TW202004768A - 記憶裝置及其測試讀寫方法 - Google Patents

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一種記憶裝置及其測試讀寫方法。預充電壓控制電路根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓。感測放大電路耦接於位元線與互補位元線之間,用以感測耦接於位元線的記憶單元的資料,並且耦接預充電壓控制電路,以使位元線與互補位元線分別接收第一預充電壓與第二預充電壓,其中,在預充操作中,第一預充電壓與第二預充電壓的電壓準位相同,在預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,預充電壓控制電路提供給位元線與互補位元線的第一預充電壓以及第二預充電壓的電壓準位不同。

Description

記憶裝置及其測試讀寫方法
本揭露是有關於一種半導體記憶體技術,且特別是關於一種可在並聯測試模式(parallel test mode)中一次讀寫被選定的字元線上的所有感測電路的記憶裝置及其測試讀寫方法。
一般的半導體記憶元件例如動態隨機存取記憶體(DRAM)中建構有感測放大器,其連接到記憶單元陣列的位元線上,並且能夠將從所選擇的記憶單元存取資料並將資料放大。
在現有的技術中,當要對記憶體裝置進行測試時,例如在並聯測試模式下,會一次選定多個用以正常讀寫的放大器,但卻無法一次選定多於資料線(Data line)數目的記憶單元來進行測試,因此如何能夠在一次週期(cycle)內選取字元線上的多個感測放大器來進行並聯測試模式,成為目前希望解決的課題之一。
本揭露是關於一種記憶裝置及其測試讀寫方法,這些記憶裝置及其方法能夠在一次週期(cycle)內選取字元線上的多個感測放大器來進行並聯測試模式。
本揭露提供一種記憶裝置,包括:預充電壓控制電路與感測放大電路。預充電壓控制電路根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓。感測放大電路耦接於位元線與互補位元線之間,用以感測耦接於位元線的記憶單元的資料,並且耦接預充電壓控制電路,以使位元線與互補位元線分別接收第一預充電壓與第二預充電壓,其中,在預充操作中,第一預充電壓與第二預充電壓的電壓準位相同,在預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,預充電壓控制電路提供給位元線與互補位元線的第一預充電壓以及第二預充電壓的電壓準位不同。
本揭露提供一種用於記憶裝置的測試讀寫方法,用以對記憶單元進行測試寫入操作與測試讀取操作,測試讀寫方法包括:根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓;使位元線與互補位元線分別接收第一預充電壓與第二預充電壓,其中,在預充操作中,第一預充電壓與第二預充電壓的電壓準位相同,在預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,預充電壓控制電路提供給位元線與互補位元線的第一預充電壓以及第二預充電壓的電壓準位不同。
為讓本揭露的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
請參考圖1,圖1繪示依據本揭露的一實施例記憶裝置的示意圖。記憶裝置100包括字元線WL、位元線BLT、互補位元線BLN、記憶單元MC、感測放大電路110以及控制與測試電路120。控制與測試電路120耦接感測放大電路110以提供多個控制訊號。
記憶單元MC例如包括用以儲存資料電位的記憶體電容器(memory capacitor)以及作為開關的金屬氧化物半導體電晶體(Metal Oxide Semiconductor Transistor,MOSFET)(未顯示在圖中),其中MOS電晶體的第一端耦接電容器,第二端耦接位元線BLT,其閘極端耦接字元線WL。在此,多個記憶單元MC在多條字元線WL以及多條位元線BLT、多條互補位元線BLN的方向上成陣列排列以形成記憶體陣列130。另外,在圖1所示的字元線信號WLn與WLm表示不同字元線WL上的信號。
感測放大電路110經由耦接一對位元線,即位元線BLT與互補位元線BLN,用以感測所述記憶單元MC的資料,因此可以對記憶單元MC進行測試寫入操作或測試讀取操作。
感測放大電路110從控制與測試電路120接收第一預充電壓HFVT、第二預充電壓HFVN、第一預充使能信號BLP1與第二預充使能信號BLP2。感測放大電路110根據第一預充使能信號BLP1與第二預充使能信號BLP2來決定是否讓位元線BLT與互補位元線BLN分別接收第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN,其中,在預充操作中,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的電壓準位相同,因此讓位元線BLT與互補位元線BLN具有相同的電壓準位,然而在預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,控制與測試電路120所提供的第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN的電壓準位會不同,並且第一預充使能信號BLP1在測試寫入感測期間與測試讀取感測期間切換電壓準位的時間點也不相同,因此不同於一般的記憶裝置,在感測過程中,位元線BLT與互補位元線BLN之間的電壓差主要受到記憶單元MC所釋放的資料影響,本實施例中的位元線BLT與互補位元線BLN之間的電壓差會跟第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN之間的電壓差有關。下面的實施例將提供更詳細的說明。
感測放大電路110包括第一開關T1、第二開關T2、第三開關T3以及感測電路SA,第一開關T1、第二開關T2與第三開關T3在此以n通道電晶體為例,但不限於此。第一開關T1的第一端(汲極)接收第一預充電壓HFVT,第二端(源極)端耦接位元線BLT,其閘極端接收第一預充使能信號BLP1來決定是否導通。第二開關T2的第一端(汲極)接收第二預充電壓HFVN,第二端(源極)端耦接互補位元線BLN,其閘極端同樣接收第一預充使能信號BLP1來決定是否導通。第三開關T3耦接於位元線BLT與互補位元線BLN之間,其閘極端則是接收第二預充使能信號BLP2。
感測電路SA耦接於位元線BLT與互補位元線BLN之間,用以根據從控制與測試電路120接收的p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN,來放大在位元線BLT與互補位元線BLN之間的電壓差。在此實施例中,感測電路SA是以包含兩個MOS電晶體Q1、Q2的CMOS反相器以及包含兩個MOS電晶體Q3、Q4的CMOS反相器連接成正反饋路的正反器的方式實施。
感測電路SA的電晶體Q1與Q3的第一端(在此為源極)耦接至第一中間節點N1,此第一中間節點N1接收p通道控制電壓SAP,電晶體Q2與Q4的第二端(在此為源極)耦接至第二中間節點N2,此第二中間節點N2接收n通道控制電壓SAN。感測電路SA的電晶體Q1與Q2的另一端(在此為汲極)以及電晶體Q3、Q4的閘極耦接位元線BLT,電晶體Q3與Q4的另一端(在此為汲極)以及電晶體Q1、Q2的閘極則耦接互補位元線BLN,因此位元線BLT與互補位元線BLN的電壓準位可以受到p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN的影響而被上拉(pull up)或下拉(pull down)以表示邏輯“1”或邏輯“0”。
圖2繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的陣列結構示意圖。圖2的實施例可適用於圖1的記憶裝置100。請參考圖2,記憶體陣列130是由在多條字元線WL與多條位元線BLT交接處的記憶單元MC所組成,X解碼器區塊(XDEC)140與Y解碼器區塊(YDEC)150耦接記憶體陣列130,用以選擇對哪個記憶單元MC進行資料存取。記憶體陣列130耦接感測放大器區塊160,感測放大器區塊160耦接控制與測試電路120,感測放大器區塊160包含多個上述的感測放大電路110,控制與測試電路120與感測放大器區塊160的感測放大電路110之間的配置關係可參考上述圖1的揭示內容。
圖3繪示依據本揭露的一實施例的控制與測試電路的方塊示意圖。請參考圖3,控制與測試電路120包括感測控制電路200與配置在感測控制電路200旁邊的測試讀取寫入電路300。感測控制電路200與測試讀取寫入電路300都會耦接感測放大電路110,分別提供第一預充使能信號BLP1、第二預充使能信號BLP2、p通道控制電壓SAP、n通道控制電壓SAN、第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN。在測試模式下,測試讀取寫入電路300會根據第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN的其中之一與測試參考電壓TMREF的比較結果來產生測試結果TFAIL,以判斷是否有記憶單元MC失效。下面的實施例將會詳細闡述判斷記憶單元MC是否失效的機制。
圖4繪示依據本揭露的一實施例感測控制電路的電路示意圖。請參考圖4,在本實施例中,感測控制電路200包括預充使能控制電路210以及感測放大電壓控制電路220。預充使能控制電路210例如是由反相器INV21~INV26以及反及閘NA21連接而成。
具體來說,反相器INV21的輸入端接收預充使能信號BLPE1,預充使能信號BLPE1用以決定何時開始對位元BLT與互補位元線BLN進行預充,輸出端耦接反及閘NA21的其中一個輸入端,反及閘NA21的另一輸入端接收列位址信號X12B13B,列位址信號X12B13B用以選擇作動(act)哪條字元線WL,其輸出端耦接反相器INV22的輸入端,反相器INV22與反相器INV23串聯,反相器INV23輸出第一預充使能信號BLP1。反相器INV24、反相器INV25與反相器INV26依序串聯,反相器INV24接收列位址信號X12B13B,反相器INV26輸出第二預充使能信號BLP2。
因此,預充使能控制電路210耦接感測放大電路110,根據預充使能信號BLPE1及列位址信號X12B13B產生第一預充使能信號BLP1與第二預充使能信號BLP2以提供給感測放大電路110。當對記憶單元MC進行測試寫入操作與測試讀取操作時,預充使能控制電路210可以控制第一預充使能信號BLP1切換電壓準位並且第二預充使能信號BLP2的邏輯準位與第一預充使能信號BLP1不同,以及當測試寫入操作與測試讀取操作完成後,預充使能控制電路210切換第二預充使能信號BLP2的電壓準位,以恢復與第一預充使能信號BLP1的邏輯準位相同。
另外,感測放大電壓控制電路220是由反相器INV27~INV29、反及閘NA22與NA23以及開關Q21~Q25連接而成,其中上述的開關Q21~Q25是以電晶體的方法實施,以將SAP輸出節點NP與SAN輸出節點NN的電壓準位分別在預充參考電壓HFV與電源電壓VDD、接地電壓VSS之間切換。SAP輸出節點NP與SAN輸出節點NN可以輸出p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN。
具體來說,反及閘NA22與反及閘NA23接收列位址信號X12B13B,其另一輸入端分別接收感測使能信號SE2與SE1,反及閘NA22與反相器INV27、反相器INV28依序串聯,開關Q21受控於反相器INV28的輸出信號,並且其第一端接收電源電壓VDD,第二端耦接SAP輸出節點NP,用以將p通道控制電壓SAP上拉至電源電壓VDD。
反及閘NA23與反相器INV29串聯,開關Q22受控於反相器INV29的輸出信號,並且其第一端耦接SAN輸出節點NN,其第二端耦接接地電壓VSS,用以將n通道控制電壓SAN下拉至接地電壓VSS。
開關Q23、開關Q24與開關Q25均受控於第二預充使能信號BLP2,其中開關Q24與開關Q25的第一端接收預充參考電壓HFV,預充參考電壓HFV低於電源電壓VDD,一般來說,預充參考電壓HFV的電壓值實質上為電源電壓VDD的一半。開關Q24的第二端耦接開關Q23的第一端,並且開關Q25的第二端耦接SAP輸出節點NP,開關Q23的第二端則耦接SAN輸出節點NN。開關Q23~Q25用以在第二預充使能信號BLP2的使能期間(舉例來說,開關Q23~Q25在此以n通道電晶體為例,因此第二預充使能信號BLP2的使能期間為高準位狀態)讓p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN的電壓準位恢復為預充參考電壓HFV。
圖5繪示依據本揭露的一實施例的測試讀取寫入電路的電路示意圖。請參考圖5,測試讀取寫入電路300包含預充電壓控制電路310與測試比較電路320,預充電壓控制電路310耦接測試比較電路320與感測放大電路110。舉例來說,預充電壓控制電路310包括反相器INV31~INV33、反及閘NA31~NA33、反或閘NO31與NO32、開關Q31~Q36與傳輸閘TG31~TG34。測試比較電路320包括比較器312、反相器INV34與INV35、反及閘NA34與NA35、反或閘NO33與開關Q37~Q39。在本實施例中,開關Q31~Q39以及傳輸閘TG31~TG34是以CMOS電晶體的方式實施,但不限於此。
在本實施例中,測試比較電路320還包括閂鎖電路(latch)314,但並非必要,在另一實施例中,測試比較電路320可以不包括閂鎖電路314。
具體來說,預充電壓控制電路310的反及閘NA31接收列位址信號X12B13B與測試使能信號TEST,反及閘NA31的輸出端耦接反相器INV31、傳輸閘TG31與傳輸閘TG32的n通道閘極,反相器INV31的輸出端則耦接傳輸閘TG31與傳輸閘TG32的p通道閘極,傳輸閘TG31與傳輸閘TG32的一端接收預充參考電壓HFV,其另一端分別耦接至HFVT輸出節點NHT與HFVN輸出節點NHN,其中HFVT輸出節點NHT與HFVN輸出節點NHN分別提供第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN給感測放大電路110。在此,傳輸閘TG31與傳輸閘TG32會同時導通或同時截止,而在導通時,HFVT輸出節點NHT與HFVN輸出節點NHN同時接收預充參考電壓HFV。
反相器INV32接收測試資料信號TDA,其輸出端耦接傳輸閘TG33的p通道閘極、傳輸閘TG34的n通道閘極、反相器INV33的輸入端與反或閘NO31的其中一輸入端。反相器INV33的輸出端耦接傳輸閘TG33的n通道閘極、傳輸閘TG34的p通道閘極與反或閘NO32的其中一輸入端。傳輸閘TG33與傳輸閘TG34的一端分別耦接至HFVT輸出節點NHT與HFVN輸出節點NHN,其另一端共同耦接至測試比較電路320的比較器312的反相輸入端,用以將第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一提供到比較器312。
反及閘NA32接收列位址信號X12B13B與測試資料線預充信號TPIO,其輸出端控制開關Q35與開關Q36是否導通,而且開關Q35與開關Q36的第一端接收電源電壓VDD,開關Q35的第二端耦接HFVN輸出節點NHN,開關Q36的第二端耦接HFVT輸出節點NHT。因此,在測試資料線預充信號TPIO的使能期間(在此,例如為高準位狀態)將第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的電壓值上拉到電源電壓VDD。
反及閘NA33接收列位址信號X12B13B與測試寫入使能信號TWE,其輸出端耦接反或閘NO31與反或閘NO32的另一輸入端。反或閘NO31的輸出端控制開關Q31與開關Q34是否導通,反或閘NO32的輸出端控制開關Q32與開關Q33是否導通,其中開關Q31的第一端接收電壓電源VDD,其第二端耦接開關Q32的第一端與HFVT輸出節點NHT,開關Q32的第二端則耦接接地電壓VSS,因此可以讓第一預充電壓HFVT的電壓準位變成接地電壓VSS或電壓電源VDD減去開關Q31的臨界電壓而得到的電壓;開關Q33的第一端接收電壓電源VDD,其第二端耦接開關Q34的第一端與HFVN輸出節點NHN,開關Q34的第二端則耦接接地電壓VSS,因此可以讓第二預充電壓HFVN的電壓準位變成接地電壓VSS或電壓電源VDD減去開關Q33的臨界電壓而得到的電壓。
因此,預充電壓控制電路310根據預充參考電壓HFV來產生第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN,並且還接收測試寫入使能信號TWE以及測試資料信號TDA使得第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN可為電源電壓VDD、電壓電源VDD減去電晶體的臨界電壓而得到的電壓、接地電壓VSS或預充參考電壓HFV。
具體來說,測試比較電路320的反及閘NA34接收列位址信號X12B13B與測試資料使能信號TDE,並輸出至反相器INV34,反相器INV34的輸出端耦接反相器INV35的輸入端與反及閘NA35的其中一輸入端,反相器INV35的輸出端則耦接反或閘NO33的其中一輸入端。比較器312的非反相輸入端接收測試參考電壓TMREF,反相輸入端從傳輸閘TG33或傳輸閘TG34接收第一預充電壓HFVT以及第二預充電壓HFVN的其中之一,比較器312的輸出端耦接反及閘NA35與反或閘NO33的另一輸入端。在此,測試參考電壓TMREF為預設的固定電壓值,其電壓值會大於二分之一電源電壓VDD或是高於預充參考電壓HFV,並且小於電源電壓VDD,舉例來說,測試參考電壓TMREF可以是四分之三電源電壓VDD。
開關Q37受控於反及閘NA35的輸出結果,其第一端耦接電源電壓VDD,其第二端耦接測試節點NT,其中測試節點NT輸出測試結果TFAIL。開關Q38受控於反或閘NO33的輸出結果,其第一端耦接測試節點NT,其第二端耦接接地電壓VSS。因此測試結果TFAIL的電壓準位可受比較器312的輸出結果而變成電源電壓VDD或接地電壓VSS。
此外,開關Q39的第一端也耦接至測試節點NT,其第二端耦接接地電壓VSS,並受控於測試資料線預充信號TPIO,以在測試資料線預充信號TPIO的使能期間將測試結果TFAIL的電壓準位下拉至接地電壓VSS。閂鎖電路314亦耦接至測試節點NT,用以閂鎖測試結果TFAIL的電壓準位。
簡單來說,測試比較電路320比較第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一以及測試參考電壓TMREF以產生測試結果TFAIL,來判斷是否有記憶單元MC失效,其中當第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一大於測試參考電壓TMREF時,測試結果TFAIL例如實質上等於電源電壓VDD與接地電壓VSS的其中之一,以表示對記憶單元MC的資料感測成功,且當第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN皆小於測試參考電壓TMREF時,測試結果TFAIL例如實質上等於電源電壓VDD與接地電壓VSS的其中另一,以表示對記憶單元MC的資料感測失敗。以下實施例將進一步詳細說明讀寫測試以及判斷是否有記憶單元MC失效的實施方式。
接下來,請參考圖6至圖8,圖6至圖8分別繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的邏輯“0”及邏輯“1”的測試寫入操作的波形圖。圖6至圖8的動作可適用上述圖1至圖5的實施例。在測試寫入操作中,以任一記憶單元MC為例,圖6顯示對應的字元線WL上的字元線信號WLn、測試寫入使能信號TWE、感測使能信號SE1與SE2、第一預充使能信號BLP1與第二預充使能信號BLP2的動作波形圖。圖7顯示當寫入資料為邏輯“0”時的測試寫入操作,第一預充電壓HFVT、第二預充電壓HFVN、p通道控制電壓SAP、n通道控制電壓SAN、位元線BLT與互補位元線BLN的電壓準位的動作波形圖。特別說明的是圖7與圖8所顯示不具標號說明的細直線線段乃是表示圖6中的波形動作,不再標號是為了避免畫面雜亂,本領域具有通常知識者可搭配圖6而知道這些細直線線段所表示的意義。
先搭配圖1至圖5,參考圖6與圖7,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN在進行測試之前,由於傳輸閘TG31與傳輸閘TG32被導通而被維持在預充參考電壓HFV的電壓值大小。而在測試寫入操作中,特別在測試寫入感測期間tW中,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一的電壓值低於電源電壓VDD但高於預充參考電壓HFV,且其中另一的電壓值低於預充參考電壓HFV,例如實質上等於接地電壓VSS。
首先,以想要對記憶單元MC寫入表示邏輯“0”的資料為例,測試資料信號TDA被設置為低準位狀態,並且此時字元線信號WLn與測試寫入使能信號TWE的電壓為高準位狀態,因此,開關Q31與Q34會被截止,而開關Q32與Q33會被導通,在此,開關Q31~Q34都是以n通道電晶體為例,但不限於此,使得預充電壓控制電路310所提供的第一預充電壓HFVT的電壓被下拉至接地電壓VSS,而第二預充電壓HFVN則被上拉至電源電壓VDD減去n通道電晶體的臨界電壓VTN而得到的電壓的大小。需說明的是,電源電壓VDD的電壓值會大於預充參考電壓HFV與臨界電壓VTN的電壓值和。
接著,預充使能控制電路210將第一預充使能信號BLP1從原本的低準位狀態切換至高準位狀態,但第二預充使能信號BLP2維持低準位狀態,以使第一開關 T1與第二開關T2導通,第三開關T3截止,則位元線BLT與互補位元線BLN可以分別接收第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN。
特別說明的是,在本實施例中,當對記憶單元MC進行測試寫入操作時,且在第一預充使能信號BLP1切換至使能狀態之前,即第一開關T1與第二開關T2導通前,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的電壓準位已不相同。
接著,感測放大電壓控制電路220將p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN從預充參考電壓HFV分別切換至電源電壓VDD與接地電壓VSS。p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN的電壓準位原本維持在低於電源電壓VDD,在此與預充參考電壓HFV相同,而在感測使能信號SE1與SE2的使能期間,關關Q21與關關Q22被導通,p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN分別被切換至電源電壓VDD與接地電壓VSS,以放大位元線BLT與互補位元線BLN之間的電壓差,因此,在測試寫入感測期間tW內,位元線BLT的電壓準位實質等於接地電壓VSS,而互補位元線BLN的電壓準位則為電源電壓VDD,以讓記憶單元MC儲存表示邏輯“0”的資料。
接著,搭配圖1至圖5參考圖6與圖8,圖8顯示當寫入資料為邏輯“1”時的測試寫入操作,第一預充電壓HFVT、第二預充電壓HFVN、p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN的動作波形圖。在測試寫入操作中,以想要對記憶單元MC寫入表示邏輯“1”的資料為例,測試資料信號TDA被設置為高準位狀態,在測試寫入感測期間tW中,預充電壓控制電路310所輸出的第一預充電壓HFVT,其電壓值被上拉至電源電壓VDD減去n通道電晶體的臨界電壓VTN而得到的電壓的大小,而第二預充電壓HFVN的電壓準位則被下拉至接地電壓VSS,詳細的實施方式,本領域具有通常知識者可從上述的實施例與通常知識獲致足夠的教示與建議,在此不再加以贅述。
圖9至圖11分別繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的測試讀取操作的波形圖。圖9至圖11的動作可適用上述圖1至圖8的實施例。請搭配圖1至圖5,參考圖9至圖11,在測試讀取操作中,以任一記憶單元MC為例,圖9顯示字元線信號WLn、感測使能信號SE1與SE2、測試資料線預充信號TPIO、測試資料使能信號TDE、第一預充使能信號BLP1與第二預充使能信號BLP2的動作波形圖。圖10與圖11分別顯示測試讀取操作的判斷讀取結果成功與失敗兩種情形下的第一預充電壓HFVT、第二預充電壓HFVN、p通道控制電壓SAP、n通道控制電壓SAN、位元線BLT與互補位元線BLN的電壓準位的動作波形圖。特別說明的是圖10與圖11所顯示不具標號說明的細直線線段乃是表示圖9中的波形動作,不再標號是為了避免畫面雜亂,本領域具有通常知識者可搭配圖9而知道這些細直線線段所表示的意義。
先參考圖9與圖10,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN在進行測試之前,由於傳輸閘TG31與傳輸閘TG32被導通而被維持在預充參考電壓HFV的電壓值大小。
當對記憶單元MC進行測試讀取操作時,以讀取記憶單元MC表示邏輯“0”的資料為例,在字元線信號WLn的高準位狀態,並且在測試讀取感測期間tR之前,先進行資料線預充操作,即在測試資料線預充信號TPIO的使能期間,使得開關Q35、開關Q36與開關Q39導通,因此第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN先被上拉到實質上等於電源電壓VDD,而測試節點NT實質上接收接地電壓VSS。在此開關Q35與開關Q36以p通道電晶體,開關Q39以n通道電晶體為例。
結束資料線預充操作後,將測試資料線預充信號TPIO變為禁能(例如為低準位狀態),並將感測使能信號SE1與SE2改為使能,因此p通道控制電壓SAP與n通道控制電壓SAN分別從預充參考電壓HFV被切換至電源電壓VDD與接地電壓VSS。
接著,第一預充使能信號BLP1從原本的低準位狀態切換至高準位狀態,而第二預充使能信號BLP2維持低準位狀態。切換到高準位狀態的第一預充使能信號BLP1會使得第一開關T1與第二開關T2導通,如果在同一條字元線WL上的記憶單元MC的資料都被成功感測,在測試讀取感測期間tR中,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的電壓準位不同,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN其中之一的電壓準位會維持在電源電壓VDD,而其中另一的電壓準位會被下拉到實質等於接地電壓VSS,在圖9的實施例中,是以第二預充電壓HFVN維持在電源電壓VDD且第一預充電壓HFVT被下拉到接地電壓VSS為例。
特別說明的是,在測試寫入操作與在測試讀取操作中,第一預充使能信號BLP1從低準位狀態切換至高準位狀態的時間點不相同,具體而言,第一預充使能信號BLP1在進行測試寫入操作時切換電壓準位的時間點早於在進行測試讀取操作時的時間點。在測試寫入操作中,第一預充使能信號BLP1早於感測使能信號SE1與SE2切換到高準位狀態,然而在測試讀取操作中,第一預充使能信號BLP1晚於感測使能信號SE1與SE2切換到高準位狀態。
接著,比較器312接收測試參考電壓TMREF與第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一,例如是電壓準位較高者,因此在本實施例中,比較器312接收測試參考電壓TMREF與第二預充電壓HFVN,其中測試參考電壓TMREF的電壓值被預設為四分之三電源電壓VDD,第二預充電壓HFVN此刻實質等於電源電壓VDD。在測試讀取感測期間tR,由於第二預充電壓HFVN大於測試參考電壓TMREF,因此測試結果TFAIL被設定為低電壓準位,例如實質上等於接地電壓VSS,以表示同一條字元線WL上的記憶單元MC的資料都被成功感測。
請參考圖9與圖11,如果在同一條字元線WL上的記憶單元MC發生資料感測失敗的狀況,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN其中原本處於高準位狀態的訊號,在第一預充使能信號BLP1切換到高準位狀態使得第一開關T1與第二開關T2導通後,其電壓值會被接地電壓VSS下拉,因而小於原本的電壓準位。
在本實施例中,第二預充電壓HFVN原本處於高準位狀態,並且電壓值實質上等於電源電壓VDD,且第一預充電壓HFVT的電壓值大小實質上等於接地電壓VSS。在測試讀取感測期間tR,第一開關T1與第二開關T2導通後,第一預充電壓HFVT還是等於接地電壓VSS,但第二預充電壓HFVN被下拉到接近二分之一電源電壓VDD的大小,具體來說,第二預充電壓HFVN的電壓會降到電源電壓VDD減去n通道電晶體的臨界電壓VTN而得到的電壓的大小,在一實施例中,電源電壓VDD為1.5V,n通道電晶體的臨界電壓VTN為0.7V,因此第二預充電壓HFVN下降後的電壓接近二分之一電源電壓VDD的大小。
接著,比較器312接收測試參考電壓TMREF與第二預充電壓HFVN以進行比較,測試參考電壓TMREF的電壓值被預設為四分之三電源電壓VDD,第二預充電壓HFVN此刻的電壓值接近二分之一電源電壓VDD的大小,小於測試參考電壓TMREF,因此測試結果TFAIL被設定為改變至高電壓準位,例如實質上等於電源電壓VDD,表示同一條字元線WL上的記憶單元MC的有感測失敗的狀態。
在圖9至圖11的實施例中,對記憶單元MC進行測試讀取操作時,在測試讀取感測期間tR中,第一預充電壓HFVT與第二預充電壓HFVN的其中之一的電壓值不大於電源電壓VDD但會高於預充參考電壓HFV,且其中另一的電壓值低於預充參考電壓HFV,例如等於接地電壓VSS。
在另一實施例中,可以是第一預充電壓HFVT處於高準位狀態,並且比較器312接收測試參考電壓TMREF與第一預充電壓HFVT以進行比較,詳細的實施方式,本領域具有通常知識者可從上述的說明與通常知識獲致足夠的教示,在此不再贅述。
請參照圖12,圖12繪示依據本揭露的另一實施例的記憶裝置對全部記憶單元寫入邏輯“0”的動作波形圖。本實施例可適用於上述圖1至圖11的實施例的記憶裝置100。在圖12中的實施例中,當記憶裝置100的電源啟動(Power up)或重置狀態(RESET)後,記憶裝置100會在延伸寫入週期T內,例如小於200微秒到300微秒的範圍內,在圖12的實施例以延伸寫入週期T將近300微秒為例,對記憶裝置100中的所有字元線WL以及相連的所有感測放大電路110進行寫入操作,並且以圖12中的省略符號表示之。也就是說,本實施例的記憶裝置100能夠在很短的時間內對所有字元線WL上的記憶單元MC寫入資料邏輯“0”。而關於圖12的動作波形的實施方式,本領域具有通常知識者可從圖6至圖8的實施例獲致足夠的建議與教示,在此不再贅述。
綜上所述,本揭露提供一種記憶裝置,包括:預充電壓控制電路與感測放大電路。預充電壓控制電路根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓。感測放大電路耦接於位元線與互補位元線之間,用以感測耦接於位元線的記憶單元的資料,並且耦接預充電壓控制電路,以使位元線與互補位元線分別接收第一預充電壓與第二預充電壓,其中,在預充操作中,第一預充電壓與第二預充電壓的電壓準位相同,在預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,預充電壓控制電路提供給位元線與互補位元線的第一預充電壓以及第二預充電壓的電壓準位不同。如此,可以實現在一次週期(cycle)內選取字元線上的多個感測放大器來進行並聯測試模式。
雖然本揭露已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本揭露,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本揭露的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本揭露的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧記憶體電路110‧‧‧感測放大電路120‧‧‧控制與測試電路130‧‧‧記憶體陣列140‧‧‧X解碼器區塊150‧‧‧Y解碼器區塊160‧‧‧感測放大器區塊200‧‧‧感測控制電路210‧‧‧預充使能控制電路220‧‧‧感測放大電壓控制電路300‧‧‧測試讀取寫入電路310‧‧‧預充電壓控制電路312‧‧‧比較器314‧‧‧閂鎖電路320‧‧‧測試比較電路BLT‧‧‧位元線BLN‧‧‧互補位元線BLPE1‧‧‧預充使能信號BLP1‧‧‧第一預充使能信號BLP2‧‧‧第二預充使能信號HFV‧‧‧預充參考電壓HFVT‧‧‧第一預充電壓HFVN‧‧‧第二預充電壓INV‧‧‧反相器MC‧‧‧記憶單元N1‧‧‧第一中間節點N2‧‧‧第二中間節點NP‧‧‧SAP輸出節點NN‧‧‧SAN輸出節點NHT‧‧‧HFVT輸出節點NHN‧‧‧HFVN輸出節點NT‧‧‧測試節點NA21~NA23、NA31~NA35‧‧‧反及閘NO31~NO33‧‧‧反或閘Q1、Q2、Q3、Q4‧‧‧電晶體Q21~Q25、Q1~Q39‧‧‧開關SA‧‧‧感測電路SE1、SE2‧‧‧感測使能信號SAP‧‧‧p通道控制電壓SAN‧‧‧n通道控制電壓T‧‧‧延伸寫入週期T1‧‧‧第一開關T2‧‧‧第二開關T3‧‧‧第三開關TG31~TG34‧‧‧傳輸閘TFAIL‧‧‧測試結果TWE‧‧‧測試寫入使能信號TDA‧‧‧測試資料信號TDE‧‧‧測試資料使能信號TEST‧‧‧測試使能信號TPIO‧‧‧測試資料線預充信號tR‧‧‧測試讀取感測期間tW‧‧‧測試寫入感測期間TMREF‧‧‧測試參考電壓VDD‧‧‧電源電壓VSS‧‧‧接地電壓VTN‧‧‧n通道電晶體的臨界電壓WL‧‧‧字元線WLn、WLm‧‧‧字元線信號X12B13B‧‧‧列位址信號
圖1繪示依據本揭露的一實施例記憶裝置的示意圖。 圖2繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的陣列結構示意圖。 圖3繪示依據本揭露的一實施例的控制與測試電路的方塊示意圖。 圖4繪示依據本揭露的一實施例感測控制電路的電路示意圖。 圖5繪示依據本揭露的一實施例的測試讀取寫入電路的電路示意圖。 圖6至圖8分別繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的邏輯“0”及邏輯“1”的測試寫入操作的波形圖。 圖9至圖11分別繪示依據本揭露的一實施例的記憶裝置的測試讀取操作的波形圖。 圖12繪示依據本揭露的另一實施例的記憶裝置對全部記憶單元寫入邏輯“0”的動作波形圖。
100‧‧‧記憶體電路
110‧‧‧感測放大電路
120‧‧‧控制與測試電路
130‧‧‧記憶體陣列
BLT‧‧‧位元線
BLP1‧‧‧第一預充使能信號
BLP2‧‧‧第二預充使能信號
BLN‧‧‧互補位元線
HFV‧‧‧預充參考電壓
HFVT‧‧‧第一預充電壓
HFVN‧‧‧第二預充電壓
MC‧‧‧記憶單元
N1‧‧‧第一中間節點
N2‧‧‧第二中間節點
SA‧‧‧感測電路
SE1、SE2‧‧‧感測使能信號
SAP‧‧‧p通道控制電壓
SAN‧‧‧n通道控制電壓
T1‧‧‧第一電晶體
T2‧‧‧第二電晶體
T3‧‧‧第三開關
Q1、Q2、Q3、Q4‧‧‧電晶體
WLn、WLm‧‧‧字元線信號
WL‧‧‧字元線

Claims (16)

  1. 一種記憶裝置,包括: 預充電壓控制電路,根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓;以及 感測放大電路,耦接於位元線與互補位元線之間,用以感測耦接於所述位元線的記憶單元的資料,以及所述感測放大電路耦接所述預充電壓控制電路,以使所述位元線與所述互補位元線分別接收所述第一預充電壓與所述第二預充電壓, 其中,在預充操作中,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的電壓準位相同,在所述預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,所述預充電壓控制電路提供給所述位元線與所述互補位元線的所述第一預充電壓以及所述第二預充電壓的電壓準位不同。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的記憶裝置,其中所述感測放大電路包括: 第一開關,其第一端接收所述第一預充電壓,其第二端耦接所述位元線,並受控於第一預充使能信號; 第二開關,其第一端接收所述第二預充電壓,其第二端耦接所述互補位元線,並受控於所述第一預充使能信號; 第三開關,耦接於所述位元線與所述互補位元線之間,其受控於第二預充使能信號;以及 感測電路,耦接於所述位元線與所述互補位元線之間,並且用以放大所述位元線與所述互補位元線的電壓差。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的記憶裝置,還包括: 預充使能控制電路,耦接所述感測放大電路,用以根據預充使能信號產生所述第一預充使能信號與所述第二預充使能信號, 其中,當對所述記憶單元進行測試寫入操作與測試讀取操作時,所述第一預充使能信號切換電壓準位並且所述第二預充使能信號的邏輯準位與所述第一預充使能信號不同,以及當所述測試寫入操作與所述測試讀取操作完成後,所述第二預充使能信號切換電壓準位,以恢復與所述第一預充使能信號的邏輯準位相同。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的記憶裝置,還包括: 測試比較電路,耦接所述預充電壓控制電路,用以比較所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一以及測試參考電壓以產生測試結果, 其中當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一大於所述測試參考電壓時,所述測試結果表示對所述記憶單元的資料感測成功,且當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓皆小於所述測試參考電壓時,所述測試結果表示對所述記憶單元的資料感測失敗。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的記憶裝置,其中所述測試參考電壓的電壓準位高於所述預充參考電壓且小於電源電壓。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的記憶裝置,其中當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一大於所述測試參考電壓時,所述測試結果的電壓值實質上等於所述電源電壓與接地電壓的其中之一,且當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓皆小於所述測試參考電壓時,所述測試結果的電壓值實質上為所述電源電壓與所述接地電壓的其中另一。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的記憶裝置,其中在所述測試寫入感測期間中,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一的電壓值低於電源電壓但高於所述預充參考電壓,且其中另一的電壓值低於所述預充參考電壓。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的記憶裝置,其中當對所述記憶單元進行所述測試讀取操作時,在所述測試讀取感測期間之前,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓先被拉到實質上等於電源電壓。
  9. 一種用於記憶裝置的測試讀寫方法,用以對記憶單元進行測試寫入操作與測試讀取操作,所述測試讀寫方法包括: 根據預充參考電壓產生第一預充電壓以及第二預充電壓; 使位元線與互補位元線分別接收所述第一預充電壓與所述第二預充電壓, 其中,在預充操作中,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的電壓準位相同,在所述預充操作之後的測試寫入感測期間與測試讀取感測期間,所述預充電壓控制電路提供給所述位元線與所述互補位元線的所述第一預充電壓以及所述第二預充電壓的電壓準位不同。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的測試讀寫方法,還包括: 利用第一預充使能信號控制第一開關與第二開關,以決定所述位元線與所述互補位元線是否分別接收所述第一預充電壓與所述第二預充電壓; 利用第二預充使能信號控制第三開關,以決定是否電性連接所述位元線與所述互補位元線;以及 利用感測電路放大所述位元線與所述互補位元線的電壓差。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的測試讀寫方法,還包括: 根據預充使能信號產生所述第一預充使能信號與所述第二預充使能信號, 其中,當對所述記憶單元進行所述測試寫入操作與所述測試讀取操作時,所述第一預充使能信號切換電壓準位並且所述第二預充使能信號的邏輯準位與所述第一預充使能信號不同,以及當所述測試寫入操作與所述測試讀取操作完成後,所述第二預充使能信號切換電壓準位,以恢復與所述第一預充使能信號的邏輯準位相同。
  12. 如申請專利範圍第9項所述的測試讀寫方法,還包括: 比較所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一以及測試參考電壓以產生測試結果, 其中當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一大於所述測試參考電壓時,所述測試結果表示對所述記憶單元的資料感測成功,且當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓皆小於所述測試參考電壓時,所述測試結果表示對所述記憶單元的資料感測失敗。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的測試讀寫方法,其中所述測試參考電壓的電壓準位高於所述預充參考電壓且小於電源電壓。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的測試讀寫方法,其中當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一大於所述測試參考電壓時,所述測試結果的電壓值實質上等於所述電源電壓與接地電壓的其中之一,且當所述第一預充電壓與所述第二預充電壓皆小於所述測試參考電壓時,所述測試結果的電壓值實質上為所述電源電壓與所述接地電壓的其中另一。
  15. 如申請專利範圍第9項所述的測試讀寫方法,其中在所述測試寫入感測期間中,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓的其中之一的電壓值低於電源電壓但高於所述預充參考電壓,且其中另一的電壓值低於所述預充參考電壓。
  16. 如申請專利範圍第9項所述的測試讀寫方法,其中當對所述記憶單元進行所述測試讀取操作時,在所述測試讀取感測期間之前,所述第一預充電壓與所述第二預充電壓先被拉到實質上等於電源電壓。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10566034B1 (en) * 2018-07-26 2020-02-18 Winbond Electronics Corp. Memory device with control and test circuit, and method for test reading and writing using bit line precharge voltage levels
US11100964B1 (en) * 2020-02-10 2021-08-24 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Multi-stage bit line pre-charge

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001057875A1 (fr) * 2000-02-04 2001-08-09 Hitachi, Ltd. Dispositif semi-conducteur
FR2974666B1 (fr) * 2011-04-26 2013-05-17 Soitec Silicon On Insulator Amplificateur de detection differentiel sans transistor de precharge dedie
KR102215359B1 (ko) * 2014-08-01 2021-02-15 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치와 그 센싱 방법
KR102432868B1 (ko) * 2015-07-17 2022-08-17 에스케이하이닉스 주식회사 비트라인 센스앰프 및 이를 이용하는 메모리 장치
KR102408572B1 (ko) * 2015-08-18 2022-06-13 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
KR102514045B1 (ko) * 2016-04-21 2023-03-24 삼성전자주식회사 저항성 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템

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