KR102513857B1 - 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치 - Google Patents

기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 로드부, 언로드부 및 다수의 연마부가 내설된 하우징을 포함하는 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 오염도 개선을 위한 기류 순환 시스템에 관한 것으로, 상기 로드부, 상기 언로드부 및 상기 다수의 연마부 각각의 위치에 대응되는 적어도 어느 하나의 위치에 설치되며, 상기 하우징 내부의 오염된 공기를 상기 하우징의 외부로 배출시켜 정화시킨 후 정화된 공기를 다시 상기 하우징의 내부로 공급시키는 공기정화부;를 포함하는 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치에 관한 것이다.

Description

기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치{AIR CIRCULATION APPARATUS AND FINAL POLISHING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치에 관한 것으로서, 특히, 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 공기를 자체적으로 정화하고, 정화된 공기를 순환시켜 장비 내부의 기류 정체 문제를 해소함은 물론, 연마분진과 같은 오염물질로 인한 미세 디팩트(defect)의 발생을 방지할 수 있는 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치에 관한 것이다.
도 1은 종래 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 팬필터유닛(FFU : Fan Filter Unit)과 배기부(Exhaust)의 위치를 나타낸 개념도이고, 도 2는 도 1을 입체적으로 표현한 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 웨이퍼(wafer)를 연마하는 공정의 경우 연마 중 연마 분진이 발생하며, 발생된 연마 분진은 파이널 폴리싱 장치(FP) 내부에서 순환한다. 이러한 연마 분진을 장비 하부에 설치된 배기부(exhaust)를 상시 가동하여 제거하고 있다. 그러나, 파이널 폴리싱 장치(FP) 내부의 기류 순환이 원활하지 않을 경우 연마시 발생한 연마 분진이 웨이퍼의 표면에 재흡착하여 미세 디팩트(defect) 로 발현되는 문제가 발생한다. 따라서, 파이널 폴리싱 장치(FP) 내부의 기류가 원활하게 순환될 수 있도록 제어할 필요가 있다.
도 1과 함께 도 2를 참조하여, 상기 파이널 폴리싱 장치(FP) 내부의 기류 흐름 상태를 설명하면 다음과 같다.
1. 로드부(Load) 및 언로드부(Unload) 의 경우 팬필터유닛(FFU : Fan Filter Unit)을 통해 상부에서 Clean Air를 유입시킨다.
2. 파이널 폴리싱 장치(FP) 내측 하부에서 배기부((exhaust)를 이용하여 장비 내부의 공기를 외부로 배출시킨다.
그러나, 이와 같이 Clean Air를 불어주는 FFU가 로드부와 언로드부에만 존재하므로, 실질적으로 웨이퍼 연마 작업이 수행되는 연마부(4)는 공기순환이 어려운 문제점이 발생한다. 또한, FFU가 장비 한 쪽에만 설치되므로 연마부 내부의 기류 정체 및 틀어짐 현상이 발생된다.
또한, 한 개의 메인 배기부(Main Exhaust)가 장비로 연결되고, 장비에서 다시 5개로 분기되는 구조이다. 더욱이 공장의 메인 배기부(Main Exhuast)가 다시 여러 대의 파이널 폴리싱 장치(FP)로 분기되는 구조이므로 배출압력이 감소되는 문제가 발생되고, 이와 같은 현상은 연마 분진에 의해 배기부(Exhaust)의 막힘 문제로 이어지고 있는 실정이다.
(0001) 국내공개특허 제10-2017-0076242호 (0002) 국내공개특허 제10-2018-0080800호
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 로드부와 언로드부는 물론 각각의 연마부에도 팬필터유닛을 설치하고, 팬필터유닛의 위치에 대응되는 장비의 하부에 배기부를 설치하며, 장비 내부로 공급되는 공기는 장비로부터 배출된 공기를 정화시켜 공급 및 순환시킴으로써, 전술한 기류 정체 현상과 연마 분진에 의한 디팩트 발현율을 효율적으로 해소시킬 수 있는 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치를 제공하는데 있다.
상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명인 기류 순환 시스템은, 로드부, 언로드부 및 다수의 연마부가 내설된 하우징을 포함하는 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 오염도 개선을 위한 기류 순환 시스템에 관한 것으로, 상기 로드부, 상기 언로드부 및 상기 다수의 연마부 각각의 위치에 대응되는 위치에 각각 설치되며, 상기 하우징 내부의 오염된 공기를 상기 하우징의 외부로 배출시켜 정화시킨 후 정화된 공기를 다시 상기 하우징의 내부로 공급시키는 공기정화부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 각각의 상기 공기정화부는 독립적으로 동작하는 것을 특징으로 한다.
또한, 각각의 상기 공기정화부는, 상기 하우징의 측면 하부로부터 상기 하우징의 상부까지 연결된 덕트를 통해 공기를 배기 및 공급시키며, 상기 하우징 내부의 공기를 상기 하우징 외부로 배출시키는 에어배기부; 상기 에어배기부의 선단에 위치되어 상기 하우징 내부로부터 배출된 공기에 함유된 습기를 제거하는 제습부; 상기 제습부를 통해 습기가 제거된 공기를 설정된 온도로 조정시키는 온도조정부; 상기 온도조정부를 통해 설정된 온도로 조정된 공기로부터 연마분진을 걸러내는 필터부; 및 상기 필터부를 통해 필터링된 공기를 상기 하우징의 내부로 공급하는 에어공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 에어배기부는, 공기가 이동하는 상기 덕트의 선단부에 설치되며,
적어도 하나로 구성된 배기팬; 및 연마 작업시 발생하는 슬러리(slurry)가 상기 배기팬으로 직접 유입되는 것을 방지하는 커버;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제습부는, 상기 배기팬의 선단에 설치되며, 증발기, 압축기 및 응축기를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 온도조정부는, 상기 덕트 내측면에 접촉지지되는 프레임; 및 상기 습기가 제거된 공기가 지나가도록 상기 프레임 내측에 일정 간격으로 형성되며, 설정된 온도로 조절되는 드라이코일;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 필터부는, 적어도 하나의 필터로 구성되어 상기 건조된 공기의 이동 방향을 따라 상기 덕트 내부에 설치되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 필터부는, 적어도 하나의 필터로 구성되어 상기 건조된 공기의 이동 방향을 따라 수직 방향으로 형성된 상기 덕트 내부에 탈착식으로 결합되고, 상기 필터부가 결합된 상기 덕트의 하부에는 상기 필터를 통해 걸러진 연마분진이 수거되는 분진수집부가 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 에어공급부는, 공기가 이동하는 상기 덕트의 후단부에 설치되며, 상기 연마분진이 제거된 공기를 상기 하우징의 상부에서 상기 하우징의 내측 하부로 공급하는 적어도 하나로 구성된 공급팬;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 에어공급부에는, 상기 공급팬의 선단부에 위치되며, 상기 하우징의 내측으로 공급되는 공기를 한 번 더 필터링시키는 적어도 하나의 필터가 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
한편, 전술한 특징들을 갖는 파이널 폴리싱 장치를 제공하는 것을 특징으로 한다.
이상에서 설명한 본 발명인 기류 순환 시스템 및 이를 구비한 파이널 폴리싱 장치에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.
먼저, 로드부, 언로드부 및 각각의 연마부의 위치마다 공기 순환 구조를 갖는 공기정화부를 구성하고 장비 내부의 기류를 원활하게 순환시킴으로써, 기류 정체 문제를 방지할 수 있다.
또한, 공기정화부를 각각 독립적으로 운영함으로써, 종래와 같은 배출 압력 감소 문제를 해소할 수 있음은 물론, 외부 요인에 의한 내부 기류의 틀어짐 발생 문제를 방지할 수 있다.
또한, 장비 내부의 기류 순환시, 순환되는 공기에 포함된 연마 분진을 필터링시키므로, 연마 분진으로 인한 미세 LLS(Localized Light Scattering) Defect를 개선시킬 수 있다.
도 1은 종래 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 팬필터유닛(FFU : Fan Filter Unit)과 배기부(Exhaust)의 위치를 나타낸 개념도,
도 2는 도 1을 입체적으로 표현한 도면,
도 3은 본 발명에 따른 기류 순환 시스템의 기류 순환과 관련된 구성 상태를 나타낸 개념도,
도 4는 도 3을 입체적으로 표현한 도면,
도 5는 본 발명에 따른 공기정화부의 구성 상태를 나타낸 개념도,
도 6은 도 5에 도시된 공기정화부의 모식도,
도 7은 본 발명에 따른 에어배기부, 제습부 및 온도조정부의 세부적인 구성 상태를 나타낸 개념도.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시례를 들어 설명하고, 발명에 대한 이해를 돕기 위해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
도면에서 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니며, 동일한 참조번호는 도면의 설명을 통하여 동일한 요소를 나타낸다.
도 3은 본 발명에 따른 기류 순환 시스템의 기류 순환과 관련된 구성 상태를 나타낸 개념도이고, 도 4는 도 3을 입체적으로 표현한 도면이다.
먼저, 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 기류 순환 시스템의 기류 순환 구조를 설명하면 다음과 같다.
본 발명인 기류 순환 시스템은, 로드부(2), 언로드부(3) 및 다수의 연마부(4)가 내설된 하우징(1)을 포함하는 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 오염도 개선을 위한 기류 순환 시스템에 관한 것으로, 로드부(2), 언로드부(3) 및 다수의 연마부(4, 도면 상에는 3개의 연마부로 구성) 등 총 5곳에 공기정화부가 각각 설치된다. 공기정화부는 하우징(1)의 내부, 즉 파이널 폴리싱 장치(FP) 내부의 오염된 공기를 외부로 배출시켜 정화시킨 후 다시 파이널 폴리싱 장치(FP)의 내부로 공급하는 공기순환구조를 갖는다. 즉, 로드부(2), 언로드부(3) 및 3개의 연마부(4) 각각의 상부에서 필터링된 공기가 유입된다. 하우징(1)의 내측 상부로 유입된 공기는 하우징(1)의 내측 하부로 이동된다. 이때, 하부로 이동된 공기에는 연마시 발생된 연마 분진이 포함된다. 연마 분진이 포함된 오염된 공기는 하우징(1)의 내측 하부에서 외부로 배출된다. 배출된 공기는 필터링되어 연마 분진 등과 같은 오염 물질이 제거된 상태로 다시 하우징(1)의 상부에서 내측으로 유입되어 순환되는 구조이다.
공기정화부는 종래와 같이 하나의 메인 배기부나 공급부에 연결되지 않고, 각각 독립적으로 운영된다. 따라서, 항상 일정한 공급 및 배기 압력을 유지한 상태로 동작시킬 수 있으며, 웨이퍼 연마시 연마 분진으로 인한 웨이퍼의 불량 상태에 따라 공급 및 배기 압력을 조정할 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 공기정화부의 구성 상태를 나타낸 개념도이고, 도 6은 도 5에 도시된 공기정화부의 모식도이며, 도 7은 본 발명에 따른 에어배기부(12), 제습부(13) 및 온도조정부(14)의 세부적인 구성 상태를 나타낸 개념도이다.
도 5 내지 도 7을 참조하여, 본 발명에 따른 공기정화부의 세부적인 구성 상태를 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 공기정화부는 덕트(11), 에어배기부(12), 제습부(13), 온도조정부(14), 필터부(15) 및 에어공급부(16)를 포함하여 구성된다. 공기정화부는 하우징(1)의 측면 하부로부터 하우징(1)의 상부까지 연결된 덕트(11)를 통해 하우징(1) 내부의 공기를 하우징(1) 외부로 배기시키고, 배기시킨 공기를 정화시켜 다시 하우징(1) 내부로 공급한다.
도 5를 참조하면, 덕트(11)는 외형적으로 공기정화부의 전체적인 골격을 형성한다. 공기정화부를 통해 도 4에 도시된 바와 같이, 하우징(1) 내부의 공기가 필터링되면서 순횐되는 구조를 갖는다. 도 5에는 3개의 연마부(4) 중 1차 연마부(4)에 형성된 덕트(11)를 도시하였으며, 덕트(11)가 하우징(1)의 상부와 하우징(1)의 중단부에 연결된 상태로 도시되었으나, 하우징(1)의 중단부가 아닌 하우징(1)의 내측 하부로 연결된 상태로 이해할 수 있다. 덕트(11)는 하우징(1) 내부에서 배출된 공기가 이동하여 다시 하우징(1) 내부로 유입되는 공기 흐름 통로를 형성한다. 도면상에는 에어배기부(12)와 필터부(15) 및 에어공급부(16) 등의 각 구성부를 구분하기 위해 구분된 상태로 도시하였으나, 덕트(11)는 하나의 몸체로 형성될 수 있다. 또한, 덕트(11)의 형상은 공기 흐름 통로를 제공할 수만 있다면 도시된 형태로만 한정하는 것은 바람직하지 않다. 덕트(11)는 하우징(1)의 외측에서 형성되어 로드부(2), 언로드부(3) 및 3개의 연마부(4) 각각에 형성되며, 각 구성부의 하부와 상부에 연결된다. 덕트(11)의 내부에는 에어배기부(12), 제습부(13), 온도조정부(14), 필터부(15) 및 에어공급부(16)가 설치될 수 있다.
에어배기부(12)는 덕트(11)를 통해 하우징(1) 내부의 공기를 하우징(1) 외부로 배기시킨다. 에어배기부(12)는 배기팬(12-1) 및 커버(12-2)를 포함하여 구성된다. 도 7을 참조하면, 적어도 하나로 구성되는 배기팬(12-1)은 제습부(13)의 선단(좌측)에 위치되거나 제습부(13)의 후단(우측)에 위치될 수 있으며, 제습부(13)의 선단과 후단 모두에 위치될 수도 있다. 웨이퍼 연마 작업시 하우징(1) 내측 하부에는 연마 테이블과 연마 헤드로부터 탈이온수(DIW : Delonized Water) 및 슬러리(Slurry)가 튀거나 흘러내린다. 이와 같은 탈이온수 및 슬러리가 배기팬(12-1)으로 바로 유입되지 않도록 에어배기부(12)의 선단에는 커버(12-2)가 장착된다. 커버(12-2)는 에어배기부(12)의 선단 상부로부터 하부 방향으로 소정 각도 경사지게 형성된다. 배기팬(12-1)을 통해 하우징(1) 내부의 오염된 공기, 즉 연마 분진 등이 포함된 공기가 하우징(1)의 외부로 배출된다. 이와 같이 배출된 공기는 탈이온수 및 슬러리 등에 의해 수분이 함유된 상태로 약 30℃ 정도의 공기로 조성된다. 따라서, 제습부(13)를 통해 수분이 함유된 공기로부터 습기를 제거한다.
제습부(13)는 증발기(13-1), 압축기(13-2) 및 응축기(13-3) 등을 포함하여 구성되며 약 3℃ 정도의 냉각 장치를 사용하여 기체를 액체화시킨다. 제습부(13) 각 구성부의 동작 상태 및 제습 과정 등은 공지의 냉각 시스템 구조와 기술이므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하도록 한다. 제습부(13)를 통해 습기가 제거된 공기는 온도조정부(14)를 통해 일정 온도로 공기온도가 조정된다.
온도조정부(14)는 프레임(14-1) 및 드라이코일(14-2)을 포함하여 구성된다. 프레임(14-1)은 덕트(11)의 내측면에 접촉지지되어 형성되며, 프레임(14-1) 내측으로 드라이코일(14-2)이 형성된다. 드라이코일(14-2)은 습기가 제거된 공기가 지나가도록 프레임(14-1) 내측에 일정 간격으로 형성된다. 드라이코일(14-1)을 통해 공기의 온도를 설정된 온도로 조정하는 것으로, 여기서 설정된 온도란, 일례로 하우징(1) 내부의 온도와 비슷한 25℃로 설정할 수 있다. 드라이코일(14-2) 내부로 냉각수(colling water)가 흐르도록 구성할 수 있으며, 설정된 온도로 조정할 수 있는 구조라면 공지된 다양한 구조를 적용할 수 있을 것이다. 드라이코일(14-2) 사이를 공기가 지나가면서 드라이코일(14-2)에 설정된 온도로 온도가 조정된다.
도 6을 참조하면, 온도조정부(14)를 통해 설정된 온도로 조정된 공기는 덕트(11)를 따라 수직 상부 방향으로 이동한다. 수직 방향으로 형성된 덕트(11)의 내부에는 필터부(15)가 내설된다.
필터부(15)는 온도조정부(14)를 통해 설정된 온도로 조정된 공기로부터 연마분진을 걸러내는 역할을 수행하며, 적어도 하나로 구성된 필터와 분진수집부(15-3)를 포함하여 구성된다.
필터는 1차필터(15-1) 및 2차필터(15-2)로 구성할 수 있으며, 1차필터(15-1)와 2차필터(15-2)는 일정 간격 이격된 상태로 덕트(11) 내부에 장착된다. 자세히 도시하진 않았으나, 1차필터(15-1)와 2차필터(15-2)는 탈착식으로 구성하는 것이 바람직하다. 즉, 덕트(11)에 장착 및 분리가 가능한 형태로 구성하고, 필터가 일정 상태 이상 오염시마다 교체하여 사용할 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다. 필터를 통해 연마 분진 등과 같은 파티클을 제거할 수 있다. 이때, 1차필터(15-1)는 비교적 큰 파티클을 제거하기 위해 1.0㎛의 필터를 사용하며, 2차필터(15-2)는 미세 파티클을 제거하기 위해 0.3㎛의 필터를 사용할 수 있다.
이때, 1차필터(15-1)를 통과하지 못한 연마 분진 등은 무게에 의해 하부로 떨어지며, 덕트(11)의 하부에는 이와 같이 떨어진 연마 분진을 수거하기 위한 분진수집부(15-3)가 구비된다. 자세히 도시하진 않았으나, 분진수집부(15-3)는 서랍식 구조로 구성하여 연마 분진이 일정량 이상 수집되면 분진수집부(15-3)를 덕트(11)로부터 분리하여 수집된 연마 분진을 폐기할 수 있다. 또한, 미도시 하였으나, 연마 분진의 수집량을 파악하기 위해 분진수집부(15-3)에는 센서를 구성할 수 있다. 센서 구성시 분진수집부(15-3)에 연마 분진이 일정량 이상 쌓이게 되면 경보를 발생시키도록 구성할 수 있다. 필터부(15)를 통해 필터링된 깨끗한 공기는 에어공급부(16)를 통해 다시 하우징(1)의 내측으로 유입된다.
에어공급부(16)는 공급팬(16-1) 및 3차필터(16-2)를 포함하여 구성될 수 있다. 에어공급부(16)는 필터링된 공기가 이동하는 덕트(11)의 후단부, 즉, 하우징(1)의 상부에 설치된다.
공급팬(16-1)은 하우징(1)의 상부에 적어도 하나로 구성될 수 있으며, 필터부(15)를 통해 연마 분진이 제거된 공기를 하우징(1)의 상부에서 하우징(1)의 내측 하부로 공급한다. 이때, 2차필터(15-2)에서 제거되지 않은 파티클을 한 번 더 필터링시키기 위해 공급팬(16-1)을 통해 하우징(1)의 내부로 공급되는 공기를 3차필터(16-2)를 통해 하우징(1) 내측으로 유입되도록 구성할 수 있다. 3차필터(16-2)는 적어도 하나의 헤파필터를 사용할 수 있으며, 2차필터(15-2)에서 제거되지 않은 파티클을 한 번 더 제거하기 위해 2차필터(15-2)와 동일하게 0.3㎛ 크기의 필터를 사용할 수 있다. 또는 2차 필터보다 더 미세한 파티클을 필터링할 수 있다.
한편, 미도시 하였으나, 에어배기부(12), 제습부(13), 온도조정부(14), 필터부(15) 및 에어공급부(16)는 제어부(미도시)와 연결되어 동작되며, 별도의 모니터링부(미도시)를 통해 각 구성부의 이상 상태 및 교체 시기 등을 파악하도록 구성할 수 있다.
한편, 전술한 특징들을 갖는 공기정화부가 구비된 파이널 폴리싱 장치(FP)를 제공함으로써, 장비 내부의 기류를 원활하게 순환시켜 기류 정체 문제를 방지하고, 공기정화부를 각각 독립적으로 운영함으로써 종래와 같은 배출 압력 감소 문제를 해소할 수 있음은 물론, 외부 요인에 의한 내부 기류의 틀어짐 발생 문제를 방지할 수 있으며, 장비 내부의 기류 순환시 순환되는 공기에 포함된 연마 분진을 필터링시키므로, 연마 분진으로 인한 미세 LLS(Localized Light Scattering) Defect를 개선시킬 수 있다.
이상에서 실시례들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시례에 포함되며, 반드시 하나의 실시례에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시례에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시례들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시례들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
FP : 파이널 폴리싱 장치
1 : 하우징 2 : 로드부
3 : 언로드부 4 : 연마부
11 : 덕트 12 : 에어배기부
12-1 : 배기팬 12-2 : 커버
13 : 제습부 13-1 : 증발기
13-2 : 압축기 13-3 : 응축기
14 : 온도조정부 14-1 : 프레임
14-2 : 드라이코일 15 : 필터부
15-1 : 1차필터 15-2 : 2차필터
15-3 : 분진수집부 16 : 에어공급부
16-1 : 공급팬 16-2 : 3차필터

Claims (11)

  1. 로드부, 언로드부 및 탈이온수(DIW)와 슬러리를 공급받아 웨이퍼를 연마하는 다수의 연마부가 내설된 하우징을 포함하는 파이널 폴리싱 장치(FP : Final Polishing apparatus) 내부의 오염도 개선을 위한 기류 순환 시스템에 관한 것으로,
    상기 로드부, 상기 언로드부 및 상기 다수의 연마부 각각의 위치에 대응되는 위치에 각각 설치되며, 상기 웨이퍼 연마시 발생되는 상기 하우징 내부의 오염된 공기를 상기 하우징의 외부로 배출시켜 정화시킨 후 정화된 공기를 다시 상기 하우징의 내부로 공급시키는 공기정화부;를 포함하며,
    각각의 상기 공기정화부는,
    상기 하우징의 측면 하부로부터 상기 하우징의 상부까지 연결된 덕트를 통해 공기를 배기 및 공급시키며,
    선단에 상기 탈이온수와 슬러리의 직접적인 유입을 방지하는 커버를 구비하고, 상기 하우징 내부의 공기를 상기 하우징 외부로 배출시키는 에어배기부;
    상기 에어배기부의 선단에 위치되어 상기 하우징 내부로부터 배출된 공기에 함유된 습기를 제거하는 제습부;
    상기 제습부를 통해 습기가 제거된 공기를 설정된 온도로 조정하는 온도조정부;
    상기 온도조정부를 통해 설정된 온도로 조정된 공기로부터 연마분진을 걸러내는 필터부; 및
    상기 필터부를 통해 필터링된 공기를 상기 하우징의 내부로 공급하는 에어공급부;를 포함하는 기류 순환 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    각각의 상기 공기정화부는 독립적으로 동작하는 기류 순환 시스템.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 에어배기부는,
    공기가 이동하는 상기 덕트의 선단부에 설치되며,
    적어도 하나로 구성된 배기팬; 및
    연마 작업시 발생하는 슬러리(slurry)가 상기 배기팬으로 직접 유입되는 것을 방지하는 커버;를 포함하는 기류 순환 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제습부는,
    상기 배기팬의 선단에 설치되며,
    증발기, 압축기 및 응축기를 포함하는 기류 순환 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 온도조정부는,
    상기 덕트 내측면에 접촉지지되는 프레임; 및
    상기 습기가 제거된 공기가 지나가도록 상기 프레임 내측에 일정 간격으로 형성되며, 설정된 온도로 조정되는 드라이코일;을 포함하는 기류 순환 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 필터부는,
    적어도 하나의 필터로 구성되어 상기 습기가 제거된 공기의 이동 방향을 따라 상기 덕트 내부에 설치되는 기류 순환 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 필터부는,
    적어도 하나의 필터로 구성되어 상기 습기가 제거된 공기의 이동 방향을 따라 수직 방향으로 형성된 상기 덕트 내부에 탈착식으로 결합되고,
    상기 필터부가 결합된 상기 덕트의 하부에는 상기 필터를 통해 걸러진 연마분진이 수거되는 분진수집부가 더 구비된 기류 순환 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 에어공급부는,
    공기가 이동하는 상기 덕트의 후단부에 설치되며,
    상기 연마분진이 제거된 공기를 상기 하우징의 상부에서 상기 하우징의 내측 하부로 공급하는 적어도 하나로 구성된 공급팬;을 포함하는 기류 순환 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 에어공급부에는,
    상기 공급팬의 선단부에 위치되며, 상기 하우징의 내측으로 공급되는 공기를 한 번 더 필터링시키는 적어도 하나의 필터가 더 포함되는 기류 순환 시스템.
  11. 제1항, 제2항 및 제4항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 상기 기류 순환 시스템을 포함하는 파이널 폴리싱 장치.
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