JP4124665B2 - 清浄空気ダクト及び清浄室用空気提供装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
【0002】
【発明の属する技術分野】
本発明は集積回路製造に関するものであり、より詳細には、集積回路の製造に使用される清浄室に関するものである。
【0003】
【従来の技術】
集積回路装置(例えば、半導体装置)は、一般に清浄室と呼ばれる環境で製造される。清浄室は本質的にパーティクルがないべきであり、パーティクルは清浄室内で製造される集積回路装置の収率に影響を及ぼす。さらに、製造工程中に発生したり、または清浄室に外部空気が流入される途中に発生するパーティクルは、清浄室で生産される集積回路を汚染させ、これにより集積回路に不良が発生されてしまう。
【0004】
清浄室で製造される半導体装置の種類別に清浄室内の清浄指数が異なるように指定することができる。例えば、0.25μmのデザインルールを有する256メガビットDRAMの場合、0.25μm以上の大きさを有するパーティクルは清浄室から除去され、または濾過されなければならない。また、清浄室内では温度、湿度及び室内の気圧が制御されなければならなく、目的により照度(illuminaion)、騒音、振動なども制御されなければならない。
【0005】
前述したように、外部空気(即ち、外部環境から提供される空気)は外部空気内に含まれたパーティクルを濾過することができるフィルタユニットを有する空気調節器を通過して清浄室内に提供される。さらに、伝統的な接近で、空気調節器により提供される清浄空気は清浄室の下端に提供され、提供された空気は清浄室天井上及び清浄室内に循環される。
【0006】
しかし、外部空気内に含まれる微細パーティクルの分布が続けて増加することにより、伝統的な空気調節器を使用して清浄室で必要とする程度の水準に空気を濾過することが相当に困難になっている。これにより、清浄室内の汚染が増加し、その結果清浄室内で製造する集積回路装置の収率が減少されている。例えば、黄砂現象(以下、黄砂)は清浄室で製造する集積回路の収率に莫大な影響を及ぼす。黄砂現象は外部空気内に非正常的に高い水準の硫酸化物、窒酸化物及び/またはシリコンなどを含むことが特徴である。黄砂現象は、毎年特定周期及び特定地域で発生している。例えば、2001年韓国ソウル地域で黄砂が発生した時期に測定した外部空気で埃の濃度は、同じ年及び同じ地域での平常時の外部空気内の埃濃度に比べて約7倍乃至14倍高く現れた。また、2001年ソウルで黄砂が発生した間の埃濃度は約473μg/m3乃至約999μg/m3に測定された。また、夏に外部空気内に含まれているオゾン(O3)、SO2及び/またはNOxなどのような汚染物質は正常的に濾過されなかった場合に、清浄室内に流入されることもできる。
【0007】
図1は集積回路パターン20上にパーティクル10が発生した形状を示した概略図である。パーティクル10は集積回路の動作不良を誘発させる。パーティクル10は約0.05μm以下の小さい粒子が集まって円形の塊形状を有し、または輪形状を有する。
【0008】
図2は図1に示したパーティクルの成分を示すグラフである。
【0009】
図2に示すように、EDS(Energy Dispersive X−ray Spectrometer)は、パーティクルから多量のSi及びO成分を検出している。これは黄砂現象の間に発生した埃の成分と一致する。図2で示されたように、多くのパーティクルは0.05μmより小さいサイズを有する。
【0010】
従来から、外部空気を濾過して清浄室に提供するためにHEPAフィルタ(High Efficiency Particulate air filter)及びケミカルフィルタを含む空気調節器が使用されている。たとえば、ULPAフィルタと湿度調節装置を含むエアコンディショナ(air conditioner)間にケミカルフィルタを含む空気調節器を使用することにより、集積回路の製造工程中に発生するリン酸などのケミカル不純物を除去することが開示されている(特許文献1参照)。
【0011】
【特許文献1】
米国特許第5,890,367号(明細書)
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、微細なパーティクルを多量に含む空気を浄化させるのに適合した清浄室空気浄化システム用清浄空気ダクト(Fresh Air Duct)を提供することにある。
【0013】
本発明の他の目的は、清浄空気ダクトを用いて外部空気を浄化させ、清浄化された空気を提供する清浄室用空気提供装置を提供することにある。
【0014】
【発明の解決するための手段】
上述した目的を達成するための本発明は、清浄空気ダクトの第1部分と、第2部分と、取付部と、第1パーティクルフィルタと、第3部分と、第2パーティクルフィルタとを有する。前記清浄空気ダクトの第1部分は、外気空気が空気調節器により濾過された清浄空気を清浄室に移動させる。前記清浄空気ダクトの第2部分は、前記第1部分と連結され、前記空気を案内する。前記第1部分と連結される第2部分の第1端部に具備され、フィルタを着脱させることができる取付部が具備される。前記第1パーティクルフィルタは、前記取付部に取り付けられ、前記第1部分から第2部分に移動する空気中の汚染物質を濾過させる。前記第3部分は、前記第2部分の第2端部と連結され、空気を供給させる複数個の吐出口を有して、各吐出口が清浄室の下端に位置する。前記第2パーティクルフィルタは、前記第3部分のそれぞれの吐出口と隣接した内部に具備され、清浄室の下端に供給される空気中の汚染物質を濾過する。
【0015】
本発明による実施形態で、空気調節器は前記第1水準のパーティクル濃度よりさらに高い水準のパーティクル濃度を有する外部空気を引入し、第3パーティクル濃度は第1パーティクル濃度及び第2パーティクル濃度に比べて相当に大きく、約473μg/m3乃至約999μg/m3の範囲内にある。本発明による実施形態で、各々のパーティクルフィルタは清浄室と隣接する清浄空気ダクトの吐出口と隣接する部位に備える。
【0016】
本発明による実施形態で、各々のパーティクルフィルタは、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタと、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.1μmの大きさのパーティクルを99.9999%の効率に濾過させるULPAフィルタ及びオゾンのうち、少なくとも一つのフィルタを含む。
【0017】
本発明による実施形態で、第2パーティクルフィルタは清浄室と隣接する清浄空気ダクトの吐出口と隣接した内部に具備される。第2パーティクルフィルタは、前記清浄空気から約0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ、前記清浄空気から約0.1μm乃至0.17μmの大きさの粒子を99.9999%の効率に濾過させるULPAフィルタ、ケミカルフィルタ及びオゾンを除去することができるオゾンフィルタのうち、少なくとも一つのフィルタを含む。
【0020】
本発明による実施形態で、前記清浄空気ダクトの第1部分は前記着脱可能であるフィルタが露出されるように、前記第1部分と前記第2部分を接続するための柔軟管部をさらに含む。本発明による実施形態で、清浄空気ダクトの第3部分は、前記第2部分と連結され、少なくとも一つの吐出口を有する。第2着脱可能であるフィルタは、第3部分内部に含まれ、前記少なくとも一つの吐出口に通じる経路に沿ってフローする清浄空気をさらに濾過させるために備えられる。
【0021】
本発明による実施形態で、清浄空気ダクトの第3部分は、前記第2部分と連結され、複数個の吐出口を有する。複数個の着脱可能であるフィルタは、前記複数個の吐出口の前方に位置する。
【0022】
本発明による方法の実施形態は、空気調節器により濾過され、第1パーティクルの濃度を有する清浄空気を清浄室側に案内する段階と、前記第1パーティクルの濃度より小さい第2パーティクルの濃度を有する清浄空気を提供するために、前記空気調節器の後方で前記清浄空気をさらに濾過する段階及び前記濾過された空気を清浄内に提供する段階とを含む。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態を詳細に説明する。
【0024】
(第1の実施の形態)
図3は、本発明による清浄室システムの実施形態を示す概略図である。
【0025】
図3に示すように、清浄室システムは集積回路の製造工程を実施するための清浄室と、外部空気を受け入れて清浄空気を清浄室に提供する空気調節器と、清浄室下端の空気を上端に循環させる循環装置を含む。
【0026】
外部空気(第3水準のパーティクル濃度を有する)を導入して前記空気のパーティクルを1次的に濾過させ、前記空気の湿度を調節する空気調節器300が備えられる。前記空気調節器300は複数のフィルタ300a、300b、300c、300dを使用して前記空気中に含まれているパーティクルを濾過する。濾過された清浄空気は第3水準より低い第1水準のパーティクル濃度を有する。前記空気調節器300は、空気の温度を調節するための加熱器300e及び冷却器300f、前記空気の湿度を調節するための加湿器300g及び空気を移送するための送風機300hを含む。また、フィルタ300a、300b、300c、300dは加湿器300g前方に位置することが望ましい。加湿器300g後方にフィルタが位置すると、フィルタ内のガラス繊維(media)に水分を含むことになるので、フィルタリング効果が低下されるからである。
【0027】
以下で、前記空気調節器300について、より詳細に説明する。フィルタ300a、300b、300c、300dは、各々異なるサイズのパーティクルを濾過するように備えられる。フィルタ300a、300b、300c、300dは、外部空気内に含まれるパーティクルのサイズが大きいものから順に濾過されるように配置する。例えば、空気調節器300で最も前方に備えられるフィルタ300aは、最も大きいパーティクルが濾過されるように備える。また、前記空気調節器300で最も後方に備えられるフィルタ300dは、最も小さいパーティクルが濾過されるように備える。
【0028】
外部空気は、前記空気調節器300内に流入される。ロールフィルタ(Roll filter)300aは、流入された外部空気の異物質を除去する。前記ロールフィルタ300aを通過した空気は、ディミスタ(Demister)300bを通過しながら、水分及び異物質が除去される。また、ディミスタ300bの後方には空気中の微細な埃を約90%の効率に除去するミディアムフィルタ(medium filter)300cが備えられる。前記ミディアムフィルタ300cの後方には空気に含まれる粒子のうち、0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ300dが備えられる。前記フィルタを経て、外部空気内に含まれるパーティクルの大きさが大きいものから順に濾過され、これにより外部空気が1次に清浄化される。
【0029】
前記HEPAフィルタ300dの後方に加熱器300e及び冷却器300fを備える。本実施形態では、前記冷却器300fが加熱器300eの後方に位置する。従って、前記加熱器300eにより空気の温度が上昇され、続いて前記冷却器300fにより冷却する。外部空気の温度が高い場合は、冷却器300fのみ動作することもできる。
【0030】
他の実施形態として、加熱器300e及び冷却器300fは、その手順を変えて配置することもでき、フィルタ300a、300b、300c、300dの前方に配置することもできる。だから、加熱器300eを利用して空気をまず加熱した後、冷却器300fを通じて冷却することにより、空気中の水分を除去することができるので、加熱器300eを冷却器300f以前に設けることが望ましい。
【0031】
続いて、前記空気は加湿器300gにより空気の絶対湿度を清浄室で要求する湿度に調節する。加湿器300gの後方に送風機300hを備える。送風機300hは清浄化され、温度及び湿度が調節された空気を定まった圧力及び風量で送り出す。送風機300hは空気調節器300の最後方に配置することが望ましい。黄砂現象が起こっている間には、清浄空気内のパーティクル濃度が約1,200,000ea(個数)/cfm(cubic feet per minute)になる。
【0032】
空気調節器300と連結され、清浄を清浄室下端に移動させる清浄空気ダクト302が備えられる。清浄空気ダクト302は移動中の空気内のパーティクルを2次的に除去するためのフィルタ106を、その内部に含む。フィルタ106は外部空気に含まれているパーティクル成分や汚染物質などを考慮して適切なフィルタを選択して装着させることができる。清浄空気ダクト302内に引入する空気は、空気調節器300に含まれている各種フィルタ300a、300b、300c、300dにより1次的に濾過されたものであるので、フィルタ106は少なくとも空気調節器300に含まれたフィルタ300a、300b、300c、300dのうち、フィルタリング効果が最も優れるフィルタ(前記の場合、HEPAフィルタ)と同一または、その以上のフィルタリング効果を有するフィルタを使用することが望ましい。
【0033】
一実施形態として、フィルタ106は空気に含まれる粒子のうち、0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタを使用することができる。他の実施形態として、フィルタ106は0.12乃至0.17μmの大きさの粒子を99.99%の効率に濾過させるULPAフィルタを使用することもできる。また、他の実施形態として、外部空気中に硫酸化物及び窒酸化物を含む汚染物質が非常的に増加される時期には、フィルタ106はこれを濾過することができるケミカルフィルタを使用することもできる。例えば、黄砂現象が発生する間に、HEPAフィルタにより濾過された清浄空気で0.3μmのパーティクルの濃度は約400,000乃至500,000ea/cfm程度である。
【0034】
空気調節器300の後方に備えられる清浄空気ダクト302内にフィルタ106が含まれる。したがって、例えば黄砂現象のように外部空気中にパーティクルが非正常的に増加しても、フィルタ106により清浄室に供給するに適合するように空気を濾過させることができる。外部空気に相当に多いパーティクルを含むと、空気調節器300内の各フィルタ300a、300b、300c、300dで定常的なフィルタリング効率としてパーティクルを濾過させても、フィルタ300a、300b、300c、300dにより濾過されないパーティクルの量が増加される。しかし、空気中のパーティクルが増加され、一時に各フィルタ300a、300b、300c、300dを通過する場合には、各フィルタ300a、300b、300c、300dのフィルタリング効率が減少されるために、濾過されないパーティクルはさらに増加することになる。
【0035】
このような理由で、空気調節器300を経て清浄空気ダクト302内に引入される空気中にも微細パーティクルが増加される。このような、微細なパーティクルが濾過されないまま、製造工程が実施される清浄室に流入される場合には、図1に示すような半導体装置の不良を誘発させる。したがって、黄砂現象が発生した時、清浄空気ダクト302内に含まれるフィルタ106により空気調節器300で製造する清浄空気をさらに濾過することにより、清浄空気ダクト302で製造する第1水準の清浄空気のパーティクル濃度より低い濃度を有する第2水準の清浄空気を提供することができる。
【0036】
本発明による一実施形態として、前記清浄空気ダクト302内に取付けられるフィルタの種類は、外部空気の変化により適切に調節することができる。例えば、外部空気に硫酸化物、窒酸化物のようなケミカル汚染が発生する場合には、フィルタ106はケミカルフィルタを使用することができる。本発明による他の実施形態で、フィルタ106はHEPAフィルタまたはULPAフィルタを使用することができる。
【0037】
また、韓国の夏季(7〜8月)には、空気中のオゾンの濃度が平常時に比べて高い。図7は夏季及び冬季を除外した平常時の清浄室内のオゾンの濃度を測定したグラフである。図7で、左側のグラフは平常時清浄室オゾン濃度の最小、最大値を示し、右側のグラフは夏季に清浄室内のオゾン濃度の最小、最大値を示す。図示されたように、夏季に測定した清浄室内のオゾンの濃度は、平常時に比べて約4乃至4.5倍程度高かった。したがって、外部空気に含まれるオゾンの濃度が増加する時期には、清浄空気ダクト内のオゾンフィルタを取付けて清浄室に提供される空気に含まれるオゾンイオンを最少化させることができる。その結果、集積回路工程を実施する場合に、オゾンイオンにより発生される不良を減少させることができる。
【0038】
以下では、清浄空気ダクト302に対してさらに詳細に説明する。図4乃至図5は、本発明の一実施形態による清浄空気ダクトを示す断面図である。清浄空気ダクト302は空気調節器300の後方に位置する。図4に示すように、清浄空気ダクト302は、空気調節器300から提供される清浄空気を清浄空気ダクト302の第1部分101から清浄空気ダクト302の第2部分108まで連結される経路に沿ってフローさせて、清浄室の下端まで案内するように配置される。
【0039】
清浄空気ダクト302は前記空気の移動経路内に配置されるフィルタ106を含む。フィルタ106は空気に含まれる粒子のうち、0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ、または0.12乃至0.17μmの大きさの粒子を99.99%の効率に濾過させるULPAフィルタを使用することもできる。また、オゾンを除去することができるオゾンフィルタや、外部空気中に硫酸化物及び窒酸化物を濾過するケミカルフィルタを使用することもできる。
【0040】
フィルタ106は第2部分108で着脱可能に取付けられて、前記第1部分101を通じて提供される空気はフィルタ106により濾過される。第1部分101は第2部分108と柔軟に結合され、フィルタ106を清浄空気ダクト302から容易に着脱することができるように形成される。
【0041】
図5に示すように、第1部分101の出口部位に該当される前記第1部分101の柔軟部101a(柔軟管部)は、第2部分108の入口から収縮され、前記フィルタ106及び前記フィルタ取付部を露出させることができるように形成される。また、柔軟部101aはベローズ(bellows)形態を有する。しかし、弾性的に屈曲可能な材料(例えば、ゴム)を使用して形成することもできる。
【0042】
取付部104は第1部品及び第2部品を含み、前記清浄空気ダクトの第1部分及び第2部分101、108と柔軟に結合するように形成される。第1部品は前記第1部分101の出口部位と結合する。また、第2部品は第2部分108の入口と結合する。
【0043】
具体的に、取付部104の第1部品は固定フレーム104cとファスニング部材104dを含む。取付部104の第2部品は前記フィルタを取付させるフィルタフレーム104aとフィルタ106を保護するグリル104bを含む。ファスニング部材104dを使用してフィルタフレーム104aと固定フレーム104cを連結することにより、取付部104の第1部品と取付部104の第2部品が柔軟に結合される。ファスニング部材104dは固定フレーム104cの縁部位に位置し、複数個のボルト及びスクリューを含む。前記フィルタフレーム104aには、複数個のホールを含み、複数個のボルト及びスクリューのようなファスニング部材104dは、ホールと互いにアラインしてホール内に挿入する。複数個のボルト及びスクリューは、取付部104の第1部品と取付部の第2部品を密着固定させ、これにより清浄空気ダクト302の第1部分101及び第2部分108が結合される。
【0044】
他の実施形態として、ファスニング部材104dはラッチ(latches)形態に製作されることもできる。他の実施形態で、清浄空気ダクト302内に連続的に取付部を形成し、各々の取付部に特別な用途を有する各々のフィルタを取付けて、清浄空気をさらに濾過させることもできる。
【0045】
図6は取付部104の正面図である。前述したように、フィルタフレーム104aは前記フィルタが挿入される空間が備えられる。グリル104bはフィルタフレーム104aの一面に着脱可能に取付けられる。グリル104bは格子を有するプレート形状を有し、フィルタ106を支持し、保護する。
【0046】
以下で、フィルタ106を交換する方法を説明する。まず、送風機300hの動作を中断して空気の流れを遮断した後、固定フレーム104cとこれに対応するフィルタフレーム104aを密着固定するファスニング部材104dをオープンさせる(図5)。
【0047】
続いて、柔軟部101aを後退させて固定フレーム104cを前記フィルタフレーム104aと離隔されるようにする。フィルタフレーム104aの一面に備えられたフィルタ保護用グリル104bを着脱させ、フィルタフレーム104aに装着されたフィルタを着脱させる。
【0048】
続いて、新しいフィルタを前記フィルタフレーム104aに装着させた後、フィルタ保護用グリル104bを装着させる。柔軟部101aを第2部分108側に移動させ、固定フレーム104c及びフィルタフレーム104aを前記ファスニング部材104dを使用して密着、固定させる。
【0049】
図3に示した清浄室システムで、清浄空気ダクト302内にフローされる空気はフィルタ106を通過し、清浄空気ダクト302の吐出口を通じて、清浄室の下端310aに引導される。空気循環部312は清浄室の下端310aで清浄室の上端310bに空気を循環させる。空気循環部312は清浄室内の空気及び前記清浄空気ダクト302から提供される濾過された空気を共に循環させる。空気循環部312は清浄室の下端310aで汚染された空気を濾過させるフリーフィルタと、前記空気内のパーティクルを約90%の除去効率に除去するバッグフィルタ(Bag filter)及び前記フィルタを通過した空気を循環させるアキシアルファン(axial fan)を含む。
【0050】
清浄室フィルタ330は前記空気循環部312から提供される空気を濾過する。清浄室フィルタ330は清浄室天井に備えられる。清浄室フィルタ330により濾過された空気は清浄室320の上端から下端に流入される。
【0051】
したがって、清浄室フィルタ330は清浄化された空気が集積回路工程が直接実施される清浄室320内に流入される以前に、最終的に空気内に含まれているパーティクルを濾過させる。したがって、清浄室フィルタ330は以前段階で用いられたフィルタ300a、300b、300c、300dで濾過されるパーティクルの大きさよりさらに小さいサイズのパーティクルを濾過させることができるフィルタを使用することが望ましい。外部空気中に含まれたパーティクルは、清浄空気ダクトで大部分濾過されるために、清浄室フィルタ330は清浄室320内で集積回路製造工程中に発生される汚染原を除去することが主目的である。清浄室の上端310bに移動した空気を濾過させて清浄室320内に提供する前記清浄室フィルタ330は、前記空気に含まれるパーティクルのうち0.12乃至0.17μmの大きさのパーティクルを99.99%の効率に濾過させるULPAフィルタを使用することが望ましい。
【0052】
前記清浄室320内に流入された空気の約70%程度は続けて清浄室320内に循環される。また、流入された空気の約30%程度は集積回路製造工程時に排気装置などを通じて外部に漏洩される。したがって、漏洩される約30%程度の空気は清浄空気ダクト302を通じて清浄室320内に流入される。
【0053】
(第2の実施の形態)
図8は本発明による清浄室システムの他の実施形態を示す簡略図である。図8に示した清浄室システムは、図3で説明した清浄室システムと相当に類似している。だから、図8に示した清浄室システムで、以前に説明した清浄室システムと同一の要素に対する説明は省略する。
【0054】
前記清浄室の下端410aに清浄空気を提供する清浄空気ダクト402の出口部位に第1及び第2フィルタ204を備える。前記第1及び第2フィルタ204は各々異なる種類のフィルタを使用する。例えば、第1フィルタがHEPAフィルタである場合、第2フィルタはULPAフィルタ、ケミカルフィルタまたはオゾンフィルタを使用する。
【0055】
図9は、図8の清浄室システムで用いられることができる清浄空気ダクトの吐出口部分の一例を示す断面図である。図9に示すように、フィルタ204は清浄空気ダクト402の吐出口201付近に位置する。フィルタ204の前方には清浄空気ダクト402内の空気の流れを調節するダンパー206が備えられる。
【0056】
前記フィルタ204は吐出口201部位に備えられる取付部202に取付けられる。取付部202はフィルタ204が挿入される挿入空間を確保するフィルタフレーム202aが備えられる。また、フィルタフレーム202aの一面には着脱可能であり、格子を有する板型に形成され、フィルタを保護するグリル202bが備えられる。フィルタ保護用グリル202bは取付部202の縁部に置かれる。フィルタフレーム202aに対応して結合される固定フレーム202cをさらに備える。固定フレーム202cは一面が清浄室側に向かうように備えられる。また、固定フレーム202cとこれに対応するフィルタフレーム202aを密着固定させるためのファスニング部材202dが備えられている。
【0057】
吐出口201は清浄室420内の各々他の領域に清浄空気を各々供給することができるように、複数個を備えることができる。例えば、各々の吐出口は清浄室で写真、エッチング、イオン注入、蒸着のような各々他の工程を実施する各々の領域に清浄空気を供給する。この時、各々の領域で要求される清浄度が各々異なる場合がある。したがって、各々の吐出口201には清浄室内の各領域別に選択されたフィルタを各々取付けることができる。
【0058】
(第3の実施の形態)
図10は、本発明による清浄室システムのまた他の実施形態を示す簡略図である。本実施形態は清浄空気ダクトの内部及び各々の吐出口にフィルタを含む。図10に示した清浄空気ダクト352は内部にフィルタ154と各々の吐出口に第1乃至第2補助フィルタ164を備える。前記フィルタに関する詳細な説明は、図3及び図8に示した説明と同一であるので、省略する。
【0059】
一般に、清浄空気ダクト352は空気調節器350を通じて供給される清浄空気に含まれているパーティクルを濾過するための少なくとも一つのフィルタ154を含む。補助フィルタ164は清浄室の各々の領域に延びられる第1及び第2吐出口に位置する。補助フィルタ164は第1吐出口及び第2吐出口に各々他の種類のフィルタを取付けることができる。例えば、補助フィルタのうちの一つは、HEPAフィルタを使用することができ、その他の補助フィルタはULPAフィルタ、オゾンフィルタまたはケミカルフィルタを使用することができる。
【0060】
図11は本発明による清浄空気ダクトの一例を示す断面図である。図11によると、清浄空気ダクト150は図4及び図5で説明したことと同一なフィルタ154及びフィルタ154の後方に補助フィルタ164をさらに備える。図11によると、清浄空気は清浄空気ダクト150の第1部分151からフィルタ154を通過しながら清浄空気ダクト150の第2部分158にフローされる。図11の清浄空気ダクト150は図4及び図5で説明したことと同一な取付部152を含み、これに対する説明は同一であるので、省略する。
【0061】
前記清浄空気ダクト150は、また、第2部分158の後方にダンパー160を含む。ダンパー160は前記清浄空気の流れを遮断したり、減少するように調節する。前記補助フィルタ164は前記ダンパー160の後方に位置し、前記第2部分の所定経路上に位置する。望ましくは、前記補助フィルタ164は前記清浄空気ダクト150の吐出口と隣接する第2部分に位置する。前記補助フィルタ164は第2取付部162に取付けられる。前記第2取付部162は前記補助フィルタ164を取付けることができる補助フィルタフレーム162aと補助フィルタ164を保護するグリル162bが備えられる。前記補助フィルタフレーム162aはファスニング部材162dにより固定フレーム162cと結合する。補助フィルタ164はHEPAフィルタ、ULPAフィルタ、ケミカルフィルタまたはオゾンフィルタを使用することができる。
【0062】
汚染度測定
図12は従来の清浄室システム及び本発明の実施形態による清浄室システムで各々のパーティクルの個数を測定したグラフである。
【0063】
測定時期は2001年3月20日から4月10日までであり、清浄室システムは韓国に位置する。また、前記測定時期のうち、3月20〜25日、及び4月7日〜4月10日の間に黄砂が発生した。この時、時間当最高埃濃度は500乃至1000μg/m3であった。
【0064】
示したように、黄砂発生時には従来の清浄室システムの清浄空気ダクト内にはパーティクルの個数600aが非正常的に増加した。しかし、本発明の清浄室システムの清浄空気ダクト内にはパーティクル個数600bが増加しなかった。前記図面で3月30日ごろから4月2日ごろにパーティクル個数600bが増加した理由は測定誤謬に起因したものである。本発明の清浄室システムを用いることにより、外部空気内に非正常的にパーティクルが増加する場合にも、清浄室が要求する水準に空気を提供することができる。
【0065】
ウェットエッチング液の汚染度比較
図14は黄砂が発生した場合に、従来の清浄室システムを用いた清浄室内のバスに入れている洗浄液と、本発明の実施形態による清浄室システムを用いた清浄室内のバスに入れている洗浄液でシリコン汚染濃度を測定して示したグラフである。
【0066】
図13に示すように、従来の清浄室システムを用いた清浄室内のバスに入れている洗浄液(#1〜#4)には、シリコンの濃度が約3乃至8ppb(parts per billion)が検出されたし、本発明の第2実施形態による清浄室システムを用いた清浄室内のバスに入れている洗浄液(#6〜#15)には、シリコンの濃度が1ppb(parts per billion)未満が検出された。前記結果によると、本発明の清浄室システムを用いることにより、外部空気による清浄室内の汚染を最少化することができる。
【0067】
以上、本発明の実施例を詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明の実施例を修正または変更できるであろう。図面で、領域の相対的な大きさは明確性のために拡大された。ダクトまたはダクト部位のような要素は他の要素と“連結された”または“結合された”と示す場合、それは一つの要素と他の要素が直接連結されることをいい、間に他の要素が介在することもいう。一方、要素が他の要素と“直接連結された”または“直接結合された”と示す場合、間に他の要素はない。
【0068】
【発明の効果】
本発明によると、外部空気内に非正常的にパーティクルが増加する場合、または外部空気内の成分が非正常的である場合にも、高清浄化された空気を清浄室内に提供することができる。だから、清浄室内のパーティクル流入などにより、集積回路製造工程全体に発生することができる各種工程不良を最少化することができる。これにより、集積回路装置の生産性増加及び製造工程の安定化などの効果を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 集積回路のパターン上に発生したパーティクルを示す概略図である。
【図2】 黄砂現象により発生する一般のパーティクルの成分をEDS(Energy Dispersive X−ray Spectrometer)を通じて分析したグラフである。
【図3】 本発明による清浄室システムの実施形態を示す概略図である。
【図4】 本発明による清浄空気ダクトの実施形態を示す概略図である。
【図5】 本発明による清浄空気ダクトの実施形態を示す概略図である。
【図6】 本発明によるフィルタフレームとグリルの実施形態を示した概略的な正面図である。
【図7】 時期別清浄室内のオゾンの濃度を測定したグラフである。
【図8】 本発明による清浄室システムの実施形態を示す簡略図である。
【図9】 本発明による清浄空気ダクトの実施形態を示す断面図である。
【図10】 本発明による清浄室システムの実施形態を示す簡略図である。
【図11】 本発明による清浄空気ダクトの実施形態を示す断面図である。
【図12】 本発明による清浄室システムの実施形態内でと、清浄室システム内で測定したパーティクル個数を比較したグラフである。
【図13】 本発明による清浄室システムの実施形態内でと、従来の清浄室システム内でバスに入れている洗浄液の汚染濃度を比較したグラフである。
【符号の説明】
201…吐出口、
202…取付部、
206…ダンパー、
300…空気調節器、
300a…ロールフィルタ、
300b…ディミスタ、
300c…ミディアムフィルタ、
300d…HEPAフィルタ、
300f…冷却器、
300g…加湿器、
300h…送風機、
302…清浄空気ダクト、
312…空気循環部。
Claims (8)
- 外気空気が空気調節器により濾過された清浄空気を清浄室に移動させる清浄空気ダクトの第1部分と、
前記第1部分と連結され、前記空気を案内するための清浄空気ダクトの第2部分と、
前記第1部分と連結される第2部分の第1端部に具備され、フィルタを着脱させることができる取付部と、
前記取付部に取り付けられ、前記第1部分から第2部分に移動する空気中の汚染物質を濾過させるための第1パーティクルフィルタと、
前記第2部分の第2端部と連結され、空気を供給させる複数個の吐出口を有して、各吐出口が清浄室下端に位置する清浄空気ダクトの第3部分と、
前記第3部分のそれぞれの吐出口と隣接した内部に具備され、清浄室の下端に供給される空気中の汚染物質を濾過するための第2パーティクルフィルタと、
を備えることを特徴とする清浄室に清浄空気を供給するための装置。 - 前記各々のパーティクルフィルタは、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.1μm乃至0.17μmの大きさの粒子を99.9999%の効率に濾過させるULPAフィルタ、オゾンを除去することができるオゾンフィルタのうち、少なくとも一つのフィルタを含むことを特徴とする請求項1に記載の清浄室に清浄空気を供給するための装置。
- 前記清浄空気ダクトの第1部分の一端部には、前記清浄空気ダクトの第2部分の入口から前記清浄空気ダクトの第1部分を移動させるように形成される柔軟管部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の清浄室に清浄空気を供給するための装置。
- 前記第3部分で、前記吐出口の前方に少なくとも一つのダンパをさらに含み、前記ダンパは前記移動経路に沿って移動する空気の流れを調節することを特徴とする請求項1に記載の清浄室に清浄空気を供給するための装置。
- 外気空気を導入濾過する空気調節器と、
前記空気調節器によって濾過された清浄空気を移動させる清浄空気ダクトの第1部分と、
前記第1部分と連結され、前記空気を案内するための清浄空気ダクトの第2部分と、
前記第1部分と連結される第2部分の第1端部に具備されフィルタを着脱させることができる取付部と、
前記取付部に取り付けられ、前記第1部分から第2部分に移動する空気中の汚染物質を濾過させるための第1パーティクルフィルタと、
前記第2部分の第2端部と連結され、空気を清浄室の下端に供給させる複数個の吐出口を有する清浄空気ダクトの第3部分と、
前記第3部分のそれぞれの吐出口の内部に取り付けられ、前記吐出口を通じて清浄室の下端に供給される空気中の汚染物質を濾過するための第2パーティクルフィルタと、
を備えることを特徴とする清浄室に清浄空気を供給するための装置。 - 前記第1パーティクルフィルタは、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ、前記空気調節器から提供される清浄空気から約0.1μm乃至0.17μmの大きさの粒子を99.9999%の効率に濾過させるULPAフィルタ、オゾンを除去することができるオゾンフィルタのうち、少なくとも一つのフィルタを含むことを特徴とする請求項5に記載の清浄室用空気提供装置。
- 前記第2パーティクルフィルタは前記清浄空気から約0.3μmの大きさの粒子を99.97%の効率に濾過させるHEPAフィルタ、前記清浄空気から約0.1μm乃至0.17μmの大きさの粒子を99.9999%の効率に濾過させるULPAフィルタ、ケミカルフィルタ及びオゾンを除去することができるオゾンフィルタのうち、少なくとも一つのフィルタを含むことを特徴とする請求項6に記載の清浄室用空気提供装置。
- 前記清浄空気ダクトの第1部分の一端部には、前記清浄空気ダクトの第2部分の入口から前記清浄空気ダクトの第1部分を移動させるように形成される柔軟管部をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の清浄室用空気提供装置。
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WO2004108252A1 (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Nikon Corporation | フィルタ装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
KR100614978B1 (ko) * | 2004-08-27 | 2006-08-25 | 영상조명(주) | 고압방전 램프용 구동회로 |
US7566354B2 (en) * | 2006-03-14 | 2009-07-28 | Flow Sciences, Inc. | Bag in, bag out filter assembly |
DE102006036476A1 (de) * | 2006-08-04 | 2008-02-07 | Khs Ag | Filtereinsatz |
US8689577B2 (en) * | 2006-08-25 | 2014-04-08 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Indoor unit, air conditioner including indoor unit and method of controlling air conditioner |
KR100679673B1 (ko) * | 2006-10-30 | 2007-02-06 | 수공아이엔씨(주) | 청정실용 필터 조립체 및 송풍장치 |
JP2009002634A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Unitec Inc | ユニット型クリーンルーム |
US20090095157A1 (en) * | 2007-10-15 | 2009-04-16 | Kirch Joseph F | Smokestack |
US8394156B2 (en) * | 2008-04-30 | 2013-03-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Ultra-pure air system for nano wafer environment |
US20110038771A1 (en) * | 2009-08-11 | 2011-02-17 | Basf Corporation | Particulate Air Filter With Ozone Catalyst and Methods of Manufacture and Use |
WO2011063144A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Fipak Research And Development Company | Method and apparatus for operating ducted fumehoods with increased energy efficiency |
US8419837B2 (en) * | 2010-03-09 | 2013-04-16 | Huntair, Inc. | Air filtration system with quick connect |
CN102506466A (zh) * | 2011-10-18 | 2012-06-20 | 邓雪飞 | 一种室内气体污染物处理系统 |
US9631825B2 (en) | 2012-12-18 | 2017-04-25 | Nortek Air Solutions, Llc | Air filter assembly |
IN2014CH00926A (ja) | 2013-03-08 | 2015-08-28 | Ford Global Tech Llc | |
US9897328B2 (en) * | 2013-05-02 | 2018-02-20 | William B. McEvoy | Tabletop cooking assembly |
WO2015057722A1 (en) | 2013-10-14 | 2015-04-23 | G-Con Manufacturing Inc. | Unit for connecting modular mobile rooms |
WO2016007526A1 (en) | 2014-07-08 | 2016-01-14 | Particle Measuring Systems, Inc. | Active filtration system for controlling cleanroom environments |
SG11201700155YA (en) * | 2014-07-11 | 2017-02-27 | G Con Mfg Inc | Modular parts that supply utilities to cleanroom, isolation or containment cubicles, pods, or modules |
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US20200282352A1 (en) * | 2019-03-06 | 2020-09-10 | Matthew Philip Davidson | Filter mount |
CN110237709A (zh) * | 2019-07-10 | 2019-09-17 | 中威新能源(成都)有限公司 | 基于太阳电池制造工艺的硅片表面抑制氧化方法 |
CN111023390A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-17 | 四川永祥多晶硅有限公司 | 一种应用于破碎车间的新风系统及一种破碎车间 |
CN112303797B (zh) * | 2020-10-14 | 2021-12-03 | 深圳市高度标识设计有限公司 | 一种建筑智能化环保供氧设备 |
US11446600B2 (en) * | 2020-12-10 | 2022-09-20 | Hourani Ip, Llc | Detoxification device having heated filter for killing pathogens |
US11454402B1 (en) | 2021-12-01 | 2022-09-27 | Mcevoy William B | Tabletop cooking assembly |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3263704A (en) * | 1964-07-16 | 1966-08-02 | Farr Company Ltd | Collapsible support duct for removable element |
US4350509A (en) * | 1981-07-24 | 1982-09-21 | Donaldson Company, Inc. | Disposable air cleaner |
JPS6071830A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 組替式局所環境制御室 |
JPS625031A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-12 | Kajima Corp | 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム |
JP2736662B2 (ja) * | 1988-11-04 | 1998-04-02 | 東芝セラミックス株式会社 | 半導体ウェーハの曇防止装置 |
US5626820A (en) | 1988-12-12 | 1997-05-06 | Kinkead; Devon A. | Clean room air filtering |
JPH03291436A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-20 | N M B Semiconductor:Kk | 半導体製造工場のクリーンルーム |
US5326316A (en) * | 1991-04-17 | 1994-07-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Coupling type clean space apparatus |
US5922105A (en) * | 1992-12-02 | 1999-07-13 | Ebara Research Co., Ltd. | Method and apparatus for the preparation of clean gases |
SE9304305L (sv) * | 1992-12-30 | 1994-07-01 | Hyundai Motor Co Ltd | Luftrenaranordning för fordon |
US5607647A (en) * | 1993-12-02 | 1997-03-04 | Extraction Systems, Inc. | Air filtering within clean environments |
TW333658B (en) * | 1996-05-30 | 1998-06-11 | Tokyo Electron Co Ltd | The substrate processing method and substrate processing system |
KR100197900B1 (ko) * | 1996-07-24 | 1999-06-15 | 윤종용 | 반도체 청정실용의 공기조화시스템 |
JPH10106908A (ja) * | 1996-10-01 | 1998-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | ケミカルフリー乾燥空気の発生装置 |
JP3090088B2 (ja) * | 1997-02-07 | 2000-09-18 | 富士電機株式会社 | クリーンルームのファンフィルタユニット |
TW422724B (en) * | 1997-07-03 | 2001-02-21 | Takasago Thermal Engineering | An air filter, the manufacturing method, and a high efficiency air cleaning apparatus |
US6104959A (en) * | 1997-07-31 | 2000-08-15 | Microwave Medical Corp. | Method and apparatus for treating subcutaneous histological features |
JP3911904B2 (ja) * | 1999-04-21 | 2007-05-09 | 株式会社日立プラントテクノロジー | クリーンルーム構造 |
JP3977514B2 (ja) * | 1998-05-26 | 2007-09-19 | 高砂熱学工業株式会社 | 空気浄化フィルタ及びその製造方法及び高度清浄装置 |
KR20000000819A (ko) * | 1998-06-03 | 2000-01-15 | 윤종용 | 반도체 청정실용 모듈필터 |
JP2951949B1 (ja) * | 1998-07-03 | 1999-09-20 | 富士電機総設株式会社 | クリーンルームの局所空調システム |
US6123617A (en) * | 1998-11-02 | 2000-09-26 | Seh-America, Inc. | Clean room air filtering system |
US6344074B1 (en) * | 2000-03-09 | 2002-02-05 | Evs, Inc. | Ventless air scrubber assembly with multi-stage filters and hood enclosure with great entrapment units |
JP2002106939A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-10 | Kajima Corp | 空調システム |
US6616720B1 (en) * | 2001-02-16 | 2003-09-09 | William C. Smith | Portable airborne contamination control system including a main and remote unit |
US6395047B1 (en) * | 2001-02-16 | 2002-05-28 | William C. Smith | Portable airborne contamination control system including a main and remote unit |
US6402613B1 (en) * | 2001-02-21 | 2002-06-11 | David B. Teagle | Portable environmental control system |
US6471582B1 (en) * | 2001-08-14 | 2002-10-29 | Applied Optoelectronics, Inc. | Adapter for coupling air duct to fan-driven vent |
US6723150B2 (en) * | 2002-02-28 | 2004-04-20 | American Standard International Inc. | Air filter with expandable filter media |
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