TW416894B - Method for removing the moil from pieces of glassware, continuous moil removal installation for pieces of glassware and piece of glass having a demoiled rim - Google Patents

Description

.^,¾.'邓t Λ標準局K.T-消合竹权印絮 416894 A7 B7 五、發明説明（'） 發明說明：

本發明係關於一種藉雷射光束去除玻璃器皿，尤指飲 用破璃杯，瓶等，亦即所有之玻璃器皿或水晶玻璃器DA ,i:之瑕疵之方法。 已知之瑕疵去除方法係利用雷射光束對要被去除瑕疵 之破璃之區域加溫，之後可再藉冷工具進行機械接觴俾 產生裂痕。 瑄種瑕疵之去除方法能去除圓柱狀且薄之玻璃器皿之 瑕疵。但是，鑑於很多玻璃杯被不正確地修整，破裂或 斷裂，這種方法不適於自球莖，漏4狀之極厚或甚至含 高姐（high -丨ead-content)之玻璃器血去除瑕班。 修整作業係玻璃或水晶玻璃器皿製造上之重要作業， 因精確之修整能大幅降低研磨玻璃所需之時間，甚至在 某些情況下可省去研磨作業。研磨作業係敘述於文件BE 670504 〇 本發明之目的係提供一種用於能精確地自漏斗狀之玻 璃器ΙΠ1,球莖吠之破璃器皿，厚度為2至5an,甚至更厚 之器皿，及含高鉛之玻璃器皿去除瑕疵之方法。對某種 器肌，特別是簡單形狀（例如圓柱或實質圓扫狀）之器皿及 厚度小於2ΙΠΙΙ!之坡璃器皿，本發明之方法能使已修整之 緣適宜直接在再燃燒單元内處理.亦即不必研磨。 另外須一提者係本發明之方法能對必須經研磨處理之 破璃器m進行較快且更容易之研磨。 本發明之方法係為一種自嬈著紬線旋轉之玻璃器血去 -3- 本紙張尺度違用中國國家標率（[灿）六4说格（210/297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

P 缘._ 怒邊部屮"精^^只工消费合竹私印髮 416S94 A7 B7 五、發明説明（* ) 除瑕疵之方法，其係藉雷射光束之處理Μ去除玻璃器皿 之瑕疵之方法。其特激為： 第一階段，須修整之旋轉器皿係接受一束或多束之連 禳之雷射光柱之作動，俾 fa).在要被修整之器皿上界定一被前述連缠雷射光 柱之束（或多束）觸射之連缅區域，及 ib).前述雷射光柱之束（或多束）係K每單位面積小 於 SOW/rnm2.最好小於 25V/nnf. 5 至 201//811118 更佳，之 功率密度觸射前述區域之一個或更多部份； 第2階段t對要被修整之器皿，在約一涸旋轉或至少 一個旋轉期間，已在第一階段受到一束或多束之連纊雷 射光柱作動之區域係受到以小於2 5 0 W之功率之聚焦眤衝 雷射光柱之作動俾形成相互分離之串列之接續點或微小 孔，瑄些串列之微小孔在前述之部份上界定一實質連缠 之線.進而實皙沿著前述之連鑛媒進行修整。聚焦脈衝 m射意指間馱地放射聚焦之雷射光柱或藉在低，例如 最小（例如為〇)及髙功率，例如最大，之間陳時間變化 之功雍俾餚高功率之雷射光柱在旋轉中之玻璃杯肜成串 列之分離衝擊點。雷射光柱之高功率係為足夠在玻璃上 形成微小孔（孔之深度為10#至100 "m最好為15至60/i a之間， 20ϋΒ到50/ii尤佳）之功率，而雷射光柱之低功率係為 最多R足夠加熱玻璃而不會或茛質不會在玻璃上產生微 孔（微孔之深度小於10wm,最好少於2wm,而少於lwn 尤佳）之功率。 -4- 本紙張尺度適用中國國家標卒（CNS ) Λ4規格（2IOX297公釐） (請先閏讀背面之注意事項再填寫本頁)

P '11 418694 at B7 五、發明説明（> ) 聚焦之哌街雷射在玻璃表面上形成有益之枏互分離之 衝擊或缺陷，這些衝擊或缺陷深入玻璃之深度最好為15 a ra到60 »之間，兩個接鳙之銜擊或缺點之間隔最好大 於玻璃上之一個缺陷或衝擊之深度，但最好為3至20倍 於衝擊或缺陷之深度，而4至10倍於缺陷或衝擊尤佳。 最奸在第1階段上，在要被修整之器血旋轉至少3轉 ，最奸牵少5轉，10轉更好，期間，要被修整之區域需 受速鳙雷射光柱之束（或多束）之作動俾前述之光柱Μ每 單位而積小於25W/ra#之功率密度，尤以到20W/ mm"間之功率密度，觸射前述區域之一或多個部份。 最奸在第2階段上，控制雷射光柱之束（或多束）之脈 衔及/或要被修整之器皿之旋轉速度俾哌衡化之雷射光 柱所造成之兩接續之衝擊點（兩接連之微孔或缺陷）相隔 小於2bb,最好小於1mm,而lOuii至ImB尤佳，至於100 u, μ至800w m之範圍更佳。 雷射光柱之脈衡最好控制俾其脈衝頻率係在500至1500 HZ之間.而800至1200HZ更佳。 依本發明之一個實例，在第1階段上，2到8bi«寬之 區域係受到一或多個雷射光束之作動。 依本發明之有利之實洌，在第1階段與第2階段之間 ,有一既定之時間期間，前述區域不受雷射光束之作動 ，此時間期間最好係對應於前述區域於第1階段受一或 多涸雷射光束作動之時間期間之至少5¾。 依第1階段之良好實例，區域係至少在第1及第2分 -5 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格{ 210X297公f ) (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Q. ,-=6 ^"部中^栲^^另^消货合竹社印來 nssdi 377 五、發明説明（4 ) 隔之時間期間内受到一或多假雷射光束之作動，而在被 一或多個雷射光束處理之期間之中間停欧期間則不受雷 射光東之作動。中間之停欧期間最好係對應於區域在第 1階段上接受雷射光東（或多束）之作動之第1時間期間 之 5S5。 依第2階段之可能實例，區域之不同部份係同時接受 一束或多束之連續雷射光柱，及聚焦之脈衝雷射光束之 _作，其處理晒序係區域之每一部份先被一束或多束之 連鑲光柱鵑射後才被聚焦之哌衝笛射光束觸射。在第2 階段上，區域之不同部份係最好同時分別接受一束或多 束之連縯雷射光柱之作動，及聚焦脈衝雷射光束之作動 ，其處理順序係區域之每一部份同時被一束或多束之連 鳙雷射光柱觸射至少0.05秒，最好係為至少0.1秒，接 著被聚焦酿衝雷射光柱觸射。區域之每一部份最好係被 一束或多束之連孃光柱瞌射最多為1秒，最好最多為0.5 秒，然後才被聚焦之脈衝雷射光束觸射。換言之，從連 鱭雷射光束衝擊區域之一部份之瞬間到昵衝之雷射光柱 衡擊於區域之前述部份之瞬間止之時間期間最好在0.1 到0 . 5秒之範圃內。 依本發明之方法，聚焦之脈衝雷射光束係K每衝擊點 之功率密度大於500W,最好800W,觭射在區域之各點。 本方法所箱之脈衝雷射之功率係依玻璃之厚度而定。 依本發明之方法，區域最好接受脈衝化之聚焦雷射光 束之作動.該昵衡之頻率已被調籃俾在區域内形成直徑 本紙張尺度適用中國國家標痒（CNS ) Μ規格（210X 297公麓） (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 訂 •rlv! 41S«94 A7 B7 五、發明説明（（） 小於500/ub,最好小於lOOitffl,小於50wb更佳，之串 列衝擊點。 在第1階段上，最好使用功率，例如，小於300V之準 直化之雷射光束。 本發明之目的亦偽為用於執行本發明之玻璃器皿之連 壤修輅之方法之修整設胞.前述設豳包含： ia).含有用於自玻璃器皿去除瑕疵俾形成已修整之 後之雷射之裝置， (b) .含有接續地進給玻璃器皿到修整裝置之步進驅 動备统之裝置，及 (c) .用於至少在進行修整作業期間驅動玻璃器皿撓 著軸線旋轉之旋轉驅動糸統。本發明之設施之特徴為包 含兩Μ雷射，第〗雷射形成連績雷射光束，而第2雷射 刖形成聚焦之哌衝化雷射光束。 前述設施最好包含一只用於將第1雷射射出之連禳雷 射光東分割成至少第1至第2不同光束之偏雛器（devi-atoiO.及用將前述之第1及第2不同光束分別導入第1 及第2處理區域，俾須被修整之器皿被第1光束在第1 區域上處理，然後被步進驅動系統移送到第2區域，被 第1光束處理之器皿則在此第2匾域被第2光束處理。 偏離器亦眭使雷射被用於同時對多數器皿進行平行處理。 依另外之實例，前述設拖含有至少一個用於將第1雷 射射出之連續雷射光束分割成至少第1及第2不同光束 之锡離器.及用於將前述第1及第2不同光束導至第1 本紙张尺度適用中國國家椟绛（CNS ) Λ4規格（2!0Χ 297公釐） . 、iy- ' J ,--Ί------------訂------C (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 經潢部中"枒準局負T,消"合作社印來 經"部中决#卑局負工消fr合竹社印絮 a7 416^94 B7 五、發明説明) 及第2處理區域俾須修整之器皿在第1區域内被第1光 束處理.然後藉步進驅動系统被送至第2區域，被第1 光束處理過之器皿在被聚焦之脈衝化雷射光束處理之前 先在前述第2區域被第2光束處理。 本發明之設胞最好包含用於調整脈衝化雷射之功率， 陬衝化雷射光束之昵衝頻率及須修整之玻璃器皿之轉速 之調整裝置。 於可能之實例上，前述設施能包含用於冷卻已修整之 披璃器ΠΠ之掾之冷卻單元及/或研磨單元及/或用於燃 博已修整之玻璃器皿之緣之燃燒單元。 聶後，本發明之目的亦係為製造具有修整緣之玻璃器 m,前述之緣係接近於含有相互分離之雷射光束之衝擊 點之線或至少部份對應於含有相互分離之雷射光束之衝 擊黏之媒，前述之衡擊點之直徑係小於5 Ο Ο ϋ in,最好小 於2 50um，而小於lOOum尤佳，小於50μΐϊ更佳，且接 鳞之黏間之距雛係小於2 η β ,最好小於1 ϋ β ,而1 0 0 w m至 80 0« m之範園尤佳。這種破璃器皿能容易被研磨，或能 俺經燃焴處理而無需前置之研磨作業。 下而將參照附圃敘述本發明之實例。這些附圖中第1 圖係已修整之玻璃器m之示意圖； 第2 _係本發明之設施之示意圖； 第3 _係示出聚焦之腋街化雷射在破璃器皿上之作動 之放大斷面圖；及 第4匾及第5圔係示出聚焦之脈衝光束隨著時間變化 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、\=t A7 B7 47,¾.部中欢椋if-扃兵-T消合竹社印繁 418S94 五、發明説明（7 ) 之兩個不同功率密度。 下面將敘述修整方法之實例。 例1 (比較例> 具有首徑约7CI«,厚度约2cm之漏斗緣之高腳杯係在緣 之近處被處理Μ去除瑕疵。 要被去除暇疵之玻璃杯係在142至320γ·ρβ之範圍内被旋 轉顆動。 旋轉之披璃杯在第1階段上偽藉偏離器射出之雷射光 束而被麻理，光束之直徑係在4至5. 5ιηπι之範圍，功率 即為170W。在此階段期間，欲被修整之緣係被加熱。這 禪雷射加熱之作業係在5秒内完成。 在經過此雷射加熱階段後破璃杯則被170W功率之聚焦 雷射光束連壤照射。 本官例獲致之修整結果係碰浬氣且依玻璃之品質而定。 例2 (本發明） 除了 -第1階段之加熱作業分成各為2.5秒之兩階段執行， 其間停th約0 . 8秒，在灶0 . 8秒期間玻璃杯未受雷射光束 之照射. -在第1階段被加熱之玻璃杯係受脈衝化之雷射光束 之作睏衝之頻率係999HZ,及 -在玻璃杯之第1加熱階段和被脈衝化之聚焦雷射光 束處理之階段之間，玻璃杯有0.8秒未受雷射光束之作 動.之外，餘重複例1之過程。 9 " 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐> (請先閲讀背而之注意事項再填寫本頁)

18894 A7 B7 經"部屮央#準^员^消於合作社印來 五、發明説明 ( g ) 1 1 藉 瑄 種 方 法 獲 得 良 好 之 玻 璃 杯 之 修 整 结 果 % 這 種 方 法 1 1 I 銪 用 於 玻 璃 杯 之 旋 轉 速 度 為 1 42r ' P m , 2 0 C r p hi 及 3 2 C Γ F m , 1 1 於 被 璃 杯 被 脈 衝 化 之 雷 射 光 東 照 射 之 階 段 會 產 生 深 為 諳 1 先 1 士 6 0 // m及直徑小於1 00 u B之串列之表 决陷 雷 射 光 束 在 玻 閲 讀 1 i 1 璃 杯 上 之 銜 擊 點 )， 前述之缺陷或孔相互間隔500 U m至 1¾ 之 1 \ IF ΙΪΙ 之範 閭 此 間 隔 係 依 對 既 定 之 雷 射 之 脈 衝 頻 率 之 玻 注 意 1 I 事 1 璃 杯 之 轉 速 而 定 〇 項 再 1 I 由 於 在 加 塾 之 第 1 階 段 上 產 生 應 力 或 牽 引 之 區 域 填 % ί 本 1 偶 更 多 之 缺 陷 逐 産 生 破 裂 * 此 破 裂 然 後 白 一 假 缺 陷 至 頁 、_·> 1 1 另 — 缺 m 分散 * 但 是 這 種 情 形 澳 是 在 要 被 修 整 之 部 份 或 1 1 枏 對 於 具 有 底 座 之 部 份 之 部 份 上 進 行 〇 1 ί 第 3 IMI 圈 示 出 聚 焦 之 哌 衝 化 雷 射 光 柱 或 雷 射 光 束 在 玻 璃 I π 器 m 上 之 作 動 之 放 大 匾 其 係 示 出 沿 著 聚 焦 之 脈 衝 雷 射 I 1 光 柱 之 m 擊 點 之 串 列 線 剖 開 之 斷 面 〇 1 1 在 玻 璃 杯 U 之 外 部 表 面 FE上 示 出 串 列 之 缺 陷 或 微 孔 D , 1 I 此 徹 孔 D之深度P 係實質地對應於玻璃柏 F之深度E 0 1 ί 兩 傾 接 連 之 衝 擊 或 微 孔 D 之 間 距 係 約 5 倍 於 微 孔 之 深 度 〇 1 I 第 4 及 第 5 圖 示 出 白 兩 不 同 之 聚 焦 脈 衝 雷 射 射 出 之 雷 1 η 射 光 柱 或 雷 射 光 束 之 功 率 密 度 (W / m m2 )之變化（ 為 時 間 之 1 1 雨 數 )。 ί 例 3 ( 本 發 明 ) 1 1 除 了 玻 璃 杯 之 旋 轉 速 度 為 2 5 6r p m S處理的 係 球 莖 狀 玻璃杯 I 1 《白 蘭地酒杯型） 外 1 餘 皆 重 複 例 2 之 方 法 0 1 I 10 1 1 1 1 本纸張尺度谪用中國®家榡卑（C'NS M4規格（2!〇Χ 297公釐） 41?5S94 A7 B7五、發明説明（？） 自質及最之觀點看所獲得之修整结果係優良（試驗34 在 0 圖 意 示 之 杯 璃 玻 之 整 修 已 之 得 〇 ) 獲 壞例 損本 無出 皆示 杯 S 璃 1 玻第 0 期 ο 1 處置 間 璃 玻 之 型 腳 其 被 撐 支 在 間 期 部 之 Β 之 置 倒 3 ΠΗ 倒離 杯分 璃杯 玻璃 /( 玻 _ 旋雷 伸 A ® ^ ^ S ® i 1 ¢1 X rM 端了 iife其對 兩系—約 在3^4 係份緣 3 部之 份及1 部坏杯 璃 玻 間 期 整 修 在 璃此 玻。 之點 整擊 修衝 被之 已柱 -光 轉射 粗 之 出 示 顧 緣 寒 月 ^TTh. 完。發 有磨本 具研4f 得易例 獲較 可知 即得 磨 ， 研間 作期 稍杯 甯辑 僅玻 此磨 因研 ，在 大。 不杯 度璃 高玻 之之 度緣 榇上 (諳先聞讀背面之注意事項再填苟本頁) 為 度 厚 有 具 為 徑 直 及 玻 腳 高 之 緣 上 形 圓 之 丁 *-& βκ T 理 2 I 9 處 1 被係 述速0W緣 。下轉17之 理如之為杯 處係杯率璃 受杯逋功玻 接璃玻藉押 杯破 I I 處 璃 次 第 束 光 射 雷 之 直 8 準3 之為 明 BE? & 間 * ΊΤ 時 行 進 為 徑 直 秒Η 0〇 為 〇 率 IL·功 倖藉 為 徑 直 2 第 束 光 射 雷 之 化 直 準 之 時 行 進 緣 之8f 杯 ο 璃lh 玻停 理| 處

及光 0W射 17雷 為或 率柱 功光 有射 具雷 Μ 之 - h 野 S 杯 9Η璃 99玻 少 為理 Μ 率處 3.頻束 為 衝之 間 脈柱 脈 且 焦 聚 之 緣 之 本紙银尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210Χ297公釐） 41S894 A7 B7 五、發明説明（、。） 所有被處理之玻璃杯皆正確地被修整。 下而將參照第2圖說明用於執行第2及第3例之方法 之設施。 此設施包含： -含有用於對玻璃器肌執行修整作業及形成已修整完 成之器ΠΠ之緣之雷射11,12,13,14之裝置10, -含有用於接鳙地移送（箭頭D)玻璃杯至修整裝置 之等分度步進驅動糸統之輪送帶15,前述輪送帶15係藉 經渋部中决標準局货^-消价合作社印纪 0 0 砠而至 5¾¾ 玻 雷。之· 之雷於對 首後 轉 之|°射F2W 射化用或 係最 β 束 Msl.M 0 0 Μ 0 域， 線 之 Μ 自 化脈，旋 區區 0 柱 U 來 U.F0 ' Μ ζ Ζ % 繞 光 b 將 MF1脈置轉皿 皿作 間} 射ΙΓΜ俾 束 笹位之器 器之 期一不 sosilleH 光 M ^ ra ®®12 業圈鱭 W 器25同 於柱器玻 玻射 作未連 離第不 用光璃於 之雷 整i生U偏及2 含射玻直 整至 ^ ^ ^ ^ M ^ m SS之垂 修送 ，之 1 個 Μ 接 U 及 QR 之整與。被移 杯杯1«幾=,別 U1 。能化修向面須被 璃璃)1含41'分Μ第m好衝須導平，著 玻破1R包Ϊ41係 2 述器#_ ,柱之上接 送在15ii®f13束前 2_ 整率光同施 ， 移少ίϊ設 Μ2;之將第設調頻射不設熱 腳牵轉之 ，,1柱係及之俾衝雷面之加 之於旋明1311光則皿明置脈之平明13 杯用.之發2.射射17器發裝之化之說射 璃 -m 本,1雷雷施 1 本之柱衝媒於雷 披 器11禳措第 率光脈軸 被 丁 Ί (請先閲讀背面之注意事項再填寫本育) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（2】〇Χ 297公釐） U-S894 a7 _____B7五、發明説明卜，） 雷射12處理。然後，器皿被移送至雷射作動區11及14内。 一目瑕疵被去除後器皿即藉一個或多饀空氣噴射器1δ 只 射 兩 射 理 。 雷 處等從 行度。 疵 平分率 瑕 即三功 除 .亦，稱 去 ，度標 俾 施分之 27設單多 部 度為更 ..光 分偽或 經拋 及 雙直0W 送或 ， 係一50 被磨2829施施有 刖研部部 設設具 皿緣角磨。之之能 器之去研26示例射 。 之杯及及部所 I® 雷 卻後璃洗洗換 _ 。之 冷卻玻濟清乾 2 杯熟 行冷， ~ _ ，第璃加 進 披 哌 ο 束 光 次 之 能 點 擊 衝 在 俾 50率 2功 ^之 少度 率呈 有50 具有 個具 幾好 成最 si束 分光 被 射 束雷 光之 之化 出»f 度 密 率 功 之 璃 拔 桌 餐 之 統 糸 tli 種 各 理 處 能 0 設 之 其 及 法 方 之 00明 10發 得本 蘀 杯(h 璃製 玻吹 晶手 水之 铅上10 ,元b 杯單nd 璃造 a ‘‘玻製0W ιριί動 b 亦納手在 • - - -杯 η a --- ---------t! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 杯 璃 玻 鋇 杯 璃 玻 或

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P 經-承.部中次標準扃1丁，消贤合竹乜印絮 之 料 本 ; 形 能 杯雜_胞 ;璃複_設 杯玻及ί之 璃製稱 U 明 玻聒各 ?!發 邊 多 圓 莖 球 型 斗 漏 柱 圓 /IV 狀 rtu 0 個 幾 鐘 分 每 在 度 ί%~ 避 造 製 之 杯 璃 玻 使 觭 接 械 機 之 有 所 之 間 期 。 整 化修 變在 内免 圍避 範能 之法 多方 更之 至明 甚發 個本 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Α4規格（210Χ297公漦） 41.S«94 A7 B7五、發明説明（…） 參考符號說明 1 ...漏斗型之玻璃 2…腳 3 ...部份 4·...緣 1 0 ..裝置 1 1 ..雷射 1 2 ..雷射 1 3 ..雷射 1 4 ..雷射 Ί 5 ..輪送帶 1 6 ..偏離器 17 ..裝置 18 ..空氣嗔射器 26 ..乾燥部 27 ..拋光部 28 ..去角部 29 ..清洗部 (請先鬩讀背而之注意事項再填寫本頁) "u3 W' 經M部中央棉準局员-T消处合竹社印來 -14- 本紙ί長尺度適用中國四家標淖（CNS ) Μ说格（210X297公釐}

Claims (1)

1. 第87108226號「用於去除玻璃器皿之瑕疵之方法、連缠去 除玻璃器皿之瑕疵之設施，及具有己被修整之緣之玻逋装 皿」專利案 （88年9月修TE) 巧申謓專利範圍： 1. 一種用於去除玻璃器皿之瑕疵之方法，其中繞著軸線 旋轉之玻璃器皿傜接受雷射光束之處理，其特徴為： 第1階段，須被修整之旋轉中之玻璃器皿係接受一 束或多束之連缠雷射光柱之作動，俥 -在須被修裝之玻璃器皿上藉前述之連缠雷射光柱 之束（多束）界定-連鏞區；及 -進而前述之雷射光柱之束（多束）以毎單位表面小 於之功率密度皤射前述面稹之一或多傾部份， 及 第2階段，須被修整之玻璃器皿每旋轉約一轉或至 少一轉，在第1階段時接受一束或多束之連缠雷射光 柱之作動之區域則接受具有功率小於250W之聚焦脈衝 雷射光柱之作動俾形成相互間隔之串列之接鑲衝擊點 ，進而在前述部份上界定一實質連鏟之線，可去除的 瑕疵實質上沿箸連績之線予以完成。 2.如申請專利範圍第1項之方法，其中第2階段上之聚 焦脈衝化雷射光柱之脈衝化及/或須修整之玻璐器皿 之旋轉速度偽被控制，俥使藉聚焦之脲衝化光柱造成 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本育) if. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 416894 六、申請專利範圍 之接缠之衝繫點或撤孔之兩點間相互間隔小於2πι» , 最好少於Ihb。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3. 如申請專利範圍第1項之方法，其中在第2陏段上之 聚焦脈衝雷射光柱之脈衝化及/或須修整之玻璃器皿 之旋轉速度偽被控制，俥使藉聚焦之脈衝化光柱造成 之連鑛衝擊點或撤孔之兩點間之間隔小於10WID至 In·,最好為 100μηι至 800以11〇 4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中於第 1階段上，須被修整之玻璃器皿之前逑區域至少接受 一束或多束連鑲之雷射光之柱作動逹至少3轉，最好 至少為5轉，俾前述之多束光柱以毎箪位表面小於 25ν/·π"之功率密度觸射前述匾域之一或多籲部份。 經濟部智慧財展局員工消費合作社印製 5. 如申請專利範圔第1至3項中任一項之方法，其中於 第1階段上，須被修整之玻璃器皿之前述區域至少接 受一束或多束連鑲之雷射光柱之作動逹至少3轉，最 好至少為5轉，俾前述之多束光柱以毎單位表面之功 率在SV/nra"到20W/·!#之範國梅射前述區域之一或多 餡部份。 6. 如申諳專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中為 聚焦之脈衝化雷射光柱之脈街化俗被控制侔使脈衝頻 率在500至1 500HZ,待別在800至1200HZ範圔内。 7. 如申諸專利範圍第4項之方法，其中為聚焦之脈衔化 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4洗格（210X2?7公釐） A8 U6894 骂 D8 _____ 六'申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 雷射光柱之脈衝化傺被控制俾使脈衝頻率在500至 1500HZ.待別在800至1200HZ範圍内。 δ·如申請專利範圍第5項之方法，其中聚焦之脈衝化雷 射光柱之脈衝化偽被控制俾使脈衝頻率在500至 1500ΗΖ,持別在800至1200ΗΖ範圍内。 9.如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中於 第1階段上接受一束或多束雷射光柱作動之區域之寬 度為2至8ram。 10. 如申請專利範圍第4項之方法，其中於第1階段上接 受一束或多束雷射光柱作動之區域之寬度為2至SDim。 11. 如申請專利範圍第5項之方法，其中於第1階段上接 受一束或多束雷射光柱作動之區域之寬度為2至8ihid。 12. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中於 第1和第2階段之間，有一段旣定時間期間，前述之 區域未接受一或多束雷射光柱之作動。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 13. 如申請專利範圍第4項之方法，其中於第1和第2階 段之間，有一段既定時間期間，前述之匾域未接受一 或多束雷射光柱之作動。 14. 如申請專利範圍第5項之方法，其中於第1和第2階 段之間，有一段既定時間期間，前述之區域未接受一 或多束雷射光柱之作動。 15. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中於 -3- 本紙張尺度適用中國國家搮準（CNS ) A4g ( 210X297公釐） 416^94 A8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 1 1 第 1 和 第 2 階 段 之 間 f 有 對 應 於 在 第 1 階 段 上 前 述 區 1 1 I 域 接 受 — 或 多 束 雷 射 之 作 動 之 時 間 期 間 之 至 少 5¾之 時 1 1 間 期 間 未 接 受 一 或 多 束 之 雷 射 光 柱 之 作 動 〇 請 先 J 16 .如 申 請 專 利 範 圍 第 4 項 之 方 法 其 中 於 第 1 和 第 2 階 閱 讀 背 1 段 之 間 有 對 應 於 在 第 1 階 段 上 前 述 區 域 接 受 或 多 面 之 1 注 1 束 雷 射 之 作 動 之 時 間 期 間 之 至 少 5X之 時 間 期 間 未 接 受 意 事 1 項 1 —* 或 多 束 之 雷 射 光 柱 之 作 動 〇 -S- 填 1 寫 17 .如 申 請 專 利 範 圍 第 5 項 之 方 法 其 中 於 第 1 和 第 2 階 本 頁 1 段 之 間 » 有 對 應 於 在 第 1 階 段 上 前 述 區 域 接 受 一 或 多 1 1 束 雷 射 之 作 動 之 時 間 期 間 之 至 少 5X之 時 間 期 間 未 接 受 1 I 一 或 多 束 之 雷 射 光 柱 之 作 動 〇 1 訂 18 .如 串 請 專 利 範 圍 第 1 至 3 項 中 任 一 項 之 方 法 t 其 中 於 1 I 第 1 階 段 上 1 前 述 區 域 % 接 受 一 或 多 束 雷 射 光 柱 至 少 1 1 第 1 及 第 2 不 同 時 間 期 間 之 作 動 1 而 在 一 或 多 束 雷 射 1 1 光 柱 處 理 之 期 間 之 間 之 中 間 期 間 未 接 受 雷 射 光 柱 之 作 1 線 動 Ό I 19 如 申 請 專 利 範 圍 第 4 項 之 方 法 9 其 中 於 第 1 階 段 上 » 1 1 A·»· 刖 述 區 域 係 接 受 — 或 多 束 雷 射 光 柱 至 少 第 1 及 第 2 不 同 時 間 期 間 之 作 動 1 而 在 . 或 多 束 雷 射 光 柱 處 理 之 期 1 ΐ 間 之 間 之 中 間 期 間 未 接 受 雷 射 光 柱 之 作 動 〇 1 1 20 . 如 請 專 利 範 圍 第 5 項 之 方 法 1 其 中 於 第 1 階 段 上 » 1 I 刖 述 區 域 像 接 受 或 多 束 雷 4- 射 光 柱 至 少 第 1 及 第 2 不 1 1 1 1 1 本紙張尺度逋用中國圃家標準（CNS ) A4*t格（210X297公釐） 416894 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範 圍 1 1 同 時 間 期 間 之 作 動 而 在 一 或 多 束 雷 射 光 柱 廣 理 之 期 1 1 I 間 之 間 之 中 間 期 間 未 接 受 雷 射 光 柱 之 作 動 Ο 1 21 ，如 請 專 利 範 圍 第 1 Ϊ項 之 方 法 其 中 刖 述 中 間 期 間 像 >-N 請 先 1 Ί 對 閲 I 應 於 前 述 區 域 在 第 1 階 段 時 接 受 — 或 多 束 雷 射 光 柱 讀 背 1 之 作 動 之 第 1 時 間 期 間 之 至 少 5%n 面 之 注 1 22 如 請 專 利 範 圍 第 19項 之 方 法 t 其 中 前 述 中 間 期 間 係 意 事 項 1 I 對 應 於 刖 述 區 域 在 第 1 階 段 時 接 受 或 多 束 雷 射 光 柱 再 填 1 1 寫 之 作 動 之 第 1 時 間 期 間 之 至 少 5¾ 〇 頁 1 23 .如 申 請 專 利 範 圍 第 20項 之 方 法 1 其 中 刖 述 中 間 期 間 係 1 1 對 rrttr 應 於 前 述 區 域 在 第 1 階 段 時 接 受 或 多 束 雷 射 光 柱 1 1 之 作 動 之 第 1 時 間 期 間 之 至 少 5¾ 〇 1 訂 24 .如 申 請 專 利 範 圍 第 1 至 3 項 中 任 一 項 之 方 法 ， 其 中 於 1 I 第 2 階 段 上 * 區 域 之 不 同 部 份 同 時 分 別 接 受 一 或 多 1 1 1 束 之 連 鑲 雷 射 光 柱 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 俾 1 1 區 域 之 每 — 部 份 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 觸 發 之 刖 1 線 先 被 一 或 多 束 之 建 缠 雷 射 光 柱 作 動 j 25 如 請 專 利 範 圍 第 4 項 之 方 法 « 其 中 於 第 2 階 段 上 参 1 I 區 域 之 不 同 部 份 僳 同 時 分 別 接 受 一 或 多 束 之 連 缠 雷 射 1 Ί | 光 柱 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 俾 區 域 之 每 — 部 1 1 份 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 觸 發 之 前 先 被 一 或 多 束 1 之 連 鑲 雷 射 光 柱 作 動 〇 I | 26 · 如 申 請 專 利 範 圍 第 5 項 之 方 法 .其 中 於 第 2 階 段 上 * 1 I 5 - 1 1 1 本紙張尺皮適用中國國家標率（CNS ) A4規格（2I0X297公釐） 41S894 b8； D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 1 區 域 之 不 同 部 份 係 同 時 分 別 接 受 一 或 多 束 之 連 缠 雷 射 1 1 光 柱 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 俾 區 域 之 每 —^* 部 1 1 份 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 ftp 胞 發 之 前 先 jrt* 攸 一 或 多 束 /—. 請 J 先 1 之 連 續 雷 射 光 柱 作 動 〇 閱 讀 1 背 27 .如 請專利範圍第24項方法 t 其 中 於 第 2 階 段 上 1 區 面 之 1 1 域 之 不 同 部 份 偽 同 時 分 別 接 受 一 或 多 束 之 連 鑲 光 柱 意 事 1 項 | 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 9 俾 區 域 之 每 —' 部 份 再 % 1 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 觸 射 之 前 先 被 一 或 多 束 之 寫 本 頁 _UJ- 1 連 鑲 雷 射 光 柱 觸 射 至 少 Θ . 0 5秒 1 最 好 至 少 8 . 1秒。 1 I 28 .如 申 請專利範圍第2 5項方法 * 其 中 於 第 2 階 段 上 I 區 1 I 域 之 不 同 部 份 傜 同 時 分 別 接 受 一 或 多 束 之 連 鑲 光 柱 ， ί 1 訂 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 t 俾 區 域 之 每 —- 部 份 1 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 觭 射 之 » 刖 先 被 一 或 多 束 之 1 1 連 缠 雷 射 光 柱 觸 射 至 少 0 · 0 5秒 * 最 好 至 少 0 , 1秒〇 1 1 29 .如 請專利範圍第26項方法 » 其 中 於 第 2 階 段 上 f 區 1 線 域 之 不 同 部 份 係 同 時 分 別 接 受 — 或 多 束 之 連 缠 光 柱 * I 及 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 之 作 動 t 俾 區 域 之 每 一 部 份 1 1 在 被 聚 焦 之 脈 衝 化 雷 射 光 柱 觭 射 之 、厂 刖 先 被 一 或 多 束 之 1 連 缅 雷 射 光 柱 觸 射 至 少 0 . 0 5秒 f 最 好 至 少 0, 1秒。 [ ί 30 .如 請 專 利 範 圍 第 1 至 3 項 中 任 一 項 之 方 法 其 中 m 1 I 衝 化 之 聚 焦 雷 射 光 柱 觸 射 於 區 域 上 之 衝 擊 點 之 功 率 密 1 1 I 度 係 大 於 500W » 最好大於800W -6- 〇 1 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） A8 B8 41S894_^_ 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 31. 如申請專利範圍第4項之方法，其中脈衝化之聚焦雷 射光柱觭射於區域上之衝擊點之功率密度傺大於580W ，最好大於800W。 32. 如申請專利範圍第5項之方法，其中脈衝化之聚焦雷 射光柱觸射於區域上之衝擊點率密度係大於500W ，最好大於800W。 ： > i 33. 如申請專利範圍第1至3項古法，其中為區域係 接受脈衝化聚焦雷射光柱吏動，及該脈衝化之聚焦 雷射光柱之脈衝頻率像被調整俾在區域上形成直徑小 於100/im,最好為50W»,之衝擊點或微孔之中列。 34. 如申請専利範圍第4項之方法，其中區域俗接受脈衝 化聚焦雷射光柱之作動，及該脈衝化之聚焦雷射光柱 之脈衝頻率係被調整俾在區域上形成直徑小於100 w π ,最好為50 wjb,之衝擊點或撤孔之中列。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 35. 如申請專利範圍第5項之方法，其中區域偽接受脈衝 化聚焦雷射光柱之作動，及該脈衝化之聚焦雷射光柱 之脈衝頻率係被調整俾在區域上形成直徑小於100 w m ,最好為50wa,之衝擊點或徹孔之中列。 36. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法，其中於 第1階段上，須被修整之玻璃器皿傜接受至少一束之 準直化連鑲雷射光柱之作動。 37. 如申請專利範圍第4項之方法，其中於第1階段上， -7 - 本紙張尺度逍用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A8 DO116834六、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雷，雷 & 含 緣之 轉 射俗 用及 2 此區 2 鑛上纊 申包,«之置 旋 係射 只 1 第藉 2 第 連段連7¾]施置皿裝 線 射雷 兩第及 ，第在 化階化ΑΓ設裝器除 軸 雷艇 少少 1 施至再 直 1 直 Μ 述之璃去 繞 個 2。 至至第措送後 準 第準 於前射玻疵 璃 1 第射含成述之移然 之 於之, 雷之瑕 玻 第少雷包割前域統， 束 中束 施法之疵入 使 少至化中分將區糸理 一 其一 設方業瑕進 間 至另衝其束於理動處 少 ，少 之之作無皿 期 ，，脈，光用處驅束 至 法至 疵項之成器 行 射射之施射及 2 進光 _ 受 方受 瑕一疵形璃 進 雷雷柱設雷 .第步 1-8-接 之接 之任瑕俾玻及業 傾之光之鑛器及被第· 偽 項係 皿中除整給；作 兩柱射項連離 1 在被 皿 5 皿 器項去修進置整 少光雷39之偏第皿域 器 第器 璃38行行缠裝修-至射化第出之到器區 璃 。圍璃 C 玻至執進持之在統含雷衝圍射束導之 1 玻動範玻動除 1 於皿於統少糸包之脈範射光別整第 之作利之作去第用器用糸至動為鑲之利雷同分修在 整之專整之壤圍有璃有動於驅徽連焦專 1 不束被先 修柱請修 柱迪範 含玻含 驅用轉持束聚 請第之 光須前 被光申被光種利-對-進 一旋其 一 出申將 2 同使之 須射如須射一專 係 步 之 出射如於第不，域 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ----------^------訂.------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 416894 六、申請專利範圍 區域被第2光束處理^ 請 先 閲 讀 背 ii 之 注 意 事 項 再 I 本 頁 41 .如申請專利範圍第39項之設施，其中包含至少一只用 於將第1雷射射出之連缠雷射光束分割成至少第1及 第2之不同光束之偏離器，及用於捋前述第1及第2 不同光束分別導至第1及第2處理區域之裝置，藉此 ，使須被修整之器皿在被步進驅動糸統移送至第2區 域之前先在第1區域被第1光束處理，然後在第2區 域上先被第2光束處理，之後被聚焦之脈衝雷射光束 處理。 42. 如申請專利範圍第3 9至41項中任一項之設施，其中包 含用於調整脈衝化雷射之功率，脈衝化雷射光柱之脈 衝頻率，及須被修整之玻璃器皿之轉速之裝置c 43. 如申請專利範圍第39至41項中任一項之設施，其中包 含用於冷卻須被修整之玻璃器皿之冷卻單元。 44. 如申請專利範圍第42項之設施，其中包含用於冷卻須 被修整之玻璃器皿之冷卻單元。 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 45. 如申請專利範圍第39至41項中任一項之設施，其中包 含用於研磨已被修整之玻璃器皿之錁之研磨單元。 46. 如申請專利範圍第4 2項之設施，其中包含用於研磨已 被修整之玻璃器皿之緣之研磨單元。 47. 如申請專利範圍第43項之設施，其中包含用於研磨已 被修整之玻璃器皿之緣之研磨單元。 本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α8416894 ?8 D8六、申請專利範圍 48. 如申請專利範圍第44項之設施，其中包含用於研磨已 被修整之玻璃器皿之绨之研磨單元。 49. 如申請專利範圍第4 5項之設施，其中另外包含用於燃 燒已被修整之玻璃器皿之緣之燃燒單元。 50. 如申請專利範圍第46項之設施，其中另外包含用於燃 燒已被修整之玻璃器皿之緣之燃燒單元。 51. 如申請專利範圍第47項之設施，其中另外包含用於燃 燒己被修整之玻璃器皿之緣之燃燒單元。 52. 如申請專利範圍第4δ項之設施，其中另外包含用於燃 燒已被修整之玻璃器皿之緣之燃燒單元。 53. —種具有已被修整之緣之玻璃器皿，前述之緣偽接近 於由相互間隔之雷射光柱之衝擊點所形成之線，或至 少局部地對應於由相互間隔之雷射光柱之衝擊點所形 成之線，前述衝擊點之直徑係小於500 w a,最好小於 250/Ltm，且連鑲之兩點間之距離係小於2bbi,最好小 於 1 m m 〇 I. ： M. 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -1 0 _ 本紙張尺度適用中國國家榡率（CNS ) A4規格（210><297公釐）