JPH024145A

JPH024145A - クリーンブース

Info

Publication number: JPH024145A
Application number: JP15354488A
Authority: JP
Inventors: Yoshihide Suwa; 好英諏訪
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1988-06-23
Filing date: 1988-06-23
Publication date: 1990-01-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明は、半導体、液晶、光学部品１食品。

医薬品および生物学的製品の製造工程に使用される垂直
層流形クリーンブースに係シ、特に沈降微粒子を床面で
補集・除去し、その巻上げによる製品へのコンタミネー
シ１ンを防止するための構造に関する。

（従来の技術）第２図は、従来のクリーンブースを示している。この装
置は、その上部にサプライチャンバ囚と、その下部に作
業領域（至）を持ち、これらの空間を形成する立方体骨
組み構造（図示せず。）と、作業領域（ロ）を外部の空
気の流れから遮蔽するためのビニール膜（図示せず。）
とから構成されている。

そして、サプライチャンバ（５）にファン（ｑで取入れ
られた外部空気（ロ）は、ＨＥＰＡ　（Ｈｉｇｈ　ｇｆ
ｆｉｃｌｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅ　Ａｌｒ　）
またはＵＬＰＡ　（Ｕｌｔｒａ　Ｌｏｗ　Ｐｅｎｅｔｒ
ａｔｉｏｎＡｉｒ）フィルタ（６）にて浄化され、作業
領域（ロ）内に導かれる。上記ＨＥＰＡ　ｊたはＵＬＰ
Ａフィルタによる塵埃除去効率は、９９．９９４係程度
といわれており、作業領域（ロ）内へ供給される清浄空
気は、はぼ純粋な清浄空気である。通常、作業値域（５
）を外部から遮蔽しているビニール膜のうち、−面はサ
プライチャンバ囚の外壁から垂設された開閉自在のカー
テンｎとなっており、作業者の出入シ、材料、製品の搬
入、搬出は、ここを通して行われる。ＨＥＰＡまたはＵ
ＬＰＡフィルタ（ト）から作業領域（Ｂ）内へ供給され
た清浄空気は通常カーテン（２）と床面（社）との間く
形成された間隙から排田される。

しかしながら、従来のクリーンブースには、次のような
問題点があった。すなわち、■作業領域口で発生した塵
埃は、清浄空気の流れによりて除去されるべきであるか
ら、作業領域（Ｂ）内には、スムースな垂直下降流が形
成されなければならないが、装置（Ｊ）の背面などによ
どみ領域（５）が形成され、ここに混入し九塵埃が除去
できない。■半導体製造工程、特に薄膜成召工程におい
ては、米連邦規格で規定されているものよシも、はるか
に大きな塵埃が発生する。この発生した塵埃のうち粒径
１μｍ以上のものは、有限の範囲内で沈降し、床面に沈
着する。このように床面に沈着した塵埃山）は、通常の
建築物やコンベンジ町ナルタイプのクリーンルームでは
、気流で除去できず、作業者によって巻上げられる々ど
して製品にコンタミネーションをおこす不具合をもりて
いる。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、上記事情を勘案してなされたもので、垂直層
流方式のクリーンブースにおいて、作業領域内で気流の
よどみを形成せず、かつ、重力沈降して気流により除去
が不可能々塵埃をも除去できる高性能なりリーンブース
を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段と作用）垂直層流方式のクリーンブースにおいて、垂直下方に吹
出された清浄空気をグレーチングにより吹込み、さらに
フィルタにより再浄化して外部に放出するようにして、
塵埃の沈着、よどみを排除できるようにしたものである
。

（実施例）以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。

第１図は、この実施例のクリーンブースを示している。

このクリーンブースは、垂直層流方式のもので、その構
成は、床部（１）と、この床部（１）に立設された例え
ばＬ形鋼などからなる立方体状の骨組み（２）と１．こ
れの内外部を分離するため骨組み（２）の周囲に設けら
れたビニール遮蔽膜（図示せず。）と、このビニール遮
蔽膜によシ内部に形成された作業領域（３）に垂直に下
降する清浄気流（４）を形成するため骨組み（２）の上
部に設けられた送風機（５）と、この送風機（５）から
の清浄気流（４）をろ過するＨＢＰＡまたはＵＬＰＡな
どのフィルタ（６）と、送風機（５）に外部から空気を
供給するための空気取入口（７）と、骨組み（２）前面
に開閉自在に垂設され作業領域（３）を外部の空気の流
れから遮蔽する垂れ幕式のビニールカーテン（８）とか
らなっている。しかして、床部（１）は、装置（９）が
載置される鉄格子状のグレーチング（１のと、骨組み（
２）を支持する底板（１１）と、この底板（１１）の下
部に設けられた複数のキャスタ（１２）・・・と、グレ
ーチング（１のと底板（１１）とによシ形成された空間
（１３）の出口に設けられたメンズレイン・フィルタ（
１４）とからなっている。上記キャスタ（１２）・・・
は、クリーンブースに例えばクリーンルーＡ内で、の可
動性を付与するためのものである。また、ビニールカー
テン（８）は、例えばマグネットなどで密封できるよう
になっている。

つぎに、上記構成のクリーンブースの作動について、こ
のクリーンブースがクリーンルームに設置されていると
して説明する。

まず、ビニールカーテン（８）をマグネットなどで密封
した状態で、送風機（５）を起動すると、空気取入口（
７）から空気が取入れられ、取入れられた空気は一フィ
ルタ（６）によシろ過され、この汚染物質がろ過された
清浄気流（４）が作業領域（３）にて鉛直方向に下降す
る。ついで、グレーチング（１ｏ）に達した清浄気流（
４）は、空間（１３）に達したのち、メンズレイン・フ
ィルタ（１４）を経由して外部空間に放出される。この
放出された空気はメンズレイン・フィルタ（１４）によ
シ再度浄化されている。

したがって、第２図に示したような装置（９）の背面に
おける塵埃のよどみ（１５）は生じることなく、空間（
１３）に取込まれる。また、作業者（１６）に付着した
塵埃（１７）は重力沈降しても、床面はグレーチング（
１のと表っているので直ちに空間（１３）に取′込まれ
るため、塵埃の床■への沈着や作業者（１６）　Ｋよる
塵埃の巻上げＫよる作業領域（３）の清浄度の低下を防
止できる。よって、この実施例のクリーンブースは、汚
染物質の除去効率が低下し、コンタミネーシ嘗ンの確率
が低下するという顕著な効果を奏する。とくに、このク
リーンブースは、グレーチング（１０）に取込んだ空気
をメンズレイン・フィルタ（１４）を介して再浄化して
いるので、このクリーンブースが設置されているクリー
ンルームの清浄度に悪影響を与えることがない利点をも
っている。

なお、空間（１３）内に排気用の送風機を設け、強制的
にグレーテング（１のによシ取込まれた空気を排気させ
るようにしてもよい。また、キャスタ（１２）・・・及
び床板（１１）は、無くてもよい。この場合、例えばク
リーンルームの床に骨組み（２）を直接置くことになる
。

〔発明の効果〕

本発明のクリーンブースは、以下に列記する格別の効果
を奏する。すなわち−）■クリーンブースの作業領域に
おいて、常にブース底部全体が空気排出口となるので、
スムースな垂直下降流が得やすく、発生した例えば従来
のクリーンブースでは除去不可能な重力沈降する大粒径
の塵埃でも完全に除去できる。■垂直下降流の形成は、
内部に設置された装置の形状、設置位置く影響されるこ
とがないので、作業領域内におけるレイアウトの自由度
が高くなる。■グレーチングに取込まれた空気もいった
んフィルタを介して再浄化してから外部に放出するよう
Ｋしているので、このクリーンブースが設置されている
空間の清浄度を低下させることがない。

【図面の簡単な説明】

ｌａ１図は本発明の一実施例のクリーンブースの構成図
、第２図は従来技術の説明図である。（１）二床　部。（４）：清浄気流。（８）：ビニールカーテン（空気流遮蔽手段）。（１０）　：グレーチング。（１４）　：メンズレイン・フィルタ。

Claims

【特許請求の範囲】

天井部から清浄気流を作業空間内にて垂直下方に吹出す
クリーンブースにおいて、開閉自在に設けられ且つ上記
作業空間を外部の空気の流れから遮蔽する空気流遮蔽手
段と、上記作業空間の床部に設けられ上記天井部から吹
出された清浄気流を吸込むグレーチングと、このグレー
チングにより吸込まれた清浄気流をろ過して外部に排出
するフィルタとを具備することを特徴とするクリーンブ
ース。