TW552381B - Clean room for semiconductor device - Google Patents

Description

552381 A7 B7 五、發明説明（1 ) 本發明之背景 本發明係關於一種潔淨室，以及一種典型上製造半導體 裝置或相似品之潔淨室 用於製造半導體裝置之傳統潔淨室，已知如圖3所列之 潔淨室（日本專利公開發行H10-96332)。整個潔淨室101區域 以隔板101c分成第一區域101a以及具有與其他獨立空調系統 之第二區域l〇lb。一製造設備114a，一運送設備127，一儲存 設備128與其他類似品在第一區域101a受到空調之工作區126a 安裝。另一方面，一產生化學迷霧之製造設備114b在第二 區域101b受到空調之工作區126b安裝。第一區域101a中，來 自外部空調器111之空氣接受粉塵移除與溼度控制，並且來 自非化學空氣饋入設備123之非化學空氣並非化學反應成 分，結合下述之循環空氣，透過天花板腔體124a ,具有化 學過濾器112之風扇過濾器單元125，以及非化學過濾器130a 而饋入工作區126a。此非化學過濾器n〇a為HEPA(高效率微 粒空氣）過濾器，ULPA(超低穿透空氣）與其他類似品。饋 入工作區126a的空氣傳送通過一柵欄地板1()7a( —種類似排 水板形狀的地板），而到公用區域129a。然後空氣藉由此公 用區域129a，通過一溫度控制設備i32a，一循環風扇13ia以 及循環導管l〇9a回到天花板腔體丨24&。第二區域101b中，來 自外部空調器111之空氣接受溼度控制，結合下述之循環空 氣’透過天花板腔體124b與非化學過濾器130b饋入工作區 126b °饋入工作區126a的空氣傳送通過一柵欄地板⑺几，而 到公用區域129b。然後空氣藉由此公用區域12%，通過一化 552381 A7 B7 五、發明説明（2 ) 學過濾器110—溫度控制設備132b，一循環風扇131b以及循 環導管109b回到天花板腔體124b。結果，大部分饋入第一區 域101a與第二區域101b的空氣，分別只在第一區域101a與第 二區域101b循環。部分饋入工作區126a，126b的空氣，藉由 在製造設備114a，114b安裝之局部通風裝置與類似品，自潔 淨室101發射而通過導管（未列出）。此種安排為試圖防止區 域101a與區域101b之間的交互污染。 然而，傳統潔淨室101中，製造設備114a，運送設備127, 儲存設備128與類似品一起位於空氣循環的工作區126a。因 此，諸如工作區126a所產生的微粒粉塵會污染自傳送設備 127移轉至製造設備114a暴露的半導體晶圓。 第一區域101a中，通過化學過濾器112的空氣與通過非化 學過濾器130a的空氣，於工作區126a的循環處理與稍後的處 理中彼此混合，使得化學過濾器112的負擔增加。這是因為 化學霧狀物（原子或離子型式之鈉，鉀，鋁，鐵，鈷， 鎳，銅，氨氣以及類似品）所產生之污染不僅來自製造設 備，也來自工作區126a目標傳送與工作者的移動。化學過 濾器110的負載也因為來自工作場126b整個區域的空氣通過 化學過濾器110，而在第二區域101b裡增加，亦即是，空氣 不僅來自製造設備114b的區域，來自圍繞著設備移動的工 作者。因此，化學過濾器112與110需經常更換，例如，幾 個月到幾年的間隔。化學過濾器的運轉成本因此增加。 非化學過濾器130a與130b如HEPA與ULPA在運轉成本上問 題較少，因為此種非化學過濾器之單元成本不高於化學過 _^_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 552381 A7 _______Β7 五、發明説明（，) 濾器約三分之一，並且非化學過濾器更換頻率可小於化學 過滤器。 發明之摘要 本發明足一目標為提供一種潔淨室，預防處理之目標如 半導體晶11受到㈣，並且允許化學過濾器的運轉成本 少。 /χ* 為了達成此目標，本發明提供一潔淨室，包含： 一設備安裝區域，安裝用以處理一目標物之設備； -處理區域，該處所處理之目標載人此設備或自此設備 卸出；以及 一操作區域，為設備操作之處， 、其中設備安裝區i或，處理區域，以及操作區域以上述順 序水平安置，透過隔板彼此分開，並且 其中設備安裝區域，處理區域，以及操作區域為彼此獨 立之空調。 、根據本發明’設備安裝區域，處理區域，以及操作區域 為彼此獨立之空調1此，在設備安裝區域或處理區域所 產生足粉塵如微粒，無法污染暴露在處理區域受處理之目 標。因此目標污染能夠避免。 本發月之貫施例中，處理區域為使用通過化學過濾器 空氣之空調，以及 〜 π設備安裝區域與操作區域為使用通過個別的非化學過濾 器空氣之空調。 根據此實施例’在這些區域所需之正常潔淨度可輕易達 本紙張尺度適準(CNS) Α4 規格(210X297/Jir^----- 552381 A7 B7 五、發明説明（4 ) 成，因為處理區域之空調為使用通過化學過濾器空氣執 行，並且設備安裝區域與操作區域之空調為使用通過個別 的非化學過濾器空氣執行。此外，通過化學過濾器空氣只 在處理區域循環，而不與設備安裝區域與操作區域空氣混 合。所以，與先前技術比較，此化學過濾器不易受到污 染。也就是，此化學過濾器運轉成本可低於傳統潔淨室之 化學過濾器。 在此，“化學過濾器”參考為一種過篇器，用以移除化 學霧（原子或離子型式之鋼，钾，铭，鐵，姑，鎳，銅， 氨氣以及類似品）因使用化學反應所產生受處理目標之化 學污染，以及“非化學過濾器”參考為一種過濾器，用以 物理性地捕獲或移除微粒，而不使用任何化學反應。例 如，此非化學過濾器為一種HEPA(高效率微粒空氣）過濾器 以及ULP A(超低穿透空氣）過濾器。 本發明實施例中，潔淨室更進一步包含： 在每一設備安裝區域，處理區域與操作區域的天花板 上，提供一天花板腔體。 在天花板腔體之下提供一目標區域，與透過特定過濾器 之空調； 透過柵欄地板，在目標區域下方提供一下地板區域；以 及 提供一回返空氣循環導管，使空氣自下地板區域回返到 天花板腔體。 根據此實施例，空氣為透過特定過濾器，由天花板腔體 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 552381 A7 B7

552381 五、發明説明（6 根據此實施例，透過一平面地板在内部潔淨區域下方安 裝一辅助機器。設備的操作藉由輔助機器透過管路垂直連 接到设備，而雙到輔助。此安置允許設備安裝區域所佔面 積與體積小於輔助機器結合設備所佔之設備安裝區域。以 上安置也允許管路長度t㉟上小於傳統輔助#器安裝在 淨室外側者。 ' 此外’本貫施例之潔淨室中，輔助機器區域與内部潔淨 區域為獨立空調，使得内部潔淨區域所需潔淨度不受損爱 且易於達成。 、" 此處，車甫助機器，，參考為不直接處理目標物但輔助 設備的操作。-“輔助機器”的範例為一幫浦單元用 過管路自需要真空之設備抽取空氣；-藉由通過設備之兩 通管路循環冷卻水，來冷卻設備之熱交換器；以及堂 物消除裝置用以透過管路，當設備發射出有害人體物二 ::掏取有毒物’改變有毒物，以及自潔淨室發射無： π 之一實施例中’複數個輔助機器在空氣循環之丑 同輔助機器區域安裝。 、 根據此實施例，輔助機器區域 器獨立輔助機器區域空調容易達成。周Μ供母一輔助機 f發明H施例中，共關助機器區域 區^共同給予輔助機器區域與週邊通道區域空調通 達成艮據此貫施例，那些區域之空調較獨立空調之區域易於 本紙張尺度適财g g家標準_) Α$^ϋ297公g 五

本發明之一會竑点,A 於内部潔淨區域中1需高潔淨度區域之壓力設定為高 根據此貫施例，避 區域。因此，内.、”片 乐淨度區域流入高潔淨度 本發明、—二4乎度區域的潔淨度需保持恰當。 ^ 《一只施例中，受處理目戶私口 5； 由-處理误、靈〜 又處理目私物只通過操作區域， 處理％運运到另一處理場。 據此只她例，因為受處理目標物只通過操作區域 —處理區域運读糾文 田 、另—處理區域，此目.標物不通過設備安 目標物可避免受到設備安裝區之設備所產生 <化學霧所污染。 、本發明《-實施例中，在柵襴地板上的操作員允許在週 邊通运區域與操作區域之間，以及週邊通道區域與設備安 裝區之間往來。 根據此實施例，工作者不允許進入處理區域以及不允許 直接在操作區域與設備安裝區之間走動。結果，因工作者 移動所造成空調擾流得以最小化。 附圖之簡明說明 本發明將從以下詳細描述與止藉由展列伴隨附圖而完整 了解，並且因此不限於本發明，其中·· 圖1為一根據本發明實施例之部分潔淨室垂直剖面視

Si · 園， 圖2展列潔淨室平面視圖；以及 圖3為傳統潔淨室之垂直剖面視圖。 較佳實施例之詳細說明 -10· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 552381 A7

二，根據本發明潔淨室之一實施例，將參考伴 而詳細說明。 圖1列出用以製造半導體裝置之潔淨七的垂直剖面視 圖，其為沿著圖2中線條χ_χ，所取得。圖2列出 面的佈局。 。圖2中，參考字元3a記為安裝離子注入設備的設備安裝 區域1字元3b記為安裝光學照相蝕刻設備的設備安裝區 域。字兀3 c記為安裝乾式蝕刻設備的設備安裝區域。字元 3d記為安裝光學照相蝕刻設備的設備安裝區域。字元。記 為安裝CMP設備的設備安裝區域。字元3[記為安裝 :設備的設備安裝區域。字元均記為安裝cv〇設備的設備 士裝區域。4元3h*g己為安裝金屬形成設備的設備安裝區 域。以下設備安裝區域依需要以參考字元3表示。以上設 備的安裝分別引用特定處理到半導體晶圓（以下只參考為 “晶圓”）為受處理之標的物。 如圖2所列，一或兩個處理區域4鄰接每一個設備安裝區 域3。設備安裝區域3與一或兩個處理區域4的結合形成一 處理％ 複數個處理場在此範例中，透過一操作區域2以 垂直方向四列與水平方向兩行方式安置。處理區域4為自 與處理區域4鄰接之設備安裝區域3所安裝之設備，將晶圓 載入或卸出。設備安裝區域3與鄰接之處理區域4一般以隔 板42分割成平板形狀。處理場與操作區域2 —般以隔板 43 ’ 44分割成平板形狀。一週邊通道區域5圍繞著一矩形 區域1 i ’其中處理場以四列與兩行方式（此矩形在以下將 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)

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五、發明説明 參考為内部潔淨區域”）安置。週邊通道區域5與内部潔 乎區域li以隔板41分割。一週邊艢4〇提供為週邊通道區域 5外側的邊界。此週邊牆4〇定義潔淨室外側。 在内部潔淨區域1 i安置的處理場彼此為獨立之空調，並 且操作區域2的空調獨立於處理場的空調。因此，每一處 理場的潔淨度為根據用於處理目標物，在處理場安裝設備 的型式，而個別地設定。另一方面，週邊通道區域5的空 調與内部潔淨區域1 i的空調獨立。因牝，週邊通道區域5 的功能為介於潔淨室1的外側與内部潔淨區域丨丨之間的緩 衝區域。所以，内部潔淨區域丨丨可有穩定的空調，而不受 潔淨室1外側的環境改變所影響。 在週邊牆40上提供一個門22，可讓工作者（設備操作者 與維修人員）在潔淨室1外側與週邊通道區域5之間往來。 在隔板41上提供一個門2〇，可讓工作者（主要是設備操作 者）在週邊通道區域5與操作區域2之間往來，以及提供一 個門2 1，可讓工作者（主要是維修人員）在週邊通道區域5 與設備安裝區域3之間往來。除了上述門之外，不提供任 何門。結果，工作者只允許在週邊通道區域5與操作區域2 之間，以及週邊通道區域5與内部潔淨區域丨丨内設備安裝 區域3之間往來《也就是說，不^^許工作者進入處理區域 4，並且不允許直接在操作區域2與設備安裝區域3之間往 來。結果，因為工作者移動所引起之空調干擾得以最小 化。 如圖1所列’潔淨室1具有一個栅襴地板7 (包含7 a， 4------ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱）

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7b , 7c與7p),在柵攔地板7下方提供一地板8以及在地板 8下方提供一地板6。工作者可以在柵襴地板7上往來。 上述隔板41 , 42以及43自天花板50延伸到地板8。天花 板50與地板8之間，以隔板41和42所定義之空間為設備安 裝區域3所用。以隔板42和43所定義之空間為處理區域4 所用，以及以隔板43和43(與圖2中隔板44和44)所定義之 空間為操作區域2所用。處理區域4中，晶圓如以下所述直 接暴露到空氣流。因此處理區域4的潔淨度必須高於其他 區域3與2。所以為了考慮空調的效率，處理區域4的容量 需作儘量小之設定。 設備安裝區域3與操作區域2之天花板5 〇附近，分別提供 安裝HEPA過濾器18a與18c的天花板面板45a與45c。因此 天花板腔體24a與24c分別在天花板50和天花板面板45a與 45c之間形成。每一處理區域4的天花板5〇附近，在隔板 42與43之間以疊合狀態安裝化學過濾器1〇與1^1>八過濾器 1 9 ’使得在天花板5 〇和ULPA過濾器丨9之間形成天花板腔 體2 4 b。因為在内部潔淨區域丨丨中只有處理區域4提供化學 過遽器1 0。與傳統潔淨室所用之化學過濾器比較，此化學 過濾器之初始供應成本可以減輕。 目標區域25a，25b與25c的空調分別為，每一設備安裝 區域3中’從天花板面板4 5 a延伸到栅欄地板7 a的區域， 每一處理區域4中，從ULPA過濾器1 9延伸到柵欄地板7 b的 區域，以及每一操作區域2中，從天花板面板4 5 c延伸到柵 欄地板7c的區域。上述設備14於設備安裝區域3之目標區 _______-13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱）

552381 A7 B7 11 五、發明説明（ 域25a安裝。一晶圓運送機械臂13於處理區域*之目標區 域2 5b安裝。一為人熟知的SMIF(標準機械界面）箱u 操作區域2之目標區域25c安裝。 ； 掭作區域2中，容納晶圓載具之SMn^g丨2由工作者載送 至設備的-部分。然後晶圓藉由運送機械臂13帶進處= 區域4，並且由晶圓載具載入處於直接暴露到空氣流狀態 之设備1 4。在設備1 4處理之後，以處理區域4中之運送機 械臂13，自設備14再一次將晶圓卸出至8%正箱12並且回 到操作區域2。若在設備安裝區域3安裝的設備14具有真空 腔體，則晶圓的移動在操作區域2與處理區域4之間的空調 不會引起干擾。若在設備安裝區域3安裝的設備丨4不具有 真空腔體（例如大氣壓力形式），則晶圓的暫時移動在操作 區域2與處理區域4之間的空調會引起干擾。然而此干擾量 很小。處理之間的晶圓運送由SMIF系統執行，也就是，由 設備操作員移動容納晶圓載體的i 2。換言之，晶圓 自一處理場只透過操作區域2運送至另一處理場，其不需 要操作員載送晶圓通過設備安裝區域3。因此，晶圓免於 受到因在設備安裝區域3安裝的設備所產生之化學霧而污 染。此外’因為晶圓容納於SMIF箱1 2，所以晶圓可免於暴 露在操作區域2裡的空氣流。因此可避免晶圓的污染。 每一設備安裝區域3中，一循環風扇3 1安裝在柵欄地板 7a與地板8之間的下地板區域29a與圖！左側接近邊牆處。 一溫度控制器3 2裝置在此循環風扇3 1。在循環風扇3 1後 側提供一循環導管9，垂直延伸以使得下地板區域2 9 a連接 本紙張尺度適财關冢標準(⑽）Μ祕(⑽χ撕公爱） 裝 訂 線 552381

到天花板24a。每一處理區域4中，一循環風扇安裝在柵欄 地板7 b與地板8之間的下地板區域2 9 b與接近未在圖1列出 之邊牆處。如同循環風扇3丨，一溫度控制器裝置在此循環 風扇前側。在循環風扇後側也提供一循環導管（未列出）垂 直延伸以使得下地板區域29b連接到天花板24b。同上所 述’操作區域2中，一前側裝有溫度控制器之循環風扇安 裝在栅欄地板7 c與地板8之間的下地板區域2 9 c與接近未 在圖1列出之邊牆處。在循環風扇後側也提供一循環導管 (未列出）垂直延伸以使得下地板區域2 9 c連接到天花板腔 體 24c。 潔淨室1外側提供一外部空調器n，用以饋入已接受粉 塵移除滢度控制的空氣。由外部空調器1 1傳送的空氣基本 上饋入到設備安裝區域3之天花板腔體2 4 a，處理區域4之 天花板腔體24b，以及操作區域2之天花板腔體24c ,而不 通過化學過濾器。然而，由外部空調器〖丨傳送的空氣分別 通過可移除有機物質化學過濾器2 〇 a與2 〇 b，而饋入到設 備安裝區域3e之天花板腔體24a，該處裝置氧化與擴散設 備’以及鄰接處理區域4之天花板腔體24b ^這是因為氧化 與擴散處理易於受到以有機物質為化學霧之負面影響。另 一方面，光學照相蝕刻處理易於受到以氨氣為化學霧之負 面影響。因此，由外部空調器11傳送的空氣可通過能移除 氨氣之化學過濾器（未列出），而饋入至設備安裝區域33之 天花板腔體，該處安裝光學照相蝕刻設備，以及饋入至鄰 接處理區域4之天花板腔體。

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線 552381 A7 B7 五、發明説明（13 由外部空調器丨丨饋入到設備安裝區域3之天花板腔體 2 4 a的空氣，結合以下所述之循環空氣，透過η e p a過濾 器18a予以純化。受純化空氣依序饋入目標區域25a，以 使得透過柵欄地板7 a流進下地板區域2 9 a。流入下地板區 域29a的空氣藉由循環風扇31，以水平方向（如圖i之箭號 16所列）移動。之後，空氣藉由溫度控制器”受到溫度控 制，並且透過循環風扇3丨傳送到回返至天花板腔體2 4 a的 循環導管9。天花板腔體24a中，空氣自下地板區域29a , 透過循環導管9回返，也就是，循環空氣與饋入自外部空 凋器1 1之微小空氣量混合。此混合之空氣透過過濾器 18a而饋至目標區域25a。大多數饋入目標區域25a的空氣 製造循環2氣。然而，部分饋入之空氣藉由裝置於設備14 以及類似品（自氣體箱而來的廢氣，熱廢棄或類似品）的局 部通風機制，經過導管（未列出），自潔淨室丨發射。 由外部空調器11饋入到處理區域4之天花板腔體24b的 空氣，結合以下所述之循環空氣，透過化學過濾器丨〇與 ULPA過濾器1 9予以純化。後來，饋入目標區域2 5 b的空氣 透過柵欄地板7 b流進下地板區域2 9 b。流進下地板區域 29b的2氣藉由風扇的轉動，以水平方向（圖1參考字元 1 7 b所列之面向近側的方向）。之後，空氣受到溫度控制器 來控制溫度，並且透過循環風扇傳送到連接下地板區域 2 9 b與天花板腔體2 4 b之循環導管，使得以回返到天花板 腔體24b。天花板腔體24b中，自下地板區域29b>回返的空 氣通過循環導管，也就是，循環空氣與相當微量之由外部 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱) 裝 訂

552381 A7 B7 五、發明説明（14 S調器1 1饋入的空氣混合。此混合空氣通過化學過濾器i 〇 與ULPA過濾器1 9，而饋入目標區域2 5 b。 同樣情形中，由外部空調器1 1饋入到操作區域2之天花 板腔體24c的空氣，結合以下所述之循環空氣，透過j^pA 過濾器1 8 c予以純化。後來，饋入目標區域2 5 c的空氣透 過柵欄地板7 c流進下地板區域2 9 c。流進下地板區域2 9 c 的2氣藉由風扇的轉動，以水平方向（圖1參考字元17c所 列之面向近側的方向）。之後，空氣受到溫度控制器來控 制溫度，並且透過循環風扇傳送到連接下地板區域2 9 c與 天花板腔體24c之循環導管，使得以回返到天花板腔體 24c。天花板腔體24c中，自下地板區域29c回返的空氣通 過循環導管，也就是，循環空氣與相當微量之由外部空調 益1 1饋入的空氣混合。此混合空氣通過HEpA過濾器1 8 c， 而饋入目標區域2 5 c。 因此潔淨室1中，區域3 , 4與2的空調於循環系統執行， 其減少區域3，4與2所提供過濾器18a，1〇與19的負載。 因此，過濾器18a，1〇 , 19與18(：的運轉成本得以減少。 此外，區域3 ,4與2的空調彼此獨立執行。因此，暴露在 處理區域4的晶圓，不被諸如所產生微粒的粉塵污染，例 如，設備安裝區域3或操作區域2。根據正常所需的潔淨 度，在處理區域4藉由循環空氣所得之的空調，使用化學 過遽器10執行。在設備安裝區域3與操作區域2以循環空= 形成之空調藉由分別只通過非化學過遽器⑴與⑻的* 氣所得。也就是，通過化學過遽器1〇之循環空氣只通過^ 本紙張尺度適用巾關家標準(CNS) A4_2igx挪公爱）11------- 五、發明説明（15 ) 理區域4足化學過濾器10 ,並且不與設備安裝區域3與操作 區域2芡循環空氣混合。因此化學過濾器丨〇的負載小於先 丽技術者。所以，化學過濾器1〇的運轉成本低於傳統潔淨 室所用者。 一般内部潔淨區域li平面地板8下方提供一共同辅助機 态區域3 0至複數個處理場。此輔助機器區域3 〇提供辅助機 姦1 5，用以輔助處理場裡設備丨4的操作。輔助機器區域 30在複數個處理場普遍的原因為，輔助機器區域3〇的空調 比起每一輔助機器15提供獨立辅助機器區域更易於製造。 輔助機器15的範例有幫浦單元，熱交換單元，消除損害裝 置與類似品。幫浦單元透過管線自設備14抽取空氣，來在 汉備1 4开/成真空。熱父換單元透過在設備之雙向管線循環 冷卻水，來冷卻設備14。消除損害裝置透過管線，自發射 危害人體物質之設備14取出有害物質，然後將有害㈣改 變為無害物質，並且自潔淨室丨發射此無害物質。此實施 例中，設備14的操作由透過管線39連接到設備14之=2 機器15所協助。此安置在設備安裝區域”斤佔之面積與體 積小於辅助機器1 5結合設備i 4安裝所佔者。此連接設備 14,輔助機器15之管線39以垂直方向提供。管線=長 度實際上小於以水平方向提供者，使得輔助機器Η可 在潔淨室1外側。 农 此實施例中，輔助機器區域3〇透過栅襴地板&盥導成部 分3〇P與週邊通道區域5結合。因此輔助機器區域週 邊通道區域5共同由來自外部空調器丨丨饋入之空氣進行命

本紙張尺狀财® ®家料ϋΑ4_21() X 297福 552381 A7

五、發明説明（17 過濾器運轉成本的十分之 在使用氨氣4化學霧的範例中，將在以下說明此效應。 ^般沒有化學料11之潔淨室中，氨氣的濃度為5ng/L數量 十億分克每升）。為了將氣氣的目標值降至〇.05ng/L 更/化子過遽器需有超過9 9 %的移除效率。目前並無 早一過濾器具有如此的移除效率，因此需要每一具有90% 移除效率之雙化學過遽器，來達到99%的移除率。本實施 :之潔乎1：:中’另_方面，設備安裝區域3處的氨氣濃度 =不易產生風氣之處理區域4隔開。處理區域4之氨氣濃度 在，=滤器ίο尚未裝上時為G5ng/L。結果，處理區域4 (風氣濃度可只藉由安裝_個9 G %移料之化學過滤器， 而，至目標值_峨或更少。因此，根據本發明之^學過 滤益的初始成本為用於傳統潔淨室化學過遽器的一半。傳 統沒有化學過滤器的潔淨室中，氨氣濃度為5 ng/L，本發明 中沒有化學過滤器的氨氣濃度為0.5 ng/L。1 〇 : !之氨氣濃 度比等於先前技術與本發明之運轉成本比。 本走實施例以SMIF箱運送晶圓。然而，晶圓的運送不限於 SMIF箱。例如可使用自動化運送機器手臂，來運送晶圓。 如以上說明所㈣，根據本發明的潔淨室可冑免受處理 目標物的污染，以及降低化學過濾器的運轉成本。 因此本發明說明為，明顯地本發明可以複數個方式變 化。如此之變化不偏離本發明精神與領域，並且所有對= 熟知此技術人士而言相當明顯的修正，試圖包含在下列申 請專利範圍中。 本纸張尺度適用巾S 8家標準(CNS) A4規格(2ι〇Χ297公董）

Claims (1)

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   L——種潔淨室，包含： 一設備安裝區域，其中安裝用以處理目標物之裝置； 一處理區域，該處自設備載入或卸下目標物；以及 一操作區域，該裝置於該區域中操作， 、其中設備安裝區域，處理區域以及操作區域依上述次 序水平安置，透過隔板而彼此隔開，以及 其中設備安裝區域，處理區域以及操作區域為獨立空 調。 2,如申請專利範圍第1項之潔淨室，其中 處理區域使用通過化學過滤器之空調，以及 $又備安裝區域以及操作區域為個別使用通過非化學過 遽器之空調。 3·如申請專利範圍第1項之潔淨室，更進一步包含： 每一設備安裝區域之天花板下，處理區域以及操作區 域提供一天花板腔體； 於此天花板腔體下方提供一目標區域，以及通過特定 過滤器之空調； 透過一柵攔地板’在目標區域下方提供一下地板區 域；以及 提供一循環導管，將空氣自下地板區域回返至天花板 腔體。 4·如申請專利範圍第1項之潔淨室，其中 複數個處理場，每一者透過操作區域水平安置，結合 設備安裝區域與處理區域而形成，以及 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 χ 297公釐)

   裝 訂 圍 、申請專利範 .:複數個處理場的空調彼此獨立。 • ° 4專利範圍第4項之潔淨室，其中 複數個處理場形成一内 區、 週邊通道區域圍繞操作區域；‘及M成’與透過隔板，由 邊週邊通道區域的空調 6·如申嗜袁刹^阁# 〇門邵你乎區域獨立。 甲明專利靶圍弟5項之潔淨室，其中 一輔助機械區域，其中辅 Γ 的操作，透過平面板在内部㈣_用::裝設備 該辅助機械區域的空調與 _、及 7.如申請專利範圍第6項之潔淨室，；域獨互° 裳複數個辅助機械在空氣循環之共同輔助機械區域中安 8·如申請專利範圍第7項之潔淨室，其中 此共同輔助機械區域與週邊通道區域結合，丑同 共同輔助機械區域與週邊通道區域空調。 9.如申請專利範圍第5項之潔淨室，其中 ♦内部潔淨區域内需要高潔淨度區域的氣壓設定為高於 需要低潔淨度區域 瓜如申請專利範圍第4項之潔淨室，其中 目私物只通過操作區域，由一處理場運送至另一處理 場0 比如申請專利範圍第5項之潔淨室，其中 在栅欄地板上的操作員只允許在週邊通道區域與操作 區域之間’以及週邊通道區域與設備安裝區域之間往 來0 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱) -22