JPS61211642A - 半導体製造用空気清浄化設備 - Google Patents
半導体製造用空気清浄化設備Info
- Publication number
- JPS61211642A JPS61211642A JP61059217A JP5921786A JPS61211642A JP S61211642 A JPS61211642 A JP S61211642A JP 61059217 A JP61059217 A JP 61059217A JP 5921786 A JP5921786 A JP 5921786A JP S61211642 A JPS61211642 A JP S61211642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- work space
- maintenance
- area
- room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Central Air Conditioning (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は空気調和装置に関する。
半導体装置等の製造において、半導体薄板（ウェハ）に
フォトリソグラフィ処理や拡散処理等を行なういわゆる
ウェハ処理作業があるが、この作業は極端に塵埃の混入
を嫌い、また温度や湿度の変化を嫌う。このため、作業
室の空気清浄化（クリーン化）を主にした空気調整法は
、従来、（１）、室内全体を清浄度（クラス）１０００
０程度にクリーン化し、作業する部分のみクリーンベン
チでクラス１００に高清浄度化する空気清浄化機構、（
２）、室内の天井全体から清浄空気を吹き出し、すのこ
状の床全域から排気して室内全体をクラス１００〜ｌＯ
に高清浄度化するいわゆるダウン７０一式空気清浄化機
構が採用されている。
フォトリソグラフィ処理や拡散処理等を行なういわゆる
ウェハ処理作業があるが、この作業は極端に塵埃の混入
を嫌い、また温度や湿度の変化を嫌う。このため、作業
室の空気清浄化（クリーン化）を主にした空気調整法は
、従来、（１）、室内全体を清浄度（クラス）１０００
０程度にクリーン化し、作業する部分のみクリーンベン
チでクラス１００に高清浄度化する空気清浄化機構、（
２）、室内の天井全体から清浄空気を吹き出し、すのこ
状の床全域から排気して室内全体をクラス１００〜ｌＯ
に高清浄度化するいわゆるダウン７０一式空気清浄化機
構が採用されている。
以下余白
しかし、前者では清浄度の低い空間を作業者が動き回っ
て作業するため塵埃が舞い上がり、清浄度を高くしてい
るクリーンベンチ内に入り込み、クリーンベンチはクラ
ス１００を維持できなくなり、ウェハが汚染されウェハ
処理の歩留が低下する。また、後者のダウン７０一式は
室内全体を高い清浄度と温度、湿度制御精度内に保つた
め、建屋および空気調整施設が高価となるとともに維持
費も高くなる。
て作業するため塵埃が舞い上がり、清浄度を高くしてい
るクリーンベンチ内に入り込み、クリーンベンチはクラ
ス１００を維持できなくなり、ウェハが汚染されウェハ
処理の歩留が低下する。また、後者のダウン７０一式は
室内全体を高い清浄度と温度、湿度制御精度内に保つた
め、建屋および空気調整施設が高価となるとともに維持
費も高くなる。
したがって本発明の目的とするところは、上述したよう
な従来技術の諸欠点を解決し、設備費。
な従来技術の諸欠点を解決し、設備費。
維持管理費が安価な空気調和装置を提供することＫある
。
。
このような目的を達成するために本発明は作業空間を相
互に空気調整度の異なる複数の作業空間気清浄化及び温
度、湿度調整を作業目的に応じて適正に行なうようにし
てなる空気調和装置とするものである。このような空気
調和装置とすることにより、作業空間を空気清浄度や温
度、湿度調整度合の高低によって複数の作業空間に区分
し、空気清浄度や温度、湿度調整度合を高く必要とする
作業空間をそれよりも空気清浄度や温度、温度調整度合
をそれほど必要としない作業空間に比しその空間内を陽
圧とすることができ、またそれによって前者の排気を後
者に流し込み後者の空気清浄度並びに温度、湿度調整の
維持管理を行なうようにし得ることができ安価な維持！
理ができるなどの前記した本発明の種々の目的を達成で
きるものである。
互に空気調整度の異なる複数の作業空間気清浄化及び温
度、湿度調整を作業目的に応じて適正に行なうようにし
てなる空気調和装置とするものである。このような空気
調和装置とすることにより、作業空間を空気清浄度や温
度、湿度調整度合の高低によって複数の作業空間に区分
し、空気清浄度や温度、湿度調整度合を高く必要とする
作業空間をそれよりも空気清浄度や温度、温度調整度合
をそれほど必要としない作業空間に比しその空間内を陽
圧とすることができ、またそれによって前者の排気を後
者に流し込み後者の空気清浄度並びに温度、湿度調整の
維持管理を行なうようにし得ることができ安価な維持！
理ができるなどの前記した本発明の種々の目的を達成で
きるものである。
以下、本発明Ｋかかる実施例を用いて本発明を具体的に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例による空気調和装置の断面図
である。同図に示すように、建Ｊｆｉｌはフォトリソグ
ラフィ装置、拡散炉、熱酸化炉とい５熱処理装置等の各
種の処理装置２を配置する装置配置領域３と、これらの
各処理装置２のメインティナンスを行なう保全領域４と
、作業者５が移動する通路となるとともに各処理装置２
を操作する作業領域６とを有している。また、各保全領
域るは区分体７によって装置配置領域３および作業領域
６から区分されている。また、前記装置配置領域、３に
はそれぞれ空気清浄化装置８が配設されている。この空
気清浄化装置８は前記区分体７を兼ねる内部が中空とな
る背面ダクト部９と、この背面ダクト部９の上端部に設
けられ処理装置２の上方に延在する気体吹出部ｌＯとか
らなっている。
である。同図に示すように、建Ｊｆｉｌはフォトリソグ
ラフィ装置、拡散炉、熱酸化炉とい５熱処理装置等の各
種の処理装置２を配置する装置配置領域３と、これらの
各処理装置２のメインティナンスを行なう保全領域４と
、作業者５が移動する通路となるとともに各処理装置２
を操作する作業領域６とを有している。また、各保全領
域るは区分体７によって装置配置領域３および作業領域
６から区分されている。また、前記装置配置領域、３に
はそれぞれ空気清浄化装置８が配設されている。この空
気清浄化装置８は前記区分体７を兼ねる内部が中空とな
る背面ダクト部９と、この背面ダクト部９の上端部に設
けられ処理装置２の上方に延在する気体吹出部ｌＯとか
らなっている。
気体吹出部１０には保全領域（建屋１の内壁、床。
天井および区分体７によって保全室となる。）側の空気
吸入口１１がら空気を吸い込み、フィルタ１２で浄化し
て気体吹出部１０の下面の吹出口１３から清浄な空気を
吹き出すファン１４を含む浄化ユニット１５が配設され
ている。また、背面ダクト部９の下部には排気口１６が
設けられ、処理装置２の下部背面の汚れた空気はこの排
気口１６から背面ダクト部９内に入り、また保全室番の
一部の空気は、連通口１７から背面ダクト部９内に入り
、両者め空気は再び浄化ユニット１５の吸気側に流れ込
む。なお、背面ダクト部９の中途部に温度湿度調節器２
８が組込まれており、これにより背面ダクト部９内を流
れる空気の温度及び湿度を所望の値に制御することがで
きるようになっている。
吸入口１１がら空気を吸い込み、フィルタ１２で浄化し
て気体吹出部１０の下面の吹出口１３から清浄な空気を
吹き出すファン１４を含む浄化ユニット１５が配設され
ている。また、背面ダクト部９の下部には排気口１６が
設けられ、処理装置２の下部背面の汚れた空気はこの排
気口１６から背面ダクト部９内に入り、また保全室番の
一部の空気は、連通口１７から背面ダクト部９内に入り
、両者め空気は再び浄化ユニット１５の吸気側に流れ込
む。なお、背面ダクト部９の中途部に温度湿度調節器２
８が組込まれており、これにより背面ダクト部９内を流
れる空気の温度及び湿度を所望の値に制御することがで
きるようになっている。
また、別の空気清浄化装置８においては排気口１６から
出た空気は、保全室４の空気とまざり合って、空気吸入
口１１に流れ込むようになっている。この気体の流れ方
向はファン１４によって装置配置領域３の空気圧が保全
室４の空気圧よりも高くなるようになっているすなわち
装置配置領域３が保全室４より陽圧状態になっているこ
とから変化することはない。
出た空気は、保全室４の空気とまざり合って、空気吸入
口１１に流れ込むようになっている。この気体の流れ方
向はファン１４によって装置配置領域３の空気圧が保全
室４の空気圧よりも高くなるようになっているすなわち
装置配置領域３が保全室４より陽圧状態になっているこ
とから変化することはない。
一方、作業領域６の天井には給気ダクト１８が接続され
、この給気ダクト１８によって供給される空気はフィル
タ１９を通ってさらに清浄化され、天井全域から床に向
かって吹き出される。また、床はすのこ状となり排気ダ
クト２０に連通し、かつ負圧に引かれるようになってい
る。このため、作業領域６では空気は天井から床に向か
ってあたかも従来のダウンフロ一式の空気清浄化機構の
ように層流となって流れる。また、排気ダクト２０に流
れ込んだ空気は排気ダクトの一端側から空気調整装置２
４の吸気側２５に流れ込み、清浄化および温度、湿度が
調整された後は空気調整装置２４の吐出口側２６から吐
き出されて再び前記給気ダクト１８に送り込まれる。
、この給気ダクト１８によって供給される空気はフィル
タ１９を通ってさらに清浄化され、天井全域から床に向
かって吹き出される。また、床はすのこ状となり排気ダ
クト２０に連通し、かつ負圧に引かれるようになってい
る。このため、作業領域６では空気は天井から床に向か
ってあたかも従来のダウンフロ一式の空気清浄化機構の
ように層流となって流れる。また、排気ダクト２０に流
れ込んだ空気は排気ダクトの一端側から空気調整装置２
４の吸気側２５に流れ込み、清浄化および温度、湿度が
調整された後は空気調整装置２４の吐出口側２６から吐
き出されて再び前記給気ダクト１８に送り込まれる。
他方、前記排気ダク）２０に流れ込んだ空気の一部は保
全室４に繋がる環流ダク）２１Ｖｃ流れ込むようになっ
ている。また、保全室瘍には給気ダクトからも清浄な空
気が給気分岐管ｚ２を通って送り込まれ、浄化ユニット
１５の空気吸入口１１から吸入される空気の清浄度を高
めると共に温度湿度の調整を行なう。なお、図中で示す
矢印群は空気の流れ方向を示すとともＫ、その太さによ
って流量の大小の概略を示す。
全室４に繋がる環流ダク）２１Ｖｃ流れ込むようになっ
ている。また、保全室瘍には給気ダクトからも清浄な空
気が給気分岐管ｚ２を通って送り込まれ、浄化ユニット
１５の空気吸入口１１から吸入される空気の清浄度を高
めると共に温度湿度の調整を行なう。なお、図中で示す
矢印群は空気の流れ方向を示すとともＫ、その太さによ
って流量の大小の概略を示す。
つぎに、建屋内の空気清浄について説明する。
清浄化装置８により空気の循環回数が多くなることによ
って、クラス１００〜１０程度の清浄度な維持できるよ
５になっている。また、装置配置領域８の空気圧は作業
領域６の空気圧よりも高くなっている（陽圧状態となっ
ている）ため、作業領域６の空気が装置配置領域３、す
なわち作業者の作業操作領域に入りにくくなっており、
また、作業領域６の空気のほとんどは浄化ユニット１５
の吹出口１８から出る空気で占められ、またその清浄度
は装置配置領域３と近似しているため、たとえ作業者の
移動による乱流が生じたとしても装置配置領域８の清浄
度は高く維持され、ワークの汚染が防止される。また、
保全室４にも直接給気ダクト１８から清浄な空気が一部
送り込まれるが、保全室４の清浄度は作業領域６の排気
空気の多量導入によって維持され、たとえばクラス１０
０程度に維持されるようになっている。また、前記作業
領域６の清浄化機構、すなわちフィルタ１９から供給さ
れる空気は作業によって排気される空気の補充以外に室
内の温度、湿度等のコントロールの役割を果たす。した
がって、空気の供給量等は作業目的に合せて決定する。
って、クラス１００〜１０程度の清浄度な維持できるよ
５になっている。また、装置配置領域８の空気圧は作業
領域６の空気圧よりも高くなっている（陽圧状態となっ
ている）ため、作業領域６の空気が装置配置領域３、す
なわち作業者の作業操作領域に入りにくくなっており、
また、作業領域６の空気のほとんどは浄化ユニット１５
の吹出口１８から出る空気で占められ、またその清浄度
は装置配置領域３と近似しているため、たとえ作業者の
移動による乱流が生じたとしても装置配置領域８の清浄
度は高く維持され、ワークの汚染が防止される。また、
保全室４にも直接給気ダクト１８から清浄な空気が一部
送り込まれるが、保全室４の清浄度は作業領域６の排気
空気の多量導入によって維持され、たとえばクラス１０
０程度に維持されるようになっている。また、前記作業
領域６の清浄化機構、すなわちフィルタ１９から供給さ
れる空気は作業によって排気される空気の補充以外に室
内の温度、湿度等のコントロールの役割を果たす。した
がって、空気の供給量等は作業目的に合せて決定する。
このような実施例によれば、処理装置２周辺はクラス１
００〜ｌ０Ｉｃ維持されるとともに１作業者が動きまわ
る作業領域６も常にクラス１００に維持されるため、ワ
ークの汚染は極め【少なくなり、歩留が向上する。また
、高い清浄度を必要とする領域（作業領域）を主として
清浄化するだけで、する構造となっているため、設備の
維持管理費は従来のダウンフロ一式に較べて約８０〜５
０％低減できる。また、同じ理由により空気調整設備設
置面積も約３０−低減できる。
００〜ｌ０Ｉｃ維持されるとともに１作業者が動きまわ
る作業領域６も常にクラス１００に維持されるため、ワ
ークの汚染は極め【少なくなり、歩留が向上する。また
、高い清浄度を必要とする領域（作業領域）を主として
清浄化するだけで、する構造となっているため、設備の
維持管理費は従来のダウンフロ一式に較べて約８０〜５
０％低減できる。また、同じ理由により空気調整設備設
置面積も約３０−低減できる。
なお、本発明は前記実施例１ｃ限定されない。たとえば
、第２図に示すように、処理装置２の清浄化は空気清浄
化装置８により背面で行なうよ５にしてもよい。また、
本発明は相互に空気清浄度の異なる複数の作業空間を必
要とする作業室の空気清浄化に適用できる。
、第２図に示すように、処理装置２の清浄化は空気清浄
化装置８により背面で行なうよ５にしてもよい。また、
本発明は相互に空気清浄度の異なる複数の作業空間を必
要とする作業室の空気清浄化に適用できる。
以上のよ５に、本発明の空気清浄化機構によれば所望空
間をそれぞれ所望の清浄度に保つことができるとともに
、設備費、維持費を低減することができる。
間をそれぞれ所望の清浄度に保つことができるとともに
、設備費、維持費を低減することができる。
第１図は本発明の一実施例による空気調和装置の断面図
、第２図は本発明の他の実施例による空気調和装置の一
部断面図である。
、第２図は本発明の他の実施例による空気調和装置の一
部断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも２区分されてなりそれらのそれぞれが空
気調和を必要とする作業空間を有し、少なくとも１つの
作業空間に清浄化され温度及び湿度が調整された空気を
流入しうる空気調整装置がその作業空間の上方部に連通
されていると共に、その作業空間の下方部に設けられた
排気口が他の作業空間の下方部に設けられた吸気口に連
通されてなり、前者の作業空間の空気圧が後者の作業空
間の空気圧より陽圧となっており、また後者の作業空間
の空気の一部の空気清浄を行なったのち前者の作業空間
にその空気を流出させる空気清浄装置を備えてなること
を特徴とする空気調和装置。 ２、少なくとも２区分されてなる作業空間における陽圧
状態の作業空間にはワークを処理する処理装置が設置さ
れてなり、前記作業空間よりも負圧状態の作業空間は前
記処理装置のメンテナンスを行なう室として使用されて
いる特許請求の範囲第１項記載の空気調和装置。 ３、上記空気清浄装置から流出される清浄空気は主に上
記処理装置に向かって供給されるようにしたことを特徴
とする特許請求の範囲第２項記載の空気調和装置。 ４、少なくとも２区分されてなる作業空間における陽圧
状態の作業空間にはワークを処理する処理装置が設置さ
れてなり、その処理装置の少なくとも１つの処理装置に
は空気清浄装置が付加されてなる特許請求の範囲第１項
又は第２項記載の空気調和装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059217A JPS61211642A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体製造用空気清浄化設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059217A JPS61211642A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体製造用空気清浄化設備 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6394080A Division JPS56162336A (en) | 1980-05-16 | 1980-05-16 | Air conditioner |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61211642A true JPS61211642A (ja) | 1986-09-19 |
| JPH0350939B2 JPH0350939B2 (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=13106995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61059217A Granted JPS61211642A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 半導体製造用空気清浄化設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61211642A (ja) |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP61059217A patent/JPS61211642A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0350939B2 (ja) | 1991-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6231258B2 (ja) | ||
| JPH0330060B2 (ja) | ||
| JPS58129125A (ja) | 清浄作業室 | |
| JPS61211642A (ja) | 半導体製造用空気清浄化設備 | |
| JP3773327B2 (ja) | 空調装置 | |
| JP2551923Y2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP3833041B2 (ja) | 省エネルギー型クリーンルーム | |
| JPS61211643A (ja) | 空気調和装置 | |
| JP2001056140A (ja) | クリーンルーム | |
| JPH02293554A (ja) | クリーンルームシステム | |
| JPS62739A (ja) | 半導体製造用空気調和方法 | |
| JPS629135A (ja) | 空気調和装置 | |
| JP3354849B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JPS62268941A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPH05322250A (ja) | 半導体装置の無塵製造装置及び空調方法 | |
| JP3279363B2 (ja) | ダウンフロー方式のクリーンルームの拍動気流制御方法及びその装置 | |
| JPS61291850A (ja) | 空気清浄装置 | |
| JP2987990B2 (ja) | クリーンルーム空調システム | |
| JP2612198B2 (ja) | 空気調和装置 | |
| JPH0356827Y2 (ja) | ||
| JPS61168736A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPS58129123A (ja) | 清浄作業室 | |
| JPS62740A (ja) | 半導体製造用空気調和装置 | |
| JP2747024B2 (ja) | 清浄室 | |
| JPS6034279Y2 (ja) | 無塵室装置 |