TW480541B - Exposure apparatus - Google Patents

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TW480541B
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Masaru Nikaido
Tomoaki Ishino
Tetsuya Tadokoro
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Toshiba Corp
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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480541 A7 B7 i、發明說明(1 ) (發明之背景) 本發明係關於一種使用光罩來曝光被曝光物的曝光裝 置。 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 一般例如彩色陰極射線管具備:在內面具有螢光面所 形成之面板的真空外圍器,及在該真空外圍器內與螢光面 相對向所設置的陰罩。在陰罩之有效面形成有多數電子束 通過明細孔,從電子槍所放出之電子束係通過此種電子束 通過明細孔被照射至螢光體面。此時,陰罩係被稱爲色選 別電極,僅在與此等開孔成爲幾何學上一對一的螢光體層 有相撞於電子束之色選別功能。 平常,陰罩係在約〇 . 1至〇 · 2 5 m m之厚度的鋁 淨靜鋼或低熱脹之殷鋼(F e - 3 6 % N i )材等之金屬 薄板,隔著數萬個至數十萬個之微小圓形或矩形電子束通 明細孔所形成。各明細孔係連通開設於陰罩之螢光面側表 面的大孔,及開設於陰罩之電子槍側表面而且直徑比大孔 小的小孔所形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 習知,此等陰罩係將對應於小孔之第一原版,及對應 於小孔之第二原版分別使用作爲光罩。藉光蝕刻法所製造 。以下,說明陰罩之製造方法。 首先,爲了除去附著於鋁淨靜鋼或殷鋼材等之金屬薄 帶(陰罩素材)之表面的防銹油或污诟經脫脂洗淨或沖洗 之後在金屬薄帶之兩面塗布從酪蛋白-重鉻酸鹽系、 P V A重鉻酸系等所選擇的水溶性之光阻劑,並施以乾燥 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 480541 A7 B7 五、發明說明() (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之後,在塗布有光阻劑之金屬薄帶兩面,分別真空密 接所定曝光圖案所形成之一對光罩之後,施以曝光。然後 ,將曝光之光阻劑施加以顯像、水洗、乾燥、印相而形成 蝕刻圖案。在該狀態下,一般主要使用於顯示器用之明細 孔形狀爲圓形者係分成背面,表面之兩次,又使用於電視 機用之明細孔形狀爲矩形者係從兩面同時地,蝕刻金屬薄 帶,形成電子束通過明細孔。然後,剝離光阻劑。分成背 面、表面之兩次而施以蝕刻時,剝離光阻劑及背面之蝕刻 後塗布之底塗劑,最後一枚一枚地切離而完成陰罩。 一般,使用於陰罩之曝光製程的各光罩,係將硝酸銀 系之感光劑分散於明膠膜之乳劑層塗布形成在藍板玻璃基 板之其中一方的面,在該乳劑層構成藉形成對應於陰罩之 開孔之所定曝光圖案所得到之乳膠罩。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在陰罩之曝光裝置中’將如上述地所形成之一對光罩 ,分別安裝於真空密接劑,使曝光圖案面(亦即乳劑層) 成爲內側,在兩面相對向配置一對光罩使上述光阻劑所形 成之金屬薄帶夾在中間。之後,精度優異地對位一對光罩 之相對位置之後,經由真空密接框俾將一對光罩真空密接 於金屬薄帶之兩面。該狀態下,經由光罩藉曝光機構曝光 光阻劑。 曝光終了之後,解除真空密接而從金屬薄帶接近,遠 離一對光罩,將金屬薄板之曝光終了部分送出至真空密接 燒框外終了 一次曝光作業。平常,此等一連串作業連續地 進行。又,配置多數真空密接燒框及光罩,而也有一次曝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 480541 A7 __ B7 五、發明說明() 光金屬薄帶之複數部位之情形。 然而’藉上述方法在金屬薄帶兩面之光阻劑曝光一對 光罩的曝光圖案時,產生如下缺點問題。亦即,乳膠罩係 低ί貝格’谷易得到陰罩用或p D P ( plasma Display Panel )用之大型罩,相反地由於作爲乳劑層使用明膠膜,因此 膜硬度及膜強度較弱,容易弄出瑕疵,若夾到異物則有壓 入乳膠層而無法取出之缺點問題。 而且如上所述地,在陰罩之曝光製程中,互相有力地 推壓光阻劑膜與乳劑層而在密接狀態實行所謂硬觸點( hard contact )曝光。所以,若金屬片或塵埃等異物侵入至 光阻劑膜與乳劑層之間時,則在膜硬度及膜強度較弱之乳 劑層弄出瑕疵,曝光圖案之一部分會剝落,或異物壓入乳 劑層而留存,結果,在起因於此等之曝光領域發生明細不 良或污點不良,或曝光圖案之一部發生脫落,或在光罩發 生不需要之不透光部。 而且若此等損傷發生一次在乳膠罩時,由於其後無法 恢復,因此若未加以注意,則在其後之製程所製造之所有 陰罩之相同部位會產生共通之不良。成爲良品率大幅降低 之主要原因。尤其是,經一次蝕刻時,則幾乎無法回收金 屬薄帶,故受害極大。 又例如在被使用於個人電腦之顯示器或各種監測器的 彩色陰極射線管之陰罩,需要孔徑爲0 · 1 0至0 · 1 5 m m,排列篩距0 · 2至0 · 3 m m,孔徑精確度± 3 // m以下之高精確度之電子束通過明細孔,而在平常之製 ------------------ —訂--------- $ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -6- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 480541 A7 ________B7_____ 五、發明說明(4 ) 造電視機用彩色陰極射線管之陰罩不會成爲缺點問題之程 度大小之異物附著於乳膠罩,也會成爲不良而其影響極大 〇 例如依照被揭示在日本特開平8 - 1 2 4 8 2 2號之 曝光裝置,相對向於光罩設置玻璃板,在此等中間之空間 流動離子化之氣體,防止光罩之帶電及塵埃附著於光罩。 然而,在該曝光裝置中,並未考慮異物之侵入或附著至玻 璃板與被曝光物之間,及光罩與被曝光物之間,並未適用 於上述硬接點曝光。 (發明之槪要) 本發明係鑑於以上事項者,其目的係在於提供一種防 止異物侵入至被曝光物與光罩之間,可減低因光罩之損傷 所發生之不良而可施行優異良品率之曝光的曝光裝置。 爲了達成上述目的,本發明之曝光裝置係具備:相對 向配設於上述被曝光物,支持曝光圖案所形成之光罩,同 時將光罩移動在接觸於上述曝光物之曝光位置與從上述被 曝光物離開之離開位置之間的罩支持部;及在上述光罩移 動至上述曝光裝置之狀態,通過上述光罩俾曝光上述被曝 光物的曝光光源;及上述光罩移動至上述離開位置時,在 上述被曝光物與光罩之間流動淨化氣體的淨化氣體供應器 〇 依照該曝光裝置,在上述光罩移動至離開位置之狀態 ,藉將淨化氣體從淨化氣體供應器供應在至少被曝光物與 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線身 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 480541 A7 B7 五、發明說明(5 ) 光罩之間,在曝光製程中防止異物附著於被曝光物或光罩 ,同時去除附著於被曝光物之異物。由此,可防止被曝光 物與光罩之間的異物侵入或異物夾入,並可減低光罩之損 傷所發生之不良。 又,淨化氣體供應器係具有:上述光罩移動至離開位 置時,將淨化氣體供應至被曝光物與光罩之間的第一供應 部,及上述光罩移動至曝光位置時,及上述光罩移動至上 述離開位置時,將淨化氣體供應至光罩之外面的第二供應 部;在被曝光物與光罩之接觸時,僅從第二供應部供應淨 化氣體,同時在被曝光物與光罩之離開時,則從第一供應 部及第二供應部之雙方供應淨化氣體。又,第一供應部係 隨著光罩之移動來調整淨化氣體之供應。 如上所述,當被曝光物與光罩之接觸時,亦即在曝光 時,藉從第二供應部沿著光罩外面供應淨化氣體,冷卻在 曝光時從曝光光源受到熱線而溫度上昇的光罩,成爲可減 低依光罩之熱脹所產生之偏位而可施行高精確度之曝光。 此時,若接觸被曝光物與光罩時之光罩外面的淨化氣體之 風速係4 . 7 m / s以上就可得到充分之冷卻效果。又, 被曝光物與光罩之離開時的被曝光物與光罩之間的淨化氣 體之風速係2 . 7 m / s以上就可得到充分之除塵效果。 又,藉離子化機構,將淨化氣體施以離子化,尤其是 藉交互地離子化正電荷及負電荷,即可在曝光製程中防止 異物附著於被曝光物或光罩。 -------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -8- 480541 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明() (發明之實施形態) 以下,參照圖式詳述本發明之實施例的陰罩用曝光裝 置。 如第1圖及第2圖所示,本曝光裝置係作爲被曝光物 以陰罩素材之金屬薄帶1 5作爲對象,使用於將分別形成 在該金屬薄帶兩面之光阻層施以曝光,爲了在金屬薄帶形 成以蝕刻形成多數電子束通過明細孔所用的光阻圖案。 亦即,曝光裝置係具備隔著金屬薄帶1 5相對向配置 的一對真空密接框1 3、1 4,在各支持框支持有板狀光 罩1 1、1 2並分別平行地相對向於金屬薄帶1 5之兩面 。又,金屬薄帶1 5係以大約垂直豎立狀態朝水平方向延 伸,而光罩1 1、1 2也以大約垂直豎立狀態被配設。 光罩1 1、 1 2係例如在藍玻璃基體之其中一方的面 (內面),塗布形成將硝酸銀系之感光劑分散於明膠膜的 乳劑層1 1 a、 1 2 a ,而在該乳劑層構成藉形成對應於 陰罩之明細孔之所定曝光圖案所得到的乳膠罩。 真空密接框1 3、 1 4之中央形成,具有開口部2 1 、2 2之矩形框狀,而在相對之內面的內周部,形成有配 置光罩1 1、 1 2之周緣部的階段部2 3、2 4。在階段 部2 3、2 4,真空密接之一對襯墊2 5、2 6分別配置 於光罩1 1、 1 2之外面周緣部。又,在真空密接框1 3 、1 4之相對的各內面外周部,分別固定有環狀襯墊2 7 、2 8。如下述,將真空密接框1 3、1 4移動至接觸位 置時,此等之襯墊2 7、2 8係互相接觸成爲真空密接, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 - 480541 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(7 ) 功能作爲密閉光罩1 1、 1 2間之空間的密閉機構。 一對光罩1 1、1 2係分別安裝於真空密接框1 3、 1 3。使設於其內面之曝光圖案面,亦即乳劑層1 1 a、 1 2 a與金屬薄帶1 5相對向之狀態。真空密接框1 3、 1 4係藉驅動機構9對於金屬薄帶1 5朝接近及離開之方 向移動,可將光罩1 1、1 2移動在其乳劑層1 1 a、 1 2 a分別密接於金屬薄帶1 5之兩面之表示於第1圖的 曝光位置,及從金屬薄帶1 5之兩面離開之表示於第2圖 的離開位置之間。又,金屬薄帶1 5與各光罩1 1、12 之接觸係若光學上一致也包含物理上遠離之情形。 金屬薄帶1 5係爲了除去附著於例如鋁淨靜鋼或殷鋼 材等的陰罩素材之表面的防銹油或污垢經脫脂洗淨或沖洗 之後,在金屬薄帶之兩面塗布從酪蛋白-重鉻酸鹽系、 P V A -重鉻酸鹽系等所選擇的水溶性之光阻劑,藉乾燥 所形成,而在兩面設有光阻層15a、 15b。 在真空密接框1 3、1 4之上方,配設有供應淨化氣 體的淨化氣體供應器3 1。該淨化氣體供應器3 1係具備 在內部具送風空間3 2之中空本體3 3,而該本體3 3係 有位於與真空密接框1 3、1 4之上端部相對向位置的下 壁部3 3 a。 在下壁部3 3 a之中央部,形成有相對向於真空密接 框1 3、1 4之間的第一吐出口 3 4。又,從下壁部 3 3 a之兩側部朝下方延伸有噴嘴3 5、3 6。在此等噴 嘴3 5、3 6之前端分別形成有朝光罩1 1、1 2之外面 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -10- ί --------訂---------線 ^1- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 480541 A7 B7 五、發明說明(8 ) 的第二、第三吐出口 3 7、3 8。第一吐出口 3 4之部分 係功能作爲將淨化氣體供應至一對光罩1 1、 1 2間的第 一供應部3 9 ;第二及第三吐出口 3 7、3 8之部分係功 能作爲將淨化氣體沿著各光罩1 1、1 2之外面供應的第 二供應部4 0、41。 在本體3 3之上部形成有吸氣口,而在該吸氣口配設 有風扇4 2 ;該風扇係將外部氣氛中之氣體吸進本體3 3 內之送風空間3 2俾製作氣體之流動。又在本體3 3內, 位在風扇4 2之下游側,配設有捕捉包含在以風扇4 2所 吸進之氣體的塵埃等使之淨化而製作淨化氣體的濾氣器 4 3,又在濾氣器4 3之下游側,配設有將淨化氣體離子 化成正電荷及負電荷之交流型式的離子化器4 4。 曝光裝置係具備一對曝光光源50、 51 ,此等曝光 光源係配置在光罩1 1、1 2之外側,並分別相對向於光 罩之外面。此等曝光光源5 0、5 1係例如由高壓水銀燈 或金屬鹵化物燈所構成。 藉上述構成之曝光裝置將金屬薄帶15之光阻劑層 15a、1 5 b施以曝光時,如第1圖所示地,在作動淨 化氣體供應器3 1之風扇4 2之狀態下,藉驅動機構9關 閉真空密接框1 3、1 4而將光罩1 1、1 2移動至曝光 位置。由此,將一對光罩1 1、1 2之乳劑層1 1 a、 1 2 a真空密接在金屬薄帶1 5之兩面。藉曝光光源5 0 、5 1,通過光罩11、12俾曝光金屬薄帶15上之光 阻劑層1 5 a、 1 5 b。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^ ^ --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 480541 A7 _—— B7 五、發明說明(9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此時’真空密接框1 3、1 4之襯墊2 7、2 8係互 相地密接以密閉真空密接框間,同時此等真空密接框係與 淨化氣體供應器3 1之第一吐出口 3 4鄰接相對向。所以 ’淨化氣體供應器3 1係被作動,惟藉關閉之真空密接框 1 3、1 4規制來自第一吐出口 3 4的淨化氣體之吐出。 由此’曝光時,被離子化之淨化氣體係主要經噴嘴3 5、 36而從第二及第三吐出口37、 38朝各光罩11、 1 2之外面吹出,沿著光罩1 1、1 2之外面流動,形成 潔淨幕,同時冷卻光罩1 1、12。 曝光時,從例如高壓水銀燈或金屬鹵化物燈等之曝光 光源5 0、5 1,將與曝光所必需之紫外光同時地發生之 熱線(紅外線成分)接受在光罩1 1、1 2,使光罩1 1 、1 2上昇溫度。然而,藉淨化氣體沿著光罩1 1、12 之外面流動而散熱,可防止光罩1 1、1 2之溫度上昇。 又,將噴嘴3 5、3 6前端部對於光罩1 1、1 2以 及第二及第三吐出口37、 38之角度,設成此等噴嘴前 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 端部以及第二及第三吐出口所吐出之淨化氣體被吸附在光 罩1 1、1 2之外面,能產生速度衰減較小且達到距離變 大之所期望的柯安達效應(Coanda Effect ),可得到作爲 充分之冷卻效果與潔淨幕之功能。爲了得到此等柯安達效 應,光罩1 1、1 2與所吐出之淨化氣之吐出的中心軸之 延長線的交叉角度必須設定在6 5度以下,較理想爲設定 在5 5度以下。 · 如第2圖所示,完成曝光之後,藉驅動機構9打開真 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 480541 A7 五、發明說明(10 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 空密接框13、 14而解除真空密接,從金屬薄帶15之 兩面離開光罩11、 12。然後,行走金屬薄帶15,俾 將該曝光部分從真空密接框1 3、1 4間之空間送出至曝 光裝置外面。 此時,解除真空密接而從金屬薄帶拉開一對光罩1 1 、12時,則發生較大剝離帶電,同時從周圍朝光罩11 、1 2間流進氣氛,若該氣氛包含異物,則異物容易附著 在光罩11、12及金屬薄帶15。 然而,藉繼續作動淨化氣體供應器3 1 ,打開真空密 接框1 3、 1 4時,從第一吐出口 3 4被離子化之淨化氣 體一 口氣地流進一對光罩1 1、1 2間,俾除電光罩及金 屬薄帶1 5。同時地,淨化空氣形成潔淨 周圍進入至光罩11、 12間。 又,將金屬薄帶1 5之曝光部分送出 3、 14之外面,將金屬薄帶之新未曝光 域,亦即送至光罩1 1、1 2間時,將附 分而被帶進曝光領域之異物,藉上述被離 可施行除電及除塵。又也容易地可除電移 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 幕而防止異物從 至真空密接框1 部分送至曝光領 著於該未曝光部 子化之淨化氣體 動金屬薄帶 1、1 2移動至 上的淨化氣體之 1、1 2移動至 風速係設成 4 2之旋轉速度 1 5時與空氣之摩擦所發生的帶電。 又在淨化氣體供應器3 1中’光罩1 曝光位置時流在各光罩1 1、1 2之外面 風速係設成4 7 m / s以上,又,光罩1 離開位置時流在此等光罩間的淨化氣體之 2 · 7m/s以上。該風速係藉調整風扇 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 480541 A7 B7 五、發明說明(11 ) 等就可任意地設定。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,來自第一吐出口 3 4的淨化氣體之吐出量,係作 成隨著真空密接框1 3、1 4之開關來調整之構成,惟在 淨化氣體供應器3 1之內部,設置調整吐出量之調整機構 也可以,此時,藉該調整機構可任意地調整來自第一吐出 口 3 4之吐出量。 以下,說明本發明之第二實施例的曝光裝置。 如第3圖及第4圖所示地,依照第二實施例。淨化氣 體供應器3 1係具備:設於本體3 3之下壁部3 3 a之中 央部的第一吐出口 3 4,及在該第一吐出口之兩側從下壁 部3 3 a朝下方延伸至真空密接框1 3、1 4之外側的導 壁54、 55。又,在導壁54、 55之延伸端,安裝有 作爲朝光罩11、 12延伸之導體的引導葉片56、 57 〇 在淨化氣體供應器3 1中,第一吐出口 3 4之部分係 構成將淨化氣體供應至一對光罩1 1、1 2間的第一供應 部3 9 ’引導葉片5 6、5 7之部分係構成沿著各光罩 1 1、1 2之外面供應淨化氣體的第一供應部4 0、4 1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〇 其他構成係與上述之第一實施例相同,在相同部分賦 予相同之參照記號而省略該詳細之說明。 依照構成如上述之曝光裝置,如第3圖所示,在曝光 時,關閉真空密接框1 3、 1 4,將一對光罩1 1、 12 真空密接於金屬薄帶1 5,藉曝光光源5 0、5 1通過光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 480541 A7 ____ B7 五、發明說明(12) 罩11、12俾曝光金屬薄帶15表面上之光阻劑層 15a、1 5 b ° 此時,淨化氣體供應器3 1係被作動,自第一吐出口 3 4所吐出之被離子化的淨化氣體,係藉被關閉之真空密 接框1 3、 1 4朝橫方向流動,同時藉由導壁5 4、55 被導向下方。該淨化氣體係在引導葉片5 6、5 7被改變 方向而朝光罩1 1、1 2之外面吹出,沿著光罩1 1、 1 2之外面上流動,形成潔淨幕,同時冷卻光罩1 1、 12。 曝光時,光罩11、12藉從曝光光源50、5 1發 生之熱線(紅外線成分)被加熱而上昇溫度,惟淨化氣體 沿著光罩1 1、 1 2之外面流動而施以散熱,即可抑制光 罩1 1、 1 2之溫度上昇。藉將對於光罩1 1、 1 2的引 導葉片56、57之角度設成能沿著光罩11、 12之外 面發生柯安達效應,即可得到充分之冷卻效果。 如第4圖所示地完成曝光之後,解除真空密接俾打開 真空密接框1 3、1 4,從金屬薄帶1 5離開一對光罩 11、 12,然後,將金屬薄帶15之曝光部分送至真空 密接框1 3、1 4之外面。 此時,藉打開真空密接框1 3、 1 4而可形成間隙, 則被離子化之淨化氣體從淨化氣體供應器3 1之吐出□ 3 4 — 口氣流進一對光罩1 1、 1 2間,實行除塵,同時 成爲潔淨幕而防止異物從周圍進入至光罩1 1、 1 2間。 又將金屬薄帶1 5之新未曝光部分送進光罩1 1、1 ^胃 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -15- -------------------訂---------線 00- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 480541 A7 B7 五、發明說明(13 ) 時,附著於該未曝光部分而被帶進曝光製程之異物,係除 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 了藉淨化氣體被除電之外還被除塵。同時地,對於在移動 金屬薄帶1 5時與空氣之摩擦所發生之帶電也可容易地被 除電。 依照如上所構成之第一及第二實施例的曝光裝置,在 對於金屬薄帶1 5設成可接觸離開的一對光罩1 1、1 2 間,藉從淨化氣體供應器3 1供應淨化氣體,可防止異物 侵入至光罩間,及異物附著於金屬薄帶1 5或光罩。由此 ,藉光罩1 2、1 2之損傷所發生的曝光領域之發生明細 孔不良或污點不良,或避免曝光圖案之一部分剝落,或在 光罩發生不需要之不透光部之缺點,成爲可精確度優異地 形成光阻膜。結果,可用優異良品率製造陰罩。 又,曝光裝置係具有將淨化氣體供應在光罩1 1、 1 2間的第一供應部3 9,及將淨化氣體沿著各光罩1 1 、1 2之外面供應的第二供應部4 0、4 1 ,而在曝光時 僅從第二供應部4 0、4 1供應淨化氣體,而且在開放光 罩1 1、1 2時從第一供應部3 9及第二供應部4 0、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 1之雙方供應淨化氣體。由此,可得到除塵效果及除電 效果,同時也可得到光罩之散熱效果。 尤其是,曝光時藉沿著光罩1 1、1 2之外面供應淨 化氣體,抑制來自曝光光源5 0、5 1之熱所產生的光罩 之溫度上昇。結果可減低依光罩之熱脹所產生的偏位而可 施行高精確度之曝光。 又依照上述曝光裝置,藉一對光罩1 1、1 2之開閉 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 480541 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(14 ) 動作’可自動地調整來自第一供應部3 9之淨化氣體的吐 出量。又,一對光罩11、 12之接觸時的各光罩外面之 淨化氣體的風速係4 · 7 m / s以上即可得到充分之冷卻 效果。又,光罩1 1、1 2之開放時的光罩間之淨化氣體 的風速係2 · 7 m / s以上即可得到充分之除塵效果及除 電效果。 又,藉由離子化器4 4,藉將淨化氣體成爲離子化, 尤其是交互地離子化正電荷及負電荷,即可在曝光製程中 防止異物靜電附著於金屬薄帶1 5或一對光罩1 1、1 2 〇 例如在上述實施例中,如彩色陰極射線管之陰罩,說 明對於適用在從兩面側同時地曝光被曝光物之情形的曝光 裝置,惟並不被限定於此種,如使用於P D P之製程的曝 光裝置,密接僅在其中一方之表面形成有光阻層之基板及 一枚之光罩而施行曝光之曝光裝置也可適用。 (圖式之簡單說明) 第1圖係表示本發明之實施例的曝光裝置之曝光時之 動作狀態之上述曝光裝置的縱剖視圖。 第2圖係表示上述曝光裝置之光罩開放時之動作狀態 之上述曝光裝置的縱剖視圖。 第3圖係表示本發明之第二實施例的曝光裝置之曝光 時之動作狀態之上述曝光裝置的縱剖視圖。 第4圖係表示上述第二實施例的曝光裝置之光罩開放 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -17- 1--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 480541 A7 B7 15 五、發明說明( 時之動作狀態之上述曝光裝置的縱剖視圖 明構: 說機 2 之動 1 虎區 記:1 (91 3 8 2 帶劑 薄乳 屬 : 金
5 IX 接 密 空 真帶 :薄 4 屬 1 金 層框 IX 、 3 5 2 2 2 層 劑 阻 光部 :□ b 開 5 : 器 差 應 段墊供 階襯體間 ::氣空 4 8 化風體 2 2 淨送本 、 ^ ...... 3 5 12 3 2 2 3 3 3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 口嘴 口口部 部出噴出出應 壁吐:吐吐供 下 一 6 二二一 : 第 3 第第第 3 4 5 7 8 9 3 3 3 3 3 3 4 ο 4 咅 應 供 二 第 ,--------訂---------線 . 2 4 3 4 器 扇氣 風濾 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -18- 480541 A7 _B7 五、發明說明(16 ) 4 4 :離子化器 50、5 1 :曝光光源 壁 導片 :葉 5 導 5 弓 、 * 4 6 5 5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---------訂---------線 · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -19-

Claims (1)

  1. 480541 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 . 一種曝光裝置,屬於將被曝光物施以曝光的曝光 裝置,其特徵爲具備: 相對向配設於上述被曝光物,支持曝光圖案所形成之 光罩,同時將光罩移動在接觸於上述曝光物之曝光位置與 從上述被#曝光物離開之離開位置之間的罩支持部;及 在上述光罩移動至上述曝光裝置之狀態,通過上述光 罩俾曝光上述被曝光物的曝光光源;及 上述光罩移動至上述離開位置時,在上述被曝光物與 光罩之間流動淨化氣體的淨化氣體供應器。 2 .如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置,其中, 上述淨化氣體供應器係具備:上述光罩移動至離開位置時 ,將淨化氣體供應至被曝光物與光罩之間的第一供應部, 及上述光罩移動至上述開離位置時,及上述光罩移動至上 述曝光裝置時,將淨化氣體供應至光罩之外面的第二供應 部。 3 .如申請專利範圍第2項所述之曝光裝置,其中, 上述淨化氣體供應器係具備隨著上述光罩之移動,調整來 自上述第一供應部之淨化氣體之供應的調整機構。 4 ..如申請專利範圍第2項所述之曝光裝置,其中, 上述淨化氣體供應器係具備:鄰設於上述罩支持部及光罩 之端部,同時在內部具有送風空間的本體,及形成於上述 本體且在上述送風空間導入氣體的吸氣口;上述第一供應 部係具備形成於上述本體且連通於上述送風空間,同時位 在近旁且相對向於上述光罩之端部的第一吐出口;上述第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •罈; 訂 經濟部智慧时4局員工消費合作社印製 -20- 480541 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8々、申請專利範圍 二供應部係具備具朝上述本體延伸同時朝上述光罩外面的 第二吐出口的噴嘴。 5 ·如申請專利範圍第2項所述之曝光裝置,其中, 上述淨化氣體供應器係具備:鄰設於上述罩支持部及光罩 之端部’同時在內部具有送風空間的本體,及形成於上述 本體且在上述送風空間導入氣體的吸氣口;上述第一供應 部係具備形成於上述本體且連通於上述送風空間,同時鄰 接且相對向於上述光罩之端部的吐出口;上述第二供應部 係具備從上述本體朝上述光罩外面延伸,並將從上述吐出 口所吐出之淨化氣體引導至上述光罩外面的引導部。 6 ·如申請專利範圍第2項所述之曝光裝置,其中, 在上述光罩移動至離開位置時,流在上述光罩外面上的淨 化氣體之風速係4·7m/s以上;在上述光罩移動至曝 光位置時,流在上述被曝光物與光罩之間的淨化氣體之風 速係 2 . 7 m / s。 7 ·如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置,其中, 上述淨化氣體供應器係具有將淨化氣體施以離子化的離子 化機構。 8 ·如申請專利範圍第5項所述之曝光裝置,其中, 離子化機構係具有將淨化氣體施以正電荷及負電荷之交互 地離子化的交流型式離子化器。 9 . 一種曝光裝置,屬於將具有相對向之兩面的被曝 光物施以曝光的曝光裝置,其特徵爲具備: 相對向配設於上述被曝光物之各面,分別支持曝光圖 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •舞; 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -21 - 480541 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 所形成之光罩,同時將各光罩移動在接觸於上述被曝光物 之對應面之曝光位置與從上述被曝光物離開之離開位置的 罩支持部;及 在上述各光罩移動至上述曝光位置之狀態,分別通過 上述光罩俾曝光上述被曝光物之各面的一對曝光光源;及 上述各光罩移動至上述離開位置時,在上述被曝光物 與各光罩之間流動淨化氣體的淨化氣體供應器。 1 〇 .如申請專利範圍第9項所述之曝光裝置,其中 ,上述淨化氣體供應器係具備:上述各光罩移動至離開位 置時,將淨化氣體供應至被曝光物與各光罩之間的第一供 應部,及上述各光罩移動至上述離開位置時,及上述各光 罩移動至上述曝光裝置時,將淨化氣體供應至上述各光罩 之外面的第二及第三供應部。 1 1 ·如申請專利範圍第1 〇項所述之曝光裝置,其 中,上述淨化氣體供應器係具備隨著上述光罩之移動,調 整來自上述第一供應部之淨化氣體之供應的調整機構。 1 2 ·如申請專利範圍第1 〇項所述之曝光裝置,其 中,上述淨化氣體供應器係具備··鄰設於上述罩支持部及 光罩之端部,同時在內部具有送風空間的本體,及形成於 上述本體且在上述送風空間導入氣體的吸氣口;上述第一 供應部係具備形成於上述本體且連通於上述送風空間,同 時位在近旁且相對向於上述光罩之端部的第一吐出口;上 述第二供應部係具備從上述本體延伸同時朝其中一方之光 罩外面的第二吐出口的噴嘴;上述第三供應部係具備從上 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X297公釐) (請先閲讀背而之注意事項再填寫本頁) 辞; 訂 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 -22- 480541 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 述本體延伸同時具朝另一方之光罩外面的第三吐出口的噴 嘴。 1 3 ·如申請專利範圍第1 0項所述之曝光裝置,其 中,上述淨化氣體供應器係具備:鄰設於上述罩支持部及 光罩之端部,同時在內部具有送風空間的本體,及形成於 上述本體且在上述送風空間導入氣體的吸氣口;上述第一 供應部係具備形成於上述本體且連通於上述送風空間,同 時鄰接且相對向於上述光罩之端部的吐出口;上述第二供 應部係具備從上述本體朝其中一方之光罩外面延伸,並將 從上述吐出口所吐出之淨化氣體引導至上述其中一方之光 罩外面的引導部;上述第三供應部係具備從上述本體朝另 一方之光罩外面延伸,並將從上述吐出口所吐出之淨化氣 體引導至上述另一方之光罩外面的引導部。 (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) •舞; 、11 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)
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