TW201908825A

TW201908825A - 光學片

Info

Publication number: TW201908825A
Application number: TW107124512A
Authority: TW
Inventors: 矢野央人
Original assignee: 日商住友化學股份有限公司
Priority date: 2017-07-20
Filing date: 2018-07-16
Publication date: 2019-03-01
Also published as: JP2023001208A; TWI765070B; CN109283608B; JP2019148813A; CN115016055A; CN109283608A; JP2019020718A; KR102642672B1; KR20190010446A; JP7374606B2

Abstract

本發明之目的係提供一種光學片，係從重疊複數片光學片的積層體中每次取出一片光學片時，不容易產生在一次取出而取出複數片光學片的問題(多重取得)者。

本發明之光學片，係依序具有表面保護膜、偏光板、及剝離膜，且前述表面保護膜與前述剝離膜之間的動摩擦係數為0.40以下。在前述剝離膜之與前述偏光板為相反側的表面，矽原子的存在比率係以3%以上為佳。

Description

光學片

本發明係有關於一種光學片。

偏光板係被廣泛地使用在液晶顯示裝置等的影像顯示裝置，尤其近年來係被廣泛地使用在智慧型手機等各種可移動式機器。以往係使用將保護膜貼合在已使二色性色素吸附配向在聚乙烯醇系樹脂膜之偏光片的一面或兩面而成者作為偏光板。

偏光板一般係以光學片之形式在市場流通，該光學片係將用以防止偏光板的表面產生污染和傷痕之能夠剝離的表面保護膜(亦稱為protect film)及剝離膜(亦稱為separate film)貼附在表面者。

將偏光板貼合在如液晶單元(liquid crystal cell)的顯示元件時，係從重疊複數片上述光學片的積層體中每次取出一片光學片。然後，將剝離膜從光學片剝離，隔著露出的黏著劑層(pressure-sensitive adhesive layer)而貼合在顯示元件。

為了效率良好地進行光學片的取出步驟，專利文獻1係提出將光學片的取出藉由機械而自動化(專利文獻1)。如此自動進行光學片的取出時，會有在一次的取出而取出複數片的光學片之問題(以下，有稱為多重取得之情形)。

又，偏光板為較厚時，會因包含偏光板的光學片本身的重量而使光學片分離，故不容易產生多重取得，但最近因為偏光板薄型化的要求增強，因光學片本身的重量而產生分離之作用變小，故容易產生多重取得。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2006-308912號公報

本發明之目的係提供一種從重疊複數片光學片的積層體中每次取出一片光學片時，不容易產生多重取得之光學片。

[1]一種光學片，係依序具有表面保護膜、偏光板、及剝離膜，且前述表面保護膜與前述剝離膜之間的動摩擦係數為0.40以下。

[2]如第1發明所述之光學片，其中，在前述剝離膜之與前述偏光板為相反側的表面，矽原子的存在比率為3%以上。

[3]如第1發明或第2發明所述之光學片，其中，前述剝離膜係在前述偏光板為相反側的表面具有標記，且相對於剝離膜的面積，該標記的面積比率為2%以下。

本發明係能夠提供一種從重疊複數片光學片的積層體中每次取出一片光學片時，不容易產生多重取得之光學片。

1‧‧‧偏光板

2‧‧‧表面保護膜

3‧‧‧剝離膜

4‧‧‧標記

10‧‧‧光學片

100‧‧‧光學片的積層體

第1圖係顯示本發明的光學片所具有之層結構的一個例子之概略剖面圖。

第2圖係顯示重疊複數片之本發明的光學片而成的積層體的一個例子之概略剖面圖。

第3圖係顯示從剝離膜側觀看本發明的光學片之概略平面圖。

第4圖係顯示標記的一個例子之概略圖。

<光學片>

第1圖係顯示本發明的光學片的一個例子之概略剖面圖。第1圖顯示之光學片10係依序具有表面保護膜2、偏光板1、及剝離膜3之積層膜。在光學片10中，係以依序層積表面保護膜2、偏光板1、及剝離膜3為佳。在光學片10中，以表面保護膜2及剝離膜3分別構成光學片的最表面之構件為佳。

關於光學片10，可一邊將構成光學片10之各構件分別搬運，一邊採用捲至捲方式(roll to roll)製造長條狀光學片，並將其裁斷從而得到，亦可藉由分別準備預定形狀的各構件並依序層積而得到。

光學片的形狀係沒有特別限定，能夠為矩形、三角形等多角形、圓形、橢圓形、及該等形狀的組合。

光學片的面積係沒有特別限定，例如以18600至2500mm²為佳，以12600至6870mm²為較佳。光學片的面積小於18600mm²時，如上所述，不容易因本身的重量而分離成各個光學片，所以本申請發明的效果顯著。光學片面積大於2500mm²時，容易調整如後述的摩擦力。

從同樣的觀點而言，光學片係具有長邊及短邊之矩形形狀時，長邊的長度係以17.3至6.6cm為佳，以15.5至11.0cm為較佳，短邊的長度係以10.8至3.7cm為佳，以8.7至6.2cm為較佳。

在本發明中，表面保護膜與剝離膜之間的動摩擦係數為0.40以下，以0.30以下為佳。另一方面，在使用剝離膠帶而將表面保護膜等剝離時，從提高剝離膠帶與表面保護膜等的密著力之觀點而言，動摩擦係數係以0.10以上為佳，亦可為0.20以上。動摩擦係數的測定方法係依照在後述實施例記載的方法。

如後所述，動摩擦係數係能夠藉由剝離膜表面的矽原子的存在比率、剝離膜及表面保護膜的表面之表面電阻率等而得到控制。藉由表面電阻率而控制動摩擦係數時，剝離膜及表面保護膜的至少一者係以具有抗靜電功能為佳，以雙方具有抗靜電功能為佳。

以下，說明光學片所具有之各構件。

<偏光板>

偏光板1係至少含有偏光片之偏光元件，通常係進一步包含貼合在其一面或兩面之熱塑性樹脂膜。熱塑性樹脂膜能夠是保護偏光片之保護膜、具有與偏光片不同的光學功能之其它光學膜等。熱塑性樹脂膜亦可具備層積在其表面之樹脂層(例如選自硬塗層、抗靜電層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、低折射率層、防污層等之至少一種光學層)。熱塑性樹脂膜係能夠隔著接著劑層或黏著劑層而貼合在偏光片。表面保護膜2亦可層積在該樹脂層的表面。

偏光板1的厚度係沒有特別限制，通常為200μm以下，在容易因本身的重量之關係而產生多重取得之150μm以下、甚至是125μm以下之情況，本發明的效果顯著。偏光板1的厚度係以30μm以上為佳，較佳為50μm以上。

(1)偏光片

構成偏光板1之偏光片，係具備將具有與其吸收軸平行的振動面之直線偏光吸收，而使具有與吸收軸正交的(與穿透軸平行的)振動面之直線偏光穿透的性質之吸收型的偏光片，且能夠適合使用使二色性色素吸附配向在經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光膜。偏光片係例如能夠藉由包含下列步驟的方法而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進單軸延伸之步驟；藉由使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使其吸附二色性色素之步驟；使用硼酸水溶液等的交聯液來處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；及利用交聯液在處理後進行水洗之步驟。

作為聚乙烯醇系樹脂，係能夠使用聚乙酸乙烯系樹脂經皂化者。作為聚乙酸乙烯系樹脂，可舉出屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯、以及其和能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之共聚物等。能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之例子包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。

在本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸」係意味著選自丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一者。在「(甲基)丙烯醯基」、「(甲基)丙烯酸酯」等時亦同理。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度係通常85至100mol%，以98mol%以上為佳。聚乙烯醇系樹脂亦可經改性，例如亦能夠使用經醛類改性的聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係通常1000至10000，以1500至5000為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係能夠依據JIS K 6726而求取。

將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成者係被使用作為偏光片(偏光膜)的坯膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法係沒有特別限定，能夠採用習知的方法。聚乙烯醇系坯膜的厚度係沒有特別限制，但為了使偏光片的厚度成為15μm以下，以使用5至35μm者為佳。較佳為20μm以下。

聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸，係能夠在二色性色素的染色前、與染色同時、或染色之後進行。在將單軸延伸染色之後進行時，該單軸延伸可在交聯處理之前或交聯處理中進行。又，亦可在該等複數階段進行單軸延伸。

在單軸延伸時，可在周速不同的滾筒之間朝單軸進行延伸，亦可使用熱滾筒朝單軸進行延伸。又，單軸延伸可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為在使用溶劑或水使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤後的狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率係通常3至8倍。

作為使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜進行染色之方法，例如能夠採用使該薄膜浸漬在含有二色性色素的水溶液中之方法。作為二色性色素，係能夠使用碘或二色性有機染料。又，聚乙烯醇系樹脂膜係以在染色處理之前預先施行浸漬在水中之處理為佳。

作為利用二色性色素進行染色後的交聯處理者，通常採用將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含硼酸的水溶液中之方法。使用碘作為二色性色素時，該含硼酸的水溶液係以含有碘化鉀為佳。

偏光片的厚度係通常30μm以下，以20μm以下為佳，較佳為15μm以下，更佳為10μm以下。尤其將偏光片的厚度設為15μm以下，對光學片的薄膜化為有利。偏光片的厚度係通常2μm以上。

(2)保護膜

能夠層積在偏光片的一面或兩面之保護膜，能夠是由具有透光性之(較佳是在光學上為透明的)熱塑性樹脂所構成之薄膜，該熱塑性樹脂例如為：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之纖維素系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如甲基丙烯酸甲酯系樹脂的(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂；丙烯腈/苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯(polyvinylidene chloride)系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚縮醛系樹脂；改性聚伸苯醚(polyphenylene ether)系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳香酯系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等。

作為鏈狀聚烯烴系樹脂，能夠舉出如聚乙烯樹脂(屬於乙烯的均聚物之聚乙烯樹脂、以乙烯作為主體之共聚物)、聚丙烯樹脂(屬於丙烯的均聚物之聚丙烯樹脂、以丙烯作為主體之共聚物)之鏈狀烯烴的均聚物、以及由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。

環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元而聚合之樹脂的總稱，例如可舉出在日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所記載的樹脂。舉出環狀聚烯烴系樹脂的具體例時，係有環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯的鏈狀烯烴之共聚物(代表性者為無規共聚物)、及該等經不飽和羧酸或其衍生物改性後之接枝聚合物、以及該等的氫化物。尤其是能夠適合使用以如降莰烯、多環降莰烯系單體的降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。

聚酯系樹脂係將不包括下述纖維素酯系樹脂且具有酯鍵的樹脂，通常係由多元羧酸或其衍生物與多元醇的聚縮合物所構成者。作為多元羧酸或其衍生物，能夠使用二元的二羧酸或其衍生物，例如可舉出對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯。作為多元醇，係能夠使用二元的二醇，例如可舉出乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇。作為聚酯系樹脂的代表例，可舉出屬於對苯二甲酸與乙二醇的聚縮合物之聚對苯二甲酸乙二酯。

(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為主要構成單體之樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，係例如包含：如聚甲基丙烯酸甲酯的聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物 (MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。以使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯的聚(甲基)丙烯酸C_1-6烷酯作為主成分之聚合物為佳，較佳是使用以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%，較佳為70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂的具體例，係包含纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。又，亦可舉出該等的共聚物、羥基的一部分經其它取代基改性後者。該等纖維素酯之中，係以纖維素三乙酸酯(三乙酸纖維素)為特佳。

聚碳酸酯系樹脂，係由透過碳酸酯基而鍵結單體單元的聚合物所構成之工程塑膠。

將保護膜的相位差值控制在適合液晶顯示裝置等的影像顯示裝置之值亦為有用。例如在橫向電場效應(IPS；In-Plane Switching)模式的液晶顯示裝置，係以使用實質上相位差值為零的薄膜作為保護膜為佳。所謂實質上相位差值為零，係指在波長590nm之面內相位差值R₀為10nm以下，在波長590nm之厚度方向相位差值R_th的絕對值為10nm以下，在波長480至750nm之厚度方向相位差值R_th的絕對值為15nm以下。

例如亦可依照液晶顯示裝置的模式之不同，而對保護膜進行延伸及/或收縮加工等來賦予適合的相位差值。例如以視角補償作為目的，係能夠使用單層或多層結構的相位差層(或薄膜)作為保護膜。此時，偏光板1能夠是包含偏光片與相位差層的積層結構之橢圓偏光板或圓偏光板、或是包含相位差層且兼具視角補償功能之偏光板等。

保護膜的厚度係通常1至100μm，從強度、操作性等的觀點而言，係以5至60μm為佳，以5至50μm為較佳。若為該範圍內的厚度，能夠機械地保護偏光片，即便暴露在濕熱環境下，偏光片亦不會收縮而能夠保持穩定的光學特性。

將保護膜貼合在偏光片的兩面時，該等保護膜可由同種類的熱塑性樹脂所構成，亦可由不同種類的熱塑性樹脂所構成。又，厚度可相同亦可不同。而且，可具有相同相位差特性，亦可具有不同的相位差特性。

如上所述，保護膜的至少任一者，亦可在其外表面(與偏光片為相反側的表面)具備如硬塗層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、低折射率層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)。

從抑制氣泡混入表面保護膜與偏光板之間之觀點而言，在偏光板1之表面保護膜2側的表面(貼合表面保護膜2之表面)，係以依據JIS B 0601：2013之算術平均粗糙度Ra較小者為佳。具體而言，上述表面的Ra係以 0.3μm以下為佳，較佳為0.2μm以下，更佳為0.15μm以下。上述表面的Ra係通常0.001μm以上，例如0.005μm以上。

保護膜係例如能夠隔著接著劑層而貼合在偏光片。作為形成接著劑層之接著劑，能夠使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。

作為水系接著劑，可舉出由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水系二液型胺甲酸酯系乳液接著劑等。尤其是能夠適合使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑。作為聚乙烯醇系樹脂，係能夠使用屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯經皂化處理而得到之乙烯醇均聚物、以及乙酸乙烯酯與能夠與其共聚合的其它單體之共聚物經皂化處理而得到之聚乙烯醇系共聚物、或將該等的羥基經部分地改性後之改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑係能夠包含醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等的交聯劑。

使用水系接著劑時，將偏光片與保護膜貼合之後，係以實施用以將在水系接著劑中所含有的水除去之乾燥步驟為佳。乾燥步驟後，亦可設置例如在20至45℃的溫度進行熟化之熟化步驟。

所謂上述活性能量線硬化性接著劑，係含有會藉由照射如紫外線、可見光、電子束、X射線的活性能量線而硬化的硬化性化合物之接著劑，較佳為紫外線硬化性接著劑。

上述硬化性化合物能夠為陽離子聚合性的硬化性化合物或自由基聚合性的硬化性化合物。作為陽離子聚合性的硬化性化合物，例如能夠舉出環氧系化合物(在分子內具有1個或2個以上的環氧基之化合物)、氧雜環丁烷系化合物(在分子內具有1個或2個以上的氧雜環丁烷環之化合物)、或該等的組合。作為自由基聚合性的硬化性化合物，例如能夠舉出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子內具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯氧基之化合物)、具有自由基聚合性雙鍵之其它乙烯系化合物、或該等的組合。亦可將陽離子聚合性的硬化性化合物與自由基聚合性的硬化性化合物併用。活性能量線硬化性接著劑通常可進一步含有用以使上述硬化性化合物開始硬化反應之陽離子聚合起始劑及/或自由基聚合起始劑。

在貼合偏光片與保護膜時，亦可對該等至少任一者的貼合面施行表面活性化處理以提高接著性。作為表面活性化處理，能夠舉出：如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子束處理等)之乾式處理；如使用水、丙酮等的溶劑之超音波處理、皂化處理、錨固塗佈處理之濕式處理。該等表面活性化處理可單獨進行，亦可組合2種以上。

將保護膜貼合在偏光片的兩面時，用以將該等保護膜貼合之接著劑可為同種類的接著劑亦可為不同種類的接著劑。

(3)其它光學膜

偏光板1係能夠包含偏光片及保護膜以外的其它光學膜，其代表例為亮度提升膜及相位差膜。偏光板1包含其它光學膜時，表面保護膜2可層積在該光學膜表面、或層積在已層積在該光學膜上之樹脂層的表面。

亮度提升膜亦被稱為反射型偏光膜，其係使用具有將來自光源(背光)的射出光分離成穿透偏光及反射偏光或散射偏光的功能之偏光轉換元件。藉由將亮度提升膜配置在偏光片上，利用屬於反射偏光或散射偏光之回歸光而能夠使從偏光片射出的直線偏光之射出效率提升。亮度提升膜係能夠隔著黏著劑層而層積在偏光片上。亦可在偏光片與亮度提升膜之間中介存在有如保護膜的其它薄膜。

亮度提升膜係例如能夠為異向性反射偏光片。異向性反射偏光片的一個例子，係使一振動方向之直線偏光穿透且將另一振動方向之直線偏光反射之異向性多重薄膜，其具體例為3M公司製的「DBEF」(參照日本特開平4-268505號公報等)。異向性反射偏光片的另一個例子為膽固醇型液晶層與λ/4板之複合體，其具體例為日東電工股份有限公司製的「PCF」(參照日本特開平11-231130號公報等)。異向性反射偏光片的又另一個例子為反射格柵偏光片，其具體例為對金屬施行微細加工而即便在可見光區域亦將反射偏光射出之金屬格子反射偏光片(參照美國專利第6288840號說明書等)、將金屬微粒子添加在高分子基質中並進行延伸而成之薄膜(參照日本特開平8-184701號公報等)。

如上所述，亦可在亮度提升膜的外表面設置如硬塗層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、低折射率層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)。藉由形成此種層，能夠使與背光帶的密著性和顯示影像的均勻性提升。亮度提升膜50的厚度係通常10至100μm，從偏光板1的薄膜化之觀點而言，係以10至50μm為佳，較佳為10至30μm。

(4)黏著劑層

偏光板1係以在其最表面具有黏著劑層為佳。該黏著劑層係能夠用於將偏光板1貼合在顯示元件(例如液晶單元)或其它光學構件。以將剝離膜3層積在該黏著劑層上為佳。又，黏著劑亦能夠用於使偏光片與保護膜或亮度提升膜層積的情況。黏著劑層係能夠由以如(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺甲酸酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯基醚系的樹脂作為主成分之黏著劑組成物所構成。尤其是以將具有優異的透明性、耐候性、耐熱性等之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑組成物為佳。黏著劑組成物亦可為活性能量線硬化型、熱硬化型。

作為在黏著劑組成物所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物)，例如能夠適合使用以如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體之聚合物或共聚物。基質聚合物係以使極性單體共聚合為佳。作為極性單體，例如能夠舉出如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。

黏著劑組成物亦可只含有上述基質聚合物，通常係進一步含有交聯劑。作為交聯劑，係可例示：屬於2價以上的金屬離子且會在與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；屬於多元胺化合物且會在與羧基之間形成醯胺鍵者；屬於聚環氧化合物或多元醇且會在與羧基之間形成酯鍵者；屬於聚異氰酸酯化合物且會在與羧基之間形成醯胺鍵者。尤其是以聚異氰酸酯化合物為佳。

所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物，係具有會受到如紫外線和電子束的活性能量線的照射而硬化之性質，即使在活性能量線照射前亦具有黏著性而能夠密著在薄膜等的被黏著物且具有會藉由照射活性能量線而硬化並能夠調整密著力的性質之黏著劑組成物。活性能量線硬化型黏著劑組成物係以紫外線硬化型為佳。活性能量線硬化型黏著劑組成物係除了基質聚合物、交聯劑以外，亦可進一步含有活性能量線聚合性化合物。另外亦能夠因應需要而含有光聚合起始劑、光敏化劑等。

黏著劑組成物能夠含有用以賦予光散射性之微粒子、珠粒(樹脂珠粒、玻璃珠粒等)、玻璃纖維、基質聚合物以外的樹脂、抗靜電劑、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉、其它無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、腐蝕防止劑、光聚合起始劑等的添加劑。

黏著劑層係能夠藉由將上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥來形成。基材能夠為偏光片、保護膜、如亮度提升膜的其它光學膜、剝離膜(例如剝離膜3)等。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，係能夠藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線而成為具有所需要的硬化度之硬化物。

黏著劑層的厚度係通常1至40μm，從光學片的薄膜化之觀點、及在保持良好的加工性的情況下抑制偏光板1的尺寸變化之觀點而言，係以設為3至25μm(例如3至20μm、進而3至15μm)為佳。

<表面保護膜>

表面保護膜2係能夠包含基材膜、及層積在其上方的黏著劑層。表面保護膜2係用以保護偏光板1的表面之薄膜，通常係將光學片貼合在例如顯示元件或其它光學構件之後，連同其所具有的黏著劑層一起剝離除去。

基材膜較佳為熱塑性樹脂膜。構成熱塑性樹脂膜之熱塑性樹脂，例如能夠舉出：如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂的聚烯烴系樹脂；環狀聚烯烴系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等。基材膜可為單層結構亦可為多層結構。

基材膜的厚度能夠為20至150μm(例如30至80μm，較佳為30至60μm)，表面保護膜2的厚度能夠為40至200μm(例如50至160μm)。關於黏著劑層的構成，基本上能夠引用有關前述偏光板所具有的黏著劑層之記載。

特別是，黏著劑層之儲存彈性模數在80℃時係以0.15MPa以下為佳，以0.14MPa以下為較佳，以0.10MPa以下為更佳。通常黏著劑層在80℃之儲存彈性模數為0.01MPa以上。在本說明書，黏著劑層的儲存彈性模數係能夠使用市售的黏彈性測定裝置例如REOMETRIC公司製的黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。

在表面保護膜2之與偏光板1為相反側的表面，其表面電阻率係以1×10⁷至1×10¹²Ω/□為佳。具有此種表面電阻率之表面保護膜，能夠說是具有抗靜電功能。具有此種表面電阻率之表面保護膜係不容易帶電且容易將動摩擦係數控制成為0.40以下。表面電阻率超過1×10¹²Ω/□時，表面保護膜容易帶電。表面電阻率係使用後述的實施例記載之方法而測定。

表面保護膜2係能夠含有抗靜電劑。抗靜電劑係例如能夠含有在黏著劑層中。除了使黏著劑層含有抗靜電劑，亦可同時將含有抗靜電劑的抗靜電層設置在基材膜之與層積有黏著劑層之面為相反側的表面，或取代使黏著劑層含有抗靜電劑的情形。

作為抗靜電劑，係能夠舉出離子性化合物。離子性化合物係具有無機陽離子或有機陽離子、及無機陰離子或有機陰離子之化合物。亦可使用2種以上的離子性化合物。

<剝離膜>

剝離膜3係在將黏著劑層貼合在顯示元件(例如液晶單元)或其它光學構件前用以保護其表面而暫時黏著之薄膜。剝離膜3通常係由已於一面施予過利用聚矽氧系、氟系等的脫模劑等之脫模處理之熱塑性樹脂膜所構成，且將該脫模處理面貼合在黏著劑層者。在剝離膜3之與偏光板1為相反側的表面，係以形成有抗靜電層為佳。

將採用捲至捲方式所製造的光學片裁斷而得到光學片10之情況，在製造長條狀光學片時，剝離膜有時係以將長條狀剝離膜捲繞而成的捲繞體之方式供給。因為剝離膜的捲繞體呈現著貼合在黏著劑層之面(脫模處理面)與光學片10的最表面之面接觸之狀態，所以脫模處理面的成分有時會轉印至光學片10的最表面之面。而且，本發明者研討之結果發現，藉由利用轉印而容易防止多重取得。另一方面，剝離膜3的表面係為了將黏著劑層等的多餘部分等除去而進行美觀處理。由於藉由美觀處理而將表面洗淨，所以轉印的矽原子被除去，使得矽原子的存在比率多半較低。因而，施行適當的美觀處理係對防止多重取得為有效。

從防止多重取得之觀點而言，在剝離膜3之與偏光板1為相反側的表面，矽原子的存在比率係以2%以上為佳，以4%以上為較佳，亦可為6%以上。另一方面，因為必須適當地進行美觀處理，所以矽原子的存在比率係通常10%以下，較佳為8%以下。在本發明中，矽原子的存在比率係藉由X射線光電子分光法而決定之值，詳細內容係依照後述實施例之記載。

當然，亦可將聚矽氧塗佈在剝離膜3表面而調整矽原子的存在比率。

又，在剝離膜3的一表面與另一表面，矽原子的存在比率可為相同亦可不同。

在剝離膜3之與偏光板1為相反側的表面，其表面電阻率係以1×10⁷至1×10¹²Ω/□為佳。具有此種表面電阻率之剝離膜，能夠說是具有抗靜電功能。具有此種表面電阻率之剝離膜係不容易帶電且容易將動摩擦係數控制在0.40以下。表面電阻率超過1×10¹²Ω/□時，剝離膜容易帶電。表面電阻率係能夠使用後述實施例記載之方法而測定。

剝離膜的表面電阻率係能夠藉由在剝離膜的表面形成抗靜電層而得到控制。抗靜電層係能夠藉由例如在剝離膜塗佈抗靜電噴霧、或塗佈含有抗靜電劑之樹脂組成物並使其硬化來形成。作為靜電除去噴霧，能夠舉出尚和化工股份有限公司製的靜電除去液「SB-8」。作為抗靜電劑，能夠使用上述例示者。

構成剝離膜3之熱塑性樹脂，係例如能夠是如聚乙烯之聚乙烯系樹脂、如聚丙烯之聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂等。剝離膜3的厚度係例如10至50μm。

<標記>

光學片10可在表面保護膜2及剝離膜3的至少一者具有標記4，以剝離膜具有標記4為佳。表面保護膜2或剝離膜3係以在與偏光板1為相反側的表面具有標記4為佳。將採用捲至捲方式所製造的光學片裁斷而得到光學片10時，可在將長條狀光學片裁斷之前進行標記，亦可在裁斷之後進行標記。

藉由進行標記，例如偏光板1的吸收軸方向或穿透軸方向變為容易辨別，例如將偏光板貼合在液晶單元時，變得容易對準。另一方面，依照本發明者等的研討，發現藉由使光學片具有標記而容易產生多重取得。雖然並不對本發明具有限定作用，但其理由認為是因進行標記致使塗膜在光學片10表面隆起而提升動摩擦係數之緣故。

從防止多重取得之觀點而言，相對於剝離膜的面積，標記面積的比率係以10%以下為佳，以5%以下為較佳，以2%以下為更佳。

從同樣的觀點而言，標記(塗膜)離薄膜表面的高度係以0.1至0.2μm為佳，亦可為0.3至0.5μm。

標記4係能夠藉由使用油性印墨、水性印墨之噴墨噴射式或接觸式的筆來進行，標記能夠為該等印墨的塗膜。標記的顏色能夠為紅、黃、綠、青藍、藍、洋紅(magenta)、白、黑、及將該等混合而成之顏色，可使用一種顏色進行標記，亦可使用複數種顏色而進行標記。

第3圖係在剝離膜3上具有標記4時的一個例子，直線狀標記4係形成在光學片10的相對向的二邊之間。標記的形狀係不被此限定，如第4圖(a)至(d)顯示，可為直線、點線、虛線、曲線、及該等線的組合，亦可為圓形、多角形及該等的組合等的圖形，亦可為文字或數字。

<光學片的積層體>

藉由將複數片光學片重疊，能夠得到光學片的積層體且能夠將該積層體提供至光學片的供給裝置。如第2圖顯示，光學片的積層體100係以使某一光學片10的剝離膜3與另一光學片10的表面保護膜2接觸之方式重疊為佳。

光學片的構成積層體100之光學片10可為全部相同的光學片，亦可為一部分不同的光學片。光學片的構成積層體100之光學片的片數係沒有特別限制，例如能夠設為100至500片。

從光學片的積層體100取出的光學片10，係能夠將剝離膜3而貼合在顯示元件(例如液晶單元)。而且，能夠將表面保護膜2而組裝於顯示裝置(例如液晶顯示裝置)。在構築顯示裝置時，本發明之光學片10可使用於被配置在觀視側之偏光板，亦可使用於被配置在背光側之偏光板，亦可使用於觀視側及背光側兩者的偏光板。

[實施例]

以下，列示實施例及比較例而更具體地說明本發明，但是本發明不被該等例子限定。

(1)動摩擦係數的測定方法

使用新東科學股份有限公司的表面性測定機TYPE：14FW而測定表面保護膜與剝離膜之間的動摩擦係數。具體而言，首先準備已將光學片裁斷成11cm×6.3cm的大小者，分別安裝在與測定機的可動載物台及測力計連接之固定輔助具。以使剝離膜及表面保護膜互相面對的方式配置2片光學片。其次，從互相重疊的薄膜之上方施加500g的荷重，且以5000mm/min的速度使其來回15.0mm的移動距離達100次，從此時的測力傳感器所偵測的力量之大小算出動摩擦係數的平均。又，雖然動摩擦係數不會因實施例所設置的標記方向與可動載物台的移動方向而產生變化，但具有異向性時，係採用動摩擦係數為最大的方向之動摩擦係數。

(2)矽原子的存在比率之測定方法

在薄膜表面之矽原子的存在比率，係使用Thermo Fisher Scientific股份有限公司的K-Alpha且藉由X射線光電子光譜法(XPS；X-ray Photoelectron Spectroscopy)而測定。

測定面為剝離膜背面(與接觸黏著劑層之面為相反側的表面)。將光電子取出角度設為90°而測定碳原子、氧原子、矽原子之後，算出矽原子的偵測量。

(3)薄膜厚度的測定方法

使用Nikon股份有限公司製的數位測微計「MH-15M」而測定。

(4)多重取得的評價方法

將光學片2片以使表面保護膜面與剝離膜面重疊的方式配置，並一邊以手按住一邊互相摩擦10次。隨後，將重疊的薄膜偏離1cm，只拿著其中一片而往上提起。在2片貼附時搖動3次而確認其中一方片是否脫落。該操作後其中一片亦不脫落時，評定為會產生多重取得。

(5)表面電阻率的測定方法

使用股份有限公司三菱化學Analytech製MCP-HT450測定剝離膜表面(在剝離膜之與偏光板為相反側的表面)及表面保護膜表面(在表面保護膜之與偏光板相反側的表面)之表面電阻率(Ω/□)。表中的「超過(over)」係意味著表面電阻率超過1×10¹²Ω/□。

<光學片1的製造>

準備下述層結構的偏光板。

保護膜1/偏光片/保護膜2

保護膜1為環狀烯烴系樹脂膜，厚度為23μm。

保護膜2係在表面具有硬塗層之環狀烯烴系樹脂膜，厚度為30μm。

偏光片係碘吸附配向在PVA系樹脂膜而成之薄膜，厚度為8μm。

將具備黏著劑層之剝離膜層積在上述偏光板之保護膜1的表面，並將表面保護膜層積在偏光板之保護膜2的表面而製造光學片1。

表面保護膜係使用具備厚度20μm的黏著劑層之聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度為38μm)。表面保護膜的厚度為58μm。在聚對苯二甲酸乙二酯膜之與黏著劑層接觸之面為相反側的表面形成有抗靜電層，表面保護膜表面的表面電阻率為1×10⁹Ω/□。剝離膜係使用聚對苯二甲酸乙二酯膜。剝離膜的厚度為38μm。在剝離膜上形成有厚度20μm的黏著劑層。又，該剝離膜上的黏著劑層係偏光板在最後所具備的構件。

隨後，將光學片1裁斷成為長邊110mm、短邊63mm 的矩形形狀。

<光學片2>

除了使用未形成抗靜電層之表面保護膜以外，其餘以與光學片1的製造同樣地進行而製造光學片2。將光學片2裁斷成為長邊110mm、短邊63mm的矩形形狀。

<實施例1>

將聚矽氧塗佈在所得到的光學片1之剝離膜表面(在剝離膜之與偏光板為相反側的表面)而製造評價用光學片。矽原子的存在比率為7%。在剝離膜的表面係未施加標記。

<實施例2>

除了使用寺西化學工業股份有限公司製的DRYSAVE 1(藍色、油性印墨)，並在光學片之相對向的二邊之間沿著吸收軸方向劃出一條如第3圖顯示的直線狀線而形成標記以外，其餘以與實施例1同樣地進行而製造評價用光學片。

相對於剝離膜的面積，標記的面積比率為1%。標記的高度離剝離膜表面為0.3μm。

<實施例3>

除了劃出3條線以外，其餘以與實施例2同樣地進行而製造評價用光學片。

相對於剝離膜的面積，標記的面積比率為3%。

<實施例4至6>

除了調整聚矽氧的塗佈量而將矽原子的存在比率設為3%以外，其餘以與實施例1至3同樣地進行而分別製造評價用光學片。

<實施例7至9>

除了將尚和化工股份有限公司製的靜電除去液「SB-8」塗佈在得到的光學片1之剝離膜表面(在剝離膜之與偏光板為相反側的表面)來代替塗佈聚矽氧，而使表面電阻率成為1×10⁹Ω/□以外，其餘以與實施例1至3同樣地進行而分別製造評價用光學片。

<實施例10至12>

除了調整靜電除去液的塗佈量而使表面電阻率成為1×10¹²Ω/□以外，其餘以與實施例7至9同樣地進行而分別製造評價用光學片。

<實施例13>

將尚和化工股份有限公司製的靜電除去液「SB-8」塗佈在得到的光學片2之剝離膜表面(在剝離膜之與偏光板為相反側的表面)而使表面電阻率成為1×10¹²Ω/□。同樣地，將尚和化工股份有限公司製的靜電除去液「SB-8」塗佈在表面保護膜表面(在表面保護膜之與偏光板為相反側的表面)而使表面電阻率成為1×10¹²Ω/□。如此地製造評價用的光學片。

<實施例14至16>

除了調整靜電除去液的塗佈量而將剝離膜及表面保護膜表面的表面電阻率控制在表2顯示之值以外，其餘以與實施例13同樣地進行而分別製造評價用的光學片。

<比較例1至3>

在實施例1至3中，除了使用滲入有IP SOLVENT(從尚和加工股份有限公司取得之乙醇系溶劑)之布分別擦拭光學片之剝離膜表面數次以外，其餘同樣地進行而分別製造評價用的光學片。

<比較例4>

在實施例1中，除了不在剝離膜表面塗佈聚矽氧，而使用滲入有IP SOLVENT(從尚和加工股份有限公司取得之乙醇系溶劑)之布分別擦拭光學片之剝離膜表面數次以外，其餘同樣地進行而製造評價用光學片。

<比較例5>

除了調整靜電除去液的塗佈量而將剝離膜及表面保護膜表面的表面電阻率控制在表2顯示之值以外，其餘以與實施例13同樣地進行而分別製造評價用的光學片。又，不將靜電除去液塗佈在表面保護膜。

針對上述實施例1至16、比較例1至5所製造的評價用光學片進行多重取得評價。將結果顯示在表1、表2。

(產業上之可利用性)

依照本發明，能夠提供一種從重疊複數片光學片之積層體中每次取出一片光學片時，不容易產生多重取得之光學片，因而有用。

Claims

一種光學片，係依序具有表面保護膜、偏光板、及剝離膜，且前述表面保護膜與前述剝離膜之間的動摩擦係數為0.4以下。
如申請專利範圍第1項所述之光學片，其中，在前述剝離膜之與前述偏光板為相反側的表面，矽原子的存在比率為3%以上。
如申請專利範圍第1或2項所述之光學片，其中，在前述剝離膜之與前述偏光板為相反側的表面，其表面電阻率為1×10 ⁷至1×10 ¹²Ω/□。
如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學片，其中，在前述表面保護膜之與前述偏光板為相反側的表面，其表面電阻率為1×10 ⁷至1×10 ¹²Ω/□。
如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之光學片，其中，前述剝離膜係在與前述偏光板為相反側的表面具有標記，且相對於剝離膜的面積，該標記的面積的比率為2%以下。