JPH0356827Y2 - - Google Patents
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- JPH0356827Y2 JPH0356827Y2 JP1986121795U JP12179586U JPH0356827Y2 JP H0356827 Y2 JPH0356827 Y2 JP H0356827Y2 JP 1986121795 U JP1986121795 U JP 1986121795U JP 12179586 U JP12179586 U JP 12179586U JP H0356827 Y2 JPH0356827 Y2 JP H0356827Y2
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- Japan
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- equipment
- area
- exhaust port
- air
- manufacturing equipment
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- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 23
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
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- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Ventilation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本考案は、製造機器用設置空間部における集塵
装置に係わり、特に、超LSI、IC等の製造機器が
設置される空間部の塵埃を除去する場合に用いて
好適な集塵装置に関するものである。
装置に係わり、特に、超LSI、IC等の製造機器が
設置される空間部の塵埃を除去する場合に用いて
好適な集塵装置に関するものである。
「従来の技術」
一般に、空気中の塵埃を嫌う製品を生産する生
産施設、例えば、超LSIやIC等の半導体の生産施
設では、作業雰囲気における清浄度がそのまま製
品の歩留りに結び付くために、製造機器を隔離し
た空間内に設置するとともに、この隔離された空
間に集塵装置を連設して、内部の塵埃を除去する
ことが行われており、集塵形式等の違いにより、
クリーンルーム、クリーンベンチ、クリーントン
ネル等と称呼され、前記クリーンルームの一従来
例として、例えば、第4図に示す構造のものが知
られている。
産施設、例えば、超LSIやIC等の半導体の生産施
設では、作業雰囲気における清浄度がそのまま製
品の歩留りに結び付くために、製造機器を隔離し
た空間内に設置するとともに、この隔離された空
間に集塵装置を連設して、内部の塵埃を除去する
ことが行われており、集塵形式等の違いにより、
クリーンルーム、クリーンベンチ、クリーントン
ネル等と称呼され、前記クリーンルームの一従来
例として、例えば、第4図に示す構造のものが知
られている。
第4図において、符号Aはクリーンルームであ
り、全体が外壁1によつて外界から隔離されてい
る。
り、全体が外壁1によつて外界から隔離されてい
る。
該クリーンルームAは、その内部が、作業者の
移動空間となる作業者領域Bと、該作業者領域B
に沿つて併設され、製造機器2が設置される装置
領域Cと、該装置領域Cを挟んで前記作業者領域
Bと反対側に併設された機器保全領域Dとに区画
され、前記装置領域Cと機器保全領域Dとは、製
造機器2に近接して設けられた仕切り壁3によつ
て隔離されており、それぞれの領域の上部は天井
板4によつて覆われ、かつ、下部は床板5によつ
て覆われている。また、前記床板5の一部には、
グレーチング6等の多孔材が用いられ、床板5の
下部に形成された連通路Eを介して前記各領域を
相互に連通させるようになつている。
移動空間となる作業者領域Bと、該作業者領域B
に沿つて併設され、製造機器2が設置される装置
領域Cと、該装置領域Cを挟んで前記作業者領域
Bと反対側に併設された機器保全領域Dとに区画
され、前記装置領域Cと機器保全領域Dとは、製
造機器2に近接して設けられた仕切り壁3によつ
て隔離されており、それぞれの領域の上部は天井
板4によつて覆われ、かつ、下部は床板5によつ
て覆われている。また、前記床板5の一部には、
グレーチング6等の多孔材が用いられ、床板5の
下部に形成された連通路Eを介して前記各領域を
相互に連通させるようになつている。
また、前記作業者領域B、および、装置領域C
の上方には、HEPA(High Efficiency
Particulate Air)フイルタやULPA(Ultra Low
Penetration Air)フイルタ等の集塵材7を備え
た給気チヤンバ8が設けられ、これらの給気チヤ
ンバ8は、天井に設けられた給気ダクト9を経て
主空調機(図示略)に連絡され、前記装置領域C
の上方に設けられた吸気チヤンバ8には、環気フ
アン10が取り付けられていて、前記機器保全領
域D内の空気を前記給気チヤンバ8へ送り込むよ
うになつている。
の上方には、HEPA(High Efficiency
Particulate Air)フイルタやULPA(Ultra Low
Penetration Air)フイルタ等の集塵材7を備え
た給気チヤンバ8が設けられ、これらの給気チヤ
ンバ8は、天井に設けられた給気ダクト9を経て
主空調機(図示略)に連絡され、前記装置領域C
の上方に設けられた吸気チヤンバ8には、環気フ
アン10が取り付けられていて、前記機器保全領
域D内の空気を前記給気チヤンバ8へ送り込むよ
うになつている。
さらに、前記仕切り壁3の製造機器2の上面近
傍には、前記装置領域Cと機器保全領域Dとの連
通をなす排気口11が形成されている。
傍には、前記装置領域Cと機器保全領域Dとの連
通をなす排気口11が形成されている。
そして、このように構成されたクリーンルーム
Aは、給気ダクト9から送り込まれる清浄空気
を、第4図に矢印で示すように、各給気チヤンバ
8および集塵材7を経て作業者領域Bおよび装置
領域Cへ向けて吹き出すとともに、該清浄空気を
装置領域Cにおいては、前記仕切り壁3に形成さ
れた排気口11を介して機器保全領域Dへ循環さ
せ、また、作業者領域Bにおいては、グレーチン
グ6および連通路Eを介して前記機器保全領域D
へ循環させ、さらに、機器保全領域Dに循環させ
られた清浄空気を環気フアン10によつて前記給
気チヤンバ8へ戻して、クリーンルームA内を循
環させることにより、各領域に存在する塵埃を給
気チヤンバ8内に運び込むとともに、清浄空気が
前記集塵材7を通過する間に、前記塵埃を集塵材
7に吸着させて除去し、これによつて、前記各領
域の空気を清浄化するようにしている。
Aは、給気ダクト9から送り込まれる清浄空気
を、第4図に矢印で示すように、各給気チヤンバ
8および集塵材7を経て作業者領域Bおよび装置
領域Cへ向けて吹き出すとともに、該清浄空気を
装置領域Cにおいては、前記仕切り壁3に形成さ
れた排気口11を介して機器保全領域Dへ循環さ
せ、また、作業者領域Bにおいては、グレーチン
グ6および連通路Eを介して前記機器保全領域D
へ循環させ、さらに、機器保全領域Dに循環させ
られた清浄空気を環気フアン10によつて前記給
気チヤンバ8へ戻して、クリーンルームA内を循
環させることにより、各領域に存在する塵埃を給
気チヤンバ8内に運び込むとともに、清浄空気が
前記集塵材7を通過する間に、前記塵埃を集塵材
7に吸着させて除去し、これによつて、前記各領
域の空気を清浄化するようにしている。
「考案が解決しようとする問題点」
本考案は、前述した従来の技術における次のよ
うな問題点を解消せんとするものである。
うな問題点を解消せんとするものである。
すなわち、前述した技術においては、装置領域
Cへ送り込まれた清浄空気を、仕切り壁3に形成
された排気口11から機器保全領域Dへ排出する
ことによつて、前記装置領域C内の塵埃を給気チ
ヤンバ8へ送り込むようにしているが、前記排気
口11が、前記製造機器2の上面近傍に形成され
ていることから、装置領域C内の清浄空気が製造
機器2の熱によつて加熱された際に、該清浄空気
の流れに乱れが生じるとともに、第5図に示すよ
うに、仕切り壁3の近傍に渦Gが発生し、該渦に
装置領域C内の塵埃が取り込まれて、該装置領域
C内に滞留させられてしまうといつた問題点であ
る。
Cへ送り込まれた清浄空気を、仕切り壁3に形成
された排気口11から機器保全領域Dへ排出する
ことによつて、前記装置領域C内の塵埃を給気チ
ヤンバ8へ送り込むようにしているが、前記排気
口11が、前記製造機器2の上面近傍に形成され
ていることから、装置領域C内の清浄空気が製造
機器2の熱によつて加熱された際に、該清浄空気
の流れに乱れが生じるとともに、第5図に示すよ
うに、仕切り壁3の近傍に渦Gが発生し、該渦に
装置領域C内の塵埃が取り込まれて、該装置領域
C内に滞留させられてしまうといつた問題点であ
る。
このような問題点は、装置領域Cやクリーンル
ームA全体の清浄度の低下を招いてしまい、ひい
ては製品の品質に大きな影響を与えてしまう。
ームA全体の清浄度の低下を招いてしまい、ひい
ては製品の品質に大きな影響を与えてしまう。
「問題点を解決するための手段」
本考案は、前述した従来の技術における問題点
を有効に解消し得る製造機器用設置空間部におけ
る集塵装置を提供せんとするもので、該集塵装置
は、特に、製造機器が配設される装置領域と、該
装置領域に隣接して設けられるとともに、前記製
造機器に近接して設けられた仕切り壁によつて前
記装置領域から分離された機器保全領域とからな
る製造機器用設置空間に設けられ、これら両空間
部間に清浄空気を環流させて内部の塵埃を除去す
るようにした集塵装置であつて、前記製造機器か
ら仕切り壁の長さ方向に離間して配置されるとと
もに、該製造機器に向かいかつ前記仕切り壁に沿
つて清浄空気を送り込む空気供給部と、該製造機
器に向かいかつ前記仕切り壁に沿つて清浄空気を
送り込む空気供給部と、前記仕切り壁に前記製造
機器の上方で形成されて前記空気供給部から送り
込まれる清浄空気を前記機器保全領域へ排出する
主排気口と、主排気口の上方の仕切り壁に連設さ
れた複数の補助排気口とを具備し、主排気口及び
補助排気口は上方に行くに従つて小さく形成する
ことにより清浄空気を層流を保持した状態で排気
するように構成されていること、ならびに前記主
排気口または補助排気口には排出空気量を調整す
るダンパが取り付けられていることを特徴とす
る。
を有効に解消し得る製造機器用設置空間部におけ
る集塵装置を提供せんとするもので、該集塵装置
は、特に、製造機器が配設される装置領域と、該
装置領域に隣接して設けられるとともに、前記製
造機器に近接して設けられた仕切り壁によつて前
記装置領域から分離された機器保全領域とからな
る製造機器用設置空間に設けられ、これら両空間
部間に清浄空気を環流させて内部の塵埃を除去す
るようにした集塵装置であつて、前記製造機器か
ら仕切り壁の長さ方向に離間して配置されるとと
もに、該製造機器に向かいかつ前記仕切り壁に沿
つて清浄空気を送り込む空気供給部と、該製造機
器に向かいかつ前記仕切り壁に沿つて清浄空気を
送り込む空気供給部と、前記仕切り壁に前記製造
機器の上方で形成されて前記空気供給部から送り
込まれる清浄空気を前記機器保全領域へ排出する
主排気口と、主排気口の上方の仕切り壁に連設さ
れた複数の補助排気口とを具備し、主排気口及び
補助排気口は上方に行くに従つて小さく形成する
ことにより清浄空気を層流を保持した状態で排気
するように構成されていること、ならびに前記主
排気口または補助排気口には排出空気量を調整す
るダンパが取り付けられていることを特徴とす
る。
「作用」
本考案に係わる製造機器用設置空間部における
集塵装置は、装置領域の清浄空気を機器保全領域
に排出するに際し、主排気口と、該主排気口より
も清浄空気の上流側に形成した補助排気口を介し
て行うことにより、製造機器の加熱によつて渦が
発生しやすい部分の清浄空気を積極的に機器保全
領域へ排出して、装置領域の清浄空気の流れを層
流状態に保持するとともに、渦の発生を防止する
ものである。
集塵装置は、装置領域の清浄空気を機器保全領域
に排出するに際し、主排気口と、該主排気口より
も清浄空気の上流側に形成した補助排気口を介し
て行うことにより、製造機器の加熱によつて渦が
発生しやすい部分の清浄空気を積極的に機器保全
領域へ排出して、装置領域の清浄空気の流れを層
流状態に保持するとともに、渦の発生を防止する
ものである。
「実施例」
以下、本考案を製造機器用設置空間としてのク
リーンルームに適用した一実施例について、第1
図および第2図を参照して説明する。なお、以下
の説明中、第4図および第5図と共通する部分は
同一符号を用いて説明を簡略化する。
リーンルームに適用した一実施例について、第1
図および第2図を参照して説明する。なお、以下
の説明中、第4図および第5図と共通する部分は
同一符号を用いて説明を簡略化する。
第1図中、符号20は本実施例に係わるクリー
ンルームを示し、該クリーンルーム20は、製造
機器2が配置される装置領域Cと、該装置領域C
に隣接して設けられるとともに、前記製造機器2
に近接して設けられた仕切り壁21によつて前記
装置領域Cから分離された機器保全領域Dと、前
記装置領域Cを挟んで前記機器保全領域Dと反対
側に設けられた作業者領域Bとに区画されてい
る。
ンルームを示し、該クリーンルーム20は、製造
機器2が配置される装置領域Cと、該装置領域C
に隣接して設けられるとともに、前記製造機器2
に近接して設けられた仕切り壁21によつて前記
装置領域Cから分離された機器保全領域Dと、前
記装置領域Cを挟んで前記機器保全領域Dと反対
側に設けられた作業者領域Bとに区画されてい
る。
前記作業者領域Bおよび装置領域Cの上部のそ
れぞれには、集塵材7を有する給気チヤンバ8が
配設され、天井に設けられた給気ダクト9を経て
主空調機へ連結され、かつ、前記機器保全領域D
へ突出して設けられた環気フアン10を介して機
器保全領域Dへ連絡されている。
れぞれには、集塵材7を有する給気チヤンバ8が
配設され、天井に設けられた給気ダクト9を経て
主空調機へ連結され、かつ、前記機器保全領域D
へ突出して設けられた環気フアン10を介して機
器保全領域Dへ連絡されている。
また、各作業者領域B、装置領域Cおよび機器
保全領域Dは、その下部において、床板5を構成
するグレーチング6および床板5の下部に形成さ
れた連通路Eを介して相互に連通状態となされて
いる。
保全領域Dは、その下部において、床板5を構成
するグレーチング6および床板5の下部に形成さ
れた連通路Eを介して相互に連通状態となされて
いる。
そして、前記装置領域Cと機器保全領域Dとを
分離する前記仕切り壁21に、本実施例の特徴部
分である主排気口22と、該主排気口22から前
記給気チヤンバ8へ向かつて間隔をおいた複数の
補助排気口23とが形成されている。
分離する前記仕切り壁21に、本実施例の特徴部
分である主排気口22と、該主排気口22から前
記給気チヤンバ8へ向かつて間隔をおいた複数の
補助排気口23とが形成されている。
前記主排気口22は、前記製造機器2の上面近
傍に形成されて、前記給気ダクト9から装置領域
Cへ送り込まれる清浄空気を機器保全領域Dへ排
気する際の主な通気通路となされている。
傍に形成されて、前記給気ダクト9から装置領域
Cへ送り込まれる清浄空気を機器保全領域Dへ排
気する際の主な通気通路となされている。
前記補助排気口23は、本実施例においては垂
直方向に間隔をおいて2箇所で、かつ、装置領域
Cの長さ方向(水平方向)全長に亙つて形成され
ており、それぞれの形状および設置位置について
の好適な例を、第2図に基づき説明すれば以下の
とおりである。
直方向に間隔をおいて2箇所で、かつ、装置領域
Cの長さ方向(水平方向)全長に亙つて形成され
ており、それぞれの形状および設置位置について
の好適な例を、第2図に基づき説明すれば以下の
とおりである。
なお、各補助排気口23は、上下で給気ダクト
9の給引力に応じた排気能力を略等しくすること
により安定な層流を形成するべく、上方に行くほ
ど小さく形成されている。
9の給引力に応じた排気能力を略等しくすること
により安定な層流を形成するべく、上方に行くほ
ど小さく形成されている。
D>d1>d2 ……(1)
L>2D>L1 ……(2)
但し、
D;主排気口22の内径
d1;第1の補助排気口23aの内径
d2;第2の補助排気口23bの内径
L;主排気口22と第1の補助排気口との間隔
L1;第1および第2の補助排気口間の間隔
をそれぞれ示す。
また、装置領域Cの長さ方向における間隔は、
主排気口22の間隔と同様である。
主排気口22の間隔と同様である。
次に、前述した構成のクリーンルーム20の作
用について説明する。
用について説明する。
まず、主空調機から給気ダクト9を通つて送ら
れた空気が、天井に設けられた各給気チヤンバ8
へ供給されたのちに、集塵材7を通過させられる
間に清浄化されて、作業者領域Bおよび装置領域
C内へ吹き出される。
れた空気が、天井に設けられた各給気チヤンバ8
へ供給されたのちに、集塵材7を通過させられる
間に清浄化されて、作業者領域Bおよび装置領域
C内へ吹き出される。
このように作業者領域Bや装置領域C内に吹き
出された空気は、前者においては、第1図に矢印
イで示すように、ほぼ直線的に下降させられたの
ちに、床板5のグレーチング6から連通路Eを介
して機器保全領域Dへ送り込まれ、さらに、環気
フアン10によつて前記給気チヤンバ8へ戻され
る。また、装置領域C内に吹き出された空気は、
その一部が、前記作業者領域Bへ送り込まれて、
該作業者領域Bを流れる空気流とともに、前記矢
印イで示す経路で循環させられ、残余の空気が、
第1図に矢印ロで示すように、前記製造機器2の
上面を掃くように移動させられたのちに、主排気
口22から機器保全領域Dへ送り込まれる。そし
て、前記装置領域Cに吹き出された空気の内、仕
切り壁21に沿つて下降させられる空気の一部
が、前記製造機器2に至る前に、補助排気口2
3,23a,23bから機器補助領域Dへ送り込
まれ、そののちに、前記環気フアン10によつて
前記給気チヤンバ8へ戻される。
出された空気は、前者においては、第1図に矢印
イで示すように、ほぼ直線的に下降させられたの
ちに、床板5のグレーチング6から連通路Eを介
して機器保全領域Dへ送り込まれ、さらに、環気
フアン10によつて前記給気チヤンバ8へ戻され
る。また、装置領域C内に吹き出された空気は、
その一部が、前記作業者領域Bへ送り込まれて、
該作業者領域Bを流れる空気流とともに、前記矢
印イで示す経路で循環させられ、残余の空気が、
第1図に矢印ロで示すように、前記製造機器2の
上面を掃くように移動させられたのちに、主排気
口22から機器保全領域Dへ送り込まれる。そし
て、前記装置領域Cに吹き出された空気の内、仕
切り壁21に沿つて下降させられる空気の一部
が、前記製造機器2に至る前に、補助排気口2
3,23a,23bから機器補助領域Dへ送り込
まれ、そののちに、前記環気フアン10によつて
前記給気チヤンバ8へ戻される。
このような空気の環流によつて、作業者領域B
内の塵埃が、連通路Eおよび機器補助領域Dを経
て給気チヤンバ8へ運び込まれて集塵材に吸着さ
れ、また、装置領域Cおよび製造機器2上面の塵
埃が、主排気口22から機器保全領域Dへ排出さ
れるとともに、前記給気チヤンバ8において集塵
材7に吸着される。
内の塵埃が、連通路Eおよび機器補助領域Dを経
て給気チヤンバ8へ運び込まれて集塵材に吸着さ
れ、また、装置領域Cおよび製造機器2上面の塵
埃が、主排気口22から機器保全領域Dへ排出さ
れるとともに、前記給気チヤンバ8において集塵
材7に吸着される。
したがつて、各領域内の塵埃が集塵材7によつ
て吸着されて、クリーンルーム20内の空気が清
浄化される。
て吸着されて、クリーンルーム20内の空気が清
浄化される。
一方、仕切り壁21に沿つて下降させられる空
気が、製造機器2にから発せられる熱によつて加
熱させられた場合においても、前記空気の一部
が、主排気口22の上部において、補助排気口2
3,23a,23bから機器保全領域Dへ排出さ
れていることから、加熱によつて上昇させられた
空気が速やかに機器保全領域Dへ排出される。
気が、製造機器2にから発せられる熱によつて加
熱させられた場合においても、前記空気の一部
が、主排気口22の上部において、補助排気口2
3,23a,23bから機器保全領域Dへ排出さ
れていることから、加熱によつて上昇させられた
空気が速やかに機器保全領域Dへ排出される。
したがつて、主排気口22の上部における、前
述した加熱に起因した渦の発生が防止されるとと
もに、仮に渦が発生したとしても速やかに消滅さ
せられ、この結果、装置領域C内からの塵埃の排
出が効率よく行われる。
述した加熱に起因した渦の発生が防止されるとと
もに、仮に渦が発生したとしても速やかに消滅さ
せられ、この結果、装置領域C内からの塵埃の排
出が効率よく行われる。
前記補助排気口23は、一つの主排気口22に
対して、垂直方向に間隔をおいて2箇所に形成し
た例について示したが、これに限られるものでは
なく、主排気口に対して、装置領域C内に吹き込
まれる空気の流れの上流側に位置するように設け
てあればよい。また、補助排気口23は、2箇所
に限らず、例えば、第3図に示すように、4箇所
あるいは3箇所、また、それ以上形成してもよ
い。各補助排気口23内には可変ダンパ24が配
設されて各補助排気口23から排出される空気の
量を調整するようになつている。このような構成
とすることにより、クリーンルーム20内に送り
込まれる空気量の変化や、製造機器2から発せら
れる熱量の変化等に対応して、渦の発生防止に最
適な空気の排出量の制御を、迅速かつ精度よく行
うことができる。さらに、前述したクリーンルー
ムに限らず、クリーンベンチやクリーンブース、
あるいは、クリーントンネル等への適用ももちろ
ん可能である。
対して、垂直方向に間隔をおいて2箇所に形成し
た例について示したが、これに限られるものでは
なく、主排気口に対して、装置領域C内に吹き込
まれる空気の流れの上流側に位置するように設け
てあればよい。また、補助排気口23は、2箇所
に限らず、例えば、第3図に示すように、4箇所
あるいは3箇所、また、それ以上形成してもよ
い。各補助排気口23内には可変ダンパ24が配
設されて各補助排気口23から排出される空気の
量を調整するようになつている。このような構成
とすることにより、クリーンルーム20内に送り
込まれる空気量の変化や、製造機器2から発せら
れる熱量の変化等に対応して、渦の発生防止に最
適な空気の排出量の制御を、迅速かつ精度よく行
うことができる。さらに、前述したクリーンルー
ムに限らず、クリーンベンチやクリーンブース、
あるいは、クリーントンネル等への適用ももちろ
ん可能である。
「考案の効果」
以上説明したように、本考案に係わる製造機器
用設置空間部における集塵装置は、特に、製造機
器が配設される装置領域と、該装置領域に隣接し
て設けられるとともに、前記製造機器に近接して
設けられた仕切り壁によつて前記装置領域から分
離された機器保全領域とからなる製造機器用設置
空間に設けられ、これら両空間部間に清浄空気を
環流させて内部の塵埃を除去するようにした集塵
装置であつて、該製造機器に向かいかつ前記仕切
り壁に沿つて清浄空気を送り込む空気供給部と、
前記仕切り壁に前記製造機器の上方で形成されて
前記空気供給部から送り込まれる清浄空気を前記
機器保全領域へ排出する主排気口と、主排気口の
上方の仕切り壁に連設された複数の補助排気口と
を具備し、主排気口及び補助排気口は上方に行く
に従つて小さく形成することにより清浄空気を層
流を保持した状態で排気するように構成されてい
ること、ならびに前記主排気口または補助排気口
には排出空気量を調整するダンパが取り付けられ
ていることを特徴とするもので、装置領域の清浄
空気を機器保全領域に排出するに際し、主排気口
と、該主排気口よりも清浄空気の上流側に形成し
た補助排気口を介して行うことにより、製造機器
の加熱によつて渦が発生しやすい部分の清浄空気
を積極的に機器保全領域へ排出して、装置領域の
清浄空気の流れを安定した層流状態に保持して渦
の発生を防止するほか、清浄空気の排気量をダン
パで調整して、装置領域内の塵埃を効率よく外部
に排出して清浄効率を大幅に向上させることがで
きる等の優れた効果を奏する。
用設置空間部における集塵装置は、特に、製造機
器が配設される装置領域と、該装置領域に隣接し
て設けられるとともに、前記製造機器に近接して
設けられた仕切り壁によつて前記装置領域から分
離された機器保全領域とからなる製造機器用設置
空間に設けられ、これら両空間部間に清浄空気を
環流させて内部の塵埃を除去するようにした集塵
装置であつて、該製造機器に向かいかつ前記仕切
り壁に沿つて清浄空気を送り込む空気供給部と、
前記仕切り壁に前記製造機器の上方で形成されて
前記空気供給部から送り込まれる清浄空気を前記
機器保全領域へ排出する主排気口と、主排気口の
上方の仕切り壁に連設された複数の補助排気口と
を具備し、主排気口及び補助排気口は上方に行く
に従つて小さく形成することにより清浄空気を層
流を保持した状態で排気するように構成されてい
ること、ならびに前記主排気口または補助排気口
には排出空気量を調整するダンパが取り付けられ
ていることを特徴とするもので、装置領域の清浄
空気を機器保全領域に排出するに際し、主排気口
と、該主排気口よりも清浄空気の上流側に形成し
た補助排気口を介して行うことにより、製造機器
の加熱によつて渦が発生しやすい部分の清浄空気
を積極的に機器保全領域へ排出して、装置領域の
清浄空気の流れを安定した層流状態に保持して渦
の発生を防止するほか、清浄空気の排気量をダン
パで調整して、装置領域内の塵埃を効率よく外部
に排出して清浄効率を大幅に向上させることがで
きる等の優れた効果を奏する。
第1図および第2図は本考案の一実施例を示す
もので、第1図は一実施例が適用されたクリーン
ルームの縦断面図、第2図は要部の拡大図、第3
図は本考案の他の実施例を示す第2図と同様の
図、第4図および第5図は従来の集塵装置の一構
造例を示す第1図および第2図と同様の図であ
る。 2……製造機器、5……床板、6……グレーチ
ング、7……集塵材、8……給気チヤンバ、9…
…給気ダクト、10……環気フアン、20……ク
リーンルーム、21……仕切り壁、22……主排
気口、23,23a,23b……補助排気口、2
4……ダンパ。
もので、第1図は一実施例が適用されたクリーン
ルームの縦断面図、第2図は要部の拡大図、第3
図は本考案の他の実施例を示す第2図と同様の
図、第4図および第5図は従来の集塵装置の一構
造例を示す第1図および第2図と同様の図であ
る。 2……製造機器、5……床板、6……グレーチ
ング、7……集塵材、8……給気チヤンバ、9…
…給気ダクト、10……環気フアン、20……ク
リーンルーム、21……仕切り壁、22……主排
気口、23,23a,23b……補助排気口、2
4……ダンパ。
Claims (1)
- 製造機器が配設される装置領域と該装置領域に
隣接して設けられるとともに、前記製造機器に近
接して設けられた仕切り壁によつて前記装置領域
から分離された機器保全領域とからなる製造機器
用設置空間に設けられ、これら両空間部間に清浄
空気を還流させて内部の塵埃を除去するようにし
た集塵装置であつて、該製造機器に向かいかつ前
記仕切り壁に沿つて清浄空気を送り込む空気供給
部と、前記仕切り壁に前記製造機器の上方で形成
されて前記空気供給部から送り込まれる清浄空気
を前記機器保全領域へ排出する主排気口と、主排
気口の上方の仕切り壁に連設された複数の補助排
気口とを具備し、主排気口及び補助排気口は上方
に行くに従つて小さく形成することにより清浄空
気を層流を保持した状態で排気するように構成さ
れていること、ならびに前記主排気口または補助
排気口には排出空気量を調整するダンパが取り付
けられていることを特徴とする製造機器用設置空
間部における集塵装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986121795U JPH0356827Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986121795U JPH0356827Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6329031U JPS6329031U (ja) | 1988-02-25 |
JPH0356827Y2 true JPH0356827Y2 (ja) | 1991-12-24 |
Family
ID=31011394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986121795U Expired JPH0356827Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0356827Y2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168735A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | クリ−ンル−ム |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP1986121795U patent/JPH0356827Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168735A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | クリ−ンル−ム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6329031U (ja) | 1988-02-25 |
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