JPS6294929A - コンタクトプリンタ− - Google Patents
コンタクトプリンタ−Info
- Publication number
- JPS6294929A JPS6294929A JP60235649A JP23564985A JPS6294929A JP S6294929 A JPS6294929 A JP S6294929A JP 60235649 A JP60235649 A JP 60235649A JP 23564985 A JP23564985 A JP 23564985A JP S6294929 A JPS6294929 A JP S6294929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- working plate
- mask
- master mask
- master
- working
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体・集積回路の製造工程においてフォトレ
ジストを露光するコンタクトプリンターに関する。
ジストを露光するコンタクトプリンターに関する。
半導体・集積回路の製造に用いられるワーキングマスク
はコンタクトプリンターによって製造される。コンタク
トプリンターにおいては、まず、マスターマスクとフォ
トレノストが塗布されたワーキングプレートとを真空密
着させ、次にマスターマスク側から平行な紫外光を照射
し、フォトレジストにマスターマスクのパターンを焼付
ける。
はコンタクトプリンターによって製造される。コンタク
トプリンターにおいては、まず、マスターマスクとフォ
トレノストが塗布されたワーキングプレートとを真空密
着させ、次にマスターマスク側から平行な紫外光を照射
し、フォトレジストにマスターマスクのパターンを焼付
ける。
こレヲ現像・エツチングしてワーキングマスクが完成さ
れる。
れる。
ここで、コンタクトプリンターで露光が終ったマスター
マスクとワーキングプレートはｓ ｕ全密着の状態から
真空を除々に大気圧にもどすことによって分離される。
マスクとワーキングプレートはｓ ｕ全密着の状態から
真空を除々に大気圧にもどすことによって分離される。
ところが、分離されるべきマスターマスクとワーキング
プレートはしばしば分離せず、密着した状態のままにな
ってしまうことがある。これはマスターマスクとワーキ
ングプレートに塗布されたフォトレジストとの間に静電
気が帯電したことによるものである。この状態にあるマ
スターマスクとワーキングプレートを強Ｉｌｌ 的に分
離すると、マスターマスクの金属・ぐターンが静電気の
ス・ぞ−クにより破壊されてしまう。パターンに破損を
受けたマスターマスクは廃棄しなければならず、コスト
・納期に多大の破害を受けてしまう。
プレートはしばしば分離せず、密着した状態のままにな
ってしまうことがある。これはマスターマスクとワーキ
ングプレートに塗布されたフォトレジストとの間に静電
気が帯電したことによるものである。この状態にあるマ
スターマスクとワーキングプレートを強Ｉｌｌ 的に分
離すると、マスターマスクの金属・ぐターンが静電気の
ス・ぞ−クにより破壊されてしまう。パターンに破損を
受けたマスターマスクは廃棄しなければならず、コスト
・納期に多大の破害を受けてしまう。
そこで最近その対策として、ガラス基板上に透明な導電
膜を形成し、その上に金属・ぐターンを形成したマスク
用プレートが案出されている。しかしながら、この透明
導電膜付プレートは価格が高いこと、パターン形成精度
が悪いこと、透明導電膜の耐久性が低いこと等の理由に
より実用性に乏しかった。
膜を形成し、その上に金属・ぐターンを形成したマスク
用プレートが案出されている。しかしながら、この透明
導電膜付プレートは価格が高いこと、パターン形成精度
が悪いこと、透明導電膜の耐久性が低いこと等の理由に
より実用性に乏しかった。
本発明はマスターマスクとワーキングプレートとを容易
に分離できる装置を提供するものである。
に分離できる装置を提供するものである。
本発明はマスターマスクとフォトレノストを塗布したワ
ーキングプレートを真空密着させて露光するコンタクト
プリンターにおいて、上記真空密着をしているマスター
マスクとワーキングプレートどにイオン化された空気を
導入するイオン発生器を有することを特徴とするコンタ
クトプリンターである。
ーキングプレートを真空密着させて露光するコンタクト
プリンターにおいて、上記真空密着をしているマスター
マスクとワーキングプレートどにイオン化された空気を
導入するイオン発生器を有することを特徴とするコンタ
クトプリンターである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、チャンバー８内に台座８ａを設け、該
台座８ａの先端に、マスターマスク１１とワーキングプ
レートとを向き合せに保持するゴム製等のマスク支持体
７を設け、該マスク支持体７，７の正面前方にコリメー
ションレンズ１を設置スル。前記台座８ａに、２枚合せ
のマスク支持体７，７の隙間にイオン空気を吹き付ける
中間空間部４を設け、該中間空間部４にイオン発生器１
２を接続する。９はワーキング空気出入口、１０はマス
ター空気出入口、３は中間空気出入口である。
台座８ａの先端に、マスターマスク１１とワーキングプ
レートとを向き合せに保持するゴム製等のマスク支持体
７を設け、該マスク支持体７，７の正面前方にコリメー
ションレンズ１を設置スル。前記台座８ａに、２枚合せ
のマスク支持体７，７の隙間にイオン空気を吹き付ける
中間空間部４を設け、該中間空間部４にイオン発生器１
２を接続する。９はワーキング空気出入口、１０はマス
ター空気出入口、３は中間空気出入口である。
第１図において、マスターマスク１１とワーキンググレ
ート６はマスク支持体７によって向い合せに保持され、
チャン・々−８内にセットされる。次にマスター空気出
入口１０、ワーキング空気出入口９、中間空気出入口３
から同時に空気を排出し、マスター空間部２、ワーキン
グ空間部５、中間空間部４を真空にする。３つの空間部
が真空になったら、マスター空気出入口１０、ワーキン
グ空気出入口９がら空気を導入してマスター空間部２、
ワーキング空間部５と中間空間部４との間に圧力差を生
じさせ、マスターマスク１１とワーキングマスク６とを
密着させる。しかるのち、コリメーションレンズ１によ
って平行光になった紫外光を必要時間照射し、マスター
マスク１１のツクターンをワーキングプレート６に塗布
されたフォトレノストに転写する。照射が完了したら再
び、マスター空気出入口１０、ワーキング空気出入口９
、中間空気出入口３がら空気を排出し、そののちマスタ
ーマスク１１とワーキングプレート６を保持するだけの
真空をマスター空間部２とワーキング空間部５に残す様
にしてマスター空気出入口１０、ワーキング空気出入口
９、中間空気出入口３から同時に空気をゑ 導入する。このとき、中間空間部にはイオン発生器１２
によってイオン化された空気を導入して、大気圧にもど
す。イオン化された空気はマスターマスク１１とワーキ
ングプレート６に帯電した静電気を中和する。したがっ
て、マスターマスク１１とワーキングプレート６とは容
易に分離される。
ート６はマスク支持体７によって向い合せに保持され、
チャン・々−８内にセットされる。次にマスター空気出
入口１０、ワーキング空気出入口９、中間空気出入口３
から同時に空気を排出し、マスター空間部２、ワーキン
グ空間部５、中間空間部４を真空にする。３つの空間部
が真空になったら、マスター空気出入口１０、ワーキン
グ空気出入口９がら空気を導入してマスター空間部２、
ワーキング空間部５と中間空間部４との間に圧力差を生
じさせ、マスターマスク１１とワーキングマスク６とを
密着させる。しかるのち、コリメーションレンズ１によ
って平行光になった紫外光を必要時間照射し、マスター
マスク１１のツクターンをワーキングプレート６に塗布
されたフォトレノストに転写する。照射が完了したら再
び、マスター空気出入口１０、ワーキング空気出入口９
、中間空気出入口３がら空気を排出し、そののちマスタ
ーマスク１１とワーキングプレート６を保持するだけの
真空をマスター空間部２とワーキング空間部５に残す様
にしてマスター空気出入口１０、ワーキング空気出入口
９、中間空気出入口３から同時に空気をゑ 導入する。このとき、中間空間部にはイオン発生器１２
によってイオン化された空気を導入して、大気圧にもど
す。イオン化された空気はマスターマスク１１とワーキ
ングプレート６に帯電した静電気を中和する。したがっ
て、マスターマスク１１とワーキングプレート６とは容
易に分離される。
以上説明したように本発明は、露光後の密着したマスタ
ーマスクとワーキングプレートにイオン化された空気を
導入することにより、静電気を中和・除去するため、マ
スターマスクとワーキングプレートの分離が確実に行な
われる効果がある。
ーマスクとワーキングプレートにイオン化された空気を
導入することにより、静電気を中和・除去するため、マ
スターマスクとワーキングプレートの分離が確実に行な
われる効果がある。
すなわち、静電気によるマスターマスクの金属パターン
破壊防止をコンタクトプリンターによって行なうため、
マスターマスクの材料を透明導電膜付に変更する必要が
なく価格的、型造条件的に有利である。
破壊防止をコンタクトプリンターによって行なうため、
マスターマスクの材料を透明導電膜付に変更する必要が
なく価格的、型造条件的に有利である。
第１図は本発明の実施例を示す原理図である。
１・・・コリメーションレンズ、２・・・マスタ÷空間
部、３・・・中間空気出入口、４・・・中間空間部、５
・・・ワーキング空間部、６・・・ワーキングプレート
、７・・・マスク支持体、８・・・チャンバー、９・・
・ワーキング空気出入口、１０・・・マスター空気出入
口、１１・・・マスターマスク、１２・・・イオン発生
器。
部、３・・・中間空気出入口、４・・・中間空間部、５
・・・ワーキング空間部、６・・・ワーキングプレート
、７・・・マスク支持体、８・・・チャンバー、９・・
・ワーキング空気出入口、１０・・・マスター空気出入
口、１１・・・マスターマスク、１２・・・イオン発生
器。
Claims (1)
- （１）マスターマスクと、フォトレジストを塗布したワ
ーキングプレートとを真空密着させて露光するコンタク
トプリンターにおいて、上記真空密着をしているマスタ
ーマスクとワーキングプレートとにイオン化された空気
を導入するイオン発生器を有することを特徴とするコン
タクトプリンター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60235649A JPS6294929A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | コンタクトプリンタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60235649A JPS6294929A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | コンタクトプリンタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6294929A true JPS6294929A (ja) | 1987-05-01 |
Family
ID=16989142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60235649A Pending JPS6294929A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | コンタクトプリンタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6294929A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007879A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Howa Mach Ltd | 内層基板用露光装置及び基板とマスクの剥離方法 |
-
1985
- 1985-10-22 JP JP60235649A patent/JPS6294929A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007879A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Howa Mach Ltd | 内層基板用露光装置及び基板とマスクの剥離方法 |
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