TW202142962A - 感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法 - Google Patents

感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種可兼顧解像性之提高與捲取時之皺褶防止之感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法。 本發明之感光性元件之特徵在於：其係依序具有支持膜(A)、感光性樹脂組合物層(B)及保護膜(C)者，且由JIS B0601-2001規定的支持膜(A)之與感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度RzA1 (nm)、支持膜(A)之與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度RzA2 (nm)、保護膜(C)之與感光性樹脂組合物層相接之側之面的表面粗糙度RzC1 (nm)、保護膜(C)之與相接於感光性樹脂組合物層之側為相反側之面的表面粗糙度RzC2 (nm)滿足以下(1)～(3)： (1)1＜RzA1 ＜100 (2)300＜RzC1 ＜600 (3)40＜RzC2 /RzA2 。

Description

感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法
本發明係關於一種感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法。
於個人電腦或行動電話等電子機器中，印刷配線板等被用於安裝零件或半導體等。作為印刷配線板等之製造用之抗蝕劑，先前使用有於支持膜上積層感光性樹脂組合物層，進而於該感光性樹脂組合物層上視需要積層保護膜而成之感光性元件(感光性樹脂積層體)，即所謂之乾膜抗蝕劑(例如，參照專利文獻1、專利文獻2)。
於此種感光性元件中，為了提高解像性，較佳為使用會遮斷曝光之光之內部異物較少之高品質膜作為支持膜。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2004-191648號公報 [專利文獻2]日本專利特開2019-188612號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，由於高品質膜之表面粗糙度較小，故而當積層感光性樹脂組合物層及保護膜並捲取成卷狀時，與保護膜接觸之界面上摩擦力變得過高，導致皺褶產生。
本發明係鑒於此種先前之實際情況而提出者，其目的在於提供一種可兼顧解像性之提高與捲取時之皺褶防止之感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法。 [解決問題之技術手段]
本發明人等發現，藉由以下技術手段，可解決上述問題。 [1] 一種感光性元件，其特徵在於：其係依序具有支持膜(A)、感光性樹脂組合物層(B)及保護膜(C)者，且 由JIS B0601-2001規定的上述支持膜(A)之與上述感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度RzA1 (nm)、上述支持膜(A)之與相接於上述感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度RzA2 (nm)、上述保護膜(C)之與上述感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度RzC1 (nm)、及上述保護膜(C)之與相接於上述感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度RzC2 (nm)滿足以下(1)～(3)： (1)1＜RzA1 ＜100 (2)300＜RzC1 ＜600 (3)40＜RzC2 /RzA2 。 [2] 如[1]所記載之感光性元件，其中1＜RzA2 ＜200。 [3] 如[1]或[2]所記載之感光性元件，其中1.1＜RzA2 /RzA1 ＜7。 [4] 如[1]至[3]中任一項所記載之感光性元件，其中1.1＜RzC2 /RzC1 ＜10。 [5] 如[1]至[4]中任一項所記載之感光性元件，其中50＜RzC2 /RzA2 ＜100。 [6] 如[1]至[5]中任一項所記載之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為30個/30 mm2 以下。 [7] 如[1]至[6]中任一項所記載之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為15個/30 mm2 以下。 [8] 如[1]至[7]中任一項所記載之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為10個/30 mm2 以下。 [9] 如[1]至[8]中任一項所記載之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之鈦元素含量為1 ppm以上20 ppm以下。 [10] 如[1]至[9]中任一項所記載之感光性元件，其中對上述支持膜(A)之至少單面實施有平滑化處理。 [11] 如[1]至[10]中任一項所記載之感光性元件，其中上述支持膜(A)之膜厚為5 μm以上16 μm以下。 [12] 如[1]至[11]中任一項所記載之感光性元件，其中上述保護膜(C)之表面包含聚丙烯樹脂。 [13] 一種感光性元件之捲繞體，其係將如[1]至[12]中任一項所記載之感光性元件捲繞而成。 [14] 一種抗蝕圖案之形成方法，其包括： 積層步驟，其於基板上積層如[1]至[12]中任一項所記載之感光性元件； 曝光步驟，其對該感光性元件之感光性樹脂組合物層進行曝光；及 顯影步驟，其將該感光性樹脂組合物層之未曝光部顯影去除。 [15] 如[14]所記載之抗蝕圖案之形成方法，其藉由投影曝光方法實施上述曝光步驟。 [發明之效果]
根據本發明，能夠提供一種可兼顧解像性之提高與捲取時之皺褶防止之感光性元件、及抗蝕圖案之形成方法。
以下，對用以實施本發明之實施方式進行詳細說明。 [感光性元件] 圖1係模式性地表示本發明之感光性元件之一構成例的剖視圖。 本發明之感光性元件之特徵在於：其係依序具有支持膜(A)、感光性樹脂組合物層(B)及保護膜(C)者，且 由JIS B0601規定的支持膜(A)之與感光性樹脂組合物層相接之側之面的表面粗糙度RzA1 (nm)、支持膜(A)之與相接於感光性樹脂組合物層之側為相反側之面的表面粗糙度RzA2 (nm)、保護膜(C)之與感光性樹脂組合物層相接之側之面的表面粗糙度RzC1 (nm)、及保護膜(C)之與相接於感光性樹脂組合物層之側為相反側之面的表面粗糙度RzC2 (nm)滿足以下(1)～(3)： (1)1＜RzA1 ＜100 (2)300＜RzC1 ＜600 (3)40＜RzC2 /RzA2 。
為了提高感光性元件之解像性，較佳為使用會遮斷曝光之光之內部異物較少之高品質膜作為支持膜(A)。 高品質膜之特徵在於：表面粗糙度較小，尤其是，與感光性樹脂組合物層(B)接觸之側之面之表面粗糙度較小。然而，若使用該等膜製造感光性元件卷(乾膜卷)，則與保護膜(C)之摩擦力過高，導致捲取成卷時產生皺褶。因此，為了防止捲取成卷時產生皺褶，可例舉如下方法：增大保護膜(C)之與支持膜(A)接觸之側之面的表面粗糙度。
為了兼顧上述2個課題(解像性之提高、捲取時之皺褶防止)，較為重要的是，支持膜(A)之表面粗糙度較小，與感光性樹脂組合物層(B)接觸之側之面更加平滑，並且，保護膜(C)之與感光性樹脂組合物層(B)接觸之側之面較為平滑，另一表面粗糙化。即，本發明人等想到如下之層構成較為理想，即，支持膜(A)與保護膜(C)均於某種程度上較為平滑，且兩者均有一面為粗糙化面。
因此，本發明人等藉由使支持膜(A)與保護膜(C)之表面於某種程度上較為平滑，且使支持膜(A)與保護膜(C)之表面粗糙度存在差異，實現了可兼顧解像性之提高與捲取成卷狀時之皺褶產生之防止的感光性元件。
於本發明中，使用式(1)～式(3)對上述構成進行規定。藉由滿足式(1)～式(3)全部，本發明之感光性元件具有良好之解像性，且可良好地防止捲取成卷狀時之皺褶。
再者，於本說明書中，表面粗糙度係基於由JIS B0601-2001規定之方法所測得之最大高度Rz。又，表面粗糙度之值可使用雷射式、觸針式、光切斷式、光干涉式等通常之表面粗糙度測定器進行測定。
＜支持膜(A)＞ 本實施方式之支持膜(A)係用於支持感光性樹脂組合物層(B)之層或膜，較佳為使活性光線透過之透明基材膜。
作為透明基材膜，可例舉：包含聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂之膜。通常較佳為使用具有適度之可撓性及強度之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。 其中，較佳為使用內部異物較少之高品質膜。具體而言，作為高品質膜，更佳為使用：使用Ti系觸媒所合成之PET膜；潤滑劑之直徑較小且含量較少之PET膜；僅於膜之單面含有潤滑劑之PET膜；薄膜PET膜；至少單面實施有平滑化處理之PET膜；至少單面實施有電漿處理等粗糙化處理之PET膜等。 藉此，可於曝光之光不被內部異物遮斷之情況下對感光性樹脂組合物層(B)照射曝光之光，可提高感光性元件之解像性。
支持膜(A)中所含之作為內部異物之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子的個數較佳為30個/30 mm2 以下，更佳為15個/30 mm2 以下，進而較佳為10個/30 mm2 以下。
支持膜(A)中所含之鈦元素(Ti)含量較佳為1 ppm以上20 ppm以下，更佳為2 ppm以上12 ppm以下。若鈦元素之含量為20 ppm以下，則可減少源自含鈦元素之凝集體之內部異物之個數，可防止解像性之降低。
支持膜(A)之膜厚較佳為5 μm以上16 μm以下，更佳為6 μm以上12 μm以下。支持膜之膜厚越薄，則內部異物之個數越少，越可防止解像性之降低，但若膜厚未達5 μm，則會於塗佈、捲取之製造步驟中因張力所導致之向捲取方向之伸長變形或微小損傷而產生破損，或者，會因膜之強度不足而於層壓時產生皺褶。
較佳為於支持膜(A)之至少單面實施有使用軋光裝置等所進行之平滑化處理。藉此，可使支持膜(A)之單面，尤其是與感光性樹脂組合物層(B)接觸之側之面之表面粗糙度變小，從而使本發明之效果更加優異。
就提高向感光性樹脂組合物層(B)照射之光線之平行度，於感光性元件之曝光顯影後獲得更高之解像性之觀點而言，支持膜(A)之霧度較佳為0.01%～1.5%，更佳為0.01%～1.2%，進而較佳為0.01～0.95%。
並且，於本實施方式之感光性元件中，關於兩面之表面粗糙度，支持膜(A)滿足以下式(1)。 (1)1＜RzA1 ＜100， 此處，RzA1 表示支持膜(A)之與感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度(nm)，RzA2 表示支持膜(A)之與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度(nm)。 式(1)規定，支持膜(A)之兩面均較為平滑，但單面為粗糙化面。藉此，感光性元件之解像性變得優異。
RzA1 及RzA2 只要滿足上述式(1)即可，並無特別限定，但具體而言，RzA1 更佳為10 nm～70 nm。無論相對於RzA1 之大小，RzA2 只要為較小值即可。具體而言，RzA2 較佳為1 nm＜RzA2 ＜200 nm，更佳為40 nm～100 nm，進而較佳為50 nm～90 nm。又，RzA2 /RzA1 較佳為1.1＜RzA2 /RzA1 ＜7，更佳為1.2～5。
＜感光性樹脂組合物層(B)＞ 感光性樹脂組合物層(B)積層於支持膜(A)上。作為本實施方式之感光性樹脂組合物層(B)，使用公知之感光性樹脂組合物層即可。通常，感光性樹脂組合物層由包含如下成分之感光性樹脂組合物形成：(i)鹼溶性高分子、(ii)含乙烯性不飽和雙鍵之成分(例如乙烯性不飽和加成聚合性單體)、及(iii)光聚合起始劑。
就鹼溶性之觀點而言，作為(i)成分之鹼溶性高分子較佳為具有羧基。又，就硬化膜之強度及感光性樹脂組合物之塗佈性之觀點而言，鹼溶性高分子亦較佳為於其側鏈具有芳香族基。
就感光性樹脂組合物層之耐顯影性、以及抗蝕圖案之耐顯影性、解像性及密接性之觀點而言，鹼溶性高分子之酸當量較佳為100以上，就感光性樹脂組合物層之顯影性及剝離性之觀點而言，鹼溶性高分子之酸當量較佳為600以下。鹼溶性高分子之酸當量更佳為250～550，進而較佳為300～500。
就使乾膜抗蝕劑之厚度保持均勻，獲得對顯影液之耐性之觀點而言，鹼溶性高分子之重量平均分子量較佳為處於5,000～500,000之範圍內，更佳為處於10,000～200,000，進而較佳為處於18,000～100,000。 於本說明書中，所謂重量平均分子量係指藉由凝膠滲透層析法(GPC)使用標準聚苯乙烯之校準曲線所測得之重量平均分子量。鹼溶性高分子之分散度較佳為1.0～6.0。
作為鹼溶性高分子，例如可例舉：含羧酸之乙烯系共聚物、含羧酸之纖維素等。
含羧酸之乙烯系共聚物係使第1單體與第2單體進行乙烯共聚所獲得之化合物，上述第1單體係選自α,β-不飽和羧酸中之至少1種，上述第2單體係選自(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、(甲基)丙烯醯胺及其氮上之氫被烷基或烷氧基取代而成之化合物、苯乙烯及苯乙烯衍生物、(甲基)丙烯腈、及(甲基)丙烯酸縮水甘油酯中之至少1種。
作為含羧酸之乙烯系共聚物所使用之第1單體，可例舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、反丁烯二酸、桂皮酸、丁烯酸、伊康酸、順丁烯二酸半酯等。該等第1單體可分別單獨使用，亦可組合2種以上。
第1單體之結構單元於含羧酸之乙烯系共聚物中之含有比率以共聚物之質量為基準，為15質量%以上40質量%以下，較佳為20質量%以上35質量%以下。若其比率未達15質量%，則難以利用鹼性水溶液進行顯影。若其比率超過40質量%，則第1單體於聚合中不溶於溶劑，因此難以合成共聚物。
作為含羧酸之乙烯系共聚物所使用之第2單體之具體例，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-丁氧甲基丙烯醯胺、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、對氯苯乙烯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。該等第2單體可分別單獨使用，亦可組合2種以上使用。
第2單體之結構單元於含羧酸之乙烯系共聚物中之含有比率以共聚物之質量為基準，為60質量%以上85質量%以下，較佳為65質量%以上80質量%以下。
就向側鏈導入芳香族基之觀點而言，更佳為使含羧酸之乙烯系共聚物含有苯乙烯或α-甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、對氯苯乙烯等苯乙烯衍生物之結構單元作為第2單體。於該情形時，苯乙烯或苯乙烯衍生物之結構單元於含羧酸之乙烯系共聚物中之含有比率以共聚物之質量為基準，較佳為5質量%以上35質量%以下，更佳為15質量%以上30質量%以下。
含羧酸之乙烯系共聚物之重量平均分子量處於10,000～200,000之範圍內，較佳為處於18,000～100,000之範圍內。若該重量平均分子量未達10,000，則硬化膜之強度變小。若該重量平均分子量超過200,000，則感光性樹脂組合物之黏度變得過高，導致其塗佈性降低。
含羧酸之乙烯系共聚物較佳為藉由如下方式合成，即，向利用丙酮、甲基乙基酮、異丙醇等溶劑對各種單體之混合物進行稀釋所得之溶液中，添加適量之過氧化苯甲醯、偶氮異丁腈等自由基聚合起始劑，並進行過熱攪拌。亦存在如下情形，即，一面將混合物之一部分滴加至反應液中，一面合成。亦存在如下情形，即，反應結束後，進而添加溶劑，調整至所需之濃度。作為該合成方法，除了使用溶液聚合以外，亦可使用塊狀聚合、懸浮聚合及乳化聚合。
作為含羧酸之纖維素，例如可例舉：鄰苯二甲酸醋酸纖維素、羥乙基-羧甲基纖維素等。鹼溶性高分子(A)之含量以感光性樹脂組合物之總質量為基準，較佳為30質量%以上80質量%以下之範圍內，更佳為40質量%以上65質量%以下之範圍內。若該含量未達30質量%，則於鹼性顯影液中之分散性降低，顯影時間明顯變長。若該含量超過80質量%，則感光性樹脂組合物層之光硬化變得不充分，作為抗蝕劑之耐性降低。鹼溶性高分子可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
關於作為(ii)成分之乙烯性不飽和加成聚合性單體，可使用公知種類之化合物。作為乙烯性不飽和加成聚合性單體，例如可例舉：丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、苯氧基四乙二醇丙烯酸酯、鄰苯二甲酸β-羥丙基-β'-(丙烯醯氧基)丙酯、1,4-四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己二醇二(甲基)丙烯酸酯、七丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、2-二(對羥苯基)丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯之分子中包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種之化合物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯之分子中包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種之化合物；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯之分子中包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種之化合物；fr三羥甲基丙烷三縮水甘油醚三(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、4-正辛基苯氧基五丙二醇丙烯酸酯、九丙二醇雙(三乙二醇甲基丙烯酸酯)、聚丙二醇雙(四乙二醇甲基丙烯酸酯)、聚丙二醇雙(三乙二醇甲基丙烯酸酯)、聚丙二醇雙(二乙二醇丙烯酸酯)、4-正壬基苯氧基七乙二醇二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基四丙二醇四乙二醇(甲基)丙烯酸酯、雙酚A系(甲基)丙烯酸酯單體之分子中包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種之化合物等。乙烯性不飽和加成聚合性單體即便為除了以宜包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種為主旨所例示之上述化合物以外之化合物，亦宜包含環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、四氫呋喃鏈之至少一種環氧烷鏈。
又，作為乙烯性不飽和加成聚合性單體，亦可使用：六亞甲基二異氰酸酯、甲苯基二異氰酸酯等多元異氰酸酯化合物與(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、低聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、低聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等羥基丙烯酸酯化合物之胺基甲酸酯化化合物等。該等乙烯性不飽和加成聚合性單體可分別單獨使用，亦可組合2種以上使用。
乙烯性不飽和加成聚合性單體之含量以感光性樹脂組合物之總質量為基準，較佳為20質量%以上70質量%以下，更佳為30質量%以上60質量%以下。若該含量未達20質量%，則感光性樹脂之硬化不充分，作為抗蝕劑之強度不足。另一方面，若該含量超過70質量%，則於將感光性元件以卷狀之形式進行保存之情形時，容易發生感光性樹脂組合物層或感光性樹脂組合物緩慢地自捲端面溢出之現象，即熔邊(edge fusion)。
關於作為(iii)成分之光聚合起始劑，例如可例舉：苯偶醯二甲基縮酮、苯偶醯二乙基縮酮、苯偶醯二丙基縮酮、苯偶醯二苯基縮酮、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香苯醚、9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2,4-二甲基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2,4-二乙基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2-異丙基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、4-異丙基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2,4-二異丙基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2-氟-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、4-氟-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、2-氯-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、4-氯-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、1-氯-4-丙氧基-9-氧硫𠮿
Figure 110112219-A0304-12-01
、二苯甲酮、4,4'-雙(二甲胺基)二苯甲酮[米其勒酮]、4,4'-雙(二乙胺基)二苯甲酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等芳香族酮類；2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑基二聚物等聯咪唑化合物；9-苯基吖啶等吖啶類；α,α-二甲氧基-α-嗎啉基-甲硫基苯基苯乙酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等芳香族系起始劑；苯基甘胺酸、N-苯基甘胺酸等N-芳基胺基酸類；1-苯基-1,2-丙二酮-2-鄰苯甲醯肟、2,3-二側氧-3-苯基丙酸乙酯-2-(鄰苯甲醯羰基)-肟等肟酯類；對二甲胺基苯甲酸、對二乙胺基苯甲酸及對二異丙基胺基苯甲酸以及該等與醇之酯化物、對羥基苯甲酸酯等。其中，較佳為2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑基二聚物與米其勒酮或4,4'-(二乙胺基)二苯甲酮之組合。
光聚合起始劑之含量以感光性樹脂組合物之總質量為基準，較佳為0.01質量%以上20質量%以下，更佳為1質量%以上10質量%以下。若該含量少於0.01質量%，則感度不充分。若該含量超過20質量%，則紫外線吸收率變高，感光性樹脂組合物層底部之部分之硬化變得不充分。
為了提高本實施方式之感光性樹脂組合物層(B)之熱穩定性及/或保存穩定性，較佳為使感光性樹脂組合物或感光性樹脂組合物層含有自由基聚合抑制劑。作為自由基聚合抑制劑，例如可例舉：4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧基苯甲酸酯自由基、2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧自由基、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧自由基等TEMPO(2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl，2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧自由基)衍生物類；啡噻𠯤、N,N-二乙基羥胺、萘胺、N-(1-甲基庚基)-N'-苯基-對苯二胺、4,4'-二異丙苯基-二苯胺等胺類；4-第三丁基兒茶酚(pyrocatechol)等兒茶酚(catechol)類；對苯醌、氫醌、2-羥基-1,4-萘醌、第三丁基氫醌、甲基氫醌、2,5-二-第三丁基氫醌等醌類；二-第三丁基-7-苯基醌甲基化物等醌甲基化物類；銅鐵靈、二丁基二硫代胺基甲酸銅(II)、N-亞硝基-N-苯基羥胺鋁等螯合化合物類；2-第三丁基-4,6-二甲基苯酚、[伸乙基雙(氧乙烯)]雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯]、2,2'-亞甲基雙[6-(1-甲基環己基)-對甲酚、2,6-二-第三丁基-對甲酚、2,6-二-第三丁基苯酚、辛基-3,5-二-第三丁基-4-羥基-氫桂皮酸、2,2-雙[[[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯基]氧基]甲基]丙烷-1,3-二醇-1,3-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、對甲氧基苯酚、4,4'-亞丁基雙(6-第三丁基-3-甲基苯酚)等酚衍生物類；鄰苯三酚、氯化亞銅等。
於本實施方式中，感光性樹脂組合物層(B)亦可含有染料、顏料等著色物質。作為著色物質，例如可例舉：品紅、酞菁綠、金黃胺鹼、Calkoxide Green S、Paramagenta、結晶紫、甲基橙、尼羅藍2B、維多利亞藍、孔雀綠、鹼性藍20、鑽石綠等。
於本實施方式中，亦可使感光性樹脂組合物層(B)含有藉由光照射而顯色之顯色系染料。作為顯色系染料，例如已知有隱色染料與鹵素化合物之組合。作為隱色染料，例如可例舉：三(4-二甲胺基-2-甲基苯基)甲烷[隱色結晶紫]、三(4-二甲胺基-2-甲基苯基)甲烷[隱色孔雀綠]等。作為鹵素化合物，例如可例舉：溴戊烷、溴異戊烷、1,2-二溴-2-甲基丙烷、1,2-二溴乙烷、二苯溴甲烷、二溴甲苯、二溴甲烷、三溴甲基苯基碸、四溴化碳、磷酸三(2,3-二溴丙基)酯、三氯乙醯胺、碘戊烷、碘異丁烷、1,1,1-三氯-2,2-雙(對氯苯基)乙烷、六氯乙烷等。
於本實施方式中，視需要亦可使感光性樹脂組合物層(B)含有塑化劑等添加劑。作為添加劑，例如可例舉：鄰苯二甲酸二乙酯等鄰苯二甲酸酯類、鄰甲苯磺醯胺、對甲苯磺醯胺、檸檬酸三丁酯、檸檬酸三乙酯、乙醯檸檬酸三乙酯、乙醯檸檬酸三正丙酯、乙醯檸檬酸三正丁酯、聚丙二醇、聚乙二醇、聚乙二醇烷基醚、聚丙二醇烷基醚等。
感光性樹脂組合物層(B)之厚度較佳為3～100 μm，更佳之上限為50 μm。感光性樹脂層之厚度越接近3 μm，解像性越高，感光性樹脂層之厚度越接近100 μm，膜強度越高，因此可根據用途適當地進行選擇。
＜保護膜(C)＞ 保護膜(C)積層於支持膜(A)與感光性樹脂組合物層(B)之積層體之感光性樹脂組合物層(B)側，作為保護層(cover)發揮作用。
由於感光性樹脂組合物層(B)與保護膜(C)之密接力充分小於感光性樹脂組合物層(B)與支持膜(A)之密接力，故而保護膜(C)可輕易地自感光性樹脂組合物層(B)剝離。例如，可較佳地使用聚乙烯膜、及聚丙烯膜、延伸聚丙烯膜等作為保護膜(C)。更佳為保護膜(C)之至少表面包含聚丙烯樹脂。 保護膜(C)之膜厚較佳為10～100 μm，更佳為10～50 μm。作為保護膜(C)，例如可例舉：Oji F-Tex股份有限公司製造之EM-501、E-200、E-201F、FG-201、MA-411、東麗股份有限公司製造之KW37、2578、2548、2500、YM17S、Tamapoly股份有限公司製造之GF-18、GF-818、GF-858等。
並且，於本實施方式之感光性元件中，關於兩面之表面粗糙度，保護膜(C)滿足以下式(2)。 (2)300＜RzC1 ＜600 此處，RzC1 表示保護膜(C)之與感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度(nm)。 式(2)規定，保護膜(C)之與感光性樹脂組合物層(B)相接之側之表面粗糙度較小。藉此，感光性元件之解像性變得優異。 進而，較佳為1.1＜RzC2 /RzC1 ＜10。 此處，RzC2 表示保護膜(C)之與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度(nm)。
RzC1 及RzC2 只要滿足上述式(2)即可，並無特別限定，但具體而言，RzC1 較佳為350 nm～550 nm。RzC2 較佳為400 nm～5500 nm，更佳為450 nm～4500 nm。又，RzC2 /RzC1 更佳為1.5～9.0。
進而，於本實施方式之感光性元件中，關於兩面之表面粗糙度，支持膜(A)與保護膜(C)滿足以下式(3)。 (3)40＜RzC2 /RzA2 此處，RzA2 表示支持膜(A)之與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度(nm)，RzC2 表示保護膜(C)之與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度(nm)。 式(3)規定，於與相接於感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面中，支持膜(A)之表面粗糙度與保護膜(C)之表面粗糙度存在一定以上之差異。藉此，可良好地防止將感光性元件捲取成卷狀時產生皺褶。
RzC2 /RzA2 之上限值較佳為未達100，更佳為50＜RzC2 /RzA2 ＜100。RzC2 /RzA2 進而較佳為40～80。
藉由滿足上述式(1)～式(3)全部，本發明之感光性元件具有良好之解像性，且可良好地防止捲取成卷狀時產生皺褶。
[感光性元件卷] 將上述所說明之感光性元件捲繞而成之感光性元件卷亦為本發明之一態樣。
感光性元件以長條狀捲取於卷芯，形成卷狀供使用。捲取長度無特別限定，但就捲之重量及操作容易性之觀點而言，較佳為320 m以下。若藉由1條感光性元件卷可層壓之基材較多，則效率良好，因此，就生產性之觀點而言，捲取長度較佳為100 m以上。
(卷芯) 有時卷芯亦被稱為芯。其形狀無特別限定，可為圓筒狀，亦可為圓柱狀。由於感光性元件係作為蝕刻阻劑或鍍覆阻劑、以及永久圖案被用於電子材料，故而較佳為實施有不發塵之處理者，較佳為塑膠樹脂製。作為塑膠樹脂之素材，較佳為較輕、強度優異、不發塵者。作為此種塑膠樹脂，例如可使用：聚丙烯(PP)樹脂、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)樹脂、尼龍樹脂、聚氯乙烯樹脂等，較佳為ABS樹脂。卷芯之直徑無特別限定，但為了於將感光性元件卷安裝於貼合機之情形時可安裝於裝置，較佳為2～5英吋之直徑，更佳為3英吋之直徑。卷芯之長度(於使用圓筒狀或圓柱狀卷芯之情形時，為其軸向長度)與感光性元件之寬度相比，可相同或較短。但，卷芯之長度較佳為大於感光性元件之寬度，以確保當捲取感光性元件時兩側有適度之突出部。由於環狀片材以插通之方式安裝於該突出部，故而較佳。又，亦可藉由在該突出部嵌合被稱為芯支架之軸承，而將感光性元件卷以不移動之方式懸掛保管。
感光性元件卷亦可以如下方式配置，即，卷端面保護構件與捲取之感光性元件之端面(上述帶狀感光性元件之寬度方向端部側)接觸。
尤其是，於本實施方式之感光性元件卷中，由於如上所述般對支持膜(A)與保護膜(C)之兩面之表面粗糙度進行了規定，故而可良好地防止捲取時之皺褶。又，藉由將支持膜(A)與保護膜(C)之間之摩擦力保持為適當範圍，當將卷垂直於地面進行保管時，不易產生捲取偏移。進而，由於使用時亦不易產生因過度摩擦所引起之卷表面之帶電，故而容易防止灰塵或汙物之附著。
使用本實施方式之感光性元件或其卷形成抗蝕圖案之方法較佳為依序包括以下步驟： 積層步驟，其於基板上積層感光性元件； 曝光步驟，其對感光性元件之感光性樹脂組合物層進行曝光；及 顯影步驟，其將感光性樹脂組合物層之未曝光部顯影去除。
於層壓步驟中，具體而言，自感光性元件將保護膜(C)剝離後，藉由貼合機將感光性樹脂組合物層加熱壓接於支持體(例如基板)表面，進行1次或複數次層壓。作為基板之材料，例如可例舉：銅、不鏽鋼(SUS)、玻璃、氧化銦錫(ITO)等。層壓時之加熱溫度一般而言為40℃～160℃。加熱壓接可藉由使用具備雙聯輥之二段式貼合機而進行，或者，使基板與感光性樹脂組合物層之積層物數次反覆地通過輥而進行。
於曝光步驟中，使用曝光機將感光性樹脂組合物層曝光於活性光。曝光視需要可於剝離支持體後進行。於通過光罩進行曝光之情形時，曝光量可根據光源照度及曝光時間而決定，可使用光量計進行測定。於曝光步驟中，可進行直接成像曝光。於直接成像曝光中，在不使用光罩之情況下，於基板上藉由直接描繪裝置進行曝光。作為光源，使用波長350 nm～410 nm之半導體雷射或超高壓水銀燈。於藉由電腦控制描繪圖案之情形時，曝光量可根據曝光光源之照度及基板之移動速度而決定。
曝光步驟中所使用之光照射方法較佳為選自投影曝光法、鄰近曝光法、接觸曝光法、直接成像曝光法、電子束直接描繪法中之至少1種方法，更佳為藉由投影曝光方法進行。
於顯影步驟中，使用顯影裝置藉由顯影液將曝光後之感光性樹脂組合物層中之未曝光部或曝光部去除。曝光後，於感光性樹脂組合物層上存在支持膜之情形時，將其去除。繼而，使用包含鹼性水溶液之顯影液將未曝光部或曝光部顯影去除，獲得抗蝕圖像。
作為鹼性水溶液，較佳為Na2 CO3 、K2 CO3 等之水溶液。鹼性水溶液可根據感光性樹脂組合物層之特性進行選擇，通常使用0.2質量%～2質量%之濃度之Na2 CO3 水溶液。亦可向鹼性水溶液中混合表面活性劑、消泡劑、用於促進顯影之少量有機溶劑等。顯影步驟中之顯影液之溫度較佳為於20℃～40℃之範圍內保持固定。
藉由上述步驟可獲得抗蝕圖案，視需要亦可進而於60℃～300℃下進行加熱步驟。藉由實施該加熱步驟，可提高抗蝕圖案之耐化學品性。於加熱步驟中，可使用利用熱風、紅外線、或遠紅外線之方式之加熱爐。
為了獲得導體圖案，亦可於顯影步驟或加熱步驟後，實施對形成有抗蝕圖案之基板進行蝕刻或鍍覆之導體圖案形成步驟。
導體圖案之製造方法例如可藉由如下方式進行，即，使用金屬板或金屬皮膜絕緣板作為基板，藉由上述抗蝕圖案形成方法形成抗蝕圖案後，實施導體圖案形成步驟。於導體圖案形成步驟中，使用已知之蝕刻法或鍍覆法於藉由顯影而露出之基板表面(例如銅面)形成導體圖案。
進而，於藉由上述導體圖案之製造方法製造導體圖案後，使用具有比顯影液更強之鹼性之水溶液，實施自基板剝離抗蝕圖案之剝離步驟，藉此可獲得具有所需之配線圖案之配線板(例如印刷配線板)。
關於剝離用之鹼性水溶液(以下，亦稱為「剝離液」)，並無特別限制，但通常使用2質量%～5質量%之濃度之NaOH或KOH之水溶液、或有機胺系剝離液。亦可於剝離液中加入少量水溶性溶劑。作為水溶性溶劑，例如可例舉醇等。剝離步驟中之剝離液之溫度較佳為處於40℃～70℃之範圍內。
於本實施方式中，感光性元件或其卷可用於：印刷配線板之製造；IC(Integrated Circuit，積體電路)晶片搭載用引線框架之製造；金屬遮罩製造等金屬箔精密加工；球柵陣列(BGA)、晶片尺寸封裝體(CSP)等封裝體之製造；覆晶薄膜(COF)、帶式自動接合(TAB)等帶式基板之製造；半導體凸塊之製造；及ITO電極、定址電極、電磁波屏蔽罩等平板顯示器之間隔壁之製造。 再者，關於上述各參數之值，只要未特別說明，則按照下述實施例中之測定方法進行測定。 [實施例]
接下來，例舉實施例及比較例而更加具體地說明本實施方式。然而，本實施方式只要不脫離其主旨，則並不限定於以下實施例。實施例中之物性藉由以下方法進行測定。
[表面粗糙度之測定] 對於支持膜及保護膜測定表面粗糙度。向玻璃板上滴一滴水，其後，將各膜之測定面朝上進行貼附，將所得者設為測定樣品。 表面粗糙度之測定係基於JIS B0601-2001所規定之方法，使用作為雷射式顯微鏡之Olympus股份有限公司製造之商品名「LEXT OLS4100」，將於任意10處以測定長度258 μm所測得之Rz之值之平均值設為最大高度Rz(nm)。再者，測定時之溫度設為23～25℃。 將支持膜之與感光性樹脂組合物層相接之側之面的表面粗糙度設為RzA1 ，將支持膜之與相接於感光性樹脂組合物層之側為相反側之面的表面粗糙度設為RzA2 ，將保護膜之與感光性樹脂組合物層相接之側之面的表面粗糙度設為RzC1 ，將保護膜之與相接於感光性樹脂組合物層之側為相反側之面的表面粗糙度設為RzC2 。
[直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數之測定] 將偏光鏡(OLS4000-QWP)插入至作為雷射式顯微鏡之Olympus股份有限公司製造之商品名「LEXT OLS4100」之物鏡之上部。繼而，使用Universal Giken股份有限公司製造之多孔質吸附板「65F-HG」及真空泵，將切斷成30 mm×30 mm之支持膜樣品水平地吸引固定於雷射顯微鏡之載台上。藉由物鏡50倍之雷射光量60(雷射波長為405 nm)觀察所吸引固定之支持膜。此時，將支持膜厚度方向之中心2 μm之區域定為測定區間，以確保不會發生由支持膜之正面及背面之反射光所引起之暈光。繼而，以測定區域260 μm×260 μm、測定部位數49點進行測量。測量係於任意不同之部位重複進行9次。 於二值化＝閾值以上、閾值1＝10%、小粒子去除＝15、填孔＝20之條件下對所測得之圖像進行處理，藉此製作柱狀圖。對柱狀圖之最大直徑(μm)為2以上5以下之粒子之個數進行累加，藉此算出直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數。
[鈦元素含量之測定] 支持膜中之鈦元素含量之測定係使用作為螢光X射線分析裝置之島津製作所股份有限公司製造之商品名「XRF-1800」，於定量分子TiO2 、X射線管靶材Rh(4.0 kW)、電壓40 kV、電流95 kA、分光晶體LiF、檢測器SC、2θ＝86.14 deg、測定時間40秒之條件下進行。
[評價用樣品之製作方法] 評價用樣品藉由如下方式製作。 ＜感光性元件之製作＞ (實施例1～7、比較例1～8) 將下文所揭示之表1所示之成分(其中，各成分之數字表示作為固形物成分之調配量(質量份))、及以固形物成分濃度成為55%之方式所計量之甲基乙基酮充分地攪拌、混合，獲得感光性樹脂組合物調合液。將表1中所示之成分之詳細內容示於表2。繼而，於寬度500 mm之支持膜之表面塗佈感光性樹脂組合物調合液之溶液，利用90℃之熱風歷時1分鐘使之乾燥，藉此形成感光性樹脂組合物層。此時，加熱後之感光性樹脂組合物層之厚度成為5 μm。進而，於感光性樹脂組合物層之未積層支持膜之側之表面上貼合保護膜，獲得感光性元件。進而，將感光性元件卷繞於外徑3.5英吋之圓筒狀塑膠管，使用與捲取軸寬度方向平行配置之加壓輥，對塑膠管以線狀施加壓力，以7 kg之張力捲取500 m，獲得感光性元件之卷。 將實施例及比較例中分別使用之支持膜之種類及物性示於表3，將實施例及比較例中分別使用之保護膜之種類及物性示於表4。
＜基板整面＞ 作為圖像性之評價基板，將積層有35 μm壓延銅箔之0.4 mm厚之銅箔積層板浸漬於Mec Etch Bond CZ-8101(MEC股份有限公司製造)，進行粗糙化處理直至蝕刻量達到1 μm。
＜層壓＞ 一面剝離感光性元件之保護膜，一面藉由加熱輥貼合機(旭化成股份有限公司製造，AL-700)，於輥溫度105℃下將感光性元件層壓於預熱至50℃之圖像性之評價基板，藉此獲得感光性元件積層體。氣壓設為0.35 MPa，層壓速度設為1.5 m/min。
＜曝光＞ 於層壓後經過2小時後之感光性元件積層體之支持膜表面側，藉由分割投影曝光裝置(牛尾電機股份有限公司製造，UX7-Square70)，使用具有曝光部與未曝光部之寬度為1：1之比率之線圖案的曝光遮罩，進行曝光。當以上述曝光部與未曝光部之寬度為1：1之比率之線圖案進行曝光、顯影時，曝光係以如下曝光量進行，即，曝光遮罩之曝光部＝未曝光部＝5 μm之部位的顯影後之感光性樹脂組合物圖案之曝光部與未曝光部之實測寬度成為5 μm之曝光量。
＜顯影＞ 將感光性元件積層體之支持膜剝離後，使用鹼性顯影機(富士機工股份有限公司製造，乾膜用顯影機)，歷時特定時間噴霧30℃之1質量%Na2 CO3 水溶液進行顯影。顯影噴霧之時間設為最短顯影時間之2倍之時間，顯影後之水洗噴霧之時間設為最短顯影時間之2倍之時間。此時，將未曝光部分之感光性樹脂組合物層完全溶解所需之最短時間設為最短顯影時間。
[評價] 對於所獲得之感光性元件，以如下方式針對捲取時之皺褶、及解像性進行評價。
＜捲取時之皺褶＞ 目測觀察所獲得之感光性元件之卷，按照以下基準進行評價。 優：卷上無皺褶 良：卷上有皺褶，但保管3天後消失 可：卷上有皺褶，但保管7天後消失 不可：卷上有皺褶，保管7天後亦未消失
＜解像性＞ 於上述曝光步驟中，使用具有曝光部與未曝光部之寬度為1：1之比率之線圖案的曝光遮罩進行曝光。按照上述顯影條件進行顯影，藉由光學顯微鏡對硬化光阻線未曝光或崩塌而正常形成之最小線寬進行評價，按照以下基準進行評價。若為「可」以上，則設為合格。 優：3 μm以下 良：超過3 μm且為4 μm以下 可：超過4 μm且為5 μm以下 不可：超過5 μm
將對於各實施例之感光性元件之評價結果示於表5，將對於各比較例之感光性元件之評價結果示於表6。
[表1]
化合物 組合物1 組合物2 組合物3 組合物4 組合物5
A-1 57    57      
A-2    57    57   
A-3             57
B-1 17 15 20 15 20
B-2 6 8 6 6 6
B-3 11 11 7 14 9
B-4 5 5 5 5 5
C-1 3 3 3 3 3
C-2    0.1         
C-3       0.1      
C-4 0.1       0.1 0.1
D-1 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
D-2 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3
合計 99.1 99.1 98.1 100.1 100.1
[表2]
記號 結構
A-1 甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸正丁酯＝25/10/60/5，Mw＝28,000之54%丙酮溶液
A-2 甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸苄酯＝25/60/15，Mw＝19,000之54%丙酮溶液
A-3 甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環己酯/丙烯酸苄酯＝22/50/28，Mw＝30,000之54%丙酮溶液
B-1 對季戊四醇加成平均15莫耳之環氧乙烷所得之四甲基丙烯酸酯
B-2 向雙酚A之兩端分別加成平均2莫耳之環氧乙烷所得之聚乙二醇之二甲基丙烯酸酯
B-3 向雙酚A之兩端分別加成平均1莫耳之環氧乙烷所得之聚乙二醇之二甲基丙烯酸酯
B-4 聚丙二醇(丙二醇之重複單元為12莫耳)之二甲基丙烯酸酯
C-1 2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯咪唑二聚物
C-2 9,10-二苯基蒽
C-3 9,10-雙(異丙氧基羰基甲氧基)蒽、(川崎化成工業股份有限公司製造，Anthracure UVS-107)
C-4 4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮
D-1 鑽石綠
D-2 隱色結晶紫
[表3]
記號 表面粗糙度/nm 直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數/個/30 mm2 鈦元素含量/ppm 平滑化處理 厚度/μm
與感光性樹脂組合物層相接之側 RzA1 另一側 RzA2
E-1 36 62 8 0 無 16
E-2 73 92 9 10 無 16
E-3 18 63 11 0 有 12
E-4 23 53 33 0 無 16
E-5 115 115 49 0 無 16
[表4]
記號 商品名 製造商 種類 表面粗糙度/nm
與感光性樹脂組合物層相接之側 RzC1 另一側 RzC2
F-1 Torayfan#25A-KW37 東麗股份有限公司 OPP 160 160
F-2 MA-411 Oji F-Tex股份有限公司 OPP 500 4000
F-3 E-200 Oji F-Tex股份有限公司 OPP 600 600
F-4 GF-818 Tamapoly股份有限公司 LDPE 490 490
[表5]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7
組合物 1 1 1 1 3 4 5
支持膜 記號 E-1 E-2 E-3 E-4 E-4 E-3 E-2
RzA1 36 73 18 23 23 18 73
RzA2 62 92 63 53 53 63 92
RzA2 /RzA1 1.7 1.3 3.5 2.3 2.3 3.5 1.3
保護膜 記號 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2
RzC1 500 500 500 500 500 500 500
RzC2 4000 4000 4000 4000 4000 4000 4000
RzC2 /RzC1 8 8 8 8 8 8 8
RzC2 /RzA2 64.5 43.5 63.5 75.5 75.5 63.5 43.5
評價1 捲取時之皺褶 優 良 優 優 優 優 良
評價2 解像性 優 優 優 優 良 優 優
[表6]
   比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 比較例8
組合物 1 1 1 2 1 2 4 5
支持膜 記號 E-1 E-2 E-3 E-5 E-5 E-1 E-2 E-3
RzA1 36 73 18 115 115 36 73 18
RzA2 62 92 63 115 115 62 92 63
RzA2 /RzA1 1.7 1.3 3.5 1.0 1.0 1.7 1.3 3.5
保護膜 記號 F-1 F-1 F-1 F-2 F-2 F-3 F-4 F-4
RzC1 160 160 160 500 500 600 700 700
RzC2 160 160 160 4000 4000 600 700 700
RzC2 /RzC1 1 1 1 8 8 1 1 1
RzC2 /RzA2 2.6 1.7 2.5 34.8 34.8 9.7 7.6 11.1
評價1 捲取時之皺褶 不可 不可 不可 良 良 不可 不可 不可
評價2 解像性 優 優 優 不可 不可 良 不可 不可
自表5可知，於上述式(1)～(3)全部得到滿足之實施例中，具有優異之解像性，且可良好地防止捲取成卷狀時產生皺褶。
相對於此，如表6所示，於不滿足式(1)之情形時，即，RzA1 大於100之情形時，解像性降低。 又，於不滿足式(2)之情形時，即，RzC1 為300以下或600以上之情形時，解像性不充分，或捲取時看到皺褶產生。 又，於不滿足式(3)之情形時，即，RzC2 /RzA2 為40以下之情形時，解像性不充分，又，捲取時亦看到皺褶產生。
以上，對於本發明之實施方式進行了說明，但本發明並不限定於此，可於不脫離發明主旨之範圍內適當地進行變更。 [產業上之可利用性]
藉由使用本發明之感光性元件，可兼顧解像性之提高與捲取時之皺褶防止，可廣泛地用作形成抗蝕圖案時之乾膜抗蝕劑。
RzA1 :表面粗糙度 RzA2 :表面粗糙度 RzC1 :表面粗糙度 RzC2 :表面粗糙度
圖1係模式性地表示本發明之感光性元件之一構成例的剖視圖。
RzA1:表面粗糙度
RzA2:表面粗糙度
RzC1:表面粗糙度
RzC2:表面粗糙度

Claims (15)

  1. 一種感光性元件，其特徵在於：其係依序具有支持膜(A)、感光性樹脂組合物層(B)及保護膜(C)者，且 由JIS B0601-2001規定的上述支持膜(A)之與上述感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度RzA1 (nm)、上述支持膜(A)之與相接於上述感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度RzA2 (nm)、上述保護膜(C)之與上述感光性樹脂組合物層(B)相接之側之面的表面粗糙度RzC1 (nm)、及上述保護膜(C)之與相接於上述感光性樹脂組合物層(B)之側為相反側之面的表面粗糙度RzC2 (nm)滿足以下(1)～(3)： (1)1＜RzA1 ＜100 (2)300＜RzC1 ＜600 (3)40＜RzC2 /RzA2 。
  2. 如請求項1之感光性元件，其中1＜RzA2 ＜200。
  3. 如請求項1或2之感光性元件，其中1.1＜RzA2 /RzA1 ＜7。
  4. 如請求項1至3中任一項之感光性元件，其中1.1＜RzC2 /RzC1 ＜10。
  5. 如請求項1至4中任一項之感光性元件，其中50＜RzC2 /RzA2 ＜100。
  6. 如請求項1至5中任一項之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為30個/30 mm2 以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為15個/30 mm2 以下。
  8. 如請求項1至7中任一項之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之直徑2 μm以上5 μm以下之粒子之個數為10個/30 mm2 以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之感光性元件，其中上述支持膜(A)中所含之鈦元素含量為1 ppm以上20 ppm以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之感光性元件，其中對上述支持膜(A)之至少單面實施有平滑化處理。
  11. 如請求項1至10中任一項之感光性元件，其中上述支持膜(A)之膜厚為5 μm以上12 μm以下。
  12. 如請求項1至11中任一項之感光性元件，其中上述保護膜(C)之表面包含聚丙烯樹脂。
  13. 一種感光性元件之捲繞體，其係將如請求項1至12中任一項之感光性元件捲繞而成。
  14. 一種抗蝕圖案之形成方法，其包括：積層步驟，其於基板上積層如請求項1至12中任一項之感光性元件； 曝光步驟，其對該感光性元件之感光性樹脂組合物層進行曝光；及 顯影步驟，其將該感光性樹脂組合物層之未曝光部顯影去除。
  15. 如請求項14之抗蝕圖案之形成方法，其藉由投影曝光方法實施上述曝光步驟。
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