JPS62104034A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS62104034A JPS62104034A JP60243472A JP24347285A JPS62104034A JP S62104034 A JPS62104034 A JP S62104034A JP 60243472 A JP60243472 A JP 60243472A JP 24347285 A JP24347285 A JP 24347285A JP S62104034 A JPS62104034 A JP S62104034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- high voltage
- plate
- electrode plate
- moved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造に使用される微細パターン
露光装置に関するものである。
露光装置に関するものである。
半導体装置の製造においてホトリソグラフィの技術は極
めて重要な技術で、微細パターンの形成には欠くことの
できぬもので広く利用されている。
めて重要な技術で、微細パターンの形成には欠くことの
できぬもので広く利用されている。
そして、この技術においてレジスト膜上に所要のパター
ンの露光を行なうために、当該パターンのレティクルを
レティクル支持台の上に載置し、これに光を照射する露
光装置が広く用いられている０〔発明が解決しようとす
る問題点〕 ところが従来の装置は装置内部にレティクル上の愚埃の
ような異物を除去するｔ−、ｌを備えていなかったので
、異物の発生により、形成パターンに不良を生じるとい
う間一点があった。
ンの露光を行なうために、当該パターンのレティクルを
レティクル支持台の上に載置し、これに光を照射する露
光装置が広く用いられている０〔発明が解決しようとす
る問題点〕 ところが従来の装置は装置内部にレティクル上の愚埃の
ような異物を除去するｔ−、ｌを備えていなかったので
、異物の発生により、形成パターンに不良を生じるとい
う間一点があった。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、レティクル上の異物を除去し、パターン形成不
良をなくすことができる露光装置を得ることを目的とす
る。
もので、レティクル上の異物を除去し、パターン形成不
良をなくすことができる露光装置を得ることを目的とす
る。
本発明に係る露光装置は、レティクル近傍に導電性の板
を設け、これに高電圧を印加できるようにしたものであ
る。
を設け、これに高電圧を印加できるようにしたものであ
る。
この発明における露光装置はレティクル近傍に設けた導
電性板に高電圧を印加することＫよってレティクル上の
異物を静電的に吸着除去できるＯ〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を図について説明する０図にお
いて、（１）はレティクル、（２）はレティクル（１）
を支持するレティクル支持台、（３）はこのレティクル
（１）上を図示矢印のように移動可能に設けられ、レテ
ィクル（１）上に付着した異物を除去するための電極板
、（４）は電極板（３）に高電圧を供給する電源である
０ まず、レティクル支持台（２）上にレティクル（１）を
設置した後に電極板（３）をレティクル（１）上部に移
動し、次（にの電極板（３）に電源（４）から高電圧を
印加する。これにより、レティクル（１）上に付着して
いた異物は、静電気力により除去され、電極板（３）に
吸着される。その後に、電極板（３）をレティクル（１
）上より移動させ、露光を行なう。
電性板に高電圧を印加することＫよってレティクル上の
異物を静電的に吸着除去できるＯ〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を図について説明する０図にお
いて、（１）はレティクル、（２）はレティクル（１）
を支持するレティクル支持台、（３）はこのレティクル
（１）上を図示矢印のように移動可能に設けられ、レテ
ィクル（１）上に付着した異物を除去するための電極板
、（４）は電極板（３）に高電圧を供給する電源である
０ まず、レティクル支持台（２）上にレティクル（１）を
設置した後に電極板（３）をレティクル（１）上部に移
動し、次（にの電極板（３）に電源（４）から高電圧を
印加する。これにより、レティクル（１）上に付着して
いた異物は、静電気力により除去され、電極板（３）に
吸着される。その後に、電極板（３）をレティクル（１
）上より移動させ、露光を行なう。
以上のように、本発明によれば露光装置にレティクル上
の異物を除去できる機構を設けたので、異物による露光
不良をなくすことができ、安定した露光装置を提供する
ことができる０
の異物を除去できる機構を設けたので、異物による露光
不良をなくすことができ、安定した露光装置を提供する
ことができる０
図はこの発明の一実施例の要部のみを示す正面断面図で
ある。
ある。
Claims (1)
- （１）レテイクル支持台に支持されたレテイクルを介し
て光を照射して上記レテイクルに形成されている微細な
パターンを所要面上に露光させるものにおいて、上記レ
テイクル上にこれに接近して移動可能な電極板とこの電
極板に高電圧を印加する高圧電源とを備え、上記露光に
先立つて上記電極板を上記レテイクル上に移行させ上記
高電圧を印加して静電気力によつて上記レテイクル上の
異物を除去できるようにしたことを特徴とする露光装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60243472A JPS62104034A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60243472A JPS62104034A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104034A true JPS62104034A (ja) | 1987-05-14 |
Family
ID=17104396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60243472A Pending JPS62104034A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104034A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006294753A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Htl:Kk | フォトマスクの使用方法 |
| JP2010501999A (ja) * | 2006-12-08 | 2010-01-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
-
1985
- 1985-10-30 JP JP60243472A patent/JPS62104034A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006294753A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Htl:Kk | フォトマスクの使用方法 |
| JP2010501999A (ja) * | 2006-12-08 | 2010-01-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
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