TW468092B - Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element - Google Patents

Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element Download PDF

Info

Publication number
TW468092B
TW468092B TW088114046A TW88114046A TW468092B TW 468092 B TW468092 B TW 468092B TW 088114046 A TW088114046 A TW 088114046A TW 88114046 A TW88114046 A TW 88114046A TW 468092 B TW468092 B TW 468092B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
spacer
radiation
resin composition
group
sensitive resin
Prior art date
Application number
TW088114046A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoji Ogasawara
Fumiko Yonezawa
Isao Nishimura
Masachika Suzuki
Masayuki Endo
Original Assignee
Jsr Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jsr Corp filed Critical Jsr Corp
Application granted granted Critical
Publication of TW468092B publication Critical patent/TW468092B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • G03F7/0397Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0046Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

4 6 8 0 9 2 A7 B7 五、發明說明(h 坊術節_ (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係闞於間隔板用放射敏感性樹脂組成物,間隔 板及其製法,以及液晶顯示元件。 恝知抟術 向來在液晶面板或觸摸面板為保持二片基板間隔一定 ,使用具有規定粒徑之玻璃珠、塑膠珠等間隔板粒。由 於此等間隔板粒係随機撒佈在玻璃基板上•在有效圖素 部內有上述間隔板存在時,間隔板會滲人,入射光受到 擾亂,而有液晶面板對比降低的問題。為解決此等問題 ,有人倡議利用照相石版法彤成間隔板之方法。此法是 在基板上塗佈放射敏感性樹脂組成物,藉預定光罩,照 射紫外線後》顯像即可形成點狀或條狀間隔板。藉珂在 有效圖素部K外的地方形成間隔板,K解決上述問題。 而且Μ此方法可利用感光性樹脂的塗佈厚度,控晶胞 間隙,故間隙寬度控制容易,精密度高為其特擞。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另方面,在液晶面板或觸摸面板的製造步驟中,於基 體利用感光性樹脂形成間隔板後,形成定向膜之時雖可 利用種種方法,但一般在塗佈定向劑,經乾燥形成定向 劑塗膜後,大多採用實施摩擦的方法。此時,利用摩擦 致使間隔板或定向膜钊雔時,會發生顯示不良,或在定 向瞑上造成放射敏感性樹脂組成物的殘留物時,會產生 液晶定向性的異常。再者,在液晶面板或觸摸面板中, 由於間隔板與液晶直接接觸,若雛子性物質或雜質,從 間隔板溶出時,會造成電壓保持率降低。 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 46 8092 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7_五、發明說明(2) 此等慼光性樹脂形成的間隔板,附摩擦性高,不因摩 瘵而產生顯示不良,而液晶定向亦無不良,霣懕保持率 不會降低。 再者,液晶面板或觸摸面板所用間隔板,必須有不因 熱而變形之附熱尺寸安定性,或不因對液晶面板施加外 力而變形之壓縮強度。 此種可充分應付要求的間隔板用放射敏感性樹脂姐成 物,於皤光時一般必須要高眭量放射嬢,因此必須有新 的設備投資等在成本方面的問匾。尤其是對g射媒和sh 射線要有高度嫌應,迄今未見有人倡議。 软昍躭鱷块的Μ顧 因此,本發明之目的,在於提供一種放射敏感性榭脂 組成物,射摩擦性優,電壓保持率,液晶定向性不會降 低,可形成附热尺寸安定性,強度高的Μ隔板。 本發明另一目的,在於提供一種放射敏感性樹胞姐成 物,在g射嬢和gh射線有高感應,酎摩擦性優,具有充 分的電壓保持率和液晶定向性•可形成射热尺寸安定性 和壓箱強度優良之間隔板。 本發明又一目的,在於提供由本發明放射敏感性樹胞 姐成物形成之間隔板,及其製法。 本發明再一目的,在於提供具有本發明間隔板之液晶 顯示元件。 本發明其他目的和優點,由下述可知。 鏟決Μ顙的方法 -4 * <請先間讀背面之注$項再填寫本頁> ----.訂 ----- 線 • l· · 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 168032 A7 B7 五、發明說明(3) 本發明上述目的和優點,按照本發明,第一是藉由顯 示面間隔板用放射敏感性樹脂組成物而達成,其特徵為 包含: [A] 鹼溶性樹脂 [B] 如下通式(I)所示蜜胺類R\/ N·..(工)
CH2〇R基,R表示氫原子或Cl· -C6烷基),和 [C]如下通式(I)所示三鹵甲基三阱cx3._·(工工)
κ -tr 'CX3 (式中X表示鹵素,A衷示CX3或下式所示基團 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .訂------線、 pr. 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 (B)]
(B)m
(B)m 或 c
5 一 (B): 本紙張尺度適用_國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4 6 8 0·- A7 B7 五、發明說明(4) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 其中B 、D 、E各自分別表示氫原子,鹵素原子,氰基 ,硝基,羧基,羥基,Ci-Cio烷基,Ci-Cio烷氧基, (;1-(:1〇烷硫基,06-(;1〇芳基,(:6-(:1〇芳氧基,(:6-Ci0芳硫基,二(Ci-Cio烷基)胺基,二(C6-C10芳基) 胺基,(^-(:^烷基羰基,C7-CU芳基親基、C2-C10 烷氧基羰基,或C2-CiD垸基羰氧基,m表示1〜5整數) ,或通式(M)所示銪鹽類 (A) „ Z + Y " ( I ) (式中A定義同上述,Z表示硫或碘,Y表示BF4, PFS, SbF6, AsF6,對甲笨磺酸酷,三氟甲烷磺酸酯 或三氟乙酸酯,η表2或3)。 按照本發明,本發明上述目的和優點,第二是利用一 種放射敏感性樹脂組成物達成,其特徵為包含: [Α]鹼溶性樹脂 [Β]如下通式(I)所示蜜胺類 R1 R2 \/
Ν -R- R …(工) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製
V (式中R1〜1?6可相同或不同,分別表示氫原子或 -CH2OR基,R表示氫原子或Ci-C6烷基),和 [C ·]如下通式(IV )所示三鹵甲基三阱類 6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4. 6 8 Ο 9 2 Α7 _Β7 五、發明說明(5)
(式中X表示鹵素原子,R7, R 1(3和R 11各自分別表示 氫原子,鹵素原子,氰基,硝基、羧基,羥基,Ci-C10 烷基,C i -ClD烷氧基,C i -Cio烷硫基,C 6 -C10芳基, C e -Cio芳氧基,C 6 -C10芳硫基,二(C i -C10烷基)胺 基,二(Ce-Cio芳基)胺基,Cz-Cu烷基羰基,C7-Cu 芳基羰基、C2-C1〇烷氧基羰基,或C2-C10芳基錦氧基 ,R8和R9各自分別為Ci-Cio垸基或Ce-Cio芳基,i 表示1〜5之整數。 本發明上述目的和優點,第三,可由本發明放射敏感 性樹脂組成物形成之間隔板方法達成。 本發明上述目的和優點,第四,可由本發明放射敏感 性樹脂組成物形成之間隔板逹成。 本發明上述目的和優點,第五,可由具備本發明間隔 板之液晶顯示元件達成。 在本發明中,「放射媒」指可見先、紫外線、遠紫外 線、X射線、電子線等。 玆就本發明放射敏感性樹脂組成物各成份詳述如下。 [A]鹼溶性樹脂 本發明所用[A]鹼溶性樹脂,只要可溶於鹼水溶液, -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------------訂--t---! 1 1^^^ /^- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46 80 92 A7 _B7_ 五、發明說明(6) 無特別限制,惟Μ含羥基或羧基而賦予鹼溶性之樹脂為 適用。 此等鹼溶性樹脂有含羥基或羧基之自由基聚合性單體 均聚物,或該自由基聚合性單體與其他自由基聚合性單 體之共聚物。 含羥基或羧基之自由基聚合性單體,有例如鄰、間、 對羥基苯乙烯,或其烷基、烷氧基、鹵素、鹵烷基、硝 基、氰基、酿基、羧基取代物;乙烯基氫醒、5-乙烯基 連苯三酚、6-乙烯基連苯三酚、1-乙烯基氟丙三醇等多 羥基乙烯基酚類;鄰、間、對乙烯基苯甲酸,或其烷基 、烷氧基、鹵素、硝基、氰基、醢胺、酷基取代物;異 丁烯酸、丙烯酸,及其α-位的鹵烷基、烷氧基、鹵素 、硝基、氰基取代物;馬來酸、馬來酐、富馬酸、富馬 酐、撺康酸、中康酸、衣康酸、1,4-環乙烯二羧酸等二 元不飽和羧酸,及其酯、乙酯、丙酯、異丙酯、正丁酸 、次丁酯、特丁酯、苯酯、鄰、間、對苯乙烯半酯或半 醢胺。此等含經基或羧基的自由基聚合性單體當中.以 使用間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯、馬來酸、馬來酐、 衣康酸等為佳。凡此可一種或二種Κ上併用。 視需要而用的其他自由基聚合性單體,有例如笨乙烯 ,或苯乙稀之oc、鄰、間、對烧基、院氧基、鹵素、鹵 烷基、硝基、愾基、醸胺、酯基取代物;丁二烯、異戊 間二烯、氯丁二烯等烯烴類;異丁烯酸或丙烯酸之甲基 、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、次丁基、特丁基、 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂-----------線.. 468092 Α7 Β7 五、發明說明(7) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 戊基、新戊基、異戊基己基、環己基、金剛烷基、烯丙 基、丙炔基、笨基、萘基、蒽基、蒽醭基、胡椒基、水 揚基、環己基、苄基、乙氧笨基、甲苯基、縮水甲油基 、1,1,1-三氟乙基、全氟乙基、全氟正丙基、全氟異丙 基、三笨甲基、三環[5,2,1, Ο2,6]癸-8-基(在該技衡範 畴稱二環戊基),枯基、3-(H,N-二甲胺基)丙基、3-(H, 二甲胺基)乙基、呋喃基、糠基酯;異丁烯酸或丙烯 酸之醢替笨胺、醢胺或Ν,Ν-二甲基、Ν,Η-二乙基、Η,Ν-二丙基、Ν,Ν-二異丙基、氨茼酿胺、丙烯腈、丙烯醛、 異丁烯腈、氣乙烯、偏二氯乙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯 、乙烯基吡咯烷_、乙烯基咄啶、乙酸乙烯酯、Ν-苯 基馬來醯亞胺、Ν- (4-羥苯基)馬來醯亞胺、Ν-異丁烯醯 呔醯胺、Η-丙烯醢酞胺胺等。其中Μ使用笨乙烯、丁二 烯、二環戊基(甲基)丙烯酸酯等。其中坷一種或二種Κ 上併用。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此等其他自由基聚合性單體之共聚合比例,視賦予鹼 溶性基之種類而異。該基為羥基時,其他自由基聚合性 單體之共聚合比,相對於含羥基的自由基聚合性單體和 其他自由基聚合性軍體之合計量,通常為〇〜30重量S5 ,Κ5〜20重畺S;為佳。該基為羧基時,其他自由基聚 合性單體之共聚合比,相對於含羧基的自由基聚合性單 體和其他自由基聚合性單體之合計量,通常為0〜90重 量S: , Μ10〜80重量S:為佳。此等其他自由基聚合性單 體的共聚合比.相對於具有羧基的自由基聚合性單體, -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7_ 五、發明說明(8) 超《前述比例時,有時鐮顔像性不足。 鐮溶性樹脂[Α]合成所用溶劑,有例如甲酵、乙酵、 雙丙酮酵等酵類;四氫呋哺等醚類;乙二醉單甲醚、乙 二酵單乙_等二酵醚類;甲基溶*素乙酸*、乙基溶* 素乙酸醮等乙二酵烷基_乙酸ft類;二乙二酵軍甲醚、 二乙二酵單乙B、二乙二酵二甲醚、二乙二酵二乙醚、二 乙二酵乙甲醚等二乙二醇醚類;丙二酵甲_、丙二酵乙 醚、丙二酵丙醚、丙二酵丁醚等丙二酵單烷基醚類;丙 二酵甲醚乙酸釀、丙二酵乙醚乙酸S、丙二酵丙醚乙酸 _、丙二酵丁醚乙酸_等丙二醇烷基醚乙酸酯類;丙二 酵甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二酵丙醚丙酸酷 、丙二酵丁醚丙酸酯等丙二醇烷基醚丙酸酷類;甲苯 、二甲苯等芳族ffi類;丁鹂、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等酮等;K及乙_甲_、乙酸乙醣、乙酸丙酯、 乙酸丁》、2-羥基丙酸乙酷、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯 、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲K、羥基乙酸 乙酯、羥基乙酸丁 *、乳酸甲酯、乳酸乙酸、乳酸丙酯 、乳酸丁 _、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酷、3-羥 基丙酸丙酗、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯 、甲氣基乙酸甲S、甲氧基乙酸乙_、甲氣基乙酸丙酯 、甲氧基乙酸丁_、乙氧基乙酸甲_、乙氧基乙酸乙酯 、乙氣基乙酸丙酗、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酷 、丙氣基乙酸乙酗、丙氧基乙_丙動、丙氣基乙酸丁醱 、丁氧基乙酸甲_、丁氧基乙酸乙酯、丁氣基乙酸丙_ -10- 本紙張尺度適用t國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) II - 11— - - — — I— — #.. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) d 6 8 Ο 9 2 A7 B7 五、發明說明() (請先閱讀背面之注音?事項再%窝'本頁) 、丁氧基乙酸丁酯、2 -甲氧基丙酸甲酯、2 -甲氣基丙酸 乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氣 基丙酸甲酯、2-乙氣基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、 2 -乙氣基丙酸丁酯、2 -丁氧基丙酸甲酯、2 -丁氣基丙酸 乙酯、2 -丁氧基丙酸丙酯、2 -丁氣基丙酸丁酯、3 -甲氧 基丙酸甲酯、3 -甲氣基丙酸乙酯、3 -甲氣基丙酸丙酯、 3 -甲氣基丙酸丁酯、3 -乙氣基丙酸甲酯、3 -乙氧基丙酸 乙酯、3-乙氣基丙酸丙酯、3-乙氣基丙酸丁酯、3-丙氣 基丙酸甲酯、3 -丙氧基丙酸乙酯、3 -丙氣基丙酸丙酯、 3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸 乙酯、3 -丁氣基丙酸丙酯、3 -丁氣基丙酸丁酯等酯類。 反應原料毎1Q0重量份,此等溶劑使用量以2E)〜1000重 量份為佳。 鹼溶性樹脂[A ]製告時所用聚合引發劑,一般己知自 由基聚合引發劑均可用,例如2,2’-偶氪雙異丁腈、2, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2'-偶氮雙(2, 4 -二甲基戊腈)、2,2' -偶氮雙(4 -甲氣基-2,4-二甲基戊腈)等偶®化合物;苯甲醯過氣化物、月 桂醯過氧化物、特丁基過氧恃戊酸酯、1,1' -雙(特丁基 過氧)環己烷等有機過氣化物;以及過氧化氫。使用過氣 化物為自由基聚合引發劑時,亦可為同時使用過氣化物 為還原劑之氣化還原型引發劑。 本發明所用[A ]鹼溶性樹脂之其他合成法,可在獲得 前述含羥基或羧基之自由基聚合性單體中的羥基或羧基 ,以烷基、乙醯基、苯醯甲基等保護基保護過的單體均聚 物,或該單體與其他單體之共聚物後,藉水解等脫保護 -1 1 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員H消費合作社印製 Λ 6 8092 Α7 _Β7_._五、發明說明(1G) ,賦予鹼溶性之方法合成。 本發明所用[A]鹼溶性樹脂,亦可利用加氫等處理, 修正透明性或軟化點再用。 本發明所用鹼溶性樹脂換算聚苯乙烯之重量平均分子 量,W 2 , 0 0 0 〜1 0 0 , 0 0 0 為佳,而 Μ 3 , 0 0 0 〜5 0 , 0 0 0 更好, 尤Κ5,000〜30,000最佳。在此範圍可賦予圖型形狀、 解析度、顯像性和耐熱性.以及顯像性和感度平衡儍良 之放射敏感性樹脂組成物。 此等鹼溶性樹脂之市售品,有馬爾卡林卡Μ和PHM-C (Μ上為九菩石油化學公司製品),VP_1500(日本曹逹公 司製品)等羥基苯乙稀(共)聚物,及其部份加氫添加物 等。 本發明[A]鹼溶性樹脂除上述外,酚醛樹脂等縮合糸 樹脂可單獨或與前述鹼溶性樹脂混合使用。 酚醛樹脂是由酚類和醛類在酸觸媒存在下聚縮合而得 。此時所用酚類,有例如酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚 、鄰乙酚、間乙酚、對乙酚、鄰丁酚、間丁酚、對丁酚 、2,3-二甲笨酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,4-二甲笨酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲酚、3,4,5-三甲 酚、對笨酚、氫醍、笨鄰二酚、苯間二酚、2-甲基笨間 二酚、連笨二酚、ct-萘酚、桊酚、聯酚A 、二羥基 笨甲酸酯、浸食子酸酿、鄰硝基酚、間确基酚、對硝基 酚、鄰氯酚、間氯酚、對氯酚等。此等化合物當中,以鄰甲酸 間甲酚、對甲酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5- 一 1 2 _ _____.___I___' T • a^i ^1- ^ r n n t» an n w » n —1 (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ft rt ft t 線: / ^· L - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 8092 A7 _B7_五、發明說明(n) 二甲笨酚、2,3,5-三甲鼢、苯間二酚、2-甲基笨間二酚 等為佳。此等酚類坷單獨或二種K上組合使用。 另外,與上述酚類聚縮合之醛類,有例如甲醛、對甲 醛、苄醛、乙醛、丙醛、笨醛、a-笨基丙醛、/3-笨基 丙醛、鄰羥基苄醛、間羥基苄醛、對羥基苄醛、鄰氯苄 醛、間氯苄醛、對氯苄醛、鄰硝基苄醛、間硝基苄醛、 對硝基芣醛、鄰甲基苄醛、間甲基苄醛、對甲基苄醛、 鄰乙基苄醛、間乙基苄醛、對乙基苄醛、對正丁醛、糠 醛、卜萘醛、2-萊醛、2-羥基-卜萘醛等。另外,做為 反懕中生成醛的化合物,三噁烷等亦可與前逑醛同樣使 用,其中尤K甲醛為宜。此等醛類和生成醛之化合物, 可單獨或二種K上組合使用,醛類對酚類通常以0.7〜3 莫耳,更好Μ〇·7〜2莫耳比例使用。 酸觸媒可用鹽酸、硝酸、硫酸、甲酸、乙酸、乙二酸 等。相對於每莫耳酚類,其用量以1X1 0*4〜5X1 莫 耳為佳。 聚縮合反應通常用水為反應觸媒,但聚縮合反應中使 用的酚類不溶於醛類水溶液,從反應初期即呈不均勻系 時,可用親水性有機溶劑為反應媒質。此時所用溶劑, 有例如甲醇、乙醇、丁酵等醇類;四氫呋喃、二噁烷等 環吠醚類。反應原料每100重最份,此等反應媒質之用 量,Μ 20〜100重量份為佳。 縮合之反應溫度可視反應原料之反應性適當調節,惟 通常為10〜20〇υ。聚縮合反應結束後,系内存在的未 -13- (請先閱讀背面之生意事項再填寫未頁) --------訂-----------;; 攔· l· - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(12) 反應原料,為除去酸觸媒和反應媒質,一般升溫至130〜 230 ¾.在減壓下餾除揮發份,回收齡醛榭脂。 又,酚醛樹脂換算聚笨乙烯之重量平均分子量(K下 稱Mw)通常在2,000〜20,000範圍,M3,000〜15, 00 0範 圍為佳。超過20,000時,有時組成物難K均勻塗佈於 晶圓,旦顯像性和感度會降低。 rRl前沭忒ίΤ)所呆密胺 本發明所用蜜胺類Μ上述式(I )表示。上述式(I )中 R1〜Re可相同或不同,分別表示氫原子或-CH2 0R基 。!{為氣原子或Ci-Ce焼基。 K-CH2 0R基表示之烷氧甲基(R為(^ -C6烷基),有 例如甲氧甲基、乙氧甲基、丙氧甲基、丁氧甲基、戊氧 甲基、己氧甲基。R定義中· Ci -Ce烷基可為基鐽狀 或支鍵狀。 上述式(1>所示蜜胺類,有例如六羥甲基蜜胺、六羥 丁基蜜胺、部份羥甲基化蜜胺和烷基化物,四羥甲基苯 並胍胺、部份羥甲基化笨並胍胺及其烷基化物等。其中以 使用六羥甲基蜜胺、部份羥甲基化蜜胺(具有二個羥申 基Μ上之蜜胺)等為佳。此等化合物可單獨或二種K上 混合使用。 此等蜜胺類當中實用上市售品有塞每爾300, 301, 303, 370, 325, 327, 701, 266, 267, 238, 1141, 272, 202, 1156, 1158, 1123, 1170, 1174, UFR65, 300(Κ上為三井氰胺公司製品 >.尼卡拉庫Μχ-7 50 ,-320, -14- 本紙張尺度適用ΐ國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) ___, - /—^ , * 一 * >—- * (I ^1* i n ff n i ·ΒΙ^ ^ V n n —c n fl t— 人^I II J— - · I n I ^ \ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -1 - 4-680 α Α7 Β7 五、發明說明( 13 -706,-708, -40, -31,尼卡拉庫Ms-11,尼卡拉庫 (以上 三和化學公司製品)等很好用。 相對於[A]鹼溶性樹脂100重量份,此等蜜胺類添加 量為1〜100重量份,M5〜50重量份為佳。在此範園内 使用,可賦予形成顯像後殘膜率、附熱性、耐溶劑性平 衡優良之間隔板的放射敏感性樹脂組成物。 [C] 前述式(I)所示三鹵甲基三畊類 式(I)中X表示鹵素,A表示CX3或下列諸式所示
(B)m 、 (B)m 或
(請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) ,1 --------.訂----------線·- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (B)m (BU 另外B 、D 、E各自分別表示氫原子,鹵素原子,氰基 ,硝基,羧基,羥基,Ci-C10烷基,Ci-C10烷氧基, (:1-01〇烷硫基,(:6-(:1〇芳基,(:6-(:1〇芳氧基,(:6-Cio芳硫基,二(Ci-C10烷基)肢基,二(c6-c10芳基) 胺基,C2-Cu烷基羰基,C 7 -C U芳基羰基、C 2 -c10 烷氧基羰基,C2-C10烷基破醢氧基,而m表示1 〜5整數。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 五、發明說明(14) 表(Π)所示三鹵甲基三啡類有例如:三(2,4,6-三氯 甲基)-3-三阱、2-苯基雙(4,6-三氣甲基)-s-三阱、2-(4-氛苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(3-氯苯基) -雙(4,6-三氯甲基)-3-三阱、2-(2-氯苯基)-雙(4,6-三 氯甲基)-s-三阱、2-(4-甲氧基笨基)-雙(4,6-三氯甲基) -s-三阱、2-(3-甲氧基苯基)-雙(4,6-三氣甲基)-5-三 阱、2-(2-甲氧基笨基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、 、2-(4-甲硫基苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-3-三阱、2-(3 -甲硫基苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三哄、2-(2-甲硫 基苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(4-甲氧基萦基) -雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(3-甲氧基萘基)-雙(4, 6-三氯甲基)-s-三阱、2-(2-甲氧基萘基)-雙(4,6-三氯 甲基)1-三阱、2-(4-甲氧基-;8-苯乙烯基)-雙(4,6-三 氛甲基)-s-三阱、2-(3-甲氧基-卢-苯乙烯基)-雙(4,6-三氣甲基)-s-三阱、2-(2-甲氧基- yQ-苯乙烯基 >-雙(4, 6-三氯甲基)-s-三畊、2-(3,4,5-三甲氧基- /9-苯乙烯 基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(4-甲硫基-/8 -苯乙 烯基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三畊、2-(3-甲硫基- /3-笨 乙烯基)-雙(4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(2-甲硫基- /9-苯乙烯基)-雙(4,6-三氛甲基)-s-三畊等。 前怵忒(BI )所沄級播插 式(M)中A定義和上逑式(E)同,Z表示硫(S>或碘 (I) , Y 表示 BF4,PF6 , SbFe , AsF6 ,對甲苯磺酸 酯,三氟甲烷磺酸酯或三氟乙酸酯,η為2或3 。 -16 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 五、發明說明(15 ) 式U)所示錨鹽類可單獨或二種Μ上共同使用。 式(m)所示銳鹽類有例如:二苯基四氟硼酸碘、二苯 基六氟磷酸捵、二苯基六氟砷酸碘、二苯基三氟甲烷磺 酸_、二笨基三氟乙酸碘、二笨基對甲苯磺酸捵、4-甲 氧基笨基笨基四氟硼酸捵、4-甲氧基苯基苯基六氟膦酸 捵、4-甲氧基苯基苯基六氟砷酸換、4-甲氧棊苯基笨基 三氟甲烷磺酸碘、4 -甲氧基笨基笨基三氟乙酸捵、4 -甲 氧基苯基苯基對甲笨裱酸捵、雙(4-特丁基笨基)四氟硼 酸捵、雙(4-特丁基苯基)六氟磷酸銷、雙(4-特丁基苯 基)六氟砷酸捵、雙(4-特丁基苯基)三氟甲烷磺酸碘、 雙(4-特丁基笨基)三氟乙酸捵、雙(4-特丁基苯基)對甲 苯磺酸辨等二芳基捵鹽;三苯基四氟硼酸#、三苯基六 氟膦酸#、三苯基六氟砷酸#、三苯基三氟甲烷磺酸H 、三苯基三氟乙酸三笨基對甲苯磺酸#、4-甲氧基 笨基二笨基四氟硼酸if、4-甲氧基笨基二苯基六氟磷酸 $、4-甲氧基笨基二苯基六氟砷酸舍f、4-甲氧基笨基二 苯基三氟申烷磺酸#、4-甲氧基笨基 二笨基三 氟乙酸1 、4-甲氧基苯基二苯基廚甲基磺酸余f、4-苯基硫苯基二 笨基四氟砸酸鹽、4-苯基硫苯基二笨基六氟膦酸鹽、4-苯基硫笨基二苯基六氟膦酸鹽、4-苯基硫苯基二苯基六 氟乙酸鹽、4-苯基硫苯基二笨基三氟甲烷磺酸鹽、4-苯 基硫苯基二苯基三氟乙酸鹽、4-苯基硫苯基二苯基對甲 苯磺酸鹽等三芳基4鹽等。 此等化合物當中,以2-(3-氮笨基)-雙(4,6-三氯甲基) -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ------- 訂--------J — 線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 d6B〇9- A7 B7 五、發明說明(16) -S-三阱、2-U-甲氧基笨基)-雙(4,6-三氣甲基)-3-三 阱、2-(4-甲基硫苯基)-雙<4,6-三氯甲基)-s-三阱、2-(4-甲氧基-0-苯乙烯基)-雙(4,6-三氯甲基)-3-三阱、 2-(4-甲氧基萘基 >-雙(4,6-三氯甲基)-s-三哄、三苯基 三氟乙酸碘、三苯基三氟甲烷磺酸捵、4-甲氧基笨基苯 基三氟甲垸磺酸捵、4-甲氧基苯基笨基三氣烷磺酸辨、 4-甲氧基笨基笨基三氟乙酸鍥、三笨基三氟甲烷磺酸H 、三苯基三氟乙酸4-甲氧基笨基二苯基三氟甲烷磺 酸4-甲氧基苯基二苯基三氟乙酸多|"、4-苯基硫苯基 二苯基三氟甲烷磺酸鹽、4-苯基硫苯基二苯基三氟乙酸 鹽等為宜。 相對於[A]鹼溶性樹脂100重量份,此等式(H)和 (M)所示化合物添加量M0.001〜10重量份為佳,而K 0.01〜5重量份。添加量在0.001重虽份K下時,因曝光 發生的酸量少,式(I)所示蜜胺類交聯難Μ充分進行, 間隔板的耐熱性、附溶劑性容易降低。添加量超出〗〇重 量份時,暍光發生的酸量過多,式(I)所示蜜胺類交聯 會進行過刺,難以控制顧像後的圖型形狀。 另外,式(I)或(I)所示化合物,可與適當增感劑組 合使用。增感劑有例如在3-位和/或7-位具有取代基的 香豆箠類、黃_類、二苄叉丙酮類、二苄叉環己酮類、 査耳酮類、咕噸類、瞎噸類、紫菜鹼類、吖啶類等。 「(VI前沭式(R/ΐ所示三鹵申某三阱額 式(IV)中X表示鹵素原子。此等鹵素原子有例如氣、 _ 1 8 — 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂id------線、 .J. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46 8092 A7 B7 五、發明說明(17) 氯、溴等。 R 7 , 和R11各自分別表示氫原子.鹵素原子,氰 基,硝基、羧基,羥基,Ci -Cid烷基· C -C10烷氧基 ,Ci-Cio烷硫基,Ce-Ci〇芳基,C6-C10芳氧基,Ce -Cio芳硫基,二(Ci-Cio烷基)胺基,二(Ce-C10芳基) 胺基,C2 -Cu烷基羰基,C7 -Cu芳基羰基、C2 -c10 烷氧基羰基,C2-C10烷基碳醯氧基 R8和R.9各自分別為Ci -Cio烷基或C6 -C10芳基。 而i為1〜5的整數。 R 7 , R10 , R 11的鹵素原子有例如氟、氯、溴。
Ci -Cid烷基有例如甲基、乙基、丙基、戊基、己基 、辛基、癸基等。無論直鏈狀或支鍵狀均可。 C i -C10烷氧基和C 1 -C10烷硫基,均與C工-Ci〇烷基 例中持有的烷基相當,有例如甲氧基、甲硫基等具體例。 C s _C10芳基有例如笨基、甲笨基、桊基等。 C S -Cio芳氧基和C 6 -c10芳硫基,則與c e -c10芳基 例中持有的芳基相當,有例如笨氧基、苯碲基等具體例。 二(Ci -ClD烷基)胺基相當於Cl -ClD烷基例中具有的 烷基栢當,有例如二(甲基)胺基等。此時二個烷基可相 同或不同。 二(C8 -c10芳基)胺基與c6 -c10芳基例中具有的芳基 相當,有例如二(笨基)胺基等具體例。此時二個芳基可 相同或不同。 C2 -Cu垸基羰基與Ci -c10烷基例中具有的烷基相當 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂----------線
Mr 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4- 6 8 0 9 Α? Β7 五、發明說明(18) ,有例如甲基羰基(乙醢基)、乙基羰基(丙醢基)等具體 例。 C7 -Cii芳基羰基與C6 -Cio芳基例中具有的芳基相當 ,有例如苯基羰基等。 C2 -C10烷氧基羰基和C2 -C10烷基碳酿氡基與C 1 - c 1〇 烷基例中具有的烷基相當,有例如甲氧基羰基、乙氧基 羰基等,和甲基羰氧基、乙基羰氧基等具體例。 上述式(IV)所示二鹵甲碁三阱類,有例如2-(4-二乙基 胺基-2-甲基- 苯乙烯基)-4,6-雙(三氛甲基)-s-三畊 、2-(4-二笨基胺基-2-甲基-/3 笨乙烯基>-4,6-雙(三 氛甲基)-s-三阱、2-(2-苯基胺基-4-甲氧基-卢-苯乙烯 基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三畊、2-(4-異丁基胺基-2-甲基-卢-苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三畊、2-U-二甲基胺基-2-氰基-卢-苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三阱、2-(2-二乙基胺基-4 -甲硫基-召-苯乙烯基)-4, 6-雙(三氯甲基)-s-三阱等。 此等化合物當中,最好使用2-(4-二乙基胺基-2-甲基 -/9-苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三阱、2-U-異丁 基胺基-2-甲基-jS -苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三 阱、2-(4 -二苯基胺基-2 -甲基- /9-苯乙烯基)-4,6 -雙 (三氯甲基)-s-三阱等。 相對於醮溶性樹脂1〇〇簠量份,此等式(W)所示 化合物添加量,M0.001〜10重量份為佳,而Κ〇·〇1〜5 重量份更好。在此範圍使用時,可賦予間隔板酎熱性和 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210^ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Λ-' — 11.---I 訂-丨 j!l--線, 46 80 92 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7
1 Q 五、發明說明() 附溶商f性,K及顯像後圖型形狀之控制性平衡優異之放 射敏感性樹脂姐成物。 另外,式(IV)所示化合物可與適當增感劑姐合使用。 增感劑有例如在3-位和/或7-位具有取代基之香豆靈類 、黃_類、二苄叉丙酮類、二苄叉環己醣類、査耳酮類 、咕噸類、喀噸類、紫菜鹸類、吖啶類等。 其他成份
本發明主要目的在於改進耐熱性或接觸性,可混配在 分子内含有二個環氧基以上之化合物。此在分子內含有 二個環氧基K上之化合物,有例如聯酚A ,或聯酚F的 縮水甘油醚,Epikote 1001, 1002, 1003, 1004, 1007 ,1009, 1010, 828(油化蜆餃環氧公司製品)等聯酚A 型環氧樹脂;Epikote 807 (油化蜆殻環氧公司製品)等 聯酚F型環氧樹脂;Epikote 152 , 154 (油化規殻瑁氧 公司製品>,EPPN 201, 202 (日本化藥公司製品)等酚糸 酚醛型環氣樹脂;E0CH-102, 103S, 104S, 1020, 1025 ,1027(日本化蔡公司製品Epikote 180S75(油化規 殻環氧公司製品)等甲酚系酚醛型環氧樹脂; CY-1 75 , 177, 179 (汽巴嘉基公司製品}ERL-4234, 4299, 422 1, 4206 (UCC公司製品),紹達因509 (昭和電 工公司製品),阿拉爾戴特CY-1 82, 192, 184 (汽巴瘍基 公司製品),耶比庫隆200, 400(大日本油墨公司製品),
Spikote 871, 872(油化蜆殻環氧公司製品),ED-5661, 5862(西蘭尼塗料公司製品)等環脂族環氧樹脂;耶波賴 -21- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) -------.!-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-1 n n I 4 6 8 〇 3 2 Α7 Β7 20 五、發明說明(
閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫.、 本 J 特1 OOMF (共榮社油脂化學工業公司製品),耶比歐爾(日 本油脂公司製品)等脂族聚縮水甘油醚。其中較佳者為 聯酚A型環氧樹脂、聯酚F型環氧樹脂、酚系酚醛型環 氧樹脂、甲酚系酚醛型環氧樹脂、脂族聚縮水甘油醚類 等。此等環氧樹脂換算聚笨乙烯之重童平均分子量Μ 2 , 000 Μ下為佳。 相對於鹼溶性樹脂100重量份,此等分子内含有環氧 基二個Μ上的化合物添加量Κ0.1〜100重量份為佳,而 Κ 1〜30重量份更好。 又,在前述[Α]鹼溶性樹脂中,其他單體採用含有締 水甘油基等環氧基的單體之共聚物時,該鹼溶性樹脂亦 為含有環氧基二個Μ上之化合物,但因鹼溶性樹脂要求 分子量較高為佳,故與分子量小做為耐熱性和接觸性改 良劑之上述環氧化合物不同。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,本發明組成物為改良塗佈性,例如條紋或塗膜形 成後的放射線照射部之顯像性,可混配界面活性劑。界 面活性劑之例有聚氧化乙烯月桂醚、聚氧化乙烯硬脂醚 、聚氧化乙烯油醚等聚氧化乙烯烷基醚類;聚氧化乙烯 辛基笨醚、聚氧化乙烯壬基苯醚等聚氧化乙烯芳基醚類 ,聚乙二醇二月桂酸酷、聚乙二醇二硬脂酸酯等聚乙二 醇二烷基酯類等非離子系界面活性劑,耶弗特普EF301, 303, 352(新秋田化成公司製品),梅格費克F171, 172, 173(大日本油墨公司製品),弗羅賴特FC430, 43 1 (住友 3Μ公司製品),旭格AG710,薩弗隆S-382, SC-101, -22 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 6 8092 A7 _B7__ ? 1 五、發明說明() 102 , 103,104, 105, 106(旭玻璃公司製品)等氟系界面活性 劑,有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業公司製品), 丙烯酸糸或異丁烯酸糸(共)聚合物聚弗隆Ν0.57、95(共 1 榮油脂化學工業公司製品)。此等界面活性劑之混配量 相當於組成物的固體成份,通常在2重童份Μ下,Ml 重量份以下為佳。 為改良本發明組成物與基板之接觸性,亦可混配黏著 助劑。本發明組成物可視需要混配保存安定劑、消泡劑 等。 本發明放射敏感性樹脂組成物,溶於溶劑内調製成溶 液,使固體成份濃度K10〜40重量S:為佳。 此時所用溶劑,可用雙丙酮酵、丙二醇等酵類;乙二 醇單甲醚、乙二醇單乙醚等二酵醚類;甲基溶纖素乙酸 賄、乙基溶缴素乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯類;二乙 二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚等二乙二醇烷基醚類;丙 二酵甲链乙酸_、丙二醇乙魅乙酸醋、、丙二酵丙链乙 酸酯等丙二醇烷甲醚乙酸酯類;甲苯、二甲笨等芳族烴 類;丁酮、瓌己酮、2-庚酮、甲基異丙基甲酮等酮類; 2- 羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙 酸乙酯、2-羥基-2 -甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、 氧乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3 -甲基-3-甲氧 基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲基- 3- 甲氧基丁基丁酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基 丙酸甲酷、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丁酯等酷 — 23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填”寫本頁) ---------'—訂 i,--- 線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_ 2 2 五、發明說明() 類。此等溶劑可單獨或混合使用。 必要時可添加苄基乙醚、二己醚、二乙二醇單甲醚、 二乙二酵單乙醚、二乙二酵單丁醚、丙酮基丙_、異佛 爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、乙酸苄酿 、苯甲酸乙酯、乙二酸二乙酯、馬來酸二乙酯、7-丁 内酷、碳酸次乙酯、碳酸次丙酯、苯基溶纖素乙酸酯、 卡必醇乙酸酯等髙沸點溶劑。 如此調製之放射敏感性樹脂組成物溶液,長期貯蔵安 定性優。 按前述調製之組成物溶液,可經孔徑0.2〜0.5w ®左 右的瀘材過濾後使用。 問臈板的形成方法 其次,說明使用本發明放射敏感性樹脂組成物形成本 發明間隔板方法如下。 在基板表面塗佈本發明放射敏感性樹脂組成物,藉加 热除去溶劑,形成塗膜。放射敏感性樹脂組成物在基板 表面之塗佈方法,例如採用嗔塗法、輥塗法、旋塗法等 各種方法。 其次,此塗膜可加熱(預烤)。經加熱使溶劑揮發,而 得無流動性之塗膜。 加熱條件視各成份種類,混配比例等而異,惟通常在 60〜1201C約10〜600秒左右。 所得放射敏感性樹脂組成物的塗膜面,藉具有預定圖 型形吠之光罩,照射放射線。放射線能最,即放射線種 -24" 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 6 80 9l2 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 2 五、發明說明() 類,視所需解析度、放射線敏感性化合之感應波長等適 當決定,通常可用s射線(波長436nn), h射線(波長 405nm), i射線(波長365nm)等紫外線,準分子(KrF, ArF)雷射等遠紫外線,同步加速器放射線等X射線、電 子射線等電荷粒子線,以使用s射線、h射線、i射線 ,gh射線為佳。此等放射線當中,向來的放射敏感性樹 脂組成物必須照射i射線等高能量射線,相對地,本發 明放射敏感性樹脂組成物除i射線外,對s射線、sh射 線等低能量放射線,亦有充分之敏感度。 放射線照射後,在進行鹼顯像之前,進行PEB(曝光後 烘烤)°PEB溫度通常在200C以下,PEB時間通為0.1 〜10分鐘左右。PEB後,利用顯像液顯像,除去不要的 部份。 顯像液可用例如由氫氧化納、氫氧化鉀、碳酸納、矽 酸鈉、矽酸鈉、氨水等無機鹼類;乙胺、正丙胺等伯胺 類;二乙胺、二正丙胺等仲胺類;三乙胺、甲基二乙胺 、H -甲基吡咯烷嗣等叔胺類;二甲基乙醇胺、三乙醇胺 等醇胺類;四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、膽鹼 等季銨鹽;吡咯、哌啶、,1,8-二吖雙環[5.4.0]-7-十 一碳烯、1,5-二吖雙環[4.3.0]-5-壬烷等環狀胺類等之 鹼類形成之鹼水溶液。 上述鹼水溶液可添加適量甲酵、乙醇等水溶性有機溶 劑、界面活性劑等之水溶液,做為顯像液。 顯像時間通常為30〜180秒,顯像方法可用滿液法、 -25 — 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 297公釐) (請先閱讀背面之注咅?事項再填—寫本頁) - I-------*1 訂--^ — 111!線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 五、發明說明(24 ) 浸液法等。顯像後,K流水洗淨30〜90秒,利用壓縮空 氣或壓縮氮加以風乾,除去基板上水份,形成圖型狀被 膜。 接著,利用熱板、烘箱等加熱裝置,在預定溫度,例 如150〜2501C,加熱處理預定時間,例如在熱板上為5 〜30分鐘,烘箱内則為30〜90分鐘,即可得間隔板(圖 型狀交聯被膜)。 窨施例 茲K實施例和比較例具體說明本發明,惟本發明不限 Μ下實施例。 合成例1鹼溶性樹脂[Α-1]之合成 於裝設冷卻管、授拌機和溫度計之燒瓶,充填特丁氣 基苯乙烯176克(0.1莫耳)和偶氮雙丁睛5.8克(0.04莫耳) ,加丙二酵單甲醚250毫升溶解,於751C聚合4小時。 於所得聚特丁氧基苯乙烯溶液混合5重量S!硫酸水溶液 50克,在10〇υ進行水解反應3小時。反應生成物以脫 離子水1000毫升洗三次,乾燥後,加2-庚 500毫升溶 解,得含MW24,000鹼溶性樹脂[Α-1]之溶液。所得聚合 物溶液之固體澹度為27.7¾。 合成例2鹼溶性樹脂[A-2]之合成 於裝設冷卻管、授拌機和溫度計之燒瓶,充填間甲酚 57克(0,6莫耳),對甲酚38克(0.4奠耳),37重虽3!甲醛 水溶液75.5克(甲醛0.93莫耳),草酸二水合物0.63克 ( 0.0 05莫耳),甲基異丁基甲酮264克後,將燒瓶浸於油 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) '政--------^—訂i_-------緣 46 8092 A7 B7_ 五、發明說明P ) (請先閱讀背面之注意事項再填^本頁) 浴中,在反應液回流中,攪拌下進行聚缩合4小時。其 次,油浴溫度經3小時升溫,然後,將燒瓶内壓力降到 30〜5〇BiinHg,除去揮發份,將熔態樹脂冷卻到室溫回收 。此樹脂溶於乙酸乙酯,使樹脂成份為3 Q X ,然後加此 溶液重量1.3倍蛋的甲醇和0.9倍量的水,攢拌放置。 其次,取出分離成二層之下層,經濃縮、乾燥,得Mw 8 , 0 0 Q的鹼溶性樹脂[A - 2 1 。 合成例3鹼溶性樹脂〖A - 3 ]之合成 於具備冷卻管、攙拌機之燒板,充填2,21 -偶氪雙(異 丁腈)5重蛋份,雙丙酮醇20卩重量份,接箸加入苯乙 烯30重量份,異丁烯酸25重量份,二環戊基異丁烯酸酯 40重量份,經氮排淨,再加1,3 -丁二烯5重量份,開始 緩缓攪拌。溶液溫度上升至於此溫度保持4小時 ,得含鹼溶性樹脂[A - 3 ]的溶液。所得聚合物溶液的固 體成份濃度為35.6ί。 合成例4 _溶性樹脂[A - 4 1之合成 經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 於具備冷卻管和攪拌機的燒瓶,充填2, 2’-偶氮雙<2, 4-二甲基戊腈)5重量份,二乙二醇乙基甲艇200重量 份。接著充镇苯乙烯25重量份,異丁烯酸4Q重量份, 二環戊基異丁烯酸酯30重量份,經氮排淨後,充填1,3-丁二烯5重量份,開始緩緩攪拌。溶液溫度上升至70 °C ,在此溫度保持4小時,得含共聚物[A-4]之聚合物溶 液。所得聚合物溶液的固體成份濃度為33.53^ 合成例5鹼溶性樹脂[A - 5 ]之合成 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 2 β 五、發明說明() 於具備冷卻管和授拌機的焼瓶,充填2,2'-偶氮雙(2, 4-二甲基戊腈)7重量份,二乙二醇乙基甲醚200重量 份。接著充填苯乙烯10重最份,異丁烯酸20重量份、異 丁烯酸縮水甘油酯45重量份,二環戊基異丁烯酸酯25重 量份,經氮排淨後,開始媛緩授拌。溶液溫度上升至70¾ ,保持此溫度5小時,得含共聚物U-5]之聚合物溶液 。所得聚合物溶液之固體成份濃度為33.5¾。 合成例6液晶定向劑溶液之合成 取苯均四酸21.8克和二胺基二苯基甲烷19.8克,溶於 H -甲基吡咯烷酮374克,在室溫反應6小時。其次,將 反應混合物注人大量過剰之甲酵内,使反應生成物沈澱 。然後,用甲醇洗淨,減壓下,在40¾乾燥15小時,得 聚醢胺酸。取所得聚醢胺酸5克溶於N-甲基-2-吡咯烷 成為固體湄度4重量S:之溶液,此溶液用孔徑 的濾材過漶,調製成液晶定向劑溶液。 宵倫俐1 协射敏感忡榭脃昍成物夕綑製 取合成例1所得鹼溶性樹脂[A-1] 100重量份,做為 成份[B]的賽梅爾300(三弗氰胺公司製品)20重量份, 以及做為成份[C]的2-(4-甲氧基- β -苯乙烯基)-雙(4, 6-三氯甲基>-s-三阱0.2重量份,做為分子內含環氧基 二個以上之化合物的Epikote 152(油化蜆殻環氧公司製 品)10重量份,做為界面活性劑的梅格費克F172(日本油 墨公司製品)0.04重量份,加以混合,溶於3 -乙氧基丙 _ 2 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---l· II . i,訂 i:------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 9 7 五、發明說明() 酸乙酯,使固體成份濃度為35重量S:,用孔徑0.5M1B的 微胞孔漶材過濾,調製放射敏感性樹脂組成物之溶液 (S-1)。 (I )間隔扳圖梨之形狀 在玻璃基板上使用旋塗器塗佈上述組成物溶液(S-1) 後,在801C熱板上預烤5分鐘,形成塗膜。 於上述所得塗膜,使用預定圖型之光罩,以在365 nm 的強度為10 mV/cm2的紫外線照射10秒。此時紫外線照 射是在氧氛圍下(空氣中)進行。紫外線照射後,於150¾ 熱板進行PEB處理2分鐘。其次,K四甲基氫氧化銨 2.38重童!S水溶液,在25它顯像30秒後,用純水淋洗1 分鐘。藉此操作除去不要部份,即可解析lOwmXlOwm 的間隔板圖型(殘餘)。 將上述形成的間隔板圖型在烘箱中,於20()1^加熱60 分鐘硬化,得髙5wm的間隔板画型。 (I )間隔板強度評估 上述(I)所得間隔板圃型的強度,使用微小壓縮試驗 器(MCTM-200,島津製造公司製品)評估。利用直徑50w m 的平面壓件,Μ —定速度加負荷於間隔板(〇.27gh/sec) ,把間隔板分裂,測量發生破壞時的負荷(破壞負荷), 變形(破壞變形:Μ間隔板高度(直徑)除破壊時壓縮移 位之值,M3;表示),測定時溫度20*C。結果如表1所 示。 (皿)間隔板截面形狀評估 —2 9 _ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
Ja---L----*|訂· — ---- 聲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 8 0 9 2 A7 ___B7_
Ο Q 五、發明說明() 上述(I)形成的間隔板圖型豳面彤狀,用掃描型電子 顯微鏡観察。斷面形狀的評估基準如第1圖所示。形狀 如A或B所示長方形或梯形時評為良好(Ο),與A或B 不同的C所示肜狀時評為不良(X)。 (IV) 附熱變形的評價 上述(I)所形成間隔板圖型在烘箱中,Μ20〇υ加熱 SO分鐘。在加熱前後,圖形髙度尺寸變化率5XK内, 斷面形吠無變化時為〇,尺寸變化率超過5¾,或圖% 斷面形狀在上述(Π)中變肜為A 、B Μ外者,為X。 (V) 定向性,電壓保持率,耐摩檫性之評估 ①將上述組成物溶液(S-1),利用旋塗法塗在附有 ΙΤ0膜所製透明電搔的玻璃基板之透明電極面,在80Ό 熱板上預烤5分鐘,彤成塗膜。 於上述所得塗膜,使用預定圔型光罩,Κ 365ίΐ!Β時強 度為10mW/Cm 2的紫外線照射10秒。此時的紫外線照射 是在氧氣氛圍下(空氣中)進行。紫外線照射後,在150¾ 熱板上,進行PEB處理2分撞。其次,K四甲基氫氧化 垵2.38重量S:水溶液,在251顯像30秒後,藉純水淋洗 1分鏡,經壓縮氮氣乾燥。利用此等操作,除去不要部 ,K間隔3〇〇 tt m的格狀形成10w mx 10w m間隔板圖型。 上逑所得間隔板圖型在烘箱中,K 200 C加熱60分鐘, 得高5wra的間隔板圖型。 其次,取液晶定向劑A-3 046 (傑斯阿爾公司製品),使 用液晶定向膜塗佈用印刷機,塗佈於上述形成間隔板之 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 「Ja--------11訂-丨^--- 線、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 46 8092 Λ7 Α7 Β7
9 Q 五、發明說明() 基板,在180ΊΟ乾燥1小時,形成乾燥膜厚0.05/iia的塗 膜。 此附帶間隔板之塗膜,利用摩擦機,具有輥子,捲繞 尼龍布,Μ輥子轉數500 rpn,階台移動速度1cm /秒,進 行摩擦處理,此時,進行耐摩檫性評估,間隔板圖犁從 基板剝落,間隔板被削平而降低間隔板高度時評為不良 (X)*間隔板未钊落亦未被削平時評為良好(〇)。 ②液晶定向劑Αί304δ (傑斯阿爾公司製品),使用液晶 定向膜塗佈用印刷機,塗佈於附有ΙΤ0膜製成的透明電 極之玻璃基板透明電極面,在180t;乾煉1小時,形成 乾燥膜厚0.05wb塗膜。 於此塗膜,利用摩檫機,具有輥子,捲繞尼龍布,Μ 輥子轉數50〇rpm,階台移動速度lcm /秒,進行摩擦處理。 上述①②所得基板具有液晶定向膜之外緣,分別Μ絹 印塗佈摻入直徑5w ηι的玻纖之環氧樹脂格膠後,將一對 基板K液晶定向膜面相向,但摩擦方向正交重*壓接, 使黏膠硬化。 其次,將向列型液晶(默克公司製品ZLI-4792)由液晶 注入口充填於一對基板間後,用環氧糸黏膠在液晶注入 口封閉,在基板外側兩面貼合偏光板,使偏光板的偏向 方向分別與基板的液晶定向膜之摩擦方向一致,製成液 晶顯示元件。評估所得液晶顯示元件之電壓保持率、定 向性。液晶顯示元件的電壓保持率評估,係在對液晶顯 示元件施加5V電壓後,開啟電路,測悬16.7微秒後的保 -31- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
Ja—-—^ I-訂 i,—.—線、 d 6 δΟ 9 2 Α7 Β7 7 〇五、發明說明() 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 持 電 壓 〇 又 » 液 晶 顯 示 元 件 的 定 向 性 評 估 » 係 用 偏 光 顯 微 鏡 觀 察 電 壓 導 通 和 斷 通 時 , 液 晶 胞 中 有 無 異 常 域 + 若 看 不 出 異 常 域 評 為 良 (〇), 看 出 異 常 域 時 評 為 不 良 (X ) c 筲 椭 例 2 和 實 胞 例 1 同 樣 調 製 並 評 估 組 成 物 溶 液 (S -2 ) * 惟 成 份 [B] 的 寶 梅 爾 300 ( 三 井 氛 胺 公 司 製 品 )改用資梅爾1 170 (Ξ 三井氰胺公司製品) 〇 結 果 如 表 1 所 示 ΰ 官 m 例 3 和 實 施 例 2 同 樣 調 製 並 評 估 組 成 物 溶 液 (S -3) 1 惟 分 子 內 含 環 氧 基 二 個 上 的 化 合 物 Ep ik 0 t e 152 (油 化 蜆 殻 環 氧 公 司 製 品 )改用E Pi k 〇 t e 1 828 (油化蜆殼環氧公司製 品 )< >結果如表1 所不c ) 管 施 例 4 和 實 胞 例 1 同 樣 調 製 並 評 估 組 成 物 溶 液 (S -4) t 惟 鹼 溶 性 樹 脂 [A -1 ] 100 重 量 份 改 用 m 溶 性 樹 脂 [A "1 ] 80 重 里 份 和 鹼 溶 性 樹 脂 [A * 2 ] 20 重 量 份 之 混 合 物 〇 結 果 如 表 1 所 示 〇 C 實 和 -Κίΐ- 實 -iL 施 例 1 同 樣 調 製 組 成 物 溶 液 (S -5 ) 惟 鹼 溶 性 樹 脂 [Α *" 1 ] 改 用 共 聚 物 [A -4] 溶 液 > Μ 二 乙 二 酵 甲 乙 醚 稀 釋 〇 使 用 N- 甲 基 喊 啶 1 . 0 重 量 % 水 溶 液 為 顯 像 液 加 Μ 評 估 〇 結 果 如 表 1 所 示 〇 官 裥 例 和 實 施 例 1 同 樣 調 製 組 成 物 溶 液 (S -6 ) 惟 JtA> m. 溶 性 樹 -32- ----r--------!α---- (請先閱讀背面之注意事項再氣寫本頁) 訂1,--- 線·^ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) 468092 A7 _B7 五、發明說明() 脂U-1]改用共聚物[A-5]溶液,Μ二乙二醇甲乙醚稀 釋。使用Η -甲基哌啶1.0重量SK水溶液為顯像液加以評 估。結果如表1所示。 當嵌例7 和實施例1同樣評估,惟液晶定向劑改用合成例6所 得聚藤胺酸溶液。結果如表1所示。 參..考....例J. 使用粒徑m的微珍珠SP-205(積水精细化學公司製 品)為間隔板,進行壓縮試驗。结果如表1所示。 (請先間讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 'ίΛ^---- b 訂' 0, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -33- 本紙張尺度適用t國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 d6 8092 _B7 3 2 五、發明說明() 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 壓縮試驗结果 附熱 變形 形狀 摩擦 耐性 電壓 保持率 (¾) 液晶 定向性 破壊負荷 (gf) 破壞變形 ⑻ 實施例1 7.0 30 〇 〇 〇 99.1 〇 實施例2 6.5 35 〇 〇 〇 99.4 〇 實施例3 7.1 30 〇 〇 〇 99.2 〇 實施例4 7.8 31 〇 〇 〇 99.1 〇 實胞例5 8.2 50 〇 〇 〇 99.0 〇 實施例6 8.0 45 〇 〇 〇 99.1 〇 實胞例7 6.9 30 〇 〇 〇 99.3 〇 參考例1 3.1 60 一 — — — — - ,1/ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 「一^---------訂 i,--
n n I J.. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) d 6 8 0 9 2 A7 B7 五、發明說明( 33 當淪例8 协射敏感件樹脂組成物之調靱 成份[A]使用合成例1所得聚合物溶液(相當於鹼溶 性樹脂[A-1] 100重量份(固體成份)),成份[B]使用 賽梅爾300(下式(V)所示化合物混合物: (CH2OCH3)k …(V) (CH3〇CH2)mN^ ''N(CH2〇CH3) j 式中k = 1或2 , m = 1或2 , k + m S 2 , j = 0至2的整數,三井 氛胺公司製品)30重量份,成份[C]使用2-(4-二乙基胺 基-2-甲基-芦-笨乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三畊 3.0重量份,增感劑使用1,7-雙(羥基-3-甲氧基苯基)-1,6 -庚二烯-3,5-氧化物3重里份,含環氧基2個以上 的化合物使用耶波賴特1 0 0MF (相當於下式(VI >):
ch2— ο—ch2—ch—ch2 I /0\ ch3— ch2—c —o—ch2—ch—ch2 /0\ ch2—〇一ch2_ch—ch2 (VI) ^ ^ 1 ^---Γ---^-1 訂i,-------線' .....} (請先闓讀背面之注意事項再填寫本頁) m:. β. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (共榮社油脂化學工業公司製品)20重量份,界面活性劑 使用梅格費克F-172(大日本油墨公司製品)0.04重量份t 混合並加3 -乙氧基丙酸乙酯溶解,使固體成份濃度為 1 7 . 0重童% ,用孔徑0 . 2 w m的微细孔滤材過濾,調製成 放射敏感性樹脂組成物溶液(S-8)。 一 3 5 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_五、發明說明(34) 在玻璃基板上使用旋塗器塗佈上述組成物溶液(S-8) 後,在lOOt:熱板上預烤90秒,彤成塗膜。 於上述所得塗膜,使用預定画型之光罩,Μ在436nm 的強度為2*5mW/cm 2的紫外線U射線)照射4分鐘。此 時紫外線照射是在氧氛圍下(空氣中)進行。紫外線照射 後,於110¾熱板進行PEB處理90秒。其次,以四甲基 氫氧化銨0.1 4重童丨水溶液,在25¾顯像120秒後,用 純水流洗1分鐘。藉此操作除去不要部份,即可解析 10w ntx 10w π角的圖形0 將上述形成的間隔板圃型茌烘箱中,於200·ϊ:加熱30 分鐘(ΡΕΒ)硬化,得髙的間隔板圖型。 感光麽 於s射線階台使用5i/mX5Wm光罩加Μ曝光時,可形 成5// βΧ5μ m圖型之暍光虽,做為感光度。結果如表2 所不 〇 而肉的嗥厚均句忡 在上述間隔板形成過程中,在面内25點測最顯像後的 瞑厚,算出平均膜厚,在測定值當中最大值和最小值由 下式⑴計算,均匀性Μ約95¾〜105¾範圍内為佳。結果 如表2所示。 均勻性=(測定處的瞑厚)/ (平均膜厚)X 100¾ 式⑴ 硓瞭率夕評估 在上述間隔板形成過程中,在面内25點逐一測量顯像 後和PEB後的膜厚,分別求出平均值,就各平均值由下 -36- (請先闓讀背面之注意事項再填寫本頁) '11^----„------ 訂 ij-------線、 義..
I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Δ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 8092 A7 _B7_
3 R 五、發明說明() 式¢2)算出殘膜率。算出的殘膜率(¾)在80¾ Μ上時,殘 膜率視為良好。結果如表2所示。 殘膜率=(顯像後的膜厚)/(ΡΕΒ後膜厚)χιο〇3; —-式(2) 間隔板強麻.間隔板斷而形狀和耐熱幾形之評估 此等評估完全和實施例1同樣進行。結果如表2所示。 耐瞠擦件、雷眍傑持率、宙向件^評估 ①將上述組成物溶液(S-8),利用旋塗法塗在附有 ΙΤ0膜所製透明電極的玻璃基板之透明電極面,在ιοου 熱板上預烤90秒,形成塗膜。 於上述所得塗膜,使用預定圖型光罩,Κ 436ηΠι時強 度為2.5mW/cm2的紫外線照射4分鐘。此時的紫外線照 射是在氧氣氛圍下(空氣中)進行。紫外線照射後,在 11〇υ熱板上,進行PEB處理90秒。其次,K四甲基氫 氧化銨0.14重量Si水溶液,在25t:顯像120秒後,藉純 水流洗1分鐘,然後,經壓縮氮氣乾燥。利用此等操作 ,除去不要部分,W間隔30wm的格狀形成lOwmXlOwra 間隔板圖型。上述所得間隔板圖型在烘箱中,以20〇υ 加熱60分鐘,得高5wm的間隔板圖型。 其次,取液晶定向劑AL-3 0 46 (傑斯法爾公司製品),使 用液晶定向膜塗佈用印刷機,塗佈於上述形成間隔板之 基板,在180¾乾燥1小時,形成乾燥膜厚O.OSAtm的塗 膜。 此附帶間隔板之塗膜,利用摩擦機,具有輥子,捲繞 后龍布,Μ輥子轉數500 rprj,階台移動速度lcm /秒,進 -37 — 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^ -----|}1^--------訂 i,-------線}.4· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) :、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 468092 A7 _B7_ 五、發明說明(36 ) 行摩擦處理,此時,進行耐摩擦性評估,間隔板圖型從 棊板剝落,間隔板被削平而降低間隔板髙度時評為不良 (X ),間隔板未剝落亦未被削平時評為良好(〇)。结果 如表2所示。 ②另外,將液晶定向劑AL3S46 (傑斯將法爾公司製品),使 用液晶定向膜塗佈用印刷機,UN條線塗佈機G-15KS(納 間公司製品),塗佈於附有IT0瞑製成的透明電極之玻 璃基板透明電極面,在180 C乾燥1小時,形成乾燥膜 厚0.05// m塗膜。 於此塗膜,利用摩擦機,具有輥子,捲繞尼龍布,Μ 輥子轉數500rpm,階台移動速度lcin /秒,進行摩擦處理。 上述①②所得基板具有液晶定向膜之外緣,分別K絹 印塗佈摻入直徑5/ζια的玻纖之環氧樹脂格膠後,將一對 基板以液晶定向膜®相向,但摩檫方向正交重II壓接, 使黏膠硬化。 其次,將尚列型液晶(默克公司製品ZL 1-4792)由液晶 注入口充填於一對基板間後,用環氧糸黏膠在液晶注入 口封閉,在基板外側兩面貼合偏光板,使偏光板的偏向 方向分別與基板的液晶定向膜之摩檫方向一致,製成液 晶顧示元件。評估所得液晶顯示元件之電壓保持率、定 向性。液晶顯示元件的電壓保持率評估,係在對液晶顯 示元件沲加5\?電壓後,開啟電路,測虽16.7微秒後的保 持電壓。又,液晶顯示元件的定向性評估,係用偏光顯 微鏡觀察電壓導通和斷通時,液晶胞中有無異常域,若 -3 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^---Λ-----訂'-------線 468092 A7 B7 五、發明說明( 37 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 看不出異常域評為良好(Ο),看出異常域時評為不良(X) 結果分別如表2所示。 管瓶例9 和實施例8同樣調製並評估組成物溶液(S-9),惟成 份[A]使用合成例1所得溶液(相當於鹼溶性樹脂[A-1] 80重量份(固體成份))與合成例 2 所得鹼溶 性樹脂[A-2] 20重量份之混合物,[B]成份的賽梅爾 300添加量為35重量份,不使用含環氧基二個K上的化 合物。 和實胞例8同樣進行各種評怙,惟實施例8評估中所 用放射敏感性樹脂組成物溶液(S-8)改用(S-9)。評估 结果如表2所示》 當_例1 0 放射敏感拌榭瞄組成物之調製 成份[Α]使用合成例3所得聚合物溶液(相當於鹼溶 性樹脂U-3] 100重量份(固體成份)),成份[Β]使用 賽梅爾300 25重量份,成份[C]使用2-(4-二乙基胺基-2-甲基-jS -苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三畊5.0重量 份,含環氧基二涸Μ上的化合物使用Epikote 828(相當 於下式(VB ):
(式中n = 184〜194),油化蜆殼環氧公司製品)1.0重最 -3 9 — *(VII) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ~ ϋ n t ϋ l· ϋ )δϋ Ε ϋ ϋ n 線、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 468092 B7_ 五、發明說明(38 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 份,界面活性劑使用梅格費克F172(大日本油墨公司製 品)0.04重量份,混合並加雙两酮醇溶解,使固體濃度 為17.0重量a;,以孔徑0.2/im微胞孔滤材過漶,調製成 放射敏感性樹脂組成物溶液(S-10)。 和實胞例8同樣進行各種評估,惟實施例8評估中所 用放射敏感性樹脂組成物溶液(S-8)改用(S-10),顯像 液則使用N -甲基哌啶1.0重量%水溶液。評估結果如表 2所示。 g倫例1 1 和實施例8同樣調製放射敏感性樹脂組成物溶液(S-11),惟成份[A]使用馬爾卡林卡PHM-C 100重量份代 替含[A-1]的溶液,含環氧基二個Μ上的化合物耶波賴 特100MF添加量為3.0重量份。 和實施例8同樣進行各種評估,惟實施例8評估中所 用放射敏感性樹脂組成物溶液(S-8)改為(S-11)。評估 结果如表2所示。 hh齩例1 和實施例8同樣調製故射敏感性樹脂組成物(R-1), 惟不添加[B]成份。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在實施例8中,放射敏感性樹脂姐成物溶液(S-8)改 用(R-1),進行同樣評估,但在上述間隔板形成步驟中 ,顯像接著進行在2 0 0 Τΰ加熱3 0分鐘後,未有間隔板圖 型殘膜,其他評估無法進行。结果如表2所示。 -4 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格(210 X 297公釐) 468092 A7 B7 五、發明說明) »-&「—」»71|激臶遨Μ。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 趙 渣 1-* as m m 1-k Η·"4 M m 宜 g n CO n m 宜 〇〇 扑 Ο 合 a o t71 g gv 1: m g法 1 CO ς〇 1 1-1 2 CO 0〇 l s 茬 \ g <〇 0〇 H-1 容 藏 s? i? 1 CD to §§ oo cn ^ m 谢 1 Οϊ CO -a oo o ST難薄 3鄣莼 m 茹 睡 JSV 1 w w to S?嗯离 w涝键 1 CO CO Cd 11 ! h-1 N? to 55 s 4 m 缴 m 1 Od D> D5 涝 η 1 〇 〇 〇 〇 聲礙 1 CO ς〇 Ca5 to CO * CO JD jn4 S|g [ 〇 〇 〇 〇 g ^ S Sm »2 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) „ Γ ★ a I— ^ I ί /1 線' 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 468092 A7 B7 五、發明說明(4Q) 按照本發明可提供一種放射敏感性樹脂組成物,對S 射線和gh射線的有高度感度,耐摩擦性優良,具有充分 電懕保持率和液晶定向性,可形成耐熱尺寸安定性和壓 縮強度儍良之間隔板。 圓式簡屋說明 第1圖為表示間隔板斷面形吠之說明圖。 (諝先閱讀背面之生悫事項再填窝本頁) |--------訂-----------線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 42- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. -re- 8 0 9 3 公告 A8 9¾ 7· β 修 Β8 寻月β — C8 I 一;占. D8
    A’ , 六、申請專利範圍 第88114046號「間隔板用放射敏感性樹脂組成物,間隔 板之製法,間隔板及其液晶顯示元件」專利案 (90年7月16日修正) 六申請專利範圍: 1 ·—種間隔板用放射敏感性樹脂組成物,其特徵爲包含: [A] 鹼溶性樹脂 [B] 如下式(I )所示之蜜胺類 U) 基,R表示氫原子或q-C6烷基),和 [c]下式(n)所示三鹵甲基三畊 * _·(1!) (式中X表不鹵素,A表ttcCX3或下式所示基圃 ----Τ----1-----,裝——„-----—訂· —-------竣、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    、〆0 C
    (B), (B): 翰
    、(B)m Μ氏張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公筮) 468092 AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 或
    (B)m (B)m 而B、D、E各自分別表示氣原子,鹵素原子,氧基, 硝基,羧基,羥基,。烷基,CVC,。烷氧基, 。烷硫基,C6-C1D芳基,C6-Cie芳氧基,(:6-(:10芳 硫基,二(h-C,。烷基)胺基,二(C6-C1Q芳基)胺基, CVCu烷基羰基,C2-Cn芳基羰基、C2-Q。烷氧基羰 基,或C2-C1Q烷基羰氧基,m表示1〜5整數),或 下式(m)所示之鐵鹽類 (Α)η ζ+ γ- ( m ) (式中a之定義同上述,z表示硫或碘,y表示bf4, PF6,SbFfi,AsF6,對甲苯磺酸酯,三氟甲烷磺酸酯 或三氟乙酸酯,η表2或3 )者。 一種間隔板用放射敏感性樹脂組成物,其特徵爲包含: [A j鹼溶性樹脂 [B]如下式(I )所示之蜜胺類 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) :裝---^----訂 i_--- 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 R\/
    •(工) -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐〉 468092 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ch2or基,r表示氫原子或Cl-c6烷基),和 [C ]如下式(jy)所示之三鹵甲基三哄類
    (式中X表示鹵素原子,R8和R9各自分別爲Ci-Cu 烷基或Cs-C1()芳基,R 11 , R1Q和R11各自分別表示氫 原子,鹵素原子,氰基,硝基、羧基,羥基 烷基,CVCu烷氧基,(^-(^烷硫基,C6-CiQ芳基, CVC!。芳氧基,c6-C1Q芳硫基,二(CVC^o烷基)胺基, 二(C6-Clfl芳基)胺基,c2-cn烷基羰基,C7-Cn芳基 羰基、C2-C1Q烷氧基羰基,或C2-C1Q芳基羰氧基,而 i表示1〜5之整數者。 3.如申請專利範圍第1項之間隔板用放射敏感性樹脂 組成物,其另包含[D]在分子內含二個以上環氧基 之化合物。 4 .如申請專利範圍第2項之間隔板用放射敏感性樹脂 組成物,其另包含[D]在分子內含二個以上環氧基 之化合物》 5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之間隔板用放 射敏感性樹脂組成物,其中[A]鹼溶性樹脂爲含酚 性羥基之樹脂。 6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之間隔板用 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4规格(210 X 297公1〉 (請先閱讀背面之注意事項再填窝本頁) 裝.------I 訂·-'----I--靖 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印制农 6 80 92 韶 C8 _ D8 六、申請專利範圍 放射敏感性樹脂組成物,其中[A]鹼溶性樹脂爲含 羧基之樹脂。 7. —種間隔板之形成方法,其係使用如申請專利範圍 第1至6項中任一項之間隔板用放射敏感性樹脂組 成物。 8 . —種間隔板,其以如申請專利範圍第1至3項中任 一項之間隔板用放射敏感性樹脂組成物所形成。 9. 一種液晶顯示元件,其具有以如申請專利範圍第1 至3項中任一項之間隔板用放射敏感性樹脂組成物 所形成之間隔板。 (諳先聞讀背面之注意事項再填窝本頁) ---^----^—訂—·--- 經濟部智.«財產局員工消費合作社印制4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
TW088114046A 1998-08-20 1999-08-17 Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element TW468092B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23372498A JP3952484B2 (ja) 1998-08-20 1998-08-20 表示パネルスペーサー用感放射線性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW468092B true TW468092B (en) 2001-12-11

Family

ID=16959583

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW088114046A TW468092B (en) 1998-08-20 1999-08-17 Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP3952484B2 (zh)
KR (1) KR100573355B1 (zh)
TW (1) TW468092B (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100463309B1 (ko) * 2001-03-31 2004-12-23 주식회사 아담스테크놀로지 액정표시소자 컬럼 스페이서용 레지스트 조성물
JP4232527B2 (ja) * 2003-05-09 2009-03-04 Jsr株式会社 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法
JP4555938B2 (ja) * 2003-09-24 2010-10-06 日立化成工業株式会社 液晶表示装置用スペーサー及びこれの製造方法、並びにこれを製造するための感光性エレメント
JP4555939B2 (ja) * 2003-09-24 2010-10-06 日立化成工業株式会社 液晶表示装置用スペーサー及びこれの製造方法、並びにこれを製造するための感光性エレメント
KR100633235B1 (ko) * 2004-07-05 2006-10-11 주식회사 엘지화학 패턴드 스페이서를 구비하는 디스플레이 패널
JP2010286524A (ja) * 2009-06-09 2010-12-24 Ulvac Japan Ltd スペーサ配置方法、スペーサ除去装置
WO2011010635A1 (ja) * 2009-07-21 2011-01-27 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
JP5556395B2 (ja) * 2009-08-28 2014-07-23 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子
EP2557119B1 (en) 2010-04-08 2015-12-09 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition forming heat-cured film having photo-alignment properties
US9260638B2 (en) 2010-12-29 2016-02-16 3M Innovative Properties Company Pressure-sensitive adhesives with triazine-epoxy crosslinking system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3114166B2 (ja) * 1992-10-22 2000-12-04 ジェイエスアール株式会社 マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物
JPH0733855A (ja) * 1993-07-21 1995-02-03 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JPH08134045A (ja) * 1994-11-01 1996-05-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性ビス(トリハロメチル−s−トリアジン)化合物およびそれを含有する光重合性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000017381A (ko) 2000-03-25
JP3952484B2 (ja) 2007-08-01
JP2000063684A (ja) 2000-02-29
KR100573355B1 (ko) 2006-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI675051B (zh) 萘酚型杯芳烴化合物及其製造方法、感光性組成物、光阻材料、及塗膜
JP6619260B2 (ja) 化学増幅型感光性樹脂組成物及びそれから製造された絶縁膜
TW200811205A (en) Curing resin composition and forming method of curing coating film
TW574617B (en) Radiation sensitive resin composition, its cured body and element
CN103052916A (zh) 负型感光性树脂组合物
TW201136955A (en) Black-colored photosensitive resin composition, black matrix prepared by using thereof and color filter comprising the black matrix
TW200903157A (en) Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulation film and microlens, and method for manufacturing the same
TW468092B (en) Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element
TW201042372A (en) Photosensitive resin composition
TW574615B (en) Photosensitive resin composition
WO2005116764A1 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物並びに得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP4731184B2 (ja) アルカリ可溶性樹脂
JP4575680B2 (ja) 新規フルオレン化合物
JP3909552B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物および有機el素子の絶縁膜
TWI379130B (en) Radiation sensitive resin composition, projections and spacers, vertically aligned type liquid crystal display element, and the method for forming projections, and spacers
JP3842750B2 (ja) 感光性樹脂組成物
TWI332121B (en) Photosensitive resin composition
TWI687499B (zh) 黏合樹脂及包含其的光敏樹脂組成物或塗覆溶液
TW567361B (en) Forming method of projection of perpendicularly oriented liquid crystal display device, projection of perpendicularly oriented liquid crystal display device and liquid crystal display device having the same
JP4217433B2 (ja) アルカリ可溶性樹脂
US20220382154A1 (en) Photosensitive resin composition, dry film, cured material and electronic component
CN113853394A (zh) 树脂组合物及树脂膜
KR101180541B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물
JP4665189B2 (ja) アルカリ可溶性樹脂
JP3003064B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees