JP2003233200A - 露光方法および露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レジスト膜によって既にガラス原盤上に形成
された凹凸形状に別の形状を付加することを可能とす
る。 【解決手段】 レジスト塗布原盤の露光処理において、
所定の波長特性を有する蛍光色素を含む薄膜を原盤上に
形成して露光を行う。蛍光色素としては、レーザビーム
をレジスト塗布原盤上に集光し、このレーザビームの波
長で励起されて蛍光を発し、かつ発生した蛍光の波長で
はレジストを露光しないような特性、あるいは、レジス
トが露光されない波長のレーザビームをレジスト塗布原
盤上に集光し、１光子励起では蛍光を発生しないか、発
生したとしても、その蛍光の波長ではレジストを露光せ
ず、かつ２光子励起により発生した蛍光の波長ではレジ
ストを露光するような特性を有するものを用いる。そし
て、この蛍光素子で発生した蛍光を結像して検出し、フ
ォーカス制御等に用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤の
作成時にフォトレジストを塗布したディスク原盤に露光
処理を行うための露光方法および露光装置に関し、特に
蛍光追従方式による露光方法および露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光ディスクのマスタスタンパ
となる原盤を作製する場合、ガラス原盤上にレジスト膜
を塗布した後、レーザビームによる露光処理を行いフォ
トリソグラフィ技術を用いてレジスト膜のパターンニン
グを行うようにしているが、このレジスト塗布原盤の作
製工程においては、通常、原盤は表面が平滑に研磨され
たガラスであり、その上面にレジスト薄膜を塗布により
形成する。また、露光用のレーザビームを集光する対物
レンズは、レーザビームの原盤からの反射光、あるいは
非露光波長のレーザビームの原盤からの反射光を用いて
フォーカス制御を行うようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の露光方法を採用した場合、ＲＩＥ等により
既に凹凸形状を有する原盤に、新規の凹凸形状を付加し
たい場合には、再度露光プロセスを経る必要がある。す
なわち、既に凹凸形状を有する原盤にレジスト薄膜を形
成した場合には、レジスト薄膜の上面には凹凸形状は保
持されず、ほぼ平滑になる。このため、平滑原盤から作
製したレジスト塗布原盤を用いた場合と同様にフォーカ
シングを行うことは可能である。しかし、既に有る凹凸
形状からの信号を反射戻り光に重畳してトラッキング信
号や回転同期信号を得ることは困難である。そこで、原
盤上に集光した光ビームが原盤上の所望の位置からずれ
た場合に、そのずれ方向を検出し、かつその検出信号に
基づいて対物レンズの横軸移動や光ビームの進行方向、
および原盤の回転数を制御するような対策が望まれる。

【０００４】本発明は、以上のような実情に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、レジスト膜によって既に
ガラス原盤上に形成された凹凸形状に別の形状を付加す
ることを可能とし、その形状によって種々の追加機能を
付加することが可能な光ディスクを作製することができ
る露光方法および露光装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の露光方法は前記
目的を達成するため、レジスト塗布原盤に露光処理を行
う露光方法において、光ビームをレジスト塗布原盤上に
集光した場合に、当該光ビームの波長によって励起され
て蛍光を発生し、かつ、蛍光を発生した波長ではレジス
トを露光しないような蛍光色素を含む薄膜を原盤上に形
成して露光を行うことを特徴とする。また本発明の露光
方法は、レジスト塗布原盤に露光処理を行う露光方法に
おいて、レジストが露光されない波長の光ビームをレジ
スト塗布原盤上に集光し、１光子励起では蛍光を発生し
ないか、蛍光を発生したとしても、その蛍光の波長では
レジストを露光せず、かつ、２光子励起により発生した
蛍光の波長ではレジストを露光するような蛍光色素を含
む薄膜を原盤上に形成して露光を行うことを特徴とす
る。また、本発明の露光装置は、レジスト塗布原盤に露
光処理を行う露光方法において、原盤上に照射する光ビ
ームと発生した蛍光の戻り光とを波長選択分離する手段
を有することを特徴とする。

【０００６】本発明の露光方法では、光ビームをレジス
ト塗布原盤上に集光した場合に、当該光ビームの波長に
よって励起されて蛍光を発生し、かつ、蛍光を発生した
波長ではレジストを露光しないような蛍光色素を含む薄
膜を原盤上に形成して露光を行うことから、この原盤上
に形成した蛍光色素を含む薄膜を用いて、既にガラス原
盤上に形成された凹凸形状に別の形状を付加することが
できる。また、レジストが露光されない波長の光ビーム
をレジスト塗布原盤上に集光し、１光子励起では蛍光を
発生しないか、蛍光を発生したとしても、その蛍光の波
長ではレジストを露光せず、かつ、２光子励起により発
生した蛍光の波長ではレジストを露光するような蛍光色
素を含む薄膜を原盤上に形成して露光を行うことから、
この原盤上に形成した蛍光色素を含む薄膜を用いて、既
にガラス原盤上に形成された凹凸形状に別の形状を付加
することができる。したがって、このような露光方法に
より、例えば従来のディスク露光プロセスでは不可能で
あった多段グルーブ構造やピットの深さ変調などが可能
となり、この多段グルーブ構造によって記録膜のクロス
トーク特性の向上等、記録特性の向上が期待できる。ま
たピットの深さ変調によって、従来の変調信号に加えて
深さ方向にも情報をもたせることができるため、高密度
化が可能となる。

【０００７】また本発明の露光装置では、上述のような
露光方法で、蛍光色素を含む薄膜を設けた原盤を露光す
る場合に、原盤上に照射する光ビームと発生した蛍光の
戻り光とを波長選択分離することにより、蛍光の戻り光
を光ビームから分離して検出することができ、この蛍光
の戻り光を各種サーボ制御用に用いることが可能とな
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明による露光方法およ
び露光装置の実施の形態について説明する。なお、以下
に説明する実施の形態は、本発明の好適な具体例であ
り、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において、特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限定されない
ものとする。

【０００９】本実施の形態による露光方法および露光装
置は以下のような特徴を有する。まず、本実施の形態に
よる露光方法では、レジスト塗布原盤の露光処理におい
て、所定の波長特性を有する蛍光色素を含む薄膜を原盤
上に形成して露光を行うものである。ここで用いる蛍光
色素としては、次の２通りあり、いずれか一方を用いる
ものとする。 （１）レーザビームをレジスト塗布原盤上に集光し、こ
のレーザビームの波長で励起されて蛍光を発し、かつ発
生した蛍光の波長ではレジストを露光しないような特性
を有する。 （２）レジストが露光されない波長のレーザビームをレ
ジスト塗布原盤上に集光し、１光子励起では蛍光を発生
しないか、発生したとしても、その蛍光の波長ではレジ
ストを露光せず、かつ２光子励起により発生した蛍光の
波長ではレジストを露光するような特性を有し、２光子
励起により発生した蛍光により露光を行う。

【００１０】そして、このような露光方法において、発
生した蛍光を結像して検出し、露光用対物レンズのフォ
ーカス制御信号として使用する。また、この露光方法で
は、ＲＩＥ処理等により既に凹凸形状が形成された原盤
上に蛍光色素およびレジストを含む薄膜を形成すること
により、原盤上に集光したレーザビームにより発生した
蛍光を結像して検出し、露光用対物レンズのトラッキン
グ制御信号として使用したり、あるいは、レジスト塗布
原盤の回転同期制御信号として使用し、既に形成された
凹凸形状とは異なる深さまたは形状のリソグラフィを行
う。さらに、露光および現像後にＲＩＥ処理を施し、凹
凸形状を付加する。

【００１１】一方、本実施の形態による露光装置では、
上述した露光方法を行う場合に、原盤上に照射するレー
ザビームと発生した蛍光の戻り光を波長選択分離するた
めの手段と、蛍光の戻り光強度を検出する手段を設け、
蛍光強度検出信号に基づいてレジスト原盤の回転同期を
行う。また、蛍光の戻り光によりフォーカス信号を検出
し、そのフォーカス検出信号に基づいて露光用対物レン
ズのフォーカシングを行う。また、蛍光の戻り光により
トラッキング信号を検出し、そのトラッキング検出信号
に基づいて露光用対物レンズのトラッキングを行う。

【００１２】以下、本実施の形態による露光方法および
露光装置の具体的な実施例について図面を用いて説明す
る。図１は、本実施の形態による露光装置の光学系の構
成を示す説明図である。図示のように、この露光装置
は、レーザ光源１０から出射したレーザビームを各種レ
ンズ１１、１２、およびダイクロイックミラー（波長選
択分離手段）１３を通して対物レンズ１４に供給し、こ
の対物レンズ１４によって石英ガラス原盤１の上面にレ
ーザビームを集光させる。そして、この石英ガラス原盤
１からの反射光をダイクロイックミラー１３、ハーフミ
ラー１５、１６およびレンズ１７、１８、１９を通して
光検出用の光電子増倍管２０、２１、２２に供給し、反
射光の検出を行う。また、各レンズ１７、１８、１９と
各光電子増倍管２０、２１、２２との間には、各光電子
増倍管２０、２１、２２への入射光を部分的に遮蔽する
遮光板２３、２４、２５が配置されている。なお、各部
の詳細な機能については以下に述べる露光方法の説明に
沿って言及する。

【００１３】次に、以上のような露光装置を用いて行わ
れる露光方法について説明する。図２および図３は、本
実施の形態による露光方法に沿った各工程におけるレジ
スト塗布原盤の積層状態を示す断面図である。また、図
４は、本実施の形態によるフォーカス検出原理を示す説
明図であり、図５は、本実施の形態によるトラッキング
検出原理を示す説明図である。

【００１４】まず、図２（Ａ）において、平滑なガラス
原盤１００の上面に、例えば２０００Å程度の厚みでレ
ジスト１１０を塗布し、この原盤１００を露光および現
像することにより、図２（Ｂ）に示すように、螺旋状に
グルーブ溝を形成する。次に、この原盤１００にＲＩＥ
を施すことにより、ガラス面が露光している部分のみ、
ガラスを一定の深さに掘り下げることができる。この加
工深さは、例えば１００ｎｍ程度とする。そして、ＲＩ
Ｅの後、原盤１００上に残っているレジストや反応生成
物を例えば酸素プラズマエッチングにより除去し、超音
波超純水洗浄で表面を洗浄する。これにより、図２
（Ｃ）に示すようなグルーブ溝１０１とその間のランド
エリア１０２からなる凹凸形状のガラス原盤１００Ａが
作製できる。

【００１５】次に、このようにして凹凸形状が形成され
たガラス原盤１００Ａに、図２（Ｄ）に示すように、蛍
光色素を混入したレジスト薄膜１２０をグルーブ溝の無
い位置における厚みが例えば１０００Å程度となるよう
に塗布する。このレジスト原盤１００Ａに照射する露光
用レーザビームは、このレーザビームを照射すると、蛍
光色素は蛍光を発するが、発生した蛍光の波長ではレジ
ストを露光しないものを選択する。このレジスト原盤１
００Ａに露光用レーザビームを対物レンズ１４で集光す
ると、対物レンズ１４に戻る光としては、レジスト薄膜
１２０の表面で反射する露光用レーザビームと、レジス
ト薄膜１２０の内部から発生した蛍光が得られる。これ
らの戻り光はダイクロイックミラー１３を用いて分離で
き、露光用レーザブームの反射光は直進し、蛍光は反射
する。

【００１６】このダイクロイックミラー１３を反射した
蛍光を用いて、ナイフエッジ法によりフォーカス制御を
行う。すなわち、この蛍光をレンズ１７で集光し、集光
点直前の円形のビームプロファイルを有する位置に、直
線状のエッジを持ち、戻り光の半分以下の一部の光をカ
ットする遮光板２３を設置する。また、透過した光の集
光点付近に受光位置が一致するように光電子倍増管２０
を配置し、強度を検出する。図４（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）に
示すように、原盤１００Ａが対物レンズ１４に近づく
と、遮光板２３の位置で蛍光ビームのプロファイルが広
がり、透過光量が減少する。逆に、図４（Ｇ）（Ｈ）
（Ｉ）に示すように、原盤１００Ａが対物レンズ１４か
ら遠のくと、遮光板２３の位置で蛍光ビームプロファイ
ルが小さくなり、透過光量が増加する。そこで、この検
出強度信号が一定の値になるように、対物レンズ１４を
光軸方向に移動制御することにより、図４（Ｄ）（Ｅ）
（Ｆ）に示すように、対物レンズ１４と原盤１００Ａと
間の距離制御、つまり露光レーザビームのフォーカシン
グ制御を行うことができる。

【００１７】また、蛍光薄膜１２０はグルーブ溝の位置
で厚くなっているため、露光用レーザビームの集光スポ
ットの位置がグルーブ溝に一致するときには、結像点上
で強度が最大となり、グルーブ溝から外れるに従って、
結像点上でのスポット形状が変化するとともに強度が減
少する。そこで原盤１００Ａから得られる蛍光をハーフ
ミラー１５、１６で２光束に分離し、それぞれレンズ１
８、１９で光電子倍増管２１、２２の受光位置に集光す
る（図５（Ａ））。そして、一方の光電子倍増管（ＰＭ
１）２１の受光位置直前で遮光板２４によって集光スポ
ットの半分を遮光し、もう一方の光電子倍増管（ＰＭ
２）２２の受光位置直前では遮遮光板２５によって集光
スポットの反対側の半分を遮光する（図５（Ｂ））。こ
れにより、露光用レーザビームの集光位置が図５（Ｄ）
から図５（Ｆ）に示すように、グルーブ溝間の中心から
外れると、一方の光電子倍増管２１の検出強度が図５
（Ｃ）に示すように増加する。また、レーザビーム集光
位置のずれ方向が逆の場合には、もう一方の光電子倍増
管２２での検出強度が図５（Ｃ）に示すように増加す
る。なお、遮光の角度はこの検出感度が最大になるよう
に調整するとよい。そこで、この検出強度のバランスが
一定となるように、対物レンズ１４の半径方向制御、も
しくは露光レーザビーム照射角度の制御をすることによ
り、露光用レーザビーム集光位置を、既に形成されてい
るグルーブ溝間の中心位置に来るようにトラッキング制
御を行うことができる。

【００１８】このようにフォーカシングおよびトラッキ
ングを行って、図３（Ａ）に示すような既にグルーブ溝
の形成されたガラス原盤１００Ａ上に、図３（Ｂ）に示
すように、グルーブ溝間の中心部分を露光し、現像後、
図３（Ｃ）に示すように、ランド部分のみが露出される
ようにする。この原盤１００ＡにＲＩＥを施して、例え
ば１０ｎｍ程度ガラスを掘り下げた後にレジスト等を除
去するための洗浄を行う。これにより、図３（Ｄ）に示
すように、深さが約９０ｎｍのランド・グルーブ構造
で、かつランドエリア１０３の縁に高さ１０ｎｍの壁１
０４がある形状のガラス原盤１００Ｂを得ることができ
る。このようにして作製されたガラス原盤に、ニッケル
メッキを施し、これを剥し取ることで信号を転写したス
タンパが得られる。このスタンパを金型としてプラスチ
ックを射出成形することにより、ディスク基板が作製さ
れる。

【００１９】以上のような本実施例による露光方法およ
び露光装置によれば、既にガラス原盤上に形成された凹
凸形状に別の形状を付加することができる。これによ
り、従来のディスク露光プロセスでは不可能であった多
段グルーブ構造を得ることが可能となる。そして、多段
グルーブ構造では記録膜のクロストーク特性の向上等、
記録特性の向上が期待でき、例えば、上述のような形状
を有するディスク基板を用いて記録膜を製膜することに
より、記録再生時にランドエリアとグルーブエリアでの
クロストークを減少させることが期待できる。

【００２０】以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、例
えば以下のような変形が可能である。例えば、上記実施
例では既設の凹凸形状および追加工の凹凸形状ともにグ
ルーブ溝であったが、これに限る必要は無く、ピット列
構造や、露光ビームを蛇行して得られるような露光でも
良い。また、これらの構造をなす深さは、最終的に完成
したディスクに製膜する膜の種類や、記録または再生時
の光学パラメータ等に合わせて適宜変更してもよい。ま
た、露光ビームは１本に限らず、２本以上あっても良
い。

【００２１】また、上記実施例では、凹凸形状が既設の
ガラス原盤に蛍光色素を混入したレジストを塗布した
が、蛍光色素とレジストを別の薄膜層として構成しても
良い。ただし、この場合には、ガラス原盤上に蛍光色素
薄膜、レジスト薄膜の順に形成する必要がある。また、
蛍光色素薄膜の形成は塗布に限らず、蒸着やスパッタ等
他の方法を用いても良い。また、上記実施例では、蛍光
の戻り光に基づいてフォーカシングを行ったが、蛍光に
限る必要は無く、露光ビームの反射光やレジストを露光
しない別のレーザビームを照射してその戻り光に基づい
て行っても良い。また、フォーカス方式についてはナイ
フエッジ法に限る必要も無い。

【００２２】また、上記実施例では、トラッキングの制
御位置をグルーブ溝間の中心位置としたが、作製したい
構造に合わせてグルーブ溝あるいはピット列に合わせて
も良いし、それらの位置から所定の大きさだけずれた位
置に合わせても良い。グルーブ溝やピット列から半径方
向にずれると、２つの光電子倍増管のうち、一方の検出
強度が低下する。ずれの方向が逆の場合には、もう移一
方の検出強度が低下する。そこで、これらの低下が起き
ないように、またはバランスが取れるように制御するこ
とで、グルーブ溝中心やピット列中心位置に合わせるこ
とができる。また、制御量にオフセットをのせること
で、それらの位置ずれからずらすこともできる。

【００２３】また、上記実施例では、蛍光でトラッキン
グをかけて露光した後に現像およびＲＩＥを行ったが、
ＲＩＥを行わずにレジストで形成される凹凸形状をその
まま転写してスタンパを作製しても良い。また、上記実
施例においては、露光ビームの反射光と蛍光の戻り光を
分離するためにダイクロイックミラーを用いたが、これ
に限らず、それぞれのビームの偏光方向を直行させ、偏
光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を用いて分離する等、他
の方法を用いても良い。

【００２４】また、上記実施例においては、蛍光の強度
検出器として光電子倍増管を用いたが、これに限る必要
は無く、蛍光の強度を検出できさえすればよく、その用
途に十分な感度のあるアバランシェフォトダイオード
（ＡＰＤ）等のフォトダイオード（ＰＤ）を用いても良
い。また、ガラス原盤に既設の凹凸形状がピット列の場
合には、蛍光検出器から得られる変調信号が所望の周波
数になるようにガラス原盤の回転数を制御することがで
きる。なお、この場合には周波数を一定の値に固定させ
るためのＰＬＬ回路等の制御回路が必要となる。また、
対物レンズを光軸方向や横方向に制御するためには、対
物レンズにアクチュエータを取り付ける必要がある。こ
のアクチュエータとしては電磁コイルを用いたボイスコ
イルモータ（ＶＣＭ）やピエゾ素子等を用いることがで
きる。

【００２５】また、上記実施例ではレーザビームが直接
レジストを感光したが、レーザの波長自体がレジストに
感度が無くても、発生した蛍光に感度があればこれによ
り露光することができる。例えば５３２ｎｍのレーザビ
ームはｇ線レジストには感度が無い。また、蛍光色素に
ついても、さらに短波長でないと蛍光を励起できないと
する。この波長のレーザビームを対物レンズに入射し、
蛍光色素を含有する薄膜上に集光しても露光されず、蛍
光も発生しない。しかし、入射レーザビームのパワー
を、例えば１Ｗ程度の強力なパワーとすることにより、
２光子励起が起こり、波長２６６ｎｍのレーザビームに
相当するエネルギーで蛍光色素が励起される。これによ
り、例えば波長３００ｎｍを中心とする蛍光を発生した
とすると、この蛍光はレジストに感度があるため露光す
ることができる。また、この蛍光の戻り光に基づいてフ
ォーカス、トラッキング、回転同期をかけることも可能
となる。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の露光方法で
は、光ビームをレジスト塗布原盤上に集光した場合に、
当該光ビームの波長によって励起されて蛍光を発生し、
かつ、蛍光を発生した波長ではレジストを露光しないよ
うな蛍光色素を含む薄膜を原盤上に形成して露光を行う
ことから、この原盤上に形成した蛍光色素を含む薄膜を
用いて、既にガラス原盤上に形成された凹凸形状に別の
形状を付加することができる。したがって、既にガラス
原盤上に形成された凹凸形状に別の形状を付加すること
を可能とし、種々の追加機能を付加することが可能な原
盤を作製できる効果がある。例えば、従来のディスク露
光プロセスでは不可能であった多段グルーブ構造やピッ
トの深さ変調などが可能となり、この多段グルーブ構造
によって記録膜のクロストーク特性の向上等、記録特性
の向上が期待できる。またピットの深さ変調によって、
従来の変調信号に加えて深さ方向にも情報をもたせるこ
とができるため、高密度化が可能となる。

【００２７】また、本発明の露光方法では、レジストが
露光されない波長の光ビームをレジスト塗布原盤上に集
光し、１光子励起では蛍光を発生しないか、蛍光を発生
したとしても、その蛍光の波長ではレジストを露光せ
ず、かつ、２光子励起により発生した蛍光の波長ではレ
ジストを露光するような蛍光色素を含む薄膜を原盤上に
形成して露光を行うことから、この原盤上に形成した蛍
光色素を含む薄膜を用いて、既にガラス原盤上に形成さ
れた凹凸形状に別の形状を付加することができる。した
がって、既にガラス原盤上に形成された凹凸形状に別の
形状を付加することを可能とし、種々の追加機能を付加
することが可能な原盤を作製できる効果がある。例えば
従来のディスク露光プロセスでは不可能であった多段グ
ルーブ構造やピットの深さ変調などが可能となり、この
多段グルーブ構造によって記録膜のクロストーク特性の
向上等、記録特性の向上が期待できる。またピットの深
さ変調によって、従来の変調信号に加えて深さ方向にも
情報をもたせることができるため、高密度化が可能とな
る。

【００２８】また、本発明の露光装置では、上述のよう
な露光方法で、蛍光色素を含む薄膜を設けた原盤を露光
する場合に、原盤上に照射する光ビームと発生した蛍光
の戻り光とを波長選択分離することにより、蛍光の戻り
光を光ビームから分離して検出することができる。した
がって、この蛍光の戻り光を各種サーボ制御用に用いる
ことが可能となり、露光作業の精度や効率を改善するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態による露光装置の光学系の
構成を示す説明図である。

【図２】本発明の実施の形態による露光方法に沿った各
工程におけるレジスト塗布原盤の積層状態を示す断面図
である。

【図３】本発明の実施の形態による露光方法に沿った各
工程におけるレジスト塗布原盤の積層状態を示す断面図
である。

【図４】本発明の実施の形態によるフォーカス検出原理
を示す説明図である。

【図５】本発明の実施の形態によるトラッキング検出原
理を示す説明図である。

【符号の説明】

１、１００Ａ、１００Ｂ……石英ガラス原盤、１０……
レーザ光源、１１、１２、１７、１８、１９……レン
ズ、１３……ダイクロイックミラー、１４……対物レン
ズ、１５、１６……ハーフミラー、２０、２１、２２…
…光電子増倍管、２３、２４、２５……遮光板、１０１
……グルーブ溝、１０２、１０３……ランドエリア、１
１０、１２０……レジスト。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ ５２６Ａ

Claims (31)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジスト塗布原盤に露光処理を行う露光
   方法において、 光ビームをレジスト塗布原盤上に集光した場合に、当該
   光ビームの波長によって励起されて蛍光を発生し、か
   つ、蛍光を発生した波長ではレジストを露光しないよう
   な蛍光色素を含む薄膜を原盤上に形成して露光を行う、 ことを特徴とする露光方法。
2. 【請求項２】 レジスト塗布原盤に露光処理を行う露光
   方法において、 レジストが露光されない波長の光ビームをレジスト塗布
   原盤上に集光し、１光子励起では蛍光を発生しないか、
   蛍光を発生したとしても、その蛍光の波長ではレジスト
   を露光せず、かつ、２光子励起により発生した蛍光の波
   長ではレジストを露光するような蛍光色素を含む薄膜を
   原盤上に形成して露光を行う、 ことを特徴とする露光方法。
3. 【請求項３】 前記２光子励起により発生した蛍光によ
   り露光を行うことを特徴とする請求項２記載の露光方
   法。
4. 【請求項４】 発生した蛍光を結像して検出し、露光用
   対物レンズのフォーカス制御信号として使用することを
   特徴とする請求項１記載の露光方法。
5. 【請求項５】 発生した蛍光を結像して検出し、露光用
   対物レンズのフォーカス制御信号として使用することを
   特徴とする請求項２記載の露光方法。
6. 【請求項６】 発生した蛍光を結像して検出し、露光用
   対物レンズのフォーカス制御信号として使用することを
   特徴とする請求項３記載の露光方法。
7. 【請求項７】 既に凹凸形状が形成された原盤上に蛍光
   色素を含む薄膜が形成されていることを特徴とする請求
   項１記載の露光方法。
8. 【請求項８】 既に凹凸形状が形成された原盤上に蛍光
   色素を含む薄膜が形成されていることを特徴とする請求
   項２記載の露光方法。
9. 【請求項９】 既に凹凸形状が形成された原盤上に蛍光
   色素を含む薄膜が形成されていることを特徴とする請求
   項３記載の露光方法。
10. 【請求項１０】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、露光用対物レンズのトラッキング制御信号として
    使用することを特徴とする請求項７に記載の露光方法。
11. 【請求項１１】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、露光用対物レンズのトラッキング制御信号として
    使用することを特徴とする請求項８に記載の露光方法。
12. 【請求項１２】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、露光用対物レンズのトラッキング制御信号として
    使用することを特徴とする請求項９に記載の露光方法。
13. 【請求項１３】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項７記載の露光方法。
14. 【請求項１４】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項８記載の露光方法。
15. 【請求項１５】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項９記載の露光方法。
16. 【請求項１６】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項１０記載の露光方法。
17. 【請求項１７】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項１１記載の露光方法。
18. 【請求項１８】 発生した蛍光を結像してその強度を検
    出し、原盤の回転同期制御信号として使用することを特
    徴とする請求項１２記載の露光方法。
19. 【請求項１９】 既に形成された凹凸形状とは異なる深
    さ、または形状のリソグラフィ処理を行うことを特徴と
    する請求項７記載の露光方法。
20. 【請求項２０】 既に形成された凹凸形状とは異なる深
    さ、または形状のリソグラフィ処理を行うことを特徴と
    する請求項８記載の露光方法。
21. 【請求項２１】 既に形成された凹凸形状とは異なる深
    さ、または形状のリソグラフィ処理を行うことを特徴と
    する請求項９記載の露光方法。
22. 【請求項２２】 露光および現像後にＲＩＥ処理を施
    し、凹凸形状を付加することを特徴とする請求項７記載
    の露光方法。
23. 【請求項２３】 露光および現像後にＲＩＥ処理を施
    し、凹凸形状を付加することを特徴とする請求項８記載
    の露光方法。
24. 【請求項２４】 露光および現像後にＲＩＥ処理を施
    し、凹凸形状を付加することを特徴とする請求項９記載
    の露光方法。
25. 【請求項２５】 レジスト塗布原盤に露光処理を行う露
    光装置において、 原盤上に照射する光ビームと発生した蛍光の戻り光とを
    波長選択分離する波長選択分離手段を有する、 ことを特徴とする露光装置。
26. 【請求項２６】 光ビームをレジスト塗布原盤上に集光
    した場合に、当該光ビームの波長によって励起されて蛍
    光を発生し、かつ、蛍光を発生した波長ではレジストを
    露光しないような蛍光色素を含む薄膜を原盤上に形成し
    て露光を行うことを特徴とすることを特徴とする請求項
    ２５記載の露光装置。
27. 【請求項２７】 レジストが露光されない波長の光ビー
    ムをレジスト塗布原盤上に集光し、１光子励起では蛍光
    を発生しないか、蛍光を発生したとしても、その蛍光の
    波長ではレジストを露光せず、かつ、２光子励起により
    発生した蛍光の波長ではレジストを露光するような蛍光
    色素を含む薄膜を原盤上に形成して露光を行うことを特
    徴とすることを特徴とする請求項２５記載の露光装置。
28. 【請求項２８】 蛍光の戻り光強度を検出する手段を有
    することを特徴とする請求項２５記載の露光装置。
29. 【請求項２９】 蛍光強度検出信号に基づいて原盤の回
    転同期を行うための制御装置を有することを特徴とする
    請求項２８記載の露光装置。
30. 【請求項３０】 蛍光の戻り光によりフォーカス信号を
    検出する手段を有し、かつフォーカス検出信号に基づい
    て露光用対物レンズのフォーカシングを行うためのアク
    チュエータを有することを特徴とする請求項２５記載の
    露光装置。
31. 【請求項３１】 蛍光の戻り光によりトラッキング信号
    を検出する手段を有し、かつトラッキング検出信号に基
    づき露光用対物レンズのトラッキングを行うためのアク
    チュエータを有することを特徴とする請求項２５記載の
    露光装置。