TW541225B - Polishing pad and system - Google Patents

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541225 A7 B7 五、發明説明（1 ) 登明背景 本發明有關一種用以拋光精細表面拋光墊，尤其用以拋 光已被覆的表面’並從表面上移除雜質。 此種應用所需的拋光墊應具有較高的一致性，亦即，可 適當的變形來配合被拋光的表面，使任一點不會承受高於 其他鄰近點所承受的壓力。$ 了簡化應用，泡棉墊通常作 為習知砂紙的支持體，或是直接將研磨微粒結合至泡棉的 表面’而或在泡棉塾及表面間施加研磨劑。 與加工件的接觸的拋光墊表面可為平面或是具有加工件 的輪廓，後者可僅對部分的接觸面進行輕微的拋光，而或 更充分地對所有與加工件接觸的泡棉表面施加壓力。旧忡 第4, 962, 562 ;第5, 0 07, 1 28及5, 396, 737號揭露上述的泡 棉。 然而，由於此種泡棉具有均一的成分及密度，而缺乏加 工上的多樣性，因此僅能實施單種形式的拋光，且當需要 作些變換時，即需更換拋光墊。 本發明長：供一種系統，其具有極佳的適應性及多樣性， 且使用相當簡單。 發明之描述 本發明提供一種彈性，可壓縮的泡棉拋光墊，其包括第 一及第一相對的主加工面，每一面具有多個呈截角之中空 錐體且相互隔開的凹部（可選擇性地具有截角的端部或圓 弧的端部），且凹部又由截角的錐體所隔開（亦可選擇性地 具有圓紙的端部），這些錐體的截角部位皆位於相同的平面 -4- 本紙银尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇x297公釐)

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並形成加工表面。上述的截角凹體及錐體通常具有相同 的尺寸因此理論上每一凹體可與錐體貼合，但此並非 發明的基本特徵。 通韦，每一主加工表面中的凹體具有相同的深度，但若 使同加工平面上的多個凹體具有不同的深度，可帶來一 些附加的優點’藉由增加對泡棉的下壓力，可增加與加工 件接觸的拋光表面積，如此，可形成兩段或更多段的有效 表面。 凹體間的部位為"截角的錐體"，但應瞭解，在凹體之尺 寸與分佈間隔不均勻的區域，凹體間的形狀無須剛好符合 一截角錐體，甚至可與鄰近的結構内接。此種結構並不排 除在本發明的範圍内。 雖然第一及第二加工表面最好具有相同的設計，但並非 唯一的構造。若期望在同一拋光墊上形成兩種加工表面， 可使第二表面具有不同的拋光範圍。可藉由變換凹體間的 間隔或深度來達成上述的特性，此外，可進一步使用具有 不同壓縮性的泡棉，配合上述的構造變換來加以達成。 本發明的泡棉墊需具有一定的壓縮性，因此最好以聚合 物來製成，此種材料可加以壓縮，且在釋放壓縮力後，可 回復到原本的形狀。聚合物最好是熱塑性或彈性聚合物， 如聚烯烴，塑化聚乙烯滷化物，聚二烯或聚胺基曱酸乙酯 。為了簡化製造並符合經濟效益，較佳的聚合物為聚胺基 甲酸乙酯，更佳的是開孔式的聚胺基甲酸乙酯，此種聚合 物可在製程的控制下形成精確的密度。 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

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線 M1225 發明說明 作可ΐ由適當的模製技術來製備具有兩工作面的泡棉墊， 仁，^使用的方式是將兩個不同的泡棉疊合在一起。依此 I製作一種泡棉墊，其中之工作面在結構、及/或密度上 ^可利用中間層來將兩個泡棉墊疊合，此中間層可以 是簡單的黏著層，但以彈性聚合物層為更佳，此層通常為 彈〖生的，但為了提供更高的尺寸穩定性，因此亦具有相當 的、’"構剛性。將兩個泡棉黏著以形成泡棉墊的較佳聚合物 為聚丁烯橡膠。當配合拋光機來使用泡棉時，需將泡棉墊 保持在一保持器内，此時，中間層的相對物理強度變得更 為重要。 因此本發明亦包括一種能配合執道拋光機來使用的拋光 系統’其包括： a) 一彈性可壓縮的碟形泡棉墊，包括第一及第二相對 的主加工表面，每一表面具有多個呈截角之中空錐 體且相互隔開的凹部（可選擇性地具有截角的端部 或圓弧的端部），且凹部又由截角的錐體所隔開（亦 可選擇性地具有圓弧的端部），這些錐體的截角部位 皆位於相同的平面，並形成加工表面； b) 用以保持泡棉塾的一支持塾，其中一加工表面突出 於該支持墊，且第二加工表面與支持墊相接觸；及 c) 用以保持拋光墊之一表面的保持機構，此表面可釋 放地與支持墊相接觸。 保持機構最好具有能避免泡棉墊相對於支持墊作移動的 構造’此外，亦需提供一構造來將泡棉墊固定至執道磨砂 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)

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線 541225 五、發明説明（4 機上’例如可套入執道磨砂機之夾爪的心軸。 田支持塾具有保持機構時，此保持機構可為銷或突出體 的幵>/式’且能套合至抛光塾的相對孔洞或凹體内。保持機 構亦可為夾鉗的形式，用以夾住拋光墊的周緣，或夾住拋 光塾周緣上的凹槽。可方便地將此種凹槽設置於第一及第 一加工表面間的周緣上。當利用一較硬的聚合層來疊合兩 個拋光墊時，可簡單地將凹槽設於此層上，以提供夾爪或 其他保持機構的一配合面，相較於第一及第二加工表面的 泡棉，此種配合面較不易發生變形。 當支持墊呈碟盤狀，且與拋光墊的一表面接觸時，保持 機構可包括一軸向配置的構件，其可穿過拋光墊並與一接 合構件相套合，該接合機構置於加工表面的一軸向凹口内 。此軸向設置的接合構件可為具有内螺紋的套管或具有外 螺紋的軸桿，其配合抵設於拋光墊表面的螺紋構件，而將 其固定於支持塾上。接合構件亦可為具有溝槽的轴桿，以 接收如C型夾爪的夾持機構，而或為具有孔洞，墊圈及配合 銷的軸桿。通常，快速釋放的套合形式，例如以彈簧支ς 的突體（如it珠）可與溝槽相配合’以達到可釋放的接合妒 式。相關技藝中的其他實施例包括與！^槽配合的徑向突 其中將保持機構上的徑向突體插入溝槽心並接著’ 持機構，而將突體置於溝槽的角部。可利用其他的接、 構來代替上述的接合形式。 支持墊最好具有多個與拋光塾嗔合的突體，以 時’抛光墊不會相對於支持塾作轉動。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公羞) 541225 發明説明 最好在泡棉墊上提供連接第一及第二加工表面的通氣通 道’以在抛光時增進表面的散熱效果。此種通道亦可提供 在保持杯的本體上，如此可在使用時使空氣在拋光墊的周 圍循環。 圖示之簡單描沭 於圖示中： 圖1依據本發明之顯示雙側泡棉拋光墊。 圖2顯示形成保持杯之支持墊的開口側。 圖3顯示圖2保持杯沿著A — A，線之垂直剖面圖。 圖4顯不另一形式之支持墊的剖面圖，其上附有拋光墊。 較佳實施例的詳 以下參考圖1 -4描述本發明的較佳實施例。應知，在不偏 離本發明之本質的前提下，可以不同於所述的形式來實現 本發明。 在圖1中，利用彈性的聚合物層3來將碟形的泡棉墊1及2 加以叠合’聚合物層3具有繞著周面呈等間隔的凹槽7。結 合墊的層1及2於加工表面5及6上分別具有多個凹部4。 圖1的泡棉墊與支持墊結合地使用，且在圖2及圖3中，支 持墊具有呈淺杯狀的保持器7，且保持器7具有朝内側徑向 突入的小唇部8。此杯狀器包圍一空間9,其可將圖1所示之 泡棉墊的一半容置於其内。四個彈性塊1〇從杯狀器的唇部 徑向地朝内突起。當泡棉墊容置於保持器内時，這些彈性 塊突向聚合物層中的凹槽7内，當使用時，可避免泡棉墊作 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) ^^i^7〇><297公爱)

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線 541225 Α7 Β7 五、發明説明（β ) 相對的旋轉。杯狀器的内側表面具有軸向的淺突體I】，此 犬體Π可抵住未使用之泡棉塾的加工面，以在使用時，限 制泡棉塾朝向保持器的變形量。保持器利用由其底部所突 出的心軸12,安裝至執道拋光機上。通氣孔13繞著杯狀器 以固定的間隔加以設置，當使用時，可允許空氣的循環。

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在圖4所示的變換實施例中，支持塾1 5呈盤狀，且可藉由 其上的心軸12固定至執道磨沙機或拋光機上。支持墊與拋 光墊的接觸表面具有突體16，此突體16與拋光墊的表面相 接觸，並提供足夠的阻力來防止支持墊作相對的旋轉。支 持墊亦具声軸向配置的延伸桿17，此延伸桿17穿過拋光墊 中的配合孔18。拋光墊的表面具有軸向的凹口2〇，可使與 延伸桿17配合的保持機構18套於凹口 2〇内。凹口具有足夠 的冰度，即使承受最；^的操作壓力，亦$會使延伸桿及保 持機構突出至拋光墊的表面。在所示的實施例中，延伸桿 具有外螺紋，且保持機構為套合於延伸桿上的螺帽。 ^ 了配合軌道抛光機來使用抛錢，冑將抛光替置入保 持is中，並使一&工面與位於保持器基部的突體^相接觸 ，且將彈性塊10容置於聚合物層3中的凹槽7内。如此，第 二加工表面從保持器上突出，而使中間層與加工表面間的 部位可完全地壓縮而形成加卫面的受壓底側，並使保持器 與加工件不會相接觸。 备欲使用具有第二加卫表面的泡棉時，僅需簡單的移出 泡棉並加以換面。 本發明提供-種多工能的泡棉墊，其藉由泡棉墊與支持 -9 - 541225 A7 B7 五、發明説明（7 ) 墊的簡單運用，便可在多種不同的拋光條件下進行加工。 主要元件符號說明 1 泡棉墊 2 泡棉塾 3 聚合物層 4 凹部 5 加工表面 6 加工表面 7 保持器 8 小唇部 9 空間“ 10 彈性塊 11 突體 12 心軸 13 通氣子匕 15 支持墊 16 突體 17 延伸桿 18 保持機構 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 541225 六、申請專利範圍 1· -種彈性可虔縮的泡棉抱光塾，包括第_及第二相對的 主=工表面，每一表面具有多個呈截角之中空錐體且相 隔開的凹部’且該凹部由截角的錐體所隔開，其中截 角錐體的頂部皆位於相同的平面，並形成加工表面。 申明專利範圍第1項之泡棉拋光墊，其中形成該凹體基 :的截角端以及形成加工表面之該截角錐體的頂端為圓 3·如申請專利範圍第丨項之泡棉拋光墊，其中提供第一加工 表面的泡棉不同於提供第二加工表面的泡棉。 4·如申請-專利範圍第3項之泡棉拋光墊，其中提供第一加工 表面之泡棉的壓縮性不同於提供第二加工表面之泡棉的 壓縮性。 5·如申請專利範圍第3項之泡棉拋光墊，其中利用彈性聚合 物的中間層疊合兩個泡棉墊來形成該拋光墊。 6·如申請專利範圍第3項之泡棉拋光墊，其中該彈性聚合物 的中間層具有多個等間隔的凹處。 7·如申請專利範圍第〗項之泡棉拋光墊，其中多個孔穿過該 拋光塾，並連接第一及第二加工表面。 8·如申明專利範圍第1項之泡棉拖光塾，其中形成該凹體基 部的截角端以及形成加工表面之該截角錐體的頂端為圓 形。 9. 一種拖光系統，可結合一執道抛光機來使用，其包括： a) —彈性可壓縮的泡棉拋光墊，包括第一及第二相對 的主加工表面，每一表面具有多個呈截角之中空錐 11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱) 541225 A8 B8

   體且相互隔開的凹部，且該凹部由截角的錐體所隔 開’其中截角錐體的頂部皆位於相同的平面，並形 成加工表面； b) 用以保持泡棉墊的一支持墊，其中一加工表面突出 於該支持墊，且第二加工表面與支持墊相接觸；及 c) 用以保持拋光墊之一表面的保持機構，此表面可釋 放地與支持墊相接觸。 10·如申請專利範圍第9項之拋光系統，其中形成該凹體基部 的截角端以及形成加工表面之該截角錐體的頂端為圓 形。 11·如申請~專利範圍第9項之拋光系統，其中該支持墊呈杯狀 ，且容置部分的拋光墊，該杯體具有保持機構，可與拋 光墊周圍的凹口相配合，以限制拋光墊相對於該杯體作 轉動。 12·如申請專利範圍第11項之拋光系統，其中杯體的基部具 有淺突體，該淺突體與容置於杯體内之泡棉墊的加工面 相接觸。 13·如申請專利範圍第π項之拋光系統，其中該拋光系統可 安裝在軌道拋光機上。 14·如申請專利範圍第η項之拋光系統，其中提供第一加工 表面之泡棉的壓縮性不同於提供第二加工表面之泡棉的 壓縮性。 15 ·如申請專利範圍第11項之拋光系統，其中利用彈性聚合 物的中間層疊合兩個泡棉墊來形成該拋光墊。 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 541225 A8 B8 C8 ___ D8 ^、申請專利範圍 _ ^ 16_如申請專利範圍第u項之拋光系統，其中該杯體具有多 個通氣孔。 17·如申請專利範圍第9項之撤光系統，其中該支持墊為具有 延伸軸桿的平板；該拋光墊具有軸向配置且可容置該延 伸轴桿的通孔，並在每一抛光塾表面的鄰近處具有直徑 大於該轴桿的區域；及該保持機構可釋放地接附於該轴 才干上以保持該抛光塾’使該抛光塾的一表面與該支持塾 相接觸。 18·如申請專利範圍第17項之拋光系統，其中該支持墊具有 一系列巧突體，這些突體穿過拋光墊以限制拋光墊相對 於支持墊作轉動。 19·如申請專利範圍第17項之拋光系統，其中該拋光系統可 安裝在執道抛光機上。 20.如申請專利範圍第17項之拋光系統，其中提供第一加工 表面之泡棉的壓縮性不同於提供第二加工表面之泡棉的 壓縮性。 21’如申請專利範圍第17項之樾光系統，其中利用彈性聚合 物的中間層疊合兩個泡棉墊來形成該拋光墊。 22·如申請專利範圍第17項之拋光系統，其中保持機構包括 一螺紋構件，該螺紋構件可與該支持墊之延伸軸桿的螺 紋相配合。 -13 -