JPS62194140A

JPS62194140A - クリ−ンル−ム

Info

Publication number: JPS62194140A
Application number: JP61035125A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Kikuchihara; 菊地原　重夫; Koji Sato; 広治佐藤; Yoshio Saito; 斉藤　由雄
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1986-02-21
Filing date: 1986-02-21
Publication date: 1987-08-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、クリーンルームに適用して特に有効な技術に
関するもので、たとえば、半導体装置製造のための清浄
環境を提供するクリーンルームに利用して有効な技術に
関するものである。

［従来の技術］クリーンルームについては、たとえば本出願人による特
開昭５６−１６２３３５号公報があり、その概要は、ク
リーントンネルモジュール式の空気清浄機構を提供する
ものである。

本発明者ハ、クリーンルームのスペースユーティリティ
について検討した。以下の技術は本発明者によって検討
された事項であり、その概要は以下の通りである。

すなわち、半導体装置の製造工程等において、処理中に
ウェハの表面に塵埃等の異物が付着してウニハネ良とな
るのを防止するために、上記公報に示されるような各種
のクリーンルームが提案されている。

クリーントンネルモジュール式の空気清浄機構は、たと
えば第２図に示すように、建屋ｌの内部が作業室３と、
その作業室３を囲むようにして壁部材５ａ、５ｂにより
仕切られた保全室７ａ、７ｂに分割されたものであり、
該作業室３と保全室７ａ、７ｂの下方には、さらに排気
室９が形成されている。

作業室３は更に中央の作業者（図示せず）の位置する作
業空間１１と、この作業空間１１をはさんで対向位置に
区画された処理空間１３ａ、１３ｂとに分割されており
、この処理空間１３８．１３ｂには、リソグラフィ装置
、拡散装置あるいは熱酸化炉等の各種の処理装置１５が
載置される。

また、保全室？ａ、７ｂには処理空間１３ａ。

１３ｂに載置された処理装置１５の補助装置１７等が載
置される。

作業空間１１の上部には、各空間毎にフィルタ１９ａ、
１９ｂ、１９ｃが各々取付けられており、このフィルタ
１９ａ−１９ｃを介して清浄空気が垂直層流となって作
業室３の各空間１１，１３ａ。

１３ｂを流通していく構造となっている。この層流は床
部材２１を流通して排気室に流れ込み、さらに保全室７
ａ、７ｂを下方から上方に流通して再度フィルタ＋９ａ
−１’９ｃを通過して作業室３の各空間１１．１３ａ、
１３ｂに送られる構造となっている。

［発明が解決しようとする問題点］ところで、上記構造のクリ−ルームでは、第２図に示す
ように、保全□室７ａ、７ｂに補助装置１７が設置され
ており、この保全室？ａ、７ｂには保全作業のために作
業者が立ち入る必要がある。

そのため、保全室７ａ、７ｂの室幅を大きく必要とする
。このため、建屋１の全体の幅が大きくなってしまうこ
とが本発明者によって明らかにされた。

本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は少ない立地条件でも建設可能なりリーンルー
ムを提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

［問題点を解決するための手段〕本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、作業室の下方に設けられた排気室に補助設備
を設置したクリーンルーム構造とするものである。

［作用］上記した手段によれば、補助設備を作業室の下方に配置
するため、作業室の側方にスペースをとられることなく
、わずかな立地面積でクリーンルームを建設することが
可能となる。

［実施例］第１図は、本発明の一実施例であるクリーンルームを模
式的に示す説明図である。

本実施例のクリーンルームは、いわゆるクリーントンネ
ルモジュール方式のクリーンルームであり、建屋３１は
作業室３３と、この作業室３３の両側方に隔壁されて設
けられた流通室３５．３５と、前記作業室３３と流通室
３５．３５の下方に床部材３７により仕切られた排気室
３９とを有している。

上記作業室３３は、リソグラフィ装置、拡散装置等の処
理装置４１の載置される一対の処理空間４３．４３と、
図示しない作業者の位置する作業空間４５とに区画され
ている。

また流通室３５．３５は、主として空気の流通目的のた
めに設けられた空間を有しており、保全装置５９等の諸
設備はここには配置されていない。

したがって、流通室３５．３５の室幅は前記目的にそっ
て空気の流通が可能な幅があれば十分である。

ところで、作業室３３と流通室３５の床部材３７は、処
理装置４１等が載置される部位ではセメントプレート板
４７等のように層流の流通を妨げるものが用いられてい
るが、その他の部分では、たとえばすのこ状の層流の流
通が可能な金属部材で形成され、このすのこ部分は実質
的に排気口４９および吸気口５１を構成している。

排気室３９の床部は二重構造となっており、第一床５３
はすのこ状の金属部材で形成されており、第二床５５は
実質的な床としてセメント等で形成されている。第二床
５５の中央部分には排水溝５７が設けられており、この
排水溝５７に向かって床面ばわずかに傾斜を有するよう
に形成されている。したがって、処理装置４１等の汚水
洩れおよびクリーニングの汚水は排気室３９を経て床面
の排水溝５７より排出されるようになっている。

排気室３９中１作業室３３の直下部分には処理装置４１
の補助設備である保全装置５９等が配置され、この空間
が排気空間であるとともに実質的に保全空間を形成して
、いる。したがって、保全作業を行うため、この空間は
作業者の立ち入りが可能な高さ、たとえば２〜３ｍ程度
となっている。

また、排気室３９内で、流通室３５の直下部分には電気
系統の集合配ｖＡ６１、給排気用のダクト６３等が設け
られている。

一方、作業空間４５及び処理空間４３の天井近傍には各
々空気清浄機６５ａ、６５ｂ、６５ｃが取付けられてい
る。この空気清浄機６．５ａ〜６５Ｃは第２図に示した
ものと同様の構造のファンおよびフィルタを備えており
、このフィルタは、たとえばガラス繊維もしくはナイロ
ン繊維のシートがリボン状に折り畳んだ状態で収容され
た構造のものである。空気清浄機６５ａには流通室３５
からのダクト６７が接続されており、また空気清浄１６
５ｂ、６５Ｃは流通室３５と連通された構造となってお
り、流通室３５を流通してきた復流空気をファンにより
各空間４３．４５に送り出すようになっている。

次に、本実施例の作用について説明する。

図示しない空気調整機によって所定の温度・湿度に調整
された調整空気はダクトを通って空気清浄機６５ａに送
られる。ここで調整空気は空気清浄機６５ａ内のファン
により加圧されてフィルタを通り、作業空間４５に吹き
出される。作業空間４５は、その床部がすのこ状の排気
口４９となっているため、調整空気は天井から床方向に
垂直層流６９ａとなって流れ、作業空間４５内を清浄化
する。さらに空気６９ａは排気口４９から排気室３９に
流れ込む、排気室３９を流通した空気６９ａは、吸気口
５１より流通室３５内に復流６９ｂとなって流れ込む、
２ｉｉＬ通室３５を通過した復流６９ｂの一部は再度空
気清浄機６５ａに送られフィルタを経て作業空間に吹き
出される。

また、復流の一部６９ｃは、画処理空間４３゜４３の直
上にある空気清浄４！１６５ｂ、６５ｃに送られ、ファ
ンにより加圧されてフィルタを通り、処理空間４３．４
３に吹き出される。ここで、処理空間４３．４３上の空
気清浄機６５ｂ、６５ｃのファンの加圧は、作業空間４
５上の空気清浄機６５ａのファンの加圧よりも若干強く
なっているため、作業空間４５よりも画処理空間４３．
４３の方が陽圧に維持される状態となっている。このよ
うに、処理空間４３の方が作業空間４５よりも陽圧とな
っているため、作業空間４５からの塵埃等の侵入による
処理空間４３の汚染が防止される。

処理空間４３内を流れた空気は排気口４９より排気室３
９に送られ、さらに吸気口５１より流通室３５を通過し
て空気清浄１６５ａ、６５’ｂあるいは６５Ｃに再度復
流される。

このように復流が繰り返し空気清浄１ａ６５ａ〜６５ｃ
のフィルタを循環することによって、処理空間４３では
クラス１０相当の清浄度が実現される。

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。

（１）０作業室３３の下方に設けられた排気室３９内に
保全装置５９等の補助設備を配置することにより、作業
室３３の側方を復ｆｉ６９ｂ、６９ｃの流通室３５とし
てのみ使用できるため、少ない床面積で建設可能な省ス
ペース形のクリーンルームを提供することができる。

（２）、保全装置５９等の補助設備を作業室３３の下方
の排気室３３に配置することにより、保全装置５９等の
作動時の振動が作業室３３内の処理装置４１に伝達され
にくい構造となり、信転性の高い処理を実現できる。

（３）、排気室３９の床５５に排水溝５７を設け、当該
排水溝５７に向かって床面をわずかに傾斜を有する状態
で形成することによって、処理装置４１等から生しる汚
水洩れおよび床下クリーニングの汚水が前記排水溝５７
より排出されるため、作業室３３内の汚染を防止できる
。

（４）、上記（２）および（３）により、クリーンルー
ム内での処理の信幀性を向上させることができる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、実施例ではク
リーントンネルモジエール式空気清浄機構で説明したが
、前面ダウンフロ一式の空気清浄機構であってもよい。

また、排気室の床構造についても二重構造である必要は
なく、単に傾斜床構造のものであってもよい。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、半導体装置の製造に用いられる
クリーンルームに適用した場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、たとえば食品製造あるい
は医療分野等で清浄環境を提供するためのクリーンルー
ムに通用できる。

［発明の効果］本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。

すなわち、処理装置の載置された作業室の下方に層流の
流通可能な床材によって仕切られた排気室が形成され、
該排気室に補助設備が配置されたクリーンルーム構造と
することにより、作業室の側方のスペースを小さくする
ことができ、わずかな立地面積でクリーンルームを建設
することが可能となり、省スペース化を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例であるクリーンルームを模
式的に示す説明図、第２図は、従来技術におけるクリーンルームを模式的に
示す説明図である。１・・・建屋、３・・・作業室、５ａ、５ｂ・・・壁部
材、？ａ、７ｂ・・・保全室、９・・・排気室、１１・
・・作業空間、１３ａ、１３ｂ・・・処理空間、１５・
・・処理装置、１７・・・補助装置、１９．ａ、１９ｂ
、１９ｃ・・・フィルタ、２１・・・床部材、３１・・
・建屋、３３・・・作業室、３５・・・流通室、３７・
・・床部材、３９・・・排気室、４１・・・処理装置、
４３・・・処理空間、４５・・・作業空間、４７・・・
セメントプレート板、４９・・・排気口、５１・・・吸
気口、５３・・・第一床、５５・・・第二床、５７・・
・排水溝、５９・・・保全装置（補助設備）、６１・・
・集合配線、６３・・・給排気用ダクト、６５ａ、６５
ｂ、６５ｃ・・・空気清浄機、６７・・・ダクト、６９
ａ・・・層流、６９ｂ、６９Ｃ・・・復流。第　　１　　図

Claims

【特許請求の範囲】１、処理装置の載置された作業室の下方に、層流の流通
可能な床材によって仕切られた排気室が形成され、該排
気室に前記処理装置の補助設備が配置されてなることを
特徴とするクリーンルーム。２、クリーントンネルモジュール式空気清浄機構を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のクリー
ンルーム。３、前記排気室の床面に排水溝が形成され、該排水溝方
向が低部となるように床面が水平方向よりも所定角度だ
け傾斜して形成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項または第２項記載のクリーンルーム。