JP2000121116A - クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法 - Google Patents
クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法Info
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- Ventilation (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去
方法を提供する。 【解決手段】クリーンルーム内に仮設シート２１ａ、２
１ｂ、…を設けて、外気の取り入れ部から排出部に至る
一方向の風路を形成し、この下降風路２６ａ、上昇風路
２６ｂ、…に前記フィルタ１３ａ、１３ｂ、…を複数設
置し、風路に従って空気を流すことによってフィルタ１
３ａ、１３ｂ、…から放出される不純物を除去するよう
にし、また、前記フィルタの不純物を除去するのに用い
る空気に、相対湿度が５０％以上の徐塵した空気を用い
た。これにより、特別な排気設備やホウ素化合物等の不
純物の半導体製造上不都合な物質の吸着設備を必要とせ
ずに簡便な方法で確実にホウ素化合物等の不純物量を低
減することができる。
方法を提供する。 【解決手段】クリーンルーム内に仮設シート２１ａ、２
１ｂ、…を設けて、外気の取り入れ部から排出部に至る
一方向の風路を形成し、この下降風路２６ａ、上昇風路
２６ｂ、…に前記フィルタ１３ａ、１３ｂ、…を複数設
置し、風路に従って空気を流すことによってフィルタ１
３ａ、１３ｂ、…から放出される不純物を除去するよう
にし、また、前記フィルタの不純物を除去するのに用い
る空気に、相対湿度が５０％以上の徐塵した空気を用い
た。これにより、特別な排気設備やホウ素化合物等の不
純物の半導体製造上不都合な物質の吸着設備を必要とせ
ずに簡便な方法で確実にホウ素化合物等の不純物量を低
減することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム等
の空気浄化装置に用いられる空気清浄用フィルタの不純
物除去方法に係り、特に半導体製造工場等の建設工事後
や改装工事後、またはフィルタ交換後に行うクリーンル
ームにおけるフィルタの不純物除去方法に関する。
の空気浄化装置に用いられる空気清浄用フィルタの不純
物除去方法に係り、特に半導体製造工場等の建設工事後
や改装工事後、またはフィルタ交換後に行うクリーンル
ームにおけるフィルタの不純物除去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工場においては、半導体素子
の集積度の向上に伴って生産環境に対して高度に制御さ
れた環境が要求されている。図３に一般に採用されてい
る半導体製造工場用のクリーンルームの空気の浄化経路
を示す。クリーンルーム６１は天井空間部６２、室内部
６４、床下空間部６６に別れ、取入れ外気６８は外調機
６７で除塵、温度調整、湿度調整した後に天井空間部６
２に供給される。天井空間部６２の空気はファンユニッ
ト７１ａ、７１ｂ、…によって送風されてフィルタ７３
ａ、７３ｂ、…を通った後に清浄空間である室内部６４
に下降気流となって放出される。天井空間部６２と室内
部６４の境界の天井格子６３に取り付けたフィルタ７３
ａ、７３ｂ、…においては、０．０５〜０．１μｍ以上
の粒子を除去する能力がある。床格子６５を通り床下空
間部６６に達した空気は、内調機７７とリターンファン
７５を通過したのちリターンエアゾーン７６の空間を通
って天井空間部６２に戻して循環利用している。室内部
６４を半導体製造等に使用する場合においては、一般に
フィルタを通過する空気量の３〜５％の排気設備を備え
ている。
の集積度の向上に伴って生産環境に対して高度に制御さ
れた環境が要求されている。図３に一般に採用されてい
る半導体製造工場用のクリーンルームの空気の浄化経路
を示す。クリーンルーム６１は天井空間部６２、室内部
６４、床下空間部６６に別れ、取入れ外気６８は外調機
６７で除塵、温度調整、湿度調整した後に天井空間部６
２に供給される。天井空間部６２の空気はファンユニッ
ト７１ａ、７１ｂ、…によって送風されてフィルタ７３
ａ、７３ｂ、…を通った後に清浄空間である室内部６４
に下降気流となって放出される。天井空間部６２と室内
部６４の境界の天井格子６３に取り付けたフィルタ７３
ａ、７３ｂ、…においては、０．０５〜０．１μｍ以上
の粒子を除去する能力がある。床格子６５を通り床下空
間部６６に達した空気は、内調機７７とリターンファン
７５を通過したのちリターンエアゾーン７６の空間を通
って天井空間部６２に戻して循環利用している。室内部
６４を半導体製造等に使用する場合においては、一般に
フィルタを通過する空気量の３〜５％の排気設備を備え
ている。
【０００３】クリーンルーム新設時または改装時には、
当然室内には多くの微細なごみや塵埃、ガス成分等があ
って、室内清浄度は低下している。そこで室内部６４を
半導体製造に使用する前に天井空間部６２に備えたファ
ンフィルタユニット７０ａ、７０ｂ、…を連続で稼働さ
せて、クリーンルーム６１内の塵埃をフィルタ７３ａ、
７３ｂ、…で捕捉し除去するようにしている。塵埃粒子
の除去については、通常２週間ないし４週間程度で、要
求される塵埃含有水準量まで減少させることができる。
当然室内には多くの微細なごみや塵埃、ガス成分等があ
って、室内清浄度は低下している。そこで室内部６４を
半導体製造に使用する前に天井空間部６２に備えたファ
ンフィルタユニット７０ａ、７０ｂ、…を連続で稼働さ
せて、クリーンルーム６１内の塵埃をフィルタ７３ａ、
７３ｂ、…で捕捉し除去するようにしている。塵埃粒子
の除去については、通常２週間ないし４週間程度で、要
求される塵埃含有水準量まで減少させることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
室内に存在する塵埃をフィルタで捕捉する方法では、半
導体製造過程において製品に害を与えるホウ素化合物等
の不純物を短期間で除去することはできなかった。それ
は、問題となるホウ素化合物等の不純物がフィルタ７３
を構成しているガラス繊維から放出されているため、フ
ィルタ７３ａ、７３ｂ、…を通過した清浄空気はホウ素
化合物等の不純物で汚染されていたからである。通常ク
リーンルーム６１の室内部６４においては、ホウ素化合
物等の不純物濃度を要求値である０．０５ｎｇ／Ｌ（空
気）以下にするのに１〜２年もの期間を必要としてい
る。
室内に存在する塵埃をフィルタで捕捉する方法では、半
導体製造過程において製品に害を与えるホウ素化合物等
の不純物を短期間で除去することはできなかった。それ
は、問題となるホウ素化合物等の不純物がフィルタ７３
を構成しているガラス繊維から放出されているため、フ
ィルタ７３ａ、７３ｂ、…を通過した清浄空気はホウ素
化合物等の不純物で汚染されていたからである。通常ク
リーンルーム６１の室内部６４においては、ホウ素化合
物等の不純物濃度を要求値である０．０５ｎｇ／Ｌ（空
気）以下にするのに１〜２年もの期間を必要としてい
る。
【０００５】ホウ素化合物等の不純物による室内部６４
の汚染を防止するために、フィルタを枯らす作業である
エイジングに関するクリーンルーム用空調機が、特開平
９−５３８４８号で開示されている。しかし、この方法
でもクリーンルーム６１の室内清浄空気中のホウ素化合
物等の不純物濃度を、外気と同じレベルの０．０３ｎｇ
／Ｌ（空気）にしようとすると、数カ月もの期間が必要
となっている。
の汚染を防止するために、フィルタを枯らす作業である
エイジングに関するクリーンルーム用空調機が、特開平
９−５３８４８号で開示されている。しかし、この方法
でもクリーンルーム６１の室内清浄空気中のホウ素化合
物等の不純物濃度を、外気と同じレベルの０．０３ｎｇ
／Ｌ（空気）にしようとすると、数カ月もの期間が必要
となっている。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、建設工事後または改装工事後の半導体製造用
クリーンルームにおいて、フィルタから発生するホウ素
化合物等の半導体製造上不都合な物質の量を、短時間の
フィルタ枯らし運転で要求値以下にするためのフィルタ
の不純物除去方法を提供することにある。
たもので、建設工事後または改装工事後の半導体製造用
クリーンルームにおいて、フィルタから発生するホウ素
化合物等の半導体製造上不都合な物質の量を、短時間の
フィルタ枯らし運転で要求値以下にするためのフィルタ
の不純物除去方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、室内の空気を清浄化するために天井部と室
内部との間にフィルタを備え、該フィルタを介して清浄
空気を室内部に吹き出すクリーンルームにおいて、前記
クリーンルーム内に仮設壁を設けて、外気の取り入れ部
から排出部に至る一方向の風路を形成し、この風路に前
記フィルタを複数設置し、風路に従って空気を流すこと
によってフィルタから放出される不純物を除去すること
を特徴としている。
するために、室内の空気を清浄化するために天井部と室
内部との間にフィルタを備え、該フィルタを介して清浄
空気を室内部に吹き出すクリーンルームにおいて、前記
クリーンルーム内に仮設壁を設けて、外気の取り入れ部
から排出部に至る一方向の風路を形成し、この風路に前
記フィルタを複数設置し、風路に従って空気を流すこと
によってフィルタから放出される不純物を除去すること
を特徴としている。
【０００８】本発明によれば、クリーンルーム内に仮設
壁を設けて、外気の取り入れ部から排出部に至る一方向
の風路を形成し、この風路に前記フィルタを複数設置
し、風路に従って空気を流すことによってフィルタから
放出される不純物を除去するようにしたので、特別な排
気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上不都合
な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で確実にホ
ウ素化合物等の不純物量を低減することができる。
壁を設けて、外気の取り入れ部から排出部に至る一方向
の風路を形成し、この風路に前記フィルタを複数設置
し、風路に従って空気を流すことによってフィルタから
放出される不純物を除去するようにしたので、特別な排
気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上不都合
な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で確実にホ
ウ素化合物等の不純物量を低減することができる。
【０００９】また前記目的を達成するために請求項２に
記載の発明は、前記フィルタの不純物を除去するのに用
いる空気に、相対湿度が５０％以上の除塵した空気を用
いることを特徴としている。本発明によれば、前記フィ
ルタの不純物を除去するのに用いる空気に、相対湿度が
５０％以上の除塵した空気を用いるようにしたので、特
別な排気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上
不都合な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で、
短期間で確実に不純物量を低減できる。
記載の発明は、前記フィルタの不純物を除去するのに用
いる空気に、相対湿度が５０％以上の除塵した空気を用
いることを特徴としている。本発明によれば、前記フィ
ルタの不純物を除去するのに用いる空気に、相対湿度が
５０％以上の除塵した空気を用いるようにしたので、特
別な排気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上
不都合な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で、
短期間で確実に不純物量を低減できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るクリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法の
好ましい形態について説明する。図１は、クリーンルー
ム１に本発明に係るクリーンルームにおけるフィルタの
不純物除去方法を使用した例である。
るクリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法の
好ましい形態について説明する。図１は、クリーンルー
ム１に本発明に係るクリーンルームにおけるフィルタの
不純物除去方法を使用した例である。
【００１１】図１のクリーンルーム１は、天井格子３と
床格子５で仕切られ、天井格子３にはファン１１ａ、１
１ｂ、…とフィルタ１３ａ、１３ｂ、…とを一体にした
ファンフィルタユニット１０ａ、１０ｂ、…が紙面の奥
行き方向に複数並んでいる。装置能力の一例を示すと、
フィルタ１３ａ、１３ｂ、…の総面積は約５０m2であ
り、ファンフィルタユニット１０ａ、１０ｂ、…の総吹
き出し風量は１０００m3／分、排気装置９の風量は１５
０m3／分である。このクリーンルーム１のフィルタ１３
ａ、１３ｂ、…を清浄化するために、天井２３と床格子
５とをつなぐ仮設シート２１ａ、および天井格子３と床
１４とをつなぐ仮設シート２１ｂで、交互に仕切り、左
側のゾーンから右端に至る連続した一本の風路を形成す
る。
床格子５で仕切られ、天井格子３にはファン１１ａ、１
１ｂ、…とフィルタ１３ａ、１３ｂ、…とを一体にした
ファンフィルタユニット１０ａ、１０ｂ、…が紙面の奥
行き方向に複数並んでいる。装置能力の一例を示すと、
フィルタ１３ａ、１３ｂ、…の総面積は約５０m2であ
り、ファンフィルタユニット１０ａ、１０ｂ、…の総吹
き出し風量は１０００m3／分、排気装置９の風量は１５
０m3／分である。このクリーンルーム１のフィルタ１３
ａ、１３ｂ、…を清浄化するために、天井２３と床格子
５とをつなぐ仮設シート２１ａ、および天井格子３と床
１４とをつなぐ仮設シート２１ｂで、交互に仕切り、左
側のゾーンから右端に至る連続した一本の風路を形成す
る。
【００１２】外気８は外調機７で除塵、温度調整、湿度
調節した後、天井空間部２の左端に入る。ファンフィル
タユニット１０ａは通常の取り付け状態で天井格子３に
取り付けられており、このファンユニット１１ａにより
空気はフィルタ１３ａ内を通り抜ける。このときガラス
繊維表面に付着しているホウ素化合物等の不純物粒子は
剥離され、気流に乗ってフィルタ１３ａ外に流出する。
壁２４と仮設シート２１ａで区画された室内部４の下降
風路２６ａに沿って流れる空気は、床格子５を通過し床
下空間部６で反転し、上昇気流となって２番目の上昇風
路２６ｂを流れる。２番目のファンフィルタユニット１
０ｂは天井格子３の下面に上下逆向きに取り付け、空気
が下から上に流れる。次のファンフィルタユニット１０
ｃは正常に下向きに取り付けられており、以下上向き、
下向きにフィルタユニット１１ａが交互に連なる。
調節した後、天井空間部２の左端に入る。ファンフィル
タユニット１０ａは通常の取り付け状態で天井格子３に
取り付けられており、このファンユニット１１ａにより
空気はフィルタ１３ａ内を通り抜ける。このときガラス
繊維表面に付着しているホウ素化合物等の不純物粒子は
剥離され、気流に乗ってフィルタ１３ａ外に流出する。
壁２４と仮設シート２１ａで区画された室内部４の下降
風路２６ａに沿って流れる空気は、床格子５を通過し床
下空間部６で反転し、上昇気流となって２番目の上昇風
路２６ｂを流れる。２番目のファンフィルタユニット１
０ｂは天井格子３の下面に上下逆向きに取り付け、空気
が下から上に流れる。次のファンフィルタユニット１０
ｃは正常に下向きに取り付けられており、以下上向き、
下向きにフィルタユニット１１ａが交互に連なる。
【００１３】導入する外気の条件が整っていれば外調機
７で除塵のみ行い、温度及び湿度の調整は行わなくとも
良い。一例を示すと、導入した空気の温度は１２〜２５
℃，相対湿度は４０〜６５％であった。排気ファン９を
作動させると、約１５０m3／分の空気が流出し、風路内
の風速は約０．３ｍ／秒となり、前述の条件でフィルタ
１３ａ、１３ｂ、…の枯らし運転を４週間継続した後に
ホウ素化合物等の不純物濃度は０．５〜０．９ｎｇ／Ｌ
（空気）に減少したので、フィルタの枯らし運転は終了
した。各フィルタを通過する空気の風速は線速度で０．
３ｍ／秒以上が良い。好ましくは０．６ｍ／秒以上に維
持する。空気の風速が高いと、ガラス繊維から放出する
ホウ素化合物等の不純物の量が増大し、ガラス繊維の表
面近傍のホウ素化合物等の不純物濃度が短期間に低下す
る。また、いったん空気中に放出したホウ素化合物等の
不純物は、後段のガラス繊維に再付着することは無い。
フィルタ１３ａ、１３ｂ、…の枯らし運転が終了したら
通常の使用状態にフィルタユニットを戻す作業を行う。
逆向きに設置してあるファンフィルタユニット１０ｂ、
１０ｄ、１０ｆを正常な向きに配設し直して、仮設シー
ト２１ａ及び２１ｂ、…を撤去する。
７で除塵のみ行い、温度及び湿度の調整は行わなくとも
良い。一例を示すと、導入した空気の温度は１２〜２５
℃，相対湿度は４０〜６５％であった。排気ファン９を
作動させると、約１５０m3／分の空気が流出し、風路内
の風速は約０．３ｍ／秒となり、前述の条件でフィルタ
１３ａ、１３ｂ、…の枯らし運転を４週間継続した後に
ホウ素化合物等の不純物濃度は０．５〜０．９ｎｇ／Ｌ
（空気）に減少したので、フィルタの枯らし運転は終了
した。各フィルタを通過する空気の風速は線速度で０．
３ｍ／秒以上が良い。好ましくは０．６ｍ／秒以上に維
持する。空気の風速が高いと、ガラス繊維から放出する
ホウ素化合物等の不純物の量が増大し、ガラス繊維の表
面近傍のホウ素化合物等の不純物濃度が短期間に低下す
る。また、いったん空気中に放出したホウ素化合物等の
不純物は、後段のガラス繊維に再付着することは無い。
フィルタ１３ａ、１３ｂ、…の枯らし運転が終了したら
通常の使用状態にフィルタユニットを戻す作業を行う。
逆向きに設置してあるファンフィルタユニット１０ｂ、
１０ｄ、１０ｆを正常な向きに配設し直して、仮設シー
ト２１ａ及び２１ｂ、…を撤去する。
【００１４】クリーンルームを通常の使用状態に戻した
後に、外調機７を稼働させて温度２３℃、相対湿度４５
％で室内空気を循環させると、室内部空気に含まれるホ
ウ素化合物等の不純物濃度は０．５ｎｇ／Ｌ（空気）以
下となり、約１か月間のフィルタの枯らし運転によって
室内部空気に含まれるホウ素化合物等の不純物濃度を半
導体の製造に支障のないレベルにすることができる。
後に、外調機７を稼働させて温度２３℃、相対湿度４５
％で室内空気を循環させると、室内部空気に含まれるホ
ウ素化合物等の不純物濃度は０．５ｎｇ／Ｌ（空気）以
下となり、約１か月間のフィルタの枯らし運転によって
室内部空気に含まれるホウ素化合物等の不純物濃度を半
導体の製造に支障のないレベルにすることができる。
【００１５】本発明に係るクリーンルームに於けるフィ
ルタの不純物除去方法は、前述のクリーンルーム１の形
態に限定されるものではなく、他の構成のクリーンルー
ムにも応用可能である。図２は、クリーンルーム３１内
部が、小さな部屋３４ａ、３４ｂ、３４ｃに仕切られて
いる構成の場合におけるフィルタの不純物除去方法を示
している。
ルタの不純物除去方法は、前述のクリーンルーム１の形
態に限定されるものではなく、他の構成のクリーンルー
ムにも応用可能である。図２は、クリーンルーム３１内
部が、小さな部屋３４ａ、３４ｂ、３４ｃに仕切られて
いる構成の場合におけるフィルタの不純物除去方法を示
している。
【００１６】図２のクリーンルーム３１は、天井格子３
３と床格子３５で仕切られ、天井格子３３にはファン４
１ａとフィルタ４３ａとを一体にしたファンフィルタユ
ニット４０ａが紙面の奥行き方向に複数並んでいる。こ
のクリーンルーム３１を天井５３と壁５４ｂとをむすぶ
仮設シート５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、…および床格子３
５と床４４とをむすぶ仮設シート５２ａ、５２ｂ、５２
ｃ、…で、交互に仕切り、左側のゾーンから右端に至る
連続した一風路を形成する。
３と床格子３５で仕切られ、天井格子３３にはファン４
１ａとフィルタ４３ａとを一体にしたファンフィルタユ
ニット４０ａが紙面の奥行き方向に複数並んでいる。こ
のクリーンルーム３１を天井５３と壁５４ｂとをむすぶ
仮設シート５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、…および床格子３
５と床４４とをむすぶ仮設シート５２ａ、５２ｂ、５２
ｃ、…で、交互に仕切り、左側のゾーンから右端に至る
連続した一風路を形成する。
【００１７】外気は外調機３７で除塵、温度調整、湿度
調整した後、天井空間部３２の左端に入る。ファンフィ
ルタユニット４０ａは天井格子３３に取り付けられてお
り、このファンユニット４１ａにより空気はフィルタ４
３ａ内を通り抜ける。このときガラス繊維表面に露出し
ているホウ素化合物等の不純物粒子は剥離され、気流に
乗ってフィルタ外に流出する。壁５４ａと壁５４ｂで区
画された室内空間の下降風路３４ａ内を流れる空気は、
床格子３５を通過し床下空間部３６で反転し、上昇気流
となって上昇風路４６ｂを流れる。同様にして気流は２
番目のファンフィルタユニット４０ｂ、天井格子３３、
下降風路３４ｂ、を通り、同様に３番目の下降風路３４
ｃを通って床格子３５を通過したのち、管路３８を通り
排気装置３９によって屋外へ排出される。以上の通り空
気が流れ、フィルタの清浄化が行われる。
調整した後、天井空間部３２の左端に入る。ファンフィ
ルタユニット４０ａは天井格子３３に取り付けられてお
り、このファンユニット４１ａにより空気はフィルタ４
３ａ内を通り抜ける。このときガラス繊維表面に露出し
ているホウ素化合物等の不純物粒子は剥離され、気流に
乗ってフィルタ外に流出する。壁５４ａと壁５４ｂで区
画された室内空間の下降風路３４ａ内を流れる空気は、
床格子３５を通過し床下空間部３６で反転し、上昇気流
となって上昇風路４６ｂを流れる。同様にして気流は２
番目のファンフィルタユニット４０ｂ、天井格子３３、
下降風路３４ｂ、を通り、同様に３番目の下降風路３４
ｃを通って床格子３５を通過したのち、管路３８を通り
排気装置３９によって屋外へ排出される。以上の通り空
気が流れ、フィルタの清浄化が行われる。
【００１８】ホウ素化合物等の不純物を減らすための枯
らし運転に使用する空気の相対湿度は、高い程ホウ素化
合物等の不純物の放出に効果があり、少なくとも４０％
以上、好ましくは５０％以上の相対湿度で枯らし運転を
行い、その後湿度を下げて定常運転にすると短期間で終
了する。温度も高いほうがホウ素化合物等の不純物の放
出量が高まるので、支障の無いかぎり高い温度で枯らし
運転をすると良い。クリーンルーム内を仕切る仮設シー
トまたは仮設壁は、通常市販されているビニールシート
等を用いればよく、枯らし運転終了後には（半導体製造
運転前に）撤去するので帯電防止処理した特殊なものを
使用する必要はない。
らし運転に使用する空気の相対湿度は、高い程ホウ素化
合物等の不純物の放出に効果があり、少なくとも４０％
以上、好ましくは５０％以上の相対湿度で枯らし運転を
行い、その後湿度を下げて定常運転にすると短期間で終
了する。温度も高いほうがホウ素化合物等の不純物の放
出量が高まるので、支障の無いかぎり高い温度で枯らし
運転をすると良い。クリーンルーム内を仕切る仮設シー
トまたは仮設壁は、通常市販されているビニールシート
等を用いればよく、枯らし運転終了後には（半導体製造
運転前に）撤去するので帯電防止処理した特殊なものを
使用する必要はない。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るクリ
ーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法によれ
ば、クリーンルーム内に仮設壁を設けて、外気の取り入
れ部から排出部に至る一方向の風路を形成し、この風路
に前記フィルタを複数設置し、風路に従って空気を流す
ことによってフィルタから放出される不純物を除去する
ようにしたので、特別な排気設備やホウ素化合物等の不
純物の半導体製造上不都合な物質の吸着設備を必要とせ
ずに簡便な方法で確実にホウ素化合物等の不純物量を低
減することができる。
ーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法によれ
ば、クリーンルーム内に仮設壁を設けて、外気の取り入
れ部から排出部に至る一方向の風路を形成し、この風路
に前記フィルタを複数設置し、風路に従って空気を流す
ことによってフィルタから放出される不純物を除去する
ようにしたので、特別な排気設備やホウ素化合物等の不
純物の半導体製造上不都合な物質の吸着設備を必要とせ
ずに簡便な方法で確実にホウ素化合物等の不純物量を低
減することができる。
【００２０】また、他の発明の形態によれば、前記フィ
ルタの不純物を除去するのに用いる空気に、相対湿度が
５０％以上の除塵した空気を用いるようにしたので、特
別な排気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上
不都合な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で、
短期間で確実に不純物量を低減できる。
ルタの不純物を除去するのに用いる空気に、相対湿度が
５０％以上の除塵した空気を用いるようにしたので、特
別な排気設備やホウ素化合物等の不純物の半導体製造上
不都合な物質の吸着設備を必要とせずに簡便な方法で、
短期間で確実に不純物量を低減できる。
【図１】本発明に係るクリーンルームにおけるフィルタ
の不純物除去方法を示した図
の不純物除去方法を示した図
【図２】本発明に係るクリーンルームにおけるフィルタ
の他の不純物除去方法を示した図
の他の不純物除去方法を示した図
【図３】従来のクリーンルームにおけるフィルタの不純
物除去方法を示した図
物除去方法を示した図
１…クリーンルーム ２…天井空間部 ３…天井格子 ４…室内部 ７…外調機 ８…外気 １０…ファンフィルタユニット １３…フィルタ
Claims (2)
- 【請求項１】 室内の空気を清浄化するために天井部と
室内部との間にフィルタを備え、該フィルタを介して清
浄空気を室内部に吹き出すクリーンルームにおいて、 前記クリーンルーム内に仮設壁を設けて、外気の取り入
れ部から排出部に至る一方向の風路を形成し、この風路
に前記フィルタを複数設置し、風路に従って空気を流す
ことによってフィルタから放出される不純物を除去する
ことを特徴とするクリーンルームにおけるフィルタの不
純物除去方法。 - 【請求項２】 前記フィルタの不純物を除去するのに用
いる空気に、相対湿度が５０％以上の除塵した空気を用
いることを特徴とする請求項１のクリーンルームにおけ
るフィルタの不純物除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29407098A JP3460598B2 (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29407098A JP3460598B2 (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000121116A true JP2000121116A (ja) | 2000-04-28 |
| JP3460598B2 JP3460598B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=17802905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29407098A Expired - Fee Related JP3460598B2 (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | クリーンルームにおけるフィルタの不純物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3460598B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013541478A (ja) * | 2010-07-27 | 2013-11-14 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 制御された雰囲気で物品を保管するための装置 |
-
1998
- 1998-10-15 JP JP29407098A patent/JP3460598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013541478A (ja) * | 2010-07-27 | 2013-11-14 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 制御された雰囲気で物品を保管するための装置 |
| US9863655B2 (en) | 2010-07-27 | 2018-01-09 | L'Air Liquide, Société Anonyme l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Device for storing articles in controlled atmosphere |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3460598B2 (ja) | 2003-10-27 |
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