JPS58129123A - 清浄作業室 - Google Patents

清浄作業室

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Publication number
JPS58129123A
JPS58129123A JP57010011A JP1001182A JPS58129123A JP S58129123 A JPS58129123 A JP S58129123A JP 57010011 A JP57010011 A JP 57010011A JP 1001182 A JP1001182 A JP 1001182A JP S58129123 A JPS58129123 A JP S58129123A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
unit
clean
room
blow
Prior art date
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Pending
Application number
JP57010011A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuto Yagi
八木 克人
Yuji Isayama
諌山 雄二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57010011A priority Critical patent/JPS58129123A/ja
Publication of JPS58129123A publication Critical patent/JPS58129123A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体のIil!などに必要とする清浄な作
業環境をんり出す友めの嘴浄作li4室(クリーンルー
ム)に関する。
従来、半導体j11!造工程に用いられてい次清浄作a
′ijiの一例【第1図にボす、これは置市ダウン70
一式クリーンルームとよばれるもので、1は雌雄、2は
グリーンルーム型内、6は尚性能フィルタ、4は照明灯
、5は天井部多孔板、6は木部多孔板、7は空調用給気
ダクト、8はグ調用戻りダクト、9は露光、エツチング
、振数、メタライズ等の各装f1′yインの作業用機器
であり、図の矢印で示すように面注能フイルメ3で処理
しな清浄空気を天外全面かり層流状として室内2へ吹き
出し、体上を通して蚕V1空気を排出することにより、
室内全体をはlよ−に高清浄度(たとえばクラス1UO
)に輔持し、全工程の作業をこの清浄零囲気中で行える
ようにしている。
この全面ダウンブロ一式りリーノルームは室全体の清浄
度を高める上からは最良の方式とされて1/27tが、
次のような欠点t;ある。
(1)清浄化区域および空調対象区域が広く、高価な高
性能フィルタを多量に使用しているため、Wlt備費が
非常に高い。
(2)  空−繍持費、フィルタ交換費用などのランニ
ングコストが高い。
(3)  m全体の空ilIを行うため、製造ライン8
Il(工程別)の空調温度制御ができない。
(4)  製造ライン用機器や配管類の補修をクリーン
ルーム産肉て行うため、それによる発Jlが他の製造ラ
イン(工程)に及ぼす影響が大きい。
llI2図は従来用いられてい冷清浄作業室の他の例を
示す、これは、ajllの天井に高性能フィルタおよび
送風機を内蔵する空気浄化ユニット10を分散設置して
クリーンルーム家内2に清浄空気を吹き出し、S屋壁面
の下部に設は九排気口15から室内空気を排出すること
により、室内2の清浄度全クラ110,0004度に制
御し、allタライン用機器9片mが開放されたクリー
ンベンチ(清浄作業台)11をかぶせ、クリーンベンチ
11の天井部から吹き出す清浄空気により作*S空閲1
2の清浄度を局所的にクラス100程度に高める方式で
ある。
この方式は、全面ダウンフロ一式クリーンルームに比べ
、設備費は安−で済むが、次のような欠点があも。
(15作業部空間12の#1囲の清浄度はクラス1四0
0程度と低≠なめ、作業者の動きにより作業部空間12
に周囲から清浄度の低い空jiCを巻き込むことが多く
1作業部空間12の清浄度を高レベルに安定して維持す
ることが嬉しい。
(25全面ダウンフロ一方式と同称に、!Klj造ライ
ンうの空調温度制御ができない。
(5つ  クリーンベンチ11は9両I1部に脚を有す
る自立構造(第5図れ)参照〕で、強度上から全長5〜
6m程度のものが製作できる限界である丸め。
最近の連続した長大な半導体製造ライン(全員8〜10
m)などは収納できない。
本発明の目的は、上記し次先行技術の欠点(1)〜(4
)シよび(1つ〜(3怜大幅に改蕾しな、半導体製造工
程のような大規倶製造ラインにも通用できる清浄作業室
を鳥供することにある。
上記目的を構成するため本発明者らは、ユニットA、ユ
ニットBと称する空気浄化ユニットおよび仕切り板金用
いて製造ライン部のみtトンネル状に覆い、#造りイン
部を周囲の保全域と区分して局所的に清浄化することを
考えた。
以下、本発明の*1例を図dIJを用いて腕間する。
第3図は本発明の一冥施例tトンネ々状@vhの長手方
向に直角な断面で示した図、第4図はトンネル状覆いの
外観を示す#視図である。
115図に示すように、建屋1め床上に製造ライン用m
器9′ft向い合せに配列し、2ラインを1組として本
発明による清浄作業室に収納する。
ユニツ)A14は、天井部と(IIlrkJ部とからな
る逆り形の形状をした本体ケース15に空気浄化要素で
ある高性能フイにり16.送風機17と照明灯18を内
蔵し、本体ケース15の空気吸込み口19からプレフィ
ルタ2oを通して吸込まれた清浄度の低い外部空気を清
浄化して、天井部の清浄空気吹出し口21から下向に吹
き出すようにしたものである。清浄空気吹出し口21に
設置され冷格子状の散光板22は、照明の威光と清浄気
流の整流の役目倉する。ま冷、本体ケース15の側面S
t−*う側板23の下部には、嵐内空3Kt外部(保全
f)へ排出する友めの排気用穴24が設けられている。
このユ三ツ)Aは、第2図に示すクリーンベンチ11か
ら両側部の1141を除いたものにほぼ相当し、脚を設
けて自立させる代わりに、その天井部を趨販1の大升か
ら吊り金具25によって吊り下げ、中央部に作業者が通
行できる程度の開離をあけて、床上に向い合せに設置す
る。閲Pjit−あけた中央部には、ユニツ1−B26
t”−その下を作業者が通行可能な高さに、建ば1の天
井から吊り金J425によって吊り下げ保持する。ユニ
ツ)B2<Sは、空気浄化11索である高性能フィルタ
27.送風機Zを内蔵した箱形体で、下面に清浄空気吹
出しロワを有し、1IllIfiの空気吹込み口60を
空−用給気ダクト7に接続する。このように配置したユ
ニットAとユニツhBの関を仕切り板31で連結して。
連続したトンネル状覆いt−構成し、このトンネル状覆
いと床面とで囲まれたほぼ凸形の断−形状を有する室内
に、製造ライン用機器9を設置する作業部32aと作業
者が通行する通路@52’F:If、トンネル状覆いの
長手方向に連続して設ける1作511部32at−覆う
ユニツ)A14の天井高さは。
作業に支#I71がない限り低くした方が、作業部空間
における気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が艮くな
る。
送風機17の運転により、ユニツ)A14は周囲の保全
域55からプレフィルタ20倉通して空気を吸込み、送
風機17から送り出された空gcを高性能フィルタ16
で清浄化して、清浄空気吹出し口21から家内の作業部
52aの吹き出す、また、ユニツ)B26は空調用l&
気ダクト7から供給される空気を送風機28により加圧
し、高性能フィルタ27で清浄化して、清浄空気吹出し
口重から家内の通路部52bの吹き出す、清浄気流の麺
風速は、危とえば作S部52aでα4m/8、通路部5
2b′″t’(L2m/sというように、各部の必要清
浄度に応じて設定する。こうすることによって、mt重
要連作業部32aの清浄度を通路部nbの清浄度よりも
高くすることができる。
清浄空気吹出し口21および29から吹き出δれ冷清浄
気流り図の矢印で示すように家内を流れ、側板25の下
部に設けられ冷排気用穴24から保全域53へ排出され
る。室内圧力は排気用穴24での圧力損失分だけ外気に
対し正圧になるので、外部からの汚染空気の流入を防止
できる。排気の一部は保全域55から空調用戻りダクト
8により排出されるが、一部はユニツ)Aの空気吸込み
口19へ還流する。このように空i11#t9ICを循
還使用することによって、省エネルギー化と家内浦#度
の向上がはかれる。
製造ラインで使用さる水、ガス等の配管類や電気配線は
保全域53に設置され、排気用穴24を通して製造ツイ
ン用fs器9へ引き込まれる。こうすることによって、
配tmや配線のメンテナンスは保全域55で行うことが
できる。また、側板5をねじ止めあるいは引掛金具等に
より部分的に取りはずせるようにしておけば、製造ライ
ン用機器9のメンテナンスもそのほとんどか保全域53
から行える。*板25は、家内の作業環境の改蕾と外部
からの作a’tmの必要上、透明板とすることがある。
jIs図は従来ムクリー・べ・チ併用方式と本発明によ
る清浄作業室のレイアウトの比較例を示しな図で、同図
(〜のようにクリーンベンチ11t−使−用した場合に
は、クリーンベンチのg54Sl;や壕になって製造ラ
イン用機器9に一連続して設置することができないが、
同図0に示す本発明の方式では、トンネル状覆い35を
構成するユニツ)Aおよびユニツ)BがIIm大井から
吊り下げられているため、その室内32に連続し次長穴
な製造サイン用11i9を設置することが可能となる。
この図に示すように、トンネル状覆い35の長半方向の
両端には、!s付のエンドパネル56を取付けて保全域
33と室内52とを仕切るのが良い。
以上のip2明から明らかなように本発明によれば。
従来半導体の製造などに最良の方式とされていた全面ダ
ウンフロ一式クリーンルームに比べ、製造ライン部に必
門な清#度倉/ij1保しながら1次の効果が得られる
(1)  清浄化区域および空調対象区域が大輪に減少
するため、設備黄金約半分に低減できる。
(2)  ランニングコストも約半分に低減し、★エネ
Vギー化できる。
(3)  全面ダウンブロ一方式およびクリーンベンチ
併用方式では雌しかった製造ライン別の空一温度−#が
可能となる。
(4)  Mフィンのメンテナンスが外部の保全域カら
行えるので、メンテナンス作業による発謳が他の製造ラ
インに影111r及ぼすことを防止できる。
また、従来のクリーンベンチ併用方式と比べても1次の
ような効果がある。
(5)室内全体の清浄度を上げることが容易であり。
友とえは作業部の必要清浄度をクラス100とした場合
、通路部の清浄度はクラス100〜1000と1両区域
の清浄度の差を小さくすることができるので1作業者の
動きによって作業部の清浄度が影響を受けることが少な
く、作業部の清#度保持性能が向上する。
(6)  室内に連続した長大寸法の製造ライン用機器
を設置する仁とが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は先行技術である全面ダウ゛′ンフロ一式クリー
ンルームを示すlIl#面図、lI21!!1は先行技
術であるクリーンベンチ併用方式を示す側断面図、第5
図は本発明の一実施例を示すトンネル状覆いの長手方向
に直角な断面図、JI4図はその外観を示す斜視図、第
5図(鴫、(勢はそれぞれクリーンベンチ併用方式と本
lli明による清浄作#IW1のレイアウトの比較例を
示す図である。 1z#1屋%14 : ユニvyトA、11$+高性能
フィルタ、17:送風機、19:空気吸込み0.21:
清浄空気吹出し口、25;吊り金具、26;ユニッ)B
、27+高性能フイルタ、28!送風機、29:清浄空
気吹出しロ、50:空気吸込み口、31:仕切り板、3
2:室内、32a:室内の作業部%52b=室内の通路
部、35:ユニツl−A。 ユニツ)Eと仕切り板51とで構成されたトンネ手続補
正書(方式) 事件の表示 昭和57年特許願第  1001、 発明の名称 清浄作業室 補正をする者 名 1!、   ! 5101株式会it  II  
立 製 作 所代 表 名  三   1)  勝  
茂代   理   人 補正の対象

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 少なくとも空9IC浄化#素を内蔵し、逆り形の形状を
    して、その天井部に清浄空気吹出し口を有し、側板の下
    部に排気用穴を有するユニツ)A′に1作業者が通行で
    きる程度の間障をあけて、建屋天井から吊り下げて床上
    に向い合せに設置し、関mt−あけた中央部には、少な
    くとも空gL#化要素を内蔵し、下面に清浄空気吹出し
    ロt−有する箱状のユニツ)Bを、その下を作業#が通
    行可能な高さに、#1屋大井から吊り下げて保持し、ユ
    ニツ)Aとユニッ)Bの間を仕切り板で連結して、連続
    したトンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆いと床
    面とで囲まれた室内にユニットAとユニットBのと 清浄空気吹出し口から清浄空気を吹−シろし、ユニツ)
    Aの排気用穴から室内空気を排出して、室内を清浄化す
    るようにした清浄作業室。
JP57010011A 1982-01-27 1982-01-27 清浄作業室 Pending JPS58129123A (ja)

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JP57010011A JPS58129123A (ja) 1982-01-27 1982-01-27 清浄作業室

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JPS58129123A true JPS58129123A (ja) 1983-08-02

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS597836A (ja) * 1982-07-06 1984-01-17 Oshitari Kenkyusho:Kk 垂直層流式無塵室
EP0978691A2 (de) * 1998-08-06 2000-02-09 M+W Zander Facility Engineering GmbH + Co. KG Reinraum
US6264550B1 (en) * 1997-07-11 2001-07-24 Nippon Steel Semiconductor Corporation Clean room and method of remodeling clean room
US6390755B1 (en) * 2000-04-06 2002-05-21 Motorola, Inc. Exhaust device for use in a clean room, cleanroom, and method

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