JPS61291848A - クリ−ンル−ム - Google Patents
クリ−ンル−ムInfo
- Publication number
- JPS61291848A JPS61291848A JP60131885A JP13188585A JPS61291848A JP S61291848 A JPS61291848 A JP S61291848A JP 60131885 A JP60131885 A JP 60131885A JP 13188585 A JP13188585 A JP 13188585A JP S61291848 A JPS61291848 A JP S61291848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- processing
- clean
- room
- processing spaces
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は、半導体装置製造工程等に必要とされる清浄環
境を提供する、いわゆるクリーンルームに適用して有効
な技術に関する。
境を提供する、いわゆるクリーンルームに適用して有効
な技術に関する。
［費景技術］
半導体装置等の製造においては、半導体ウェハにホトリ
ソグラフィ処理や拡散処理等を行う、いわゆるウェハ処
理作業が行われているが、この作業中に前記ウェハの表
面に塵埃等の異物が付着すると、ウニハネ良の原因とな
る。そのため、前記ウェハ処理を行う作業環境への塵埃
の混入および温度、湿度等の変化を極力防止する必要が
ある。
ソグラフィ処理や拡散処理等を行う、いわゆるウェハ処
理作業が行われているが、この作業中に前記ウェハの表
面に塵埃等の異物が付着すると、ウニハネ良の原因とな
る。そのため、前記ウェハ処理を行う作業環境への塵埃
の混入および温度、湿度等の変化を極力防止する必要が
ある。
このため、作業室の空気浄化（クリーン化）を主目的と
した空気調整法としては、（１）、室内全体の清浄度を
クラス１００００程度にクリーン化し、作業領域のみを
クリーンベンチで高清浄度化するもの、および（２）、
室内の天井全体から清浄空気を吹き出し、すのこ上の床
部全域から排気して室内全体をクラス１０ ＯＮｌ ０
程度にクリーン化する、いわゆるダウンフロ一式空気清
浄機構が知られている。
した空気調整法としては、（１）、室内全体の清浄度を
クラス１００００程度にクリーン化し、作業領域のみを
クリーンベンチで高清浄度化するもの、および（２）、
室内の天井全体から清浄空気を吹き出し、すのこ上の床
部全域から排気して室内全体をクラス１０ ＯＮｌ ０
程度にクリーン化する、いわゆるダウンフロ一式空気清
浄機構が知られている。
しかし、前者では作業者の移動等により塵埃が舞い上が
り、これがクリーンベンチ領域に混入して、クリーンベ
ンチ領域はクラス１００を維持できなくなりウェハが汚
染しやすい状態となる。また後者のダウンフロ一式では
空気調整機の運転指数が高くなり、維持費もコスト高と
なりやすい。
り、これがクリーンベンチ領域に混入して、クリーンベ
ンチ領域はクラス１００を維持できなくなりウェハが汚
染しやすい状態となる。また後者のダウンフロ一式では
空気調整機の運転指数が高くなり、維持費もコスト高と
なりやすい。
上記の問題点を解決するため、本出願人により、空気調
整機からの調整空気と一旦室内を流通した空気を混合空
気としてフィルタを通して室内に流通させる、いわゆる
クリーントンネルモジュール式空気清浄機構が提案され
ている（特開昭５６−１６２３３５号および特開昭５６
−１６２２３６号公報）。
整機からの調整空気と一旦室内を流通した空気を混合空
気としてフィルタを通して室内に流通させる、いわゆる
クリーントンネルモジュール式空気清浄機構が提案され
ている（特開昭５６−１６２３３５号および特開昭５６
−１６２２３６号公報）。
上記クリーントンネルモジュール式は、例えば第２図に
示すように、室内ｌを作業室２と、その作業室２を囲む
ようにして壁部材３ａ、３ｂにより仕切られた保全室４
に分割したものである。この作業室２は更に中央の作業
者の作業空間５と、この作業空間５をはさんで対向位置
に区画された処理空間６ａ、６ｂとに分割されており、
この処理空間５ａ、６ｂには、リソグラフィ装置、拡散
炉、熱酸化炉等の各種の処理装置７が載置される。
示すように、室内ｌを作業室２と、その作業室２を囲む
ようにして壁部材３ａ、３ｂにより仕切られた保全室４
に分割したものである。この作業室２は更に中央の作業
者の作業空間５と、この作業空間５をはさんで対向位置
に区画された処理空間６ａ、６ｂとに分割されており、
この処理空間５ａ、６ｂには、リソグラフィ装置、拡散
炉、熱酸化炉等の各種の処理装置７が載置される。
なお、処理装置７等はいずれの処理空間６ａ、６ｂにも
載置することが可能であるが、本構造では右側、すなわ
ち一方の処理空間６ａにのみ処理装置７が載置されてい
る。
載置することが可能であるが、本構造では右側、すなわ
ち一方の処理空間６ａにのみ処理装置７が載置されてい
る。
作業空間の上部には各空間５．５ａ、５ｂ毎にフィルタ
８ａ、８ｂ、８ｃが取付けられており、このフィルタ８
ａ、８ｂ、８ｃを介して前記混合空気９が作業室２内の
各空間５．６ａ、６ｂを流通していくようになっており
、この混合空気９は壁部材３ａ、３ｂに開設された排気
口１０ａ、１０ｂ、もしくは床部１１に開設された排気
口１２より排気されるようになっている。
８ａ、８ｂ、８ｃが取付けられており、このフィルタ８
ａ、８ｂ、８ｃを介して前記混合空気９が作業室２内の
各空間５．６ａ、６ｂを流通していくようになっており
、この混合空気９は壁部材３ａ、３ｂに開設された排気
口１０ａ、１０ｂ、もしくは床部１１に開設された排気
口１２より排気されるようになっている。
ところで、このクリーントンネルモジュール式の場合、
前記室内の対向する処理空間６ａ、６ｂに各々処理装置
を載置することが可能であるが、本構造のように一方の
処理空間６ａにのみしか処理装置７を載置しないときに
は、以下の問題を生じることが本発明者によって明らか
にされた。
前記室内の対向する処理空間６ａ、６ｂに各々処理装置
を載置することが可能であるが、本構造のように一方の
処理空間６ａにのみしか処理装置７を載置しないときに
は、以下の問題を生じることが本発明者によって明らか
にされた。
すなわち、一方の処理空間６ａにのみ処理装置７を載置
した状態では、左右の処理空間６ａ、６ｂで空気圧が安
定せず、このため処理装置７の近傍に渦巻き流９ａが発
生し、ここが塵埃等の滞留領域となる場合がある。この
滞留塵埃が作業者の移動等によって処理空間６ａに舞い
上がり、処理装置７状のウェハ（図示せず）を汚染する
恐れのあることが本発明者によって明らかにされたので
ある。
した状態では、左右の処理空間６ａ、６ｂで空気圧が安
定せず、このため処理装置７の近傍に渦巻き流９ａが発
生し、ここが塵埃等の滞留領域となる場合がある。この
滞留塵埃が作業者の移動等によって処理空間６ａに舞い
上がり、処理装置７状のウェハ（図示せず）を汚染する
恐れのあることが本発明者によって明らかにされたので
ある。
なお、クリーンルームの最近の技術動向として詳しく述
べである例としては前述の各公報の他に、株式会社工業
調査会、昭和５９年１１月２０日発行「電子材料１９８
４年１１月号別冊、超ＬＳＩ製造・試験装置ガイドブッ
クＪ、Ｐ１４０−Ｐｉ４４がある。
べである例としては前述の各公報の他に、株式会社工業
調査会、昭和５９年１１月２０日発行「電子材料１９８
４年１１月号別冊、超ＬＳＩ製造・試験装置ガイドブッ
クＪ、Ｐ１４０−Ｐｉ４４がある。
［発明の目的］
本発明の目的は、クリーンルーム室内での乱流の発生を
防止して清浄環境を向上させることにある。
防止して清浄環境を向上させることにある。
本発明の他の目的はウェハの歩留りを向上させて、信鯨
性の高い半導体装置を提供することにある。
性の高い半導体装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
［発明の概要］
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、清浄空気が流通する室内の対向位置に形成さ
れた各処理空間の側壁の、少なくともいずれか一方の排
気口に口径を変更可能なシャッタ板を有するクリーンル
ーム構造とすることにより、処理空間相互の空気圧を安
定して保つことが可能となるため、空気の乱流の発生を
防止して塵埃のウェハへの付着を防止することができる
。
れた各処理空間の側壁の、少なくともいずれか一方の排
気口に口径を変更可能なシャッタ板を有するクリーンル
ーム構造とすることにより、処理空間相互の空気圧を安
定して保つことが可能となるため、空気の乱流の発生を
防止して塵埃のウェハへの付着を防止することができる
。
［実施例工］
第１図は本発明の一実施例であるクリーンルームを模式
的に示す断−面図である。
的に示す断−面図である。
本実施例のクリーンルーム２１は、いわゆるクリーント
ンネルモジュール方式のクリーンルームであり、建屋は
作業室２２および作業室２２と壁部材２３ａ、２３ｂに
よって各々隔壁されている保全室２４ａ、２４ｂを有す
る。作業室２２はリソグラフィ装置、拡散装置等の処理
装置２５を載置する一対の処理空間２６ ａ、 ２６
ｂ及び作業者の位置する作業空間２７に区画されてい
る。なお、前記一対の処理空間２６ａ、２６ｂは作業空
間２７をはさむようにして対向位置に各々設けられてい
るが、本実施例では第１図に示すように、右側すなわち
一方の処理空間２６ａのみにしか処理装置２５は載置さ
れていない。
ンネルモジュール方式のクリーンルームであり、建屋は
作業室２２および作業室２２と壁部材２３ａ、２３ｂに
よって各々隔壁されている保全室２４ａ、２４ｂを有す
る。作業室２２はリソグラフィ装置、拡散装置等の処理
装置２５を載置する一対の処理空間２６ ａ、 ２６
ｂ及び作業者の位置する作業空間２７に区画されてい
る。なお、前記一対の処理空間２６ａ、２６ｂは作業空
間２７をはさむようにして対向位置に各々設けられてい
るが、本実施例では第１図に示すように、右側すなわち
一方の処理空間２６ａのみにしか処理装置２５は載置さ
れていない。
また、前記保全室２４ａ、２４ｂと作業室２２とは下部
に排気口２８ａ、２８ｂとしての開口部を有する壁部材
２３ａ、２３ｂによって隔壁されているが、作業室２２
内の各処理空間２６８．２６ｂと作業空間２７の間は隔
壁されていない。
に排気口２８ａ、２８ｂとしての開口部を有する壁部材
２３ａ、２３ｂによって隔壁されているが、作業室２２
内の各処理空間２６８．２６ｂと作業空間２７の間は隔
壁されていない。
各々の壁部材２３ａ、２３ｂの底部近傍には上記のよう
に、保全室２４ａ、２４ｂの方向に排気口２８ａ、２８
ｂが開設されており、処理空間２５ａ、２６ｂを保全室
２４ａ、２４ｂの側に排気し得るようになっている。こ
こで本実施例では、処理装置２５の載置されていない処
理空間２６ｂ側の壁部材２３ｂに開設された排気口２８
ｂには着脱自在な状態でシャッタ板２９が取付けられて
いる。すなわち、このシャッタ板２９により処理−空間
２６ｂの排気量が調整可能になっている。
に、保全室２４ａ、２４ｂの方向に排気口２８ａ、２８
ｂが開設されており、処理空間２５ａ、２６ｂを保全室
２４ａ、２４ｂの側に排気し得るようになっている。こ
こで本実施例では、処理装置２５の載置されていない処
理空間２６ｂ側の壁部材２３ｂに開設された排気口２８
ｂには着脱自在な状態でシャッタ板２９が取付けられて
いる。すなわち、このシャッタ板２９により処理−空間
２６ｂの排気量が調整可能になっている。
前記作業室２２および保全室２４ａ、２４ｂの底部には
排気室３０が形成されており、この排気室３０と前記各
室２２． ２４ ａ、 ２４ ｂとは床部３１により
仕切られている。この床部３１は処理空間２６ａ、２６
ｂとの仕切としては例えばセメントプレート材３２ａ、
３２ｂのような空気の流通を妨げる材質のものが用いら
れているが、その他の作業空間２７および保全室２４ａ
、２４ｂと排気室３０との仕切としては、例えばすのこ
状の空気の流通が可能な金属部材等で形成され、排気口
３３ａ、３３ｂ、３３ｃとして構成されている。
排気室３０が形成されており、この排気室３０と前記各
室２２． ２４ ａ、 ２４ ｂとは床部３１により
仕切られている。この床部３１は処理空間２６ａ、２６
ｂとの仕切としては例えばセメントプレート材３２ａ、
３２ｂのような空気の流通を妨げる材質のものが用いら
れているが、その他の作業空間２７および保全室２４ａ
、２４ｂと排気室３０との仕切としては、例えばすのこ
状の空気の流通が可能な金属部材等で形成され、排気口
３３ａ、３３ｂ、３３ｃとして構成されている。
排気室３０の一側部には外部に排気口３４が開設されて
おり、この排気口３４にはダクト３５の一端が接続され
ており、排気室３０内を排気するようになっている。前
記ダクト３５の他端側は空気調整機３６に接続されてお
り、この空気調整機３６は排気室３０からの排気空気３
７および外部の空気を調和させて温度および湿度を一定
に制御してファン３８を介してダクト３９に送り出すも
のである。
おり、この排気口３４にはダクト３５の一端が接続され
ており、排気室３０内を排気するようになっている。前
記ダクト３５の他端側は空気調整機３６に接続されてお
り、この空気調整機３６は排気室３０からの排気空気３
７および外部の空気を調和させて温度および湿度を一定
に制御してファン３８を介してダクト３９に送り出すも
のである。
一方、作業空間２７及び処理空間２６ａ、２６ｂの天井
近傍には各々空気清浄機４０ ａ、 ４０ ｂ。
近傍には各々空気清浄機４０ ａ、 ４０ ｂ。
４０ｃが取付けられている。この空気清浄機４０ａ、４
０ｂ、４０ｃはファン４１ａ、４１ｂ、４１ｃおよびフ
ィルタ４２ａ、４２ｂ、４２ｃを備えており、このフィ
ルタ４２ａ、４２ｂ、４２ｃはたとえばガラス繊維もし
くはナイロン繊維のシートがリボン状に折り畳んだ状態
で収容されてなるものである。空気清浄機４０ａ、４０
ｂ、４０Ｃには空気調整機３６からのダクト３９ととも
に保全室２４ａ、２４ｂからのダクト４３が接続されて
おり保全室２４ａ、２４ｂを流通してきた復流空気４４
と空気調整機３６から送り出されてきた調整空気４５と
を所定の比率で混合させてファン４１ ａ、 ４ ｌ
ｂ、 ４１ ｃにより各空間２６ａ。
０ｂ、４０ｃはファン４１ａ、４１ｂ、４１ｃおよびフ
ィルタ４２ａ、４２ｂ、４２ｃを備えており、このフィ
ルタ４２ａ、４２ｂ、４２ｃはたとえばガラス繊維もし
くはナイロン繊維のシートがリボン状に折り畳んだ状態
で収容されてなるものである。空気清浄機４０ａ、４０
ｂ、４０Ｃには空気調整機３６からのダクト３９ととも
に保全室２４ａ、２４ｂからのダクト４３が接続されて
おり保全室２４ａ、２４ｂを流通してきた復流空気４４
と空気調整機３６から送り出されてきた調整空気４５と
を所定の比率で混合させてファン４１ ａ、 ４ ｌ
ｂ、 ４１ ｃにより各空間２６ａ。
２６ｂ、２７に送り出すようになっている。
次に、本実施例の作用を説明する。
空気調整機３６にて所定の温度、温度に調整された調整
空気４５はダクト３９を通って空気清浄機４０ｂに送ら
れる。ここで調整空気４５はファン４１ｂにより加圧さ
れてフィルタ４２ｂを通り、作業空間２７に吹き出され
る０作業室間２７はその床部３１がすのこ状の排気口３
３ｂとなっているため、調整空気４５は天井から床部３
１方向にダウンフロ一式に縦の層流となって流れ、作業
空間２７を清浄化する。そして排気口３３ｂから床部３
１下の排気室３０に通流される。その後、この空気４５
はその一部（排気空気３７）が排気室３０の側部の排気
口３４よりダクト３５を経て空気調整機３６に流入され
る。この空気調整機３６により所定の温度、湿度に制御
された調整空気４５は再度空気清浄機、４０ｂに送られ
る。排気室３０内のその他の空気（復流空気４４）は排
気口３３ａ、３３Ｇを通り保全室２４ａ、２４ｂに流入
され、さらにダクト４３を経て再度空気清浄機４０ｂに
流入され、ここで前記調整空気４５と再度所定の割合で
混合され、前述したようにファン４１ｂおよびフィルタ
４２ｂを介して作業空間２７に吹き出されるのである。
空気４５はダクト３９を通って空気清浄機４０ｂに送ら
れる。ここで調整空気４５はファン４１ｂにより加圧さ
れてフィルタ４２ｂを通り、作業空間２７に吹き出され
る０作業室間２７はその床部３１がすのこ状の排気口３
３ｂとなっているため、調整空気４５は天井から床部３
１方向にダウンフロ一式に縦の層流となって流れ、作業
空間２７を清浄化する。そして排気口３３ｂから床部３
１下の排気室３０に通流される。その後、この空気４５
はその一部（排気空気３７）が排気室３０の側部の排気
口３４よりダクト３５を経て空気調整機３６に流入され
る。この空気調整機３６により所定の温度、湿度に制御
された調整空気４５は再度空気清浄機、４０ｂに送られ
る。排気室３０内のその他の空気（復流空気４４）は排
気口３３ａ、３３Ｇを通り保全室２４ａ、２４ｂに流入
され、さらにダクト４３を経て再度空気清浄機４０ｂに
流入され、ここで前記調整空気４５と再度所定の割合で
混合され、前述したようにファン４１ｂおよびフィルタ
４２ｂを介して作業空間２７に吹き出されるのである。
一方、空気調整機３６からの調整空気４５の−部はダク
ト３９を通って空気清浄機４０ａ、４０Ｃに送られ、フ
ァン４１ａ、４１ｃにより加圧されてフィルタ４２ ａ
、 ４２ ｃを介して各処理空間２６ａ、２６ｂに送
り出される。なお、処理空間２６ａ、２６ｂの床部３１
は空気の流通がなされないセメントプレート板３２ａ、
３２ｂであるため、吹き出された混合空気４６ａ、４６
ｂは空間底部で横方向に移動して、壁部材２３ａ、２３
ｂの排気口２８ａ、２８ｂあるいは作業空間２７の排気
口３３ｂへ通流される。このとき、画処理空間２６ａ、
２６ｂのうち一方の処理空間２６ａにのみ処理装置２５
が設置されているため、処理装置２５側の排気口２８ａ
の排気がこの処理装置２５によって妨げられることにな
る。そのため、作業空間２７を中心にして左右の処理空
間２６ａ。
ト３９を通って空気清浄機４０ａ、４０Ｃに送られ、フ
ァン４１ａ、４１ｃにより加圧されてフィルタ４２ ａ
、 ４２ ｃを介して各処理空間２６ａ、２６ｂに送
り出される。なお、処理空間２６ａ、２６ｂの床部３１
は空気の流通がなされないセメントプレート板３２ａ、
３２ｂであるため、吹き出された混合空気４６ａ、４６
ｂは空間底部で横方向に移動して、壁部材２３ａ、２３
ｂの排気口２８ａ、２８ｂあるいは作業空間２７の排気
口３３ｂへ通流される。このとき、画処理空間２６ａ、
２６ｂのうち一方の処理空間２６ａにのみ処理装置２５
が設置されているため、処理装置２５側の排気口２８ａ
の排気がこの処理装置２５によって妨げられることにな
る。そのため、作業空間２７を中心にして左右の処理空
間２６ａ。
２６ｂで空気圧が安定せずに、気流の乱れるおそれがあ
る。しかし、本実施例では、処理装置２６の載置されて
いない側の壁部材２３−ｂの排気口３３Ｃにシャ°ツタ
板２９が取付けちれているため、排気口２８ｂの口径を
適宜調節することができ、左右の処理空間２６ａ、２６
ｂで空気圧を安定させることができる。したがって、気
流の乱れによる塵埃等の滞留を防止することができる。
る。しかし、本実施例では、処理装置２６の載置されて
いない側の壁部材２３−ｂの排気口３３Ｃにシャ°ツタ
板２９が取付けちれているため、排気口２８ｂの口径を
適宜調節することができ、左右の処理空間２６ａ、２６
ｂで空気圧を安定させることができる。したがって、気
流の乱れによる塵埃等の滞留を防止することができる。
本実施例では、処理装置２５の床部３１からの高さが９
０Ｃ１程度で、排気口２８ａ、２８ｂの開口部の床部３
１からの高さが８００ｍ〜８５０Ｕ程度である場合、処
理装置２５の載置されていない側の排気口２８ｂにシャ
フタ板２９を取付ける際には、開口部２８ｃを床部３１
から１５０ｆｉ〜２００ｍ程度に保つようにシャッタ板
２９を取付けることによって処理装置２５の近傍に発生
する渦流４７を完全に消滅できる。
０Ｃ１程度で、排気口２８ａ、２８ｂの開口部の床部３
１からの高さが８００ｍ〜８５０Ｕ程度である場合、処
理装置２５の載置されていない側の排気口２８ｂにシャ
フタ板２９を取付ける際には、開口部２８ｃを床部３１
から１５０ｆｉ〜２００ｍ程度に保つようにシャッタ板
２９を取付けることによって処理装置２５の近傍に発生
する渦流４７を完全に消滅できる。
このようにして処理空間２６ａ、２６ｂを清浄化した空
気４６ａ、４６ｂは排気室３０あるいは保全室２４ａ、
２４ｂに流れ、さらに空気調整機３６あるいは空気清浄
機４０ａ、４０ｂ、４０ｃに再度復流される。
気４６ａ、４６ｂは排気室３０あるいは保全室２４ａ、
２４ｂに流れ、さらに空気調整機３６あるいは空気清浄
機４０ａ、４０ｂ、４０ｃに再度復流される。
このようにして空気の清浄化を行った場合、空気調整機
３６からクラス１００程度の調整空気４５を送出した場
合、シャッタ板２９の作用により作業室２２内での渦流
の発生を防止できるため、作業空間２７および処理空間
２６ａ、２６ｂでは上記クラスよりも高い清浄空気が得
られ、更に複数回の循環が繰り返されると処理空間２６
ａ、、２６ｂではクラス１０相当の清浄度を維持するこ
とができる。
３６からクラス１００程度の調整空気４５を送出した場
合、シャッタ板２９の作用により作業室２２内での渦流
の発生を防止できるため、作業空間２７および処理空間
２６ａ、２６ｂでは上記クラスよりも高い清浄空気が得
られ、更に複数回の循環が繰り返されると処理空間２６
ａ、、２６ｂではクラス１０相当の清浄度を維持するこ
とができる。
［効果］
（１）、清浄空気が流通する室内の対向位置に処理空間
が形成され、各処理空間の側壁に排気口を備えてなるク
リーンルームの前記側壁のいずれか一方の排気口に口径
を変更可能なシャッタ板を有する構造とすることにより
、左右の処理空間で空気圧を安定させることができるた
め、気流の乱れによる塵埃等の滞留を防止することがで
きる。
が形成され、各処理空間の側壁に排気口を備えてなるク
リーンルームの前記側壁のいずれか一方の排気口に口径
を変更可能なシャッタ板を有する構造とすることにより
、左右の処理空間で空気圧を安定させることができるた
め、気流の乱れによる塵埃等の滞留を防止することがで
きる。
（２）、前記（１１により、塵埃等のウェハへの付着を
防止することができるため、信頬性の高い半導体装置を
提供することができる。
防止することができるため、信頬性の高い半導体装置を
提供することができる。
以上本発明者によりてなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、実施例ではシャンク板の構造は着脱式のものに
ついて説明したが、これに限るものではなく、たとえば
、シャッタ板がスライド構造になっており、処理空間に
載置される処理装置に応じて排気口の口径を変更可能な
構造のものであってもよい。
ついて説明したが、これに限るものではなく、たとえば
、シャッタ板がスライド構造になっており、処理空間に
載置される処理装置に応じて排気口の口径を変更可能な
構造のものであってもよい。
また、排気口の高さ等について実施例で具体的な数値を
例にして説明したが、これらの数値に限定されないこと
もいうまでもない。
例にして説明したが、これらの数値に限定されないこと
もいうまでもない。
［利用分野］
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるクリーントンネルモジ
ュール方式によるクリーンルームに通用した場合につい
て説明したが、これに限定されるものではなく、保全室
を設けて空気を循環させる方式のものであれば、たとえ
ばクリーンベンチトンネル方式等によるクリーンルーム
に適用しても有効な技術である。
をその利用分野である、いわゆるクリーントンネルモジ
ュール方式によるクリーンルームに通用した場合につい
て説明したが、これに限定されるものではなく、保全室
を設けて空気を循環させる方式のものであれば、たとえ
ばクリーンベンチトンネル方式等によるクリーンルーム
に適用しても有効な技術である。
第１図は本発明の一実施例であるクリーンルームを模式
的に示す断面図、 第２図は従来のクリーンルームを模式的に示す断面図で
ある。 １・・・クリーンルーム（従来例）、２・・・作業室、
３ａ、３ｂ・・・壁部材、４ａ、４ｂ・・・保全室、５
・・・作業空間、６ａ、６ｂ・・・処理空間、７・・・
処理装置、８ａ〜８ｃ・・・フィルタ、９・・・混合空
気、１０ａ、１０ｂ・・・排気口、１１・・・床部、２
１・・・クリーンルーム、２２−−一作業室、２３ａ、
２３ｂ・・・壁部材、２４ａ、２４ｂ・・・保全室、２
５・・・処理装置、２６ａ、２６ｂ・・・処理空間、２
７・・・作業空間、２８ａ、２８ｂ・・・排気口、２８
ｃ・・・開口部、２９・・・シャフタ板、３０・・・排
気室、３１・・・床部、３２ａ、３’ｌｂ・・・セメン
トプレート板、３３３〜Ｃ・・・排気口、３４・・・排
気口、３５・・・ダクト、３６・・・空気調整機、３７
・・・排気空気、３８・・・ファン、３９・・・ダクト
、４０ ａ ｗ ｃ・・・空気清浄機、４１ａ−ｃ・・
・ファン、４２ａ−ｃ・・・フィルタ、４３・・・ダク
ト、４４・・・復流空気、４５・・・調整空気、４６ａ
、４６ｂ・・・混合空気、４７・・・渦流。
的に示す断面図、 第２図は従来のクリーンルームを模式的に示す断面図で
ある。 １・・・クリーンルーム（従来例）、２・・・作業室、
３ａ、３ｂ・・・壁部材、４ａ、４ｂ・・・保全室、５
・・・作業空間、６ａ、６ｂ・・・処理空間、７・・・
処理装置、８ａ〜８ｃ・・・フィルタ、９・・・混合空
気、１０ａ、１０ｂ・・・排気口、１１・・・床部、２
１・・・クリーンルーム、２２−−一作業室、２３ａ、
２３ｂ・・・壁部材、２４ａ、２４ｂ・・・保全室、２
５・・・処理装置、２６ａ、２６ｂ・・・処理空間、２
７・・・作業空間、２８ａ、２８ｂ・・・排気口、２８
ｃ・・・開口部、２９・・・シャフタ板、３０・・・排
気室、３１・・・床部、３２ａ、３’ｌｂ・・・セメン
トプレート板、３３３〜Ｃ・・・排気口、３４・・・排
気口、３５・・・ダクト、３６・・・空気調整機、３７
・・・排気空気、３８・・・ファン、３９・・・ダクト
、４０ ａ ｗ ｃ・・・空気清浄機、４１ａ−ｃ・・
・ファン、４２ａ−ｃ・・・フィルタ、４３・・・ダク
ト、４４・・・復流空気、４５・・・調整空気、４６ａ
、４６ｂ・・・混合空気、４７・・・渦流。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、清浄空気が流通する室内の対向位置に処理空間が形
成され、各処理空間の側壁に排気口を備えてなるクリー
ンルームであって、前記側壁の少なくともいずれか一方
の排気口に口径を変更可能なシャッタ板を有することを
特徴とするクリーンルーム。 ２、各処理空間を分割する作業空間が室内中央に形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
クリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60131885A JPS61291848A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | クリ−ンル−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60131885A JPS61291848A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | クリ−ンル−ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61291848A true JPS61291848A (ja) | 1986-12-22 |
Family
ID=15068418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60131885A Pending JPS61291848A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61291848A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102232A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-19 | Shimizu Corp | クリーンルーム |
| JPH0293633U (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-25 |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP60131885A patent/JPS61291848A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102232A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-19 | Shimizu Corp | クリーンルーム |
| JPH0293633U (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0250596B1 (en) | Clean room | |
| RU2586050C2 (ru) | Устройство локальной очистки воздуха | |
| CA2842895C (en) | Local air cleaning apparatus | |
| JPS61262537A (ja) | 空気清浄装置 | |
| JPS61291848A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPS631415A (ja) | クリ−ンベンチ | |
| JPS5944538A (ja) | クリ−ンル−ム用クリ−ンユニツトおよびクリ−ンル−ムシステム | |
| JPS61168735A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPH0330060B2 (ja) | ||
| JPS61291850A (ja) | 空気清浄装置 | |
| JPS62194140A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JP2597853B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP2817605B2 (ja) | クリーンルーム用自動倉庫 | |
| JPS61168736A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPS61282742A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JP2003214668A (ja) | クリーンルーム | |
| JP2612198B2 (ja) | 空気調和装置 | |
| JPH0568289B2 (ja) | ||
| JP2515245B2 (ja) | フレキシブルクリ―ンル―ム | |
| JPH0828920A (ja) | クリーンルーム用空気清浄化装置 | |
| JP2000121116A (ja) | クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法 | |
| JPH09159239A (ja) | クリーンルーム | |
| JPS61211642A (ja) | 半導体製造用空気清浄化設備 | |
| JPS61211643A (ja) | 空気調和装置 | |
| CA1280929C (en) | Clean room |