KR19980066381A - 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 청정실 시스템에 관한 것으로, 청정실 내에 설치되는 게이트는 작업 물량 및 동선만을 고려하여 최소로 설치함으로써 셀 내의 작업 공간이 넓어져 작업의 능률이 향상되어 생산성이 증가될 수 있다.
Description
본 발명은 청정실 시스템에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 청정실의 작업 공간을 확보하기 위해서 각 영역내의 물량 및 작업 동선만을 고려하여 청정실 내에 최소한의 게이트만을 설치한 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조에 관한 것이다
일반적으로 청정실은 산업환경 중에서 고정밀 청정도를 요구하는 공정에 반드시 필요한 시스템으로 특히 VLSI와 같은 초정밀 반도체 생산 공정에서는 0.1㎛ 또는 그 이하의 미립자 제거가 필수적이다. 보통 청정실 시스템은 공정이 진행되는 청정실과 청정실 내부의 청정도를 유지하기 위해서 청정실 내의 공기를 흡입하는 지하층과 지하층에서 흡입한 공기를 팬 필터 유닛을 이용하여 필터링한 후 다시 청정실 내부로 유입시키는 상부층으로 구성되어 있다.
이와 같이 구성된 청정실 시스템중에 청정실의 구조를 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 청정실 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도시된 바와 같이 종래의 청정실 시스템(10)은 청정실 중앙에 중앙 통로(11)가 형성되어 있고, 중앙 통로(11)를 기준으로 양쪽에는 부대설비들이 설치되는 셀(12)이 형성되며, 각각의 셀(12) 일측면에는 셀(12) 측면에서 일정간격으로 돌출되어 있고 로봇 시스템이 설치되는 베이(bay)(13)(14)가 형성되어 있다. 또한, 베이(13)와 베이(14) 사이에는 공정이 진행되는 메인 설비(15)가 설치되어 있고, 중앙통로(11)에는 각각의 베이(13)(14)와 대향되게 게이트들(17)(18)이 설치되어 있으며, 게이트(17)와 게이트(18) 사이에는 웨이퍼 보관함(19) 및 계측설비들(21)이 설치되어 계측실(23)이 형성되어 있다. 여기서, 웨이퍼 보관함(19)은 중앙통로(11) 쪽에 설치되어 있고 계측설비(21)는 메인 설비(15)쪽에 설치되어 있다.
이와 같이 구성된 청정실 시스템(10)은 웨이퍼 보관함(19)에 보관되어 있는 웨이퍼중 공정이 진행될 웨이퍼만을 꺼내어 웨이퍼 이송 로봇들에 적재한 후 웨이퍼를 베이로 이송시킨다. 웨이퍼가 베이로 이송되면 로봇은 메인 설비(15)에 웨이퍼를 투입시킨다. 이후, 공정이 완료된 웨이퍼는 이송 로봇에 의해서 계측설비(21)로 이송되고, 계측이 완료된 웨이퍼는 다시 다음 공정이 진행될 웨이퍼 보관함(19)에 저장된다.
그러나, 이와 같은 구조로된 청정실은 중앙 통로에 베이와 동일한 개수의 게이트가 형성되어 있어 셀 내의 공간이 좁아졌고 또한, 좁은 셀 내에 웨이퍼 보관함과 부대설비가 모두 설치되어 있어 작업자와 로봇이 좁은 셀 내부에서 함께 작업하는데 많은 어려움이 있어 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은 셀 내부의 작업 공간을 확보하기 위해서 중앙 통로에 최소한의 게이트만을 설치하고 부대설비를 중앙통로 쪽에 설치하고 웨이퍼 보관함을 베이 쪽에 설치하여 생산성을 향상시키도록 한 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조를 제공하는데 있다.
도 1은 종래의 청정실 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이고,
도 2는 본 발명에 의한 청정실 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
이와 같은 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 중앙통로와, 중앙 통로 양쪽에 형성되며 복수개의 웨이퍼 보관함 및 부대설비들이 설치되는 셀과, 상기 셀 일측에서 일정 간격으로 돌출된 복수개의 베이들과, 각각의 상기 베이들과 대향되게 설치되어 있는 게이트를 포함하는 청정실 시스템에 있어서, 상기 게이트는 작업 물량과 동선만을 고려하여 최소로 설치된 것을 특징으로 한다.
이하 본 발명에 의한 청정실 구조를 첨부된 도면 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 의한 청정실 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도시된 바와 같이 본 발명에 의한 청정실 시스템(30)은 청정실 중앙에 중앙 통로(31)가 형성되어 있고, 중앙 통로(31)를 기준으로 양쪽에는 부대설비들이 설치되는 셀(32)이 형성되며, 각각의 셀(32) 일측면에는 셀(32) 측면에서 일정간격으로 돌출된 베이(33)(34)가 형성되어 있다. 또한, 베이(33)와 베이(34) 사이에는 공정이 진행되는 메인 설비(35)가 설치되어 있고, 중앙통로(31)에는 각 영역의 물량이나 작업 동선을 고려하여 2개의 게이트(37)(38)가 설치되어 있다. 여기서, 셀(32) 내부에는 웨이퍼 보관함(39) 및 계측설비들(41)이 설치되어 있는데, 계측설비(41)는 중앙통로(31) 쪽에 설치되어 있고 웨이퍼 보관함들(39)은 메인 설비(35)쪽에 설치되어 있다.
이와 같이 게이트(37)(38)는 각 영역내의 작업 물량이나 작업 동선만을 고려하여 최소한으로 설치되고 웨이퍼 보관함(39)을 메인 설비(35)측에 설치하고 계측설비(41)를 중앙통로(31) 측에 설치함으로써 셀(32) 내부의 작업 공간이 종래에 비해 넓어져 작업의 능률이 향상되었다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 청정실 내에 설치되는 게이트를 작업 물량 및 동선만을 고려하여 최소로 설치함으로써 셀 내의 작업 공간이 넓어졌고 이로 인해 작업의 능률이 향상되어 생산성이 증가될 수 있는 효과가 있다.
Claims (2)
- 중앙통로와, 중앙 통로 양쪽에 형성되며 복수개의 웨이퍼 보관함 및 부대설비들이 설치되는 셀과, 상기 셀 일측에서 일정 간격으로 돌출된 복수개의 베이들과, 각각의 상기 베이들과 대향되게 설치되어 있는 게이트를 포함하는 청정실 시스템에 있어서,상기 게이트는 작업 물량과 동선을 고려하여 최소로 설치된 것을 특징으로 하는 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조.
- 제 1 항에 있어서, 상기 셀 내부에 설치되는 상기 웨이퍼 보관함은 상기 베이측에 설치되고 상기 부대설비는 상기 중앙통로 측에 설치되는 것을 특징으로 하는 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970001853A KR19980066381A (ko) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019970001853A KR19980066381A (ko) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR19980066381A true KR19980066381A (ko) | 1998-10-15 |
Family
ID=65952922
Family Applications (1)
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| KR1019970001853A KR19980066381A (ko) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 작업 공간 확보를 위한 청정실 시스템 구조 |
Country Status (1)
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|---|---|
| KR (1) | KR19980066381A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100449975B1 (ko) * | 2000-11-08 | 2004-09-24 | 샤프 가부시키가이샤 | 반도체 장치용 크린룸 |
-
1997
- 1997-01-23 KR KR1019970001853A patent/KR19980066381A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100449975B1 (ko) * | 2000-11-08 | 2004-09-24 | 샤프 가부시키가이샤 | 반도체 장치용 크린룸 |
| US6869457B2 (en) | 2000-11-08 | 2005-03-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Clean room for semiconductor device |
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