644A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 情報記録盤の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15524781A JPS5857644A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 情報記録盤の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857644A true JPS5857644A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=15601742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15524781A Pending JPS5857644A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 情報記録盤の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857644A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001063607A1 (fr) * | 2000-02-28 | 2001-08-30 | Sony Corporation | Procede de production d'un support d'enregistrement, procede de production d'une matrice de pressage de support d'enregistrement, appareil de production d'un support d'enregistrement et appareil de production d'une matrice de pressage de support d'enregistrement |
| WO2001065553A1 (fr) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Sony Corporation | Procedes de production de support d'enregistrement et de production de matrice de pressage de support d'enregistrement, appareils de production de support d'enregistrement et de production de matrice de pressage de support d'enregistrement |
| JP2009059470A (ja) * | 2008-12-15 | 2009-03-19 | Sony Corp | 記録媒体の製造方法、および記録媒体製造用原盤の製造方法 |
| JP2009110652A (ja) * | 2008-12-15 | 2009-05-21 | Sony Corp | 記録媒体の製造装置、及び記録媒体製造用原盤の製造装置 |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15524781A patent/JPS5857644A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001063607A1 (fr) * | 2000-02-28 | 2001-08-30 | Sony Corporation | Procede de production d'un support d'enregistrement, procede de production d'une matrice de pressage de support d'enregistrement, appareil de production d'un support d'enregistrement et appareil de production d'une matrice de pressage de support d'enregistrement |
| US7166417B2 (en) | 2000-02-28 | 2007-01-23 | Sony Corporation | Method for manufacturing recording media, method for manufacturing production plate used when manufacturing recording media, apparatus for manufacturing recording media, and apparatus for manufacturing production plate used when manufacturing recording media |
| US7643049B2 (en) | 2000-02-28 | 2010-01-05 | Sony Corporation | Method for manufacturing recording media, method for manufacturing production plate used when manufacturing recording media, apparatus for manufacturing recording media, and apparatus for manufacturing production plate used when manufacturing recording media |
| WO2001065553A1 (fr) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Sony Corporation | Procedes de production de support d'enregistrement et de production de matrice de pressage de support d'enregistrement, appareils de production de support d'enregistrement et de production de matrice de pressage de support d'enregistrement |
| US6773868B2 (en) * | 2000-03-02 | 2004-08-10 | Sony Corporation | Method for producing recording medium, method for producing stamper of recording medium, apparatus for producing recording medium, and apparatus for producing stamper of recording medium |
| JP2009059470A (ja) * | 2008-12-15 | 2009-03-19 | Sony Corp | 記録媒体の製造方法、および記録媒体製造用原盤の製造方法 |
| JP2009110652A (ja) * | 2008-12-15 | 2009-05-21 | Sony Corp | 記録媒体の製造装置、及び記録媒体製造用原盤の製造装置 |
| JP4687782B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2011-05-25 | ソニー株式会社 | 記録媒体の製造方法、および記録媒体製造用原盤の製造方法 |
| JP4687783B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2011-05-25 | ソニー株式会社 | 記録媒体の製造装置、及び記録媒体製造用原盤の製造装置 |
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