JPH01183117A - X線露光方法 - Google Patents
X線露光方法Info
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- JPH01183117A JPH01183117A JP63006831A JP683188A JPH01183117A JP H01183117 A JPH01183117 A JP H01183117A JP 63006831 A JP63006831 A JP 63006831A JP 683188 A JP683188 A JP 683188A JP H01183117 A JPH01183117 A JP H01183117A
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- wafer
- ray
- ray mask
- conductive film
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
X線転写技術を用いてX線マスク上のパターンをウェハ
上に転写する場合に、X線マスクとウェハの間の距離を
近づけたとき両者が静電気によってくっつくことを防止
するためのX線露光方法に関し、 X線マスクとウェハの間隔を狭くすることができ、ぼけ
がなく解像度の高いX線露光方法を提供することを目的
とし、 X線マスクとウェハを近接して配置し、該X線マスク上
のパターンをウェハ上に露光するX線露光方法において
、前記X線マスクまたはウェハの表面に導電性膜を形成
することを特徴とする特許露光方法を含み構成する。
上に転写する場合に、X線マスクとウェハの間の距離を
近づけたとき両者が静電気によってくっつくことを防止
するためのX線露光方法に関し、 X線マスクとウェハの間隔を狭くすることができ、ぼけ
がなく解像度の高いX線露光方法を提供することを目的
とし、 X線マスクとウェハを近接して配置し、該X線マスク上
のパターンをウェハ上に露光するX線露光方法において
、前記X線マスクまたはウェハの表面に導電性膜を形成
することを特徴とする特許露光方法を含み構成する。
本発明は、X線転写技術を用いてX線マスク上のパター
ンをウェハ上に転写する場合に、X線マスクとウェハの
間の距離を近づけたとき両者が静電気によってくっつく
ことを防止するためのX線露光方法に関する。
ンをウェハ上に転写する場合に、X線マスクとウェハの
間の距離を近づけたとき両者が静電気によってくっつく
ことを防止するためのX線露光方法に関する。
半導体装置製造の分野においては、X線を用い転写パタ
ーンの微細化が要望されている。
ーンの微細化が要望されている。
X線転写技術は、金属ターゲットに電子ビームを当てて
発生させたX線を、レジストを塗ったウェハ表面に近接
させたマスクに照射し、該マスクを透過したX線によっ
てマスクパターンをレジストに焼付けるものである。こ
の技術は、転写パターンの微細化に適し、LSI(大規
模集積回路)パターンの形成に用いられている。
発生させたX線を、レジストを塗ったウェハ表面に近接
させたマスクに照射し、該マスクを透過したX線によっ
てマスクパターンをレジストに焼付けるものである。こ
の技術は、転写パターンの微細化に適し、LSI(大規
模集積回路)パターンの形成に用いられている。
第2図は、従来のX線露光方法を説明するX線マスクと
ウェハの断面図である。同図において、X線マスクは、
Au、 IA 、 Ta等の重金属からなるマスキング
パターン用のX線吸収体1aと、X線を透過させ易いB
N−H、BNC−H、5iJ4、Si、ポリイミド等の
材料で形成された厚さ2〜6μm程度のメンブレン1b
を有する基板からなる。このX線マスクは1は、表面に
レジスト2を形成したSiウェハ3上に10〜50μm
程度の間隔Gの距離を隔てて配設される。また、このS
iウェハ3は、アルミニウム等の材料からなるチャック
4上に載置されている。このチャック4の下部には、ピ
エゾ素子5からなる調整機構が設けられている。このピ
エゾ素子5には、例えば500V、 1μmの電力が印
加され、この電圧に応じた変位によりX線マスク1とS
iウェハ3が並行になるよう間隔Gが調整される。
ウェハの断面図である。同図において、X線マスクは、
Au、 IA 、 Ta等の重金属からなるマスキング
パターン用のX線吸収体1aと、X線を透過させ易いB
N−H、BNC−H、5iJ4、Si、ポリイミド等の
材料で形成された厚さ2〜6μm程度のメンブレン1b
を有する基板からなる。このX線マスクは1は、表面に
レジスト2を形成したSiウェハ3上に10〜50μm
程度の間隔Gの距離を隔てて配設される。また、このS
iウェハ3は、アルミニウム等の材料からなるチャック
4上に載置されている。このチャック4の下部には、ピ
エゾ素子5からなる調整機構が設けられている。このピ
エゾ素子5には、例えば500V、 1μmの電力が印
加され、この電圧に応じた変位によりX線マスク1とS
iウェハ3が並行になるよう間隔Gが調整される。
上記従来の技術は、X線マスク1とSiウェハ3の距離
を減少することが、半影ぼけ及び回折効果によるぼけを
押さえ、解像度を向上させるために非常に重要な技術と
なっている。ただし、X線マスク1とSiウェハ3を接
触させることは、アライメント誤差を招くため避けなけ
ればならない。ここで、半影ぼけは第3図に示す如く、
X線の線源6が所定の大きさ(1,5〜5胴径)を有す
る発散源であるため、X線吸収体1aの端部を通過した
X線がSiウェハ3上でエネルギー分布の変化する幅δ
を生じることによる。また、回折効果によるぼけは第4
図に示す如く、X線がX線吸収体1aの端部で回折を生
じ、Siウェハ3上でX線吸収体1a側に回り込みエネ
ルギー分布を生じることによる。
を減少することが、半影ぼけ及び回折効果によるぼけを
押さえ、解像度を向上させるために非常に重要な技術と
なっている。ただし、X線マスク1とSiウェハ3を接
触させることは、アライメント誤差を招くため避けなけ
ればならない。ここで、半影ぼけは第3図に示す如く、
X線の線源6が所定の大きさ(1,5〜5胴径)を有す
る発散源であるため、X線吸収体1aの端部を通過した
X線がSiウェハ3上でエネルギー分布の変化する幅δ
を生じることによる。また、回折効果によるぼけは第4
図に示す如く、X線がX線吸収体1aの端部で回折を生
じ、Siウェハ3上でX線吸収体1a側に回り込みエネ
ルギー分布を生じることによる。
しかし、上記従来のX線露光方法において、半影ぼけ及
び回折効果によるぼけを押さえるためには、できるだけ
間隔Gを狭(することが望ましいが、この間隔Gを10
〜20μm程度にしたときには、X線マスク1とウェハ
3が付着するという問題が発生することがあった。この
原因は、第5図に示す如く、X線マスク1とSiウェハ
3上のレジスト2が絶縁体で電荷により分極を生じ、間
隔Gが狭くなったとき静電気力により互いに引き合うこ
とによるからと考えられる。特に、第2図に示す如く、
ピエゾ素子5に高電圧が印加されたとき、電荷が生じ易
く付着することがあった。
び回折効果によるぼけを押さえるためには、できるだけ
間隔Gを狭(することが望ましいが、この間隔Gを10
〜20μm程度にしたときには、X線マスク1とウェハ
3が付着するという問題が発生することがあった。この
原因は、第5図に示す如く、X線マスク1とSiウェハ
3上のレジスト2が絶縁体で電荷により分極を生じ、間
隔Gが狭くなったとき静電気力により互いに引き合うこ
とによるからと考えられる。特に、第2図に示す如く、
ピエゾ素子5に高電圧が印加されたとき、電荷が生じ易
く付着することがあった。
そこで本発明は、X線マスクとウェハの間隔を狭くする
ことができ、ぼけがなく解像度の高いX線露光方法を提
供することを目的とする。
ことができ、ぼけがなく解像度の高いX線露光方法を提
供することを目的とする。
上記問題点は、X線マスクとウェハを近接して配置し、
該X線マスク上のパターンをウェハ上に露光するX線露
光方法において、前記X線マスクまたはウェハの表面に
導電性膜を形成することを特徴とするX線露光方法によ
って解決される。
該X線マスク上のパターンをウェハ上に露光するX線露
光方法において、前記X線マスクまたはウェハの表面に
導電性膜を形成することを特徴とするX線露光方法によ
って解決される。
本発明は、X線マスクまたはウェハの表面に導電性膜を
形成するため、電荷が帯電せずX線マスクとウェハとが
互いに静電気力により引き合い付着することがない。従
って、X線マスクとウェハとの間隔を狭くすることがで
き、半影ぼけ及び回折効果によるぼけを押さえ解像度を
向上することができる。
形成するため、電荷が帯電せずX線マスクとウェハとが
互いに静電気力により引き合い付着することがない。従
って、X線マスクとウェハとの間隔を狭くすることがで
き、半影ぼけ及び回折効果によるぼけを押さえ解像度を
向上することができる。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例に係わる露光方法を示すX線
マスクとウェハの断面図である。同図において、X線マ
スク11は4μm程度のメンブレンを有する基板からな
る。上記Siウェハ12のレジス目3表面上には、アル
ミニウム(A fi )等の材料からなる軽元素のX線
透過性のすぐれた導電性膜14が10〜20人程度真度
板着またはスパッタリング法等により形成される。また
、上記X線マスク11の表面上には、すすをドープした
酸化インジュウム(I T O;Indium Tin
0xide)等の透明導電性膜15が10〜20人程
度真度板着またはスパッタリング法等により形成される
。そして、上記導電性膜14を形成したX線マスク11
と、透明導電性膜15を形成したSiウェハ12は互い
に10〜20μm程度の間隔Gの距離を隔てて並行に配
設される。X線マスク11とSiウェハ12は、それぞ
れ接地される。
マスクとウェハの断面図である。同図において、X線マ
スク11は4μm程度のメンブレンを有する基板からな
る。上記Siウェハ12のレジス目3表面上には、アル
ミニウム(A fi )等の材料からなる軽元素のX線
透過性のすぐれた導電性膜14が10〜20人程度真度
板着またはスパッタリング法等により形成される。また
、上記X線マスク11の表面上には、すすをドープした
酸化インジュウム(I T O;Indium Tin
0xide)等の透明導電性膜15が10〜20人程
度真度板着またはスパッタリング法等により形成される
。そして、上記導電性膜14を形成したX線マスク11
と、透明導電性膜15を形成したSiウェハ12は互い
に10〜20μm程度の間隔Gの距離を隔てて並行に配
設される。X線マスク11とSiウェハ12は、それぞ
れ接地される。
上記構成のX線露光方法では、絶縁体であるX線マスク
11及びSiウェハ12は、それぞれ導電性膜14及び
透明導電性膜15が形成され接地されているため、帯電
することがなく、互いに引き合い付着することがない。
11及びSiウェハ12は、それぞれ導電性膜14及び
透明導電性膜15が形成され接地されているため、帯電
することがなく、互いに引き合い付着することがない。
従って、従来よりもX線マスク11とSiウェハ12の
間隔を狭くすることができ、半影ぼけ及び回折効果によ
るぼけを押さえ解像度を向上することができる。
間隔を狭くすることができ、半影ぼけ及び回折効果によ
るぼけを押さえ解像度を向上することができる。
なお、上記実施例において、X線マスク11及びSiウ
ェハ12のそれぞれに透明導電性膜15及び導電性膜1
4を形成しているが、いずれか一方のみでもよい。また
、透明導電性膜15はITO以外に透明性と導電性を有
する材料が使用でき、導電性膜14はX線透過性のすぐ
れた導電性有機膜を使用してもよい。さらに、導電性膜
14の膜厚は、できるだけ薄くするのが望ましいが、後
の工程でこの導電性膜14を除去するようにすれば10
0人程度板あってもよい。
ェハ12のそれぞれに透明導電性膜15及び導電性膜1
4を形成しているが、いずれか一方のみでもよい。また
、透明導電性膜15はITO以外に透明性と導電性を有
する材料が使用でき、導電性膜14はX線透過性のすぐ
れた導電性有機膜を使用してもよい。さらに、導電性膜
14の膜厚は、できるだけ薄くするのが望ましいが、後
の工程でこの導電性膜14を除去するようにすれば10
0人程度板あってもよい。
以上のように本発明によれば、X線マスクまたはウェハ
の表面に導電性膜を形成するようにしているため、静電
気力等により互いに付着することがなくなり、X線マス
クとウェハの間隔を狭くすることができる。従って、半
影ぼけ、回折によるぼけがなくなり解像度が向上する。
の表面に導電性膜を形成するようにしているため、静電
気力等により互いに付着することがなくなり、X線マス
クとウェハの間隔を狭くすることができる。従って、半
影ぼけ、回折によるぼけがなくなり解像度が向上する。
第1図は本発明実施例のX線露光方法を示すX線マスク
とウェハの断面図、 第2図は従来のX線露光方法の説明図、第3図は半影ぼ
けの説明図、 第4図回折効果によるぼけの説明図、 第5図は従来のX線マスクとウェハの分極状態の説明図
である。 図において、 11はX線マスク、 12はSiウェハ、 13はレジスト、 q
−114は導電性膜、 15は透明導電性膜 を示す。
とウェハの断面図、 第2図は従来のX線露光方法の説明図、第3図は半影ぼ
けの説明図、 第4図回折効果によるぼけの説明図、 第5図は従来のX線マスクとウェハの分極状態の説明図
である。 図において、 11はX線マスク、 12はSiウェハ、 13はレジスト、 q
−114は導電性膜、 15は透明導電性膜 を示す。
Claims (5)
- (1)X線マスク(11)とウェハ(12)を近接して
配置し、該X線マスク(11)上のパターンをウェハ(
12)上に露光するX線露光方法において、 前記X線マスク(11)またはウェハ(12)の表面に
導電性膜を形成することを特徴とするX線露光方法。 - (2)前記X線マスク(11)の表面に形成する導電性
膜は、ITOからなる透明導電性膜(15)であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のX線露光方法
。 - (3)前記ウェハ(12)の表面に形成する導電性膜は
、X線透過性の軽元素金属であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のX線露光方法。 - (4)前記ウェハ(12)の表面に形成する導電性膜は
、導電性有機膜であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のX線露光方法。 - (5)前記X線マスク(11)またはウェハ(12)の
表面に形成される導電性膜は、アースされることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のX線露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63006831A JPH01183117A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | X線露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63006831A JPH01183117A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | X線露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01183117A true JPH01183117A (ja) | 1989-07-20 |
Family
ID=11649172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63006831A Pending JPH01183117A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | X線露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01183117A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02310A (ja) * | 1987-12-29 | 1990-01-05 | Canon Inc | X線用マスクとそれを用いた露光方法 |
JPH02309A (ja) * | 1987-12-29 | 1990-01-05 | Canon Inc | X線用マスクとそれをを用いた露光方法 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63006831A patent/JPH01183117A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02310A (ja) * | 1987-12-29 | 1990-01-05 | Canon Inc | X線用マスクとそれを用いた露光方法 |
JPH02309A (ja) * | 1987-12-29 | 1990-01-05 | Canon Inc | X線用マスクとそれをを用いた露光方法 |
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