JP3073466B2 - 半導体清浄室用の空気調和システム - Google Patents
半導体清浄室用の空気調和システムInfo
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- JP3073466B2 JP3073466B2 JP09193671A JP19367197A JP3073466B2 JP 3073466 B2 JP3073466 B2 JP 3073466B2 JP 09193671 A JP09193671 A JP 09193671A JP 19367197 A JP19367197 A JP 19367197A JP 3073466 B2 JP3073466 B2 JP 3073466B2
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- Japan
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- air
- air conditioner
- filter
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F7/00—Ventilation
- F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
- F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F8/00—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
- F24F8/30—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by ionisation
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- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Central Air Conditioning (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は汚染度の低いフレッ
シュエア−を清浄室に供給するための半導体清浄室用の
空気調和システムに関し、さらに詳しくは加湿器を含む
空気調和機と清浄室との間にケミカルフィルタを取り付
け、化学的な不純物を化学的に取り除くための半導体清
浄室用の空気調和システムに関する。
シュエア−を清浄室に供給するための半導体清浄室用の
空気調和システムに関し、さらに詳しくは加湿器を含む
空気調和機と清浄室との間にケミカルフィルタを取り付
け、化学的な不純物を化学的に取り除くための半導体清
浄室用の空気調和システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】清浄室(clean room)とは一定した目的を
持って除塵した空間であって、その空間では、空気中に
浮遊する埃（浮遊粒子）を所望の数値以下に制御して清
浄室内で行われる作業対象体の内外部に埃が混入しない
ようにし、かつ空気調和と照度及び特別な目的に応じて
騒音、振動などの防止まで行って作業対象体に加えられ
る工程を最適化させる。
持って除塵した空間であって、その空間では、空気中に
浮遊する埃（浮遊粒子）を所望の数値以下に制御して清
浄室内で行われる作業対象体の内外部に埃が混入しない
ようにし、かつ空気調和と照度及び特別な目的に応じて
騒音、振動などの防止まで行って作業対象体に加えられ
る工程を最適化させる。
【０００３】特に、半導体生産ラインの場合はパタ−ン
の形成やレチクルの製作など基本設計からウェ−ハ製造
工程、検査工程、アセンブリ／パッケ−ジ工程、最終試
験工程、品質検査工程などを経ることになる。この工程
のうち、特にウェ−ハ製造工程は拡散−露光−現像−エ
ッチング−拡散などの工程を繰り返して行うので、半導
体収率の増大、製品の精度および信頼性を向上させるた
めに、汚染されないように埃汚染や温度及び湿度などを
調節することが極めて大事である。
の形成やレチクルの製作など基本設計からウェ−ハ製造
工程、検査工程、アセンブリ／パッケ−ジ工程、最終試
験工程、品質検査工程などを経ることになる。この工程
のうち、特にウェ−ハ製造工程は拡散−露光−現像−エ
ッチング−拡散などの工程を繰り返して行うので、半導
体収率の増大、製品の精度および信頼性を向上させるた
めに、汚染されないように埃汚染や温度及び湿度などを
調節することが極めて大事である。
【０００４】大気には光化学的な煙と共に多量の粒子と
水分蒸気が含まれており、これをろ過して清浄したフレ
ッシュエア−（Fresh Air）を供給して清浄させる必要
がある。
水分蒸気が含まれており、これをろ過して清浄したフレ
ッシュエア−（Fresh Air）を供給して清浄させる必要
がある。
【０００５】図３に温度及び湿度の調節と共に除塵のた
めの従来の半導体清浄室用の空気調和システムを概略的
に示した。外気は、図４に別途に示した第１空気調和機
１を経ると清浄されてフレッシュエア−になり、フレッ
シュエア−ダクト２を通して清浄室５内に供給される。
空気は、清浄室５内に供給される前に、清浄室５に必要
な清浄度レベルにより選択的にＵＬＰＡフィルタ（Ultr
a Low Penetration Air Filter)４を通過させる。前記
清浄室５内に供給される前に分岐したりまたは前記清浄
室５を通過したフレッシュエア−は、効率的及び経済的
な運転のために別途の第２空気調和機８や第３空気調和
機９を経て温度及び湿度が再調節された後に前記清浄室
５内に再循環され、また別途の乾燥空気スクラバ−７を
通してフレッシュエア−中の不純物を洗浄して取り除け
るようになっている。特に空気調和システムの効率を高
めるために前記第２空気調和機８及び第３空気調和機９
を用いて清浄室にフレッシュエア−を供給するにおい
て、前記第１空気調和機１を通過して清浄化されたフレ
ッシュエア−をフレッシュエア−ダクト２−第２空気調
和機８−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スク
ラバ−７の順に循環する小循環ラインと、前記第１空気
調和機１を通過して清浄化されたフレッシュエア−をフ
レッシュエア−ダクト２−第２空気調和機８−ＵＬＰＡ
フィルタ４−清浄室５−第３空気調和機９−ＵＬＰＡフ
ィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７の順に循環
する中循環ライン、及び前記第１空気調和機１を通過し
て清浄化されたフレッシュエア−を第３空気調和機９−
ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７
の順に循環する大循環ラインとを通して清浄室５を中心
に循環するように構成し使われてきた。
めの従来の半導体清浄室用の空気調和システムを概略的
に示した。外気は、図４に別途に示した第１空気調和機
１を経ると清浄されてフレッシュエア−になり、フレッ
シュエア−ダクト２を通して清浄室５内に供給される。
空気は、清浄室５内に供給される前に、清浄室５に必要
な清浄度レベルにより選択的にＵＬＰＡフィルタ（Ultr
a Low Penetration Air Filter)４を通過させる。前記
清浄室５内に供給される前に分岐したりまたは前記清浄
室５を通過したフレッシュエア−は、効率的及び経済的
な運転のために別途の第２空気調和機８や第３空気調和
機９を経て温度及び湿度が再調節された後に前記清浄室
５内に再循環され、また別途の乾燥空気スクラバ−７を
通してフレッシュエア−中の不純物を洗浄して取り除け
るようになっている。特に空気調和システムの効率を高
めるために前記第２空気調和機８及び第３空気調和機９
を用いて清浄室にフレッシュエア−を供給するにおい
て、前記第１空気調和機１を通過して清浄化されたフレ
ッシュエア−をフレッシュエア−ダクト２−第２空気調
和機８−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スク
ラバ−７の順に循環する小循環ラインと、前記第１空気
調和機１を通過して清浄化されたフレッシュエア−をフ
レッシュエア−ダクト２−第２空気調和機８−ＵＬＰＡ
フィルタ４−清浄室５−第３空気調和機９−ＵＬＰＡフ
ィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７の順に循環
する中循環ライン、及び前記第１空気調和機１を通過し
て清浄化されたフレッシュエア−を第３空気調和機９−
ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７
の順に循環する大循環ラインとを通して清浄室５を中心
に循環するように構成し使われてきた。
【０００６】前記第１空気調和機１、第２空気調和機８
及び第３空気調和機９は、図４に具体的に示した通り、
略外側から内側に順に除湿器１ａ、予熱器１ｂ、前置フ
ィルタ１ｃ及びメディアムフィルタ１ｄ、冷却器１ｅ、
加熱器１ｆ、加湿器１ｇ、送風ファン１ｈ及びＨＥＰＡ
フィルタ（High Efficiency Particulate Air Filter)
１ｉを全て備える。送風ファン１ｈを駆動させることに
より外気が清浄室５側に流れ得るようになる。この過程
で前置フィルタ１ｃ、メディアムフィルタ１ｄ及びＨＥ
ＰＡフィルタ１ｉを通して粒子大きさが０．１μｍまで
の埃粒子を９９．９９９％まで取り除く。除湿器１ａと
加湿器１ｇを選択的に運転して湿度調節したり、冷却器
１ｅと加熱器１ｇを選択的に運転して温度調節したりし
て、温度調節及び湿度調節がなされたフレッシュエア−
を清浄室５内に供給する。
及び第３空気調和機９は、図４に具体的に示した通り、
略外側から内側に順に除湿器１ａ、予熱器１ｂ、前置フ
ィルタ１ｃ及びメディアムフィルタ１ｄ、冷却器１ｅ、
加熱器１ｆ、加湿器１ｇ、送風ファン１ｈ及びＨＥＰＡ
フィルタ（High Efficiency Particulate Air Filter)
１ｉを全て備える。送風ファン１ｈを駆動させることに
より外気が清浄室５側に流れ得るようになる。この過程
で前置フィルタ１ｃ、メディアムフィルタ１ｄ及びＨＥ
ＰＡフィルタ１ｉを通して粒子大きさが０．１μｍまで
の埃粒子を９９．９９９％まで取り除く。除湿器１ａと
加湿器１ｇを選択的に運転して湿度調節したり、冷却器
１ｅと加熱器１ｇを選択的に運転して温度調節したりし
て、温度調節及び湿度調節がなされたフレッシュエア−
を清浄室５内に供給する。
【０００７】しかし、この従来の半導体清浄室用の空気
調和システムでは化学的にウェ−ハ表面物質と反応して
工程に影響を与える分子である不純物を取り除けなかっ
た。図３に示したような半導体清浄室用の空気調和シス
テムを流れる空気中における二酸化硫黄（ＳＯ2)、二酸
化窒素（ＮＯ2）またはリン酸（Ｈ3ＰＯ4）などが不純
物として挙げられる。これらの不純物はオングストロー
ム単位の外径を有する。図３の地点で、リン酸の濃度
を加湿器通過前と通過後に３回（Ａ、Ｂ、Ｃ）測定して
表１に示した。
調和システムでは化学的にウェ−ハ表面物質と反応して
工程に影響を与える分子である不純物を取り除けなかっ
た。図３に示したような半導体清浄室用の空気調和シス
テムを流れる空気中における二酸化硫黄（ＳＯ2)、二酸
化窒素（ＮＯ2）またはリン酸（Ｈ3ＰＯ4）などが不純
物として挙げられる。これらの不純物はオングストロー
ム単位の外径を有する。図３の地点で、リン酸の濃度
を加湿器通過前と通過後に３回（Ａ、Ｂ、Ｃ）測定して
表１に示した。
【０００８】
【表１】 前記表１に示したように、加湿器１ｇを通過する前に比
べて加湿器１ｇを通過した後はリン酸の濃度が急に増加
する。これはリン酸が、第１空気調和機１、第２空気調
和機８及び第３空気調和機９中に加湿器１ｇ中のスケ−
ルの形成を防止するための添加剤として加えられるため
である。
べて加湿器１ｇを通過した後はリン酸の濃度が急に増加
する。これはリン酸が、第１空気調和機１、第２空気調
和機８及び第３空気調和機９中に加湿器１ｇ中のスケ−
ルの形成を防止するための添加剤として加えられるため
である。
【０００９】このような化学的な不純物は、主に親水性
汚染物質であってウェ−ハの膜質に付着して金属自体を
腐食させて電気の漏電を誘発したり、電気的な性質を変
化させたり、表面に水斑点の生成及びパッドの変色など
の欠陥を生じさせたりする原因となることが知られてい
る。
汚染物質であってウェ−ハの膜質に付着して金属自体を
腐食させて電気の漏電を誘発したり、電気的な性質を変
化させたり、表面に水斑点の生成及びパッドの変色など
の欠陥を生じさせたりする原因となることが知られてい
る。
【００１０】このような化学的な不純物を取り除くため
には、新たなシステムを構成する必要があり、システム
を運転する運転条件も新しく設定する必要がある。
には、新たなシステムを構成する必要があり、システム
を運転する運転条件も新しく設定する必要がある。
【００１１】前述したような化学的な不純物を取り除く
ための代案としてフィルタの気孔サイズを著しく縮めて
物理的にろ過を可能にする方法が考えられるが、気孔サ
イズが縮少するに従いフィルタ自体の製作が困難にな
り、気孔サイズの減少により空気のろ過圧力の増大、単
位時間当たりろ過される空気量の減少及びフィルタの製
作コストの増加などの問題が生ずる。
ための代案としてフィルタの気孔サイズを著しく縮めて
物理的にろ過を可能にする方法が考えられるが、気孔サ
イズが縮少するに従いフィルタ自体の製作が困難にな
り、気孔サイズの減少により空気のろ過圧力の増大、単
位時間当たりろ過される空気量の減少及びフィルタの製
作コストの増加などの問題が生ずる。
【００１２】また、リン酸の使用量を根本的に減少させ
るために、加湿器１ｇにリン酸を添加しなくてもよい
が、リン酸を使用しない場合は、システムを安定して運
転するための別途の純粋蒸気システム(Pure Steam Syst
em)が必要となるという問題点がある。
るために、加湿器１ｇにリン酸を添加しなくてもよい
が、リン酸を使用しない場合は、システムを安定して運
転するための別途の純粋蒸気システム(Pure Steam Syst
em)が必要となるという問題点がある。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、加湿器を含む空気調和機を用いて清浄室にフレッシ
ュエア−を供給するように構成された従来の空気調和シ
ステムにおいて、加湿器を含む空気調和機と清浄室のＵ
ＬＰＡフィルタとの間にイオン交換法により化学的な不
純物をろ過するケミカルフィルタを設けて、加湿器から
供給される水分により化学的な不純物をイオン化した
後、これをケミカルフィルタに吸着させるように構成し
た半導体清浄室用の空気調和システムを提供することで
ある。
は、加湿器を含む空気調和機を用いて清浄室にフレッシ
ュエア−を供給するように構成された従来の空気調和シ
ステムにおいて、加湿器を含む空気調和機と清浄室のＵ
ＬＰＡフィルタとの間にイオン交換法により化学的な不
純物をろ過するケミカルフィルタを設けて、加湿器から
供給される水分により化学的な不純物をイオン化した
後、これをケミカルフィルタに吸着させるように構成し
た半導体清浄室用の空気調和システムを提供することで
ある。
【００１４】本発明の他の目的は、空気調和機の加湿器
の下流にケミカルフィルタを設けて空気調和機中の加湿
器のスケ−ル形成防止のためにリン酸を使用しながら
も、リン酸によるフレッシュエア−の汚染を防止するよ
うに構成した半導体清浄室用の空気調和システムを提供
することである。
の下流にケミカルフィルタを設けて空気調和機中の加湿
器のスケ−ル形成防止のためにリン酸を使用しながら
も、リン酸によるフレッシュエア−の汚染を防止するよ
うに構成した半導体清浄室用の空気調和システムを提供
することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前述した本発明の目的を
達成するために、本発明による半導体清浄室用の空気調
和システムは、加湿器によって供給される水分により化
学的な不純物がイオン化してケミカルフィルタに効率よ
く吸着するように、イオン交換法によるケミカルフィル
タを加湿器を含む空気調和機と清浄室の天井のＵＬＰＡ
フィルタとの間に取り付けることによってできる。
達成するために、本発明による半導体清浄室用の空気調
和システムは、加湿器によって供給される水分により化
学的な不純物がイオン化してケミカルフィルタに効率よ
く吸着するように、イオン交換法によるケミカルフィル
タを加湿器を含む空気調和機と清浄室の天井のＵＬＰＡ
フィルタとの間に取り付けることによってできる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明の具体的な実施形態を詳細に説明する。
明の具体的な実施形態を詳細に説明する。
【００１７】図１に示した通り、本発明による半導体清
浄室用の空気調和システムは、加湿器１ｇを含む第１空
気調和機１を用いて清浄室５にフレッシュエア−を供給
する際に、前記第１空気調和機１を通過して清浄化され
たフレッシュエア−を、フレッシュエア−ダクト２−第
２空気調和機８−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥
空気スクラバ−７の順に循環する小循環ラインと、前記
第１空気調和機１を通過して清浄化されたフレッシュエ
ア−をフレッシュエア−ダクト２−第２空気調和機８−
ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−第３空気調和機９−Ｕ
ＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７の
順に循環する中循環ライン、及び前記第１空気調和機１
を通過して清浄化されたフレッシュエア−を第３空気調
和機９−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スク
ラバ−７の順に循環する大循環ラインを通じて、清浄室
５を中心に循環するように構成されている。そして、本
発明の半導体清浄室用の空気調和システムにおいて、イ
オン交換法により化学的な不純物をろ過するケミカルフ
ィルタ１０を、清浄室５のＵＬＰＡ４と前記第１空気調
和機１、第２空気調和機８及び第３空気調和機９との間
に設置する。
浄室用の空気調和システムは、加湿器１ｇを含む第１空
気調和機１を用いて清浄室５にフレッシュエア−を供給
する際に、前記第１空気調和機１を通過して清浄化され
たフレッシュエア−を、フレッシュエア−ダクト２−第
２空気調和機８−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥
空気スクラバ−７の順に循環する小循環ラインと、前記
第１空気調和機１を通過して清浄化されたフレッシュエ
ア−をフレッシュエア−ダクト２−第２空気調和機８−
ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−第３空気調和機９−Ｕ
ＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スクラバ−７の
順に循環する中循環ライン、及び前記第１空気調和機１
を通過して清浄化されたフレッシュエア−を第３空気調
和機９−ＵＬＰＡフィルタ４−清浄室５−乾燥空気スク
ラバ−７の順に循環する大循環ラインを通じて、清浄室
５を中心に循環するように構成されている。そして、本
発明の半導体清浄室用の空気調和システムにおいて、イ
オン交換法により化学的な不純物をろ過するケミカルフ
ィルタ１０を、清浄室５のＵＬＰＡ４と前記第１空気調
和機１、第２空気調和機８及び第３空気調和機９との間
に設置する。
【００１８】前記ケミカルフィルタ１０は、フィルタ自
体に付着するカウンタ−イオンを吸着結合させることに
より化学的に不純物イオンを取り除くことができる。
体に付着するカウンタ−イオンを吸着結合させることに
より化学的に不純物イオンを取り除くことができる。
【００１９】特に、前記ケミカルフィルタ１０はフレッ
シュエア−ダクト２内または清浄室内の格子下方に位置
するフレッシュエア−供給ダンパ−３のダンパ−ハウジ
ング内に取り付けられ、望ましくは前記フレッシュエア
−ダクト２内とフレッシュエア−供給ダンパ−３のダン
パ−ハウジング内の両方に取り付けられる。
シュエア−ダクト２内または清浄室内の格子下方に位置
するフレッシュエア−供給ダンパ−３のダンパ−ハウジ
ング内に取り付けられ、望ましくは前記フレッシュエア
−ダクト２内とフレッシュエア−供給ダンパ−３のダン
パ−ハウジング内の両方に取り付けられる。
【００２０】前述した第１空気調和機１、第２空気調和
機８及び第３空気調和機９は、除湿器１ａ、予熱器１
ｂ、前置フィルタ１ｃ及びメディアムフィルタ１ｄ、冷
却器１ｅ、加熱器１ｆ、加湿器１ｇ、送風ファン１ｈ及
びＨＥＰＡフィルタ１ｉを全て備えるように構成したも
ので、該当技術分野において通常の知識を持つ者にとっ
て容易に理解でき、また商用的に購入して使えるほど自
明である。
機８及び第３空気調和機９は、除湿器１ａ、予熱器１
ｂ、前置フィルタ１ｃ及びメディアムフィルタ１ｄ、冷
却器１ｅ、加熱器１ｆ、加湿器１ｇ、送風ファン１ｈ及
びＨＥＰＡフィルタ１ｉを全て備えるように構成したも
ので、該当技術分野において通常の知識を持つ者にとっ
て容易に理解でき、また商用的に購入して使えるほど自
明である。
【００２１】前記フレッシュエア−ダクト２は、主に前
記第１空気調和機１、第２空気調和機８及び第３空気調
和機９と清浄室５との間に位置して、フレッシュエア−
の流れを直接清浄室５内に導入できるようにするもので
あり、前記フレッシュエア−ダクト２内へのケミカルフ
ィルタ１０の設置が極めて容易でもある。
記第１空気調和機１、第２空気調和機８及び第３空気調
和機９と清浄室５との間に位置して、フレッシュエア−
の流れを直接清浄室５内に導入できるようにするもので
あり、前記フレッシュエア−ダクト２内へのケミカルフ
ィルタ１０の設置が極めて容易でもある。
【００２２】また、前記フレッシュエア−供給ダンパ−
３は、主に格子(grating)６により地上と仕切られた清
浄室５の床下に設置され、清浄室５を通過したフレッシ
ュエア−を再循環させることができる。前記フレッシュ
エア−供給ダンパ−３のダンパ−ハウジング内の空間も
前記ケミカルフィルタ１０の設置が可能である。
３は、主に格子(grating)６により地上と仕切られた清
浄室５の床下に設置され、清浄室５を通過したフレッシ
ュエア−を再循環させることができる。前記フレッシュ
エア−供給ダンパ−３のダンパ−ハウジング内の空間も
前記ケミカルフィルタ１０の設置が可能である。
【００２３】前記ケミカルフィルタ１０も商用的に購入
して使用できるほどのもので、該当技術分野において通
常の知識を持つ者にとって容易に理解できるものであ
る。ケミカルフィルタとして、例えば puratex （商標
名、日本Takuma社）使用することができる。図２に、化
学的な不純物が水分によりイオン化され、ケミカルフィ
ルタ１０に化学的に吸着する状態を図式的に示した。図
２は、二酸化硫黄（ＳＯ2）を例にとり、水によりイオ
ン化されてＳＯ4 2-となりケミカルフィルターに吸着す
る様子を示している。
して使用できるほどのもので、該当技術分野において通
常の知識を持つ者にとって容易に理解できるものであ
る。ケミカルフィルタとして、例えば puratex （商標
名、日本Takuma社）使用することができる。図２に、化
学的な不純物が水分によりイオン化され、ケミカルフィ
ルタ１０に化学的に吸着する状態を図式的に示した。図
２は、二酸化硫黄（ＳＯ2）を例にとり、水によりイオ
ン化されてＳＯ4 2-となりケミカルフィルターに吸着す
る様子を示している。
【００２４】前述したように、前記ケミカルフィルタ１
０は加湿器１ｇの下流側に位置し、外気または内部で循
環するフレッシュエア−は、前記第１空気調和機１、第
２空気調和機８及び第３空気調和機９を介して除塵され
る。フレッシュエア−は第１空気調和機１を通して温度
及び／または湿度調節され、前記フレッシュエア−ダク
ト２を通して清浄室５内に供給される。この際、前記フ
レッシュエア−の流れに含まれる化学的な不純物は、加
湿器１ｇを介して供給される水分により容易にイオン化
され、またはイオン化されやすい状態となり、前記ケミ
カルフィルタ１０に接触して化学反応により吸着しフレ
ッシュエア−から取り除かれる。特に、スケ−ル形成防
止用として前記加湿器１ｇ中で使用されているリン酸
は、前記加湿器１ｇにより、リン酸イオン（ＰＯ4 3-）
となり、前記加湿器１ｇの下流に位置する前記ケミカル
フィルタ１０により、ケミカルフィルタのＯＨ-基と交
換されて容易に取り除かれる。
０は加湿器１ｇの下流側に位置し、外気または内部で循
環するフレッシュエア−は、前記第１空気調和機１、第
２空気調和機８及び第３空気調和機９を介して除塵され
る。フレッシュエア−は第１空気調和機１を通して温度
及び／または湿度調節され、前記フレッシュエア−ダク
ト２を通して清浄室５内に供給される。この際、前記フ
レッシュエア−の流れに含まれる化学的な不純物は、加
湿器１ｇを介して供給される水分により容易にイオン化
され、またはイオン化されやすい状態となり、前記ケミ
カルフィルタ１０に接触して化学反応により吸着しフレ
ッシュエア−から取り除かれる。特に、スケ−ル形成防
止用として前記加湿器１ｇ中で使用されているリン酸
は、前記加湿器１ｇにより、リン酸イオン（ＰＯ4 3-）
となり、前記加湿器１ｇの下流に位置する前記ケミカル
フィルタ１０により、ケミカルフィルタのＯＨ-基と交
換されて容易に取り除かれる。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、従
来の半導体清浄室用の空気調和システムを変更させず、
かつ既存の除塵用のフィルタをそのまま使用しながらも
化学的な不純物を有効に除去できる。
来の半導体清浄室用の空気調和システムを変更させず、
かつ既存の除塵用のフィルタをそのまま使用しながらも
化学的な不純物を有効に除去できる。
【００２６】また、本発明による半導体清浄室用の空気
調和システムでは、加湿器１ｇなどでスケ−ル形成防止
用としてリン酸を使用しながら、前記リン酸がフレッシ
ュエア−に新たな化学的不純物として含まれることを抑
制することにより別途の高価な純粋蒸気システムなどを
使わずして、効果的な温度調節及び湿度調節が可能にな
る。
調和システムでは、加湿器１ｇなどでスケ−ル形成防止
用としてリン酸を使用しながら、前記リン酸がフレッシ
ュエア−に新たな化学的不純物として含まれることを抑
制することにより別途の高価な純粋蒸気システムなどを
使わずして、効果的な温度調節及び湿度調節が可能にな
る。
【００２７】以上本発明の具体例について詳細に説明し
てきたが、本発明の技術思想の範囲内で多様な変更及び
修正が可能なことは当業者において明らかであり、この
変更及び修正は特許請求の範囲に属することは当然であ
る。
てきたが、本発明の技術思想の範囲内で多様な変更及び
修正が可能なことは当業者において明らかであり、この
変更及び修正は特許請求の範囲に属することは当然であ
る。
【図１】本発明による半導体清浄室用の空気調和システ
ムの構成を概略的に示した構成図である。
ムの構成を概略的に示した構成図である。
【図２】本発明で使用するケミカルフィルタが化学的な
不純物を吸着する状態を概略的に示した構成図である。
不純物を吸着する状態を概略的に示した構成図である。
【図３】従来の半導体清浄室用の空気調和システムを概
略的に示した構成図である。
略的に示した構成図である。
【図４】従来の半導体清浄室用の空気調和機の構成を概
略的に示した構成図である。
略的に示した構成図である。
１ 第１空気調和機 ２ フレッシュエア−ダクト ３ フレシュエア供給ダンパ− ４ ＵＬＰＡフィルタ ５ 清浄室 ６ 格子 ７ 乾燥空気スクラバ− ８ 第２空気調和機 ９ 第３空気調和機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 韓 永 眞 大韓民国釜山市水営区水営洞489−14 (56)参考文献 特開 平４−98034（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−198123（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F24F 3/16 B01D 39/14 F24F 3/14 F24F 7/06 H01L 21/02
Claims (6)
- 【請求項１】 加湿器を含む空気調和機を用いて清浄さ
れたフレッシュエア−を、フレッシュエア−ダクトを通
して清浄室に供給し、清浄室の下部に位置するフレッシ
ュエア−供給ダンパ−を通して清浄室外に循環するよう
に構成した半導体清浄室用の空気調和システムにおい
て、前記加湿器は、前記加湿器から供給される水分により化
学的な不純物をイオン化し、及び イオン交換法により化
学的な不純物をろ過するケミカルフィルタは、前記空気
調和機と前記清浄室との間であって前記加湿器の下流に
設けられることを特徴とする半導体清浄室用の空気調和
システム。 - 【請求項２】 前記ケミカルフィルタを前記フレッシュ
エア−ダクト内に取り付けることを特徴とする請求項１
に記載の半導体清浄室用の空気調和システム。 - 【請求項３】 前記ケミカルフィルタをフレッシュエア
−供給ダンパ−のダンパ−ハウジングに取り付けること
を特徴とする請求項１または２に記載の半導体清浄室用
の空気調和システム。 - 【請求項４】 加湿器を含む第１空気調和機を用いて清
浄室にフレッシュエア−を供給するに際に、前記第１空
気調和機を通過して清浄化したフレッシュエア−をフレ
ッシュエア−ダクト−第２空気調和機−ＵＬＰＡフィル
タ−清浄室−乾燥空気スクラバ−の順に循環する小循環
ラインと、前記第１空気調和機を通過して清浄したフレ
ッシュエア−をフレッシュエア−ダクト−第２空気調和
機−ＵＬＰＡフィルタ−清浄室−第３空気調和機−ＵＬ
ＰＡフィルタ−清浄室−乾燥空気スクラバ−の順に循環
する中循環ライン、及び前記第１空気調和機を通過して
清浄化したフレッシュエア−を第３空気調和機−ＵＬＰ
Ａフィルタ−清浄室−乾燥空気スクラバ−の順に循環す
る大循環ラインを通して清浄室を中心として循環するよ
うに構成された半導体清浄室用の空気調和システムにお
いて、前記清浄室のＵＬＰＡフィルタと前記第１空気調
和機、第２空気調和機又は第３空気調和機との間にイオ
ン交換法により化学的な不純物をろ過するケミカルフィ
ルタを設けることを特徴とする半導体清浄室用の空気調
和システム。 - 【請求項５】 前記ケミカルフィルタが前記フレッシュ
エア−ダクト内に取り付けられることを特徴とする請求
項４に記載の半導体清浄室用の空気調和システム。 - 【請求項６】 前記ケミカルフィルタをフレッシュエア
−供給ダンパ−のダンパ−ハウジングに取り付けること
を特徴とする請求項４または５に記載の半導体清浄室用
の空気調和システム。
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-
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