JPH0878182A - パターン露光方法 - Google Patents
パターン露光方法Info
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- JPH0878182A JPH0878182A JP6209935A JP20993594A JPH0878182A JP H0878182 A JPH0878182 A JP H0878182A JP 6209935 A JP6209935 A JP 6209935A JP 20993594 A JP20993594 A JP 20993594A JP H0878182 A JPH0878182 A JP H0878182A
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- mask
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、リードフレーム等のエッチング部品
の製造に係わり、特に、パターン焼き付け露光工程にお
いて使用するパターン露光方法の工夫を目的とする。 【構成】フォトエッチング法を用いて製造されるエッチ
ング部品の製造工程において、パターン焼き付け露光に
使用する露光機に、コロナ放電により生成したイオンを
供給する静電気除去装置を設置し、パターン露光前後に
パターン露光機、金属材料およびパターンマスク等に帯
電する静電気の除電を行うことを特徴とするパターン露
光方法。
の製造に係わり、特に、パターン焼き付け露光工程にお
いて使用するパターン露光方法の工夫を目的とする。 【構成】フォトエッチング法を用いて製造されるエッチ
ング部品の製造工程において、パターン焼き付け露光に
使用する露光機に、コロナ放電により生成したイオンを
供給する静電気除去装置を設置し、パターン露光前後に
パターン露光機、金属材料およびパターンマスク等に帯
電する静電気の除電を行うことを特徴とするパターン露
光方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレーム等のエ
ッチング部品の製造に係わり、特に、パターン焼き付け
露光工程において使用するパターン露光方法の工夫に関
する。
ッチング部品の製造に係わり、特に、パターン焼き付け
露光工程において使用するパターン露光方法の工夫に関
する。
【０００２】
【従来の技術】エッチング部品、特にリードフレームの
製造方法の一例を図２を用い簡単に説明を行う。まず、
図２（ａ）に示すように、リードフレームとなる金属材
料２の両面に、例えば、ポリビニルアルコールおよび重
クロム酸アンモニウムからなる水溶性のネガ型感光性樹
脂６を塗布する。次いで、図２（ｂ）に示すように、リ
ードフレームのパターンとなる部分を光透過部とし、リ
ードフレームのパターン部以外を遮光部とした略同一形
状のパターンマスクを二枚用い、金属材料２の片面に一
枚のマスク３を当て、金属材料２の他方の片面の相対す
る位置にもう一枚のマスク３’を当て、両面より紫外線
を照射しマスクパターンの焼き付け露光を行い、リード
フレームのパターンとなる部分の感光性樹脂６の光硬化
を行う。
製造方法の一例を図２を用い簡単に説明を行う。まず、
図２（ａ）に示すように、リードフレームとなる金属材
料２の両面に、例えば、ポリビニルアルコールおよび重
クロム酸アンモニウムからなる水溶性のネガ型感光性樹
脂６を塗布する。次いで、図２（ｂ）に示すように、リ
ードフレームのパターンとなる部分を光透過部とし、リ
ードフレームのパターン部以外を遮光部とした略同一形
状のパターンマスクを二枚用い、金属材料２の片面に一
枚のマスク３を当て、金属材料２の他方の片面の相対す
る位置にもう一枚のマスク３’を当て、両面より紫外線
を照射しマスクパターンの焼き付け露光を行い、リード
フレームのパターンとなる部分の感光性樹脂６の光硬化
を行う。
【０００３】次いで、図２（ｃ）に示すように、例えば
水をスプレーすることにより現像を行い、未硬化部の感
光性樹脂６すなわち、リードフレームのパターンとなる
部分以外の感光性樹脂６の除去を行う。次いで、図２
（ｄ）に示すように、エッチング液を用い金属材料２の
エッチングを両側から行い、リードフレームのパターン
となる部分以外の金属材料２をエッチング除去し、リー
ドフレームのパターンとなる部分以外を貫通させ、リー
ドフレームのパターンとなる部分を残す。次いで、感光
性樹脂６の剥膜をした後、公知の方法によりインナーリ
ードの先端に部分貴金属メッキ処理を行い、金属材料６
を必要な形に打ち抜きを行いリードフレームとする。
水をスプレーすることにより現像を行い、未硬化部の感
光性樹脂６すなわち、リードフレームのパターンとなる
部分以外の感光性樹脂６の除去を行う。次いで、図２
（ｄ）に示すように、エッチング液を用い金属材料２の
エッチングを両側から行い、リードフレームのパターン
となる部分以外の金属材料２をエッチング除去し、リー
ドフレームのパターンとなる部分以外を貫通させ、リー
ドフレームのパターンとなる部分を残す。次いで、感光
性樹脂６の剥膜をした後、公知の方法によりインナーリ
ードの先端に部分貴金属メッキ処理を行い、金属材料６
を必要な形に打ち抜きを行いリードフレームとする。
【０００４】従来、金属材料上にゴミが付着すると製品
上でピンホール等の形状不良の原因となるため、パター
ンの焼き付け露光工程は、ゴミの少ないクリーンルーム
内で行われている。しかし、クリーンルーム内において
は湿度も６０％以下と低く抑えられているため、パター
ン露光機への金属板の搬送および、パターンマスクの金
属材料への接触、または作業者の動き等により静電気が
発生し易くなっている。
上でピンホール等の形状不良の原因となるため、パター
ンの焼き付け露光工程は、ゴミの少ないクリーンルーム
内で行われている。しかし、クリーンルーム内において
は湿度も６０％以下と低く抑えられているため、パター
ン露光機への金属板の搬送および、パターンマスクの金
属材料への接触、または作業者の動き等により静電気が
発生し易くなっている。
【０００５】そのため、パターン露光機上の金属材料や
パターンマスク等に静電気が帯電している。例えば、パ
ターン露光後には特に帯電圧が高くなり、時として帯電
圧が数万ボルトにもなることがあり、以下の問題を生じ
ている。すなわち、クリーンルーム内に残る微細なゴミ
等の異物が静電気のクーロン力により金属材料やパター
ンマスクに引き寄せられ付着することで、パターン露光
後にエッチングを行うと、製品にピンホールやパターン
欠けが発生するという問題である。また、帯電した静電
気が放電する際の火花により、パターンマスク上のパタ
ーンが消失し、全製品に同一の欠陥が発生するという問
題等もある。さらに、静電気が放電する際の火花により
金属材料上の感光性樹脂がカブリを生じたりする問題も
あげられる。
パターンマスク等に静電気が帯電している。例えば、パ
ターン露光後には特に帯電圧が高くなり、時として帯電
圧が数万ボルトにもなることがあり、以下の問題を生じ
ている。すなわち、クリーンルーム内に残る微細なゴミ
等の異物が静電気のクーロン力により金属材料やパター
ンマスクに引き寄せられ付着することで、パターン露光
後にエッチングを行うと、製品にピンホールやパターン
欠けが発生するという問題である。また、帯電した静電
気が放電する際の火花により、パターンマスク上のパタ
ーンが消失し、全製品に同一の欠陥が発生するという問
題等もある。さらに、静電気が放電する際の火花により
金属材料上の感光性樹脂がカブリを生じたりする問題も
あげられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、リー
ドフレーム等のエッチング部品の製造におけるパターン
焼き付け露光の際、上記したような問題を有しないパタ
ーン露光方法を提供することにある。
ドフレーム等のエッチング部品の製造におけるパターン
焼き付け露光の際、上記したような問題を有しないパタ
ーン露光方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はフォ
トエッチング法を用いて製造されるエッチング部品の製
造工程において、パターン焼き付け露光に使用する露光
機に、コロナ放電により生成したイオンを供給する静電
気除去装置を設置し、パターン露光前後にパターン露光
機、金属材料およびパターンマスク等に帯電する静電気
の除電を行うことを特徴とするパターン露光方法を提供
することにより上記の課題を解決したものである。
トエッチング法を用いて製造されるエッチング部品の製
造工程において、パターン焼き付け露光に使用する露光
機に、コロナ放電により生成したイオンを供給する静電
気除去装置を設置し、パターン露光前後にパターン露光
機、金属材料およびパターンマスク等に帯電する静電気
の除電を行うことを特徴とするパターン露光方法を提供
することにより上記の課題を解決したものである。
【０００８】以下に、図１を用い本発明の説明を行う。
なお、図１は枚葉式のパターン露光機への本発明の実施
例を簡単に示したものである。ここで、図１中の感光性
樹脂を塗布した金属材料２の両側にあるパターンマスク
３およびパターンマスク３’は可動となっており、光源
４を用いたパターン焼き付け露光時にはパターンマスク
３およびパターンマスク３’は金属材料２に密着し、か
つ、パターン焼き付け前後の金属材料２の搬送時には、
パターンマスク３およびパターンマスク３’は金属材料
２から離れるようになっている。
なお、図１は枚葉式のパターン露光機への本発明の実施
例を簡単に示したものである。ここで、図１中の感光性
樹脂を塗布した金属材料２の両側にあるパターンマスク
３およびパターンマスク３’は可動となっており、光源
４を用いたパターン焼き付け露光時にはパターンマスク
３およびパターンマスク３’は金属材料２に密着し、か
つ、パターン焼き付け前後の金属材料２の搬送時には、
パターンマスク３およびパターンマスク３’は金属材料
２から離れるようになっている。
【０００９】次いで、図１中の圧着板５（以下、梨地ク
リアーと記す）は、光を透過する高分子フィルムにより
構成されており、パターン焼き付け時に両側から挟み込
むことによりパターンマスク３およびパターンマスク
３’と金属材料２を密着させる働きをする。
リアーと記す）は、光を透過する高分子フィルムにより
構成されており、パターン焼き付け時に両側から挟み込
むことによりパターンマスク３およびパターンマスク
３’と金属材料２を密着させる働きをする。
【００１０】次いで、図１中の静電気除去装置１は、例
えばコロナ放電によってプラス、マイナス両極性のイオ
ンを生成し供給している。なお、イオンの供給の手段と
して、例えば、生成イオンを直接照射する方法、また
は、エアー噴射を併用し生成イオンをエアーにより供給
する方法等があげられる。この供給されるプラス、マイ
ナス両極性のイオンが有効に届く領域内に上記のパター
ン露光機が入るよう静電気除去装置１をパターン露光機
に設置する。この静電気除去装置によるコロナ放電によ
り、パターン露光機、金属材料およびパターンマスク等
に帯電する静電気の除電を行う。
えばコロナ放電によってプラス、マイナス両極性のイオ
ンを生成し供給している。なお、イオンの供給の手段と
して、例えば、生成イオンを直接照射する方法、また
は、エアー噴射を併用し生成イオンをエアーにより供給
する方法等があげられる。この供給されるプラス、マイ
ナス両極性のイオンが有効に届く領域内に上記のパター
ン露光機が入るよう静電気除去装置１をパターン露光機
に設置する。この静電気除去装置によるコロナ放電によ
り、パターン露光機、金属材料およびパターンマスク等
に帯電する静電気の除電を行う。
【００１１】また、静電気除去装置１は図１では固定と
なっているが、例えば、ノズルガン方式にて人手でイオ
ンの供給口を移動できるものでも構わない。さらに、静
電気除去装置１は常時稼働していることが望ましいが、
パターン露光の前後に必要に応じ使うことで対象物の静
電気の除電を行っても構わない。
なっているが、例えば、ノズルガン方式にて人手でイオ
ンの供給口を移動できるものでも構わない。さらに、静
電気除去装置１は常時稼働していることが望ましいが、
パターン露光の前後に必要に応じ使うことで対象物の静
電気の除電を行っても構わない。
【００１２】なお、上記の図１では枚葉式パターン露光
機について説明を行ったが、帯状に連続した金属材料に
パターン露光を行う、連続式パターン露光機についても
本発明が適用できることは言うまでもない。
機について説明を行ったが、帯状に連続した金属材料に
パターン露光を行う、連続式パターン露光機についても
本発明が適用できることは言うまでもない。
【００１３】
【作用】パターン露光機に取り付けた静電気除去装置を
用いることにより、パターン露光機、金属材料およびパ
ターンマスク等に帯電する静電気を除電することで、ク
リーンルーム内に残る微細なゴミ等の異物が、静電気の
クーロン力により金属板やパターンマスクに引き寄せら
れ付着することが防止できる。また、帯電した静電気が
放電する際の火花の発生も防止できる。
用いることにより、パターン露光機、金属材料およびパ
ターンマスク等に帯電する静電気を除電することで、ク
リーンルーム内に残る微細なゴミ等の異物が、静電気の
クーロン力により金属板やパターンマスクに引き寄せら
れ付着することが防止できる。また、帯電した静電気が
放電する際の火花の発生も防止できる。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例を以下に示す。 ＜実施例＞図１の本発明による枚葉式パターン露光装置
を用い、図２のリードフレームの製造工程に従って金属
材料へのパターン露光を行った。その際、静電気除去装
置として春日電機株式会社製商品名「ＫＤ−１１０型」
を用い、パターン露光装置上方１０cmの位置に設置し、
特に静電気の帯電圧が高くなるパターン露光終了後に３
秒間作動させた。
を用い、図２のリードフレームの製造工程に従って金属
材料へのパターン露光を行った。その際、静電気除去装
置として春日電機株式会社製商品名「ＫＤ−１１０型」
を用い、パターン露光装置上方１０cmの位置に設置し、
特に静電気の帯電圧が高くなるパターン露光終了後に３
秒間作動させた。
【００１５】次いで、静電気除去装置作動後に金属材料
とパターンマスクを密着させる梨地クリアーの、パター
ンマスクと接する面における静電気の帯電圧をシムコジ
ャパン株式会社製商品名「ＦＭ３００型」にて測定し
た。また、静電気による異物付着を測定するため静電気
除去後に金属材料上に付着した異物の個数を測定した。
なお、異物測定は金属材料の表裏について各々右、左、
真ん中の３か所を選びその場所の２×３cm内の領域の異
物の個数を測定し平均値を求めた。本発明を用いた静電
気の帯電圧および異物の個数の測定結果を後述の表１に
記す。
とパターンマスクを密着させる梨地クリアーの、パター
ンマスクと接する面における静電気の帯電圧をシムコジ
ャパン株式会社製商品名「ＦＭ３００型」にて測定し
た。また、静電気による異物付着を測定するため静電気
除去後に金属材料上に付着した異物の個数を測定した。
なお、異物測定は金属材料の表裏について各々右、左、
真ん中の３か所を選びその場所の２×３cm内の領域の異
物の個数を測定し平均値を求めた。本発明を用いた静電
気の帯電圧および異物の個数の測定結果を後述の表１に
記す。
【００１６】＜比較例＞次いで、本発明との比較のた
め、従来の静電気除去装置の無いパターン露光装置を用
いた場合の、パターン露光後の静電気の帯電圧および異
物の個数を、上記の実施例と同様の条件にて測定し測定
結果を表１に合わせて記した。
め、従来の静電気除去装置の無いパターン露光装置を用
いた場合の、パターン露光後の静電気の帯電圧および異
物の個数を、上記の実施例と同様の条件にて測定し測定
結果を表１に合わせて記した。
【００１７】
【表１】
【００１８】上記の表１に示すように、本発明を用いる
ことにより静電気の帯電圧は０Ｖとなり、異物の付着個
数は従来に比べ約８分の１と減っている。なお、測定し
た異物の大きさは実施例、比較例ともに７０μｍ径以下
であった。
ことにより静電気の帯電圧は０Ｖとなり、異物の付着個
数は従来に比べ約８分の１と減っている。なお、測定し
た異物の大きさは実施例、比較例ともに７０μｍ径以下
であった。
【００１９】
【発明の効果】本発明に用いるパターン露光機に取り付
けた静電気除去装置を用いることにより、パターン露光
機、金属材料およびパターンマスク等に帯電する静電気
の除電を行うことで、クリーンルーム内に残る微細なゴ
ミ等の異物が静電気のクーロン力により金属材料やパタ
ーンマスクに引き寄せられ付着することが防止できる。
例えば、上記の実施例ではパターン露光後の静電気の帯
電圧は０Ｖになり、金属材料への異物の付着個数は従来
の８分の１に減っているが、クリーンルーム内のクリー
ン度を考慮すると実質的に金属材料への異物付着は防止
できたといえる。
けた静電気除去装置を用いることにより、パターン露光
機、金属材料およびパターンマスク等に帯電する静電気
の除電を行うことで、クリーンルーム内に残る微細なゴ
ミ等の異物が静電気のクーロン力により金属材料やパタ
ーンマスクに引き寄せられ付着することが防止できる。
例えば、上記の実施例ではパターン露光後の静電気の帯
電圧は０Ｖになり、金属材料への異物の付着個数は従来
の８分の１に減っているが、クリーンルーム内のクリー
ン度を考慮すると実質的に金属材料への異物付着は防止
できたといえる。
【００２０】また、帯電した静電気が放電する際の火花
を原因とする、パターンマスク上のパターンが消失し、
全製品に同一欠陥が発生するという問題、および、金属
材料上の感光性樹脂がカブリを生じたりする問題も防止
できる等、本発明は実用上優れているといえる。
を原因とする、パターンマスク上のパターンが消失し、
全製品に同一欠陥が発生するという問題、および、金属
材料上の感光性樹脂がカブリを生じたりする問題も防止
できる等、本発明は実用上優れているといえる。
【００２１】
【図１】本発明の静電気除去装置を用いたパターン露光
方法の一実施例を示す説明図。
方法の一実施例を示す説明図。
【図２】（ａ）〜（ｄ）はリードフレームの製造方法の
一例を工程順に示す説明図。
一例を工程順に示す説明図。
１ 静電気除去装置 ２ 金属材料 ３ マスク ３’マスク ４ 光源 ５ 圧着板 ６ 感光性樹脂
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｔ 23/00 8835−5Ｇ Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｅ
Claims (1)
- 【請求項１】フォトエッチング法を用いて製造されるエ
ッチング部品の製造工程において、パターン焼き付け露
光に使用する露光機に、コロナ放電により生成したイオ
ンを供給する静電気除去装置を設置し、パターン露光前
後にパターン露光機、金属材料およびパターンマスク等
に帯電する静電気の除電を行うことを特徴とするパター
ン露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6209935A JPH0878182A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | パターン露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6209935A JPH0878182A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | パターン露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0878182A true JPH0878182A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16581099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6209935A Pending JPH0878182A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | パターン露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0878182A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002063396A1 (en) * | 2001-01-04 | 2002-08-15 | Asml Us, Inc. | In-situ lithography mask cleaning |
| US7522263B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| JP2013050633A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の製造方法 |
| KR101510156B1 (ko) * | 2014-11-10 | 2015-04-08 | (주)프리테크 | 리드프레임 제조용 노광장치 |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP6209935A patent/JPH0878182A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002063396A1 (en) * | 2001-01-04 | 2002-08-15 | Asml Us, Inc. | In-situ lithography mask cleaning |
| US6589354B2 (en) | 2001-01-04 | 2003-07-08 | Paul B. Reid | Method and apparatus for in-situ lithography mask cleaning |
| US7522263B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US8064038B2 (en) | 2005-12-27 | 2011-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample |
| JP2013050633A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の製造方法 |
| KR101510156B1 (ko) * | 2014-11-10 | 2015-04-08 | (주)프리테크 | 리드프레임 제조용 노광장치 |
| WO2016076610A1 (ko) * | 2014-11-10 | 2016-05-19 | (주)프리테크 | 리드프레임 제조용 노광장치 |
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