TW201829718A - 撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品 - Google Patents

撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品 Download PDF

Info

Publication number
TW201829718A
TW201829718A TW106126854A TW106126854A TW201829718A TW 201829718 A TW201829718 A TW 201829718A TW 106126854 A TW106126854 A TW 106126854A TW 106126854 A TW106126854 A TW 106126854A TW 201829718 A TW201829718 A TW 201829718A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
water
compound
formula
repellent film
group
Prior art date
Application number
TW106126854A
Other languages
English (en)
Inventor
竹田洋介
Original Assignee
旭硝子股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭硝子股份有限公司 filed Critical 旭硝子股份有限公司
Publication of TW201829718A publication Critical patent/TW201829718A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C08G77/54—Nitrogen-containing linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
    • C09D183/12—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/10—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
    • C08L83/12—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本發明提供一種能夠形成撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性優異之撥水膜的撥水膜形成用組合物，且提供一種使用撥水膜形成用組合物而形成之撥水膜、於基體上之至少一部分具備該撥水膜之附撥水膜之基體、及包含該附撥水膜之基體之物品。本發明之撥水膜形成用組合物以成為特定之量比之方式含有：水解性矽烷化合物(1)，其具有全氟烷基且不具有醚鍵；及化合物(21)，其具有聚(氧氟伸烷基)並且具有複數個特定結構之水解性矽烷基，且數量平均分子量為3000以上。

Description

撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品
本發明係關於一種撥水膜形成用組合物、使用該撥水膜形成用組合物而形成之撥水膜、於基體上之至少一部分具備該撥水膜之附撥水膜之基體、及包含該附撥水膜之基體之物品。
一直以來，於各種技術領域中，要求對基體之表面賦予撥水性。作為賦予撥水性之方法，通常於基體之表面形成撥水性之覆膜，從而關於用以形成此種覆膜之組合物進行技術開發。 尤其於基體為汽車玻璃等輸送機器用物品之基體之情形時，對於組合物，除了要求對覆膜賦予撥水性以外，亦強烈要求賦予耐磨性或耐候性(典型而言為耐光性)等耐久性。作為能夠形成耐久性優異之撥水膜之組合物，揭示有將具有含氟聚醚基之水解性矽烷化合物與具有含氟烷基之水解性矽烷化合物進行組合而成之組合物(參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻1] [專利文獻1]國際公開第2014/126064號
[發明所欲解決之問題] 根據本發明者，藉由專利文獻1中具體揭示之組合物而形成之撥水膜其耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性不充分。 本發明係基於上述觀點而成者，目的在於提供一種撥水膜形成用組合物，其能夠形成撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性(以下，亦稱為「耐光/耐磨性」)優異之撥水膜。進而，目的在於提供一種使用該撥水膜形成用組合物而形成之撥水膜、於基體上之至少一部分具備該撥水膜之附撥水膜之基體、及包含該附撥水膜之基體之物品。 [解決問題之技術手段] 本發明係將以下構成作為主旨。 [1]一種撥水膜形成用組合物，其特徵在於：其係包含下式(1)所表示之化合物、及由下式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物者，且 上述式(1)所表示之化合物中之基：SiR1 p X1 3 － p 與由上述式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物中之基：SiR2 r X2 3 － r 的莫耳比([式(1)所表示之化合物中之SiR1 p X1 3 － p 之莫耳數]/由式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物中之SiR2 r X2 3 － r 之莫耳數])為1.5～20，且上述式(1)所表示之化合物與由上述式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物的莫耳比([式(1)所表示之化合物之莫耳數]/[由式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物之莫耳數])為2～40。 式(1)：Rf1 -Q1 -SiR1 p X1 3 － p (式(1)中， Rf1 為基：Ck F2k ＋ 1 (其中，k為1～8之整數)， Q1 為碳原子數1～6之二價烴基， R1 分別獨立為碳原子數1～6之一價烴基， X1 分別獨立為羥基或水解性基， P為0～2之整數) 式(2)：[A]b1 Q2 [B]b2 (式(2)中， Q2 為(b1＋b2)價連結基， A為Rf3 -O-Rf2 -(Rf2 為聚(氧氟伸烷基)鏈，Rf3 為全氟烷基)所表示之基， B為具有1個-R12 -(SiR2 r X2 3 － r )(R12 為亦可於碳-碳原子間或與Si鍵結之相反側之末端具有醚性氧原子、或亦可於碳-碳原子間具有-NH-之碳原子數2～10之烴基，R2 分別獨立為氫原子、或碳原子數1～6之一價烴基，該烴基亦可含有取代基，X2 分別獨立為羥基或水解性基，r為0～2之整數)且不包含氟原子之一價基， Q2 及B不包含環狀矽氧烷結構， b1為1～3之整數， b2為2～9之整數， 於b1為2以上之情形時，b1個A可相同亦可不同， b2個B可相同亦可不同) [2]如上述[1]中所記載之撥水膜形成用組合物，其中式(2)中之Rf2 為-(Ca F2a O)n -(a為1～6之整數，n為2以上之整數，各-Ca F2a O-單元可相同亦可不同)所表示之基。 [3]如上述[1]中所記載之撥水膜形成用組合物，其中式(2)中之Rf2 為基：-(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n1 -(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n2 -(CF2 CF2 CF2 CF2 O)n3 -(CF2 CF2 CF2 O)n4 -(CF(CF3 )CF2 O)n5 -(CF2 CF2 O)n6 -(CF2 O)n7 -(n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7分別獨立為0以上之整數，n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7之合計為2以上，各重複單元可以嵌段、交替、無規之任一方式存在)所表示之基。 [4]一種撥水膜，其係使用如上述[1]至[3]中任一項所記載之撥水膜形成用組合物而形成。 [5]一種附撥水膜之基體，其具備基體且於上述基體上之至少一部分具備如上述[4]中所記載之撥水膜。 [6]如上述[5]中所記載之附撥水膜之基體，其於上述基體與上述撥水膜之間具備基底層。 [7]如上述[5]或[6]中所記載之附撥水膜之基體，其中上述基體為玻璃或藍寶石。 [8]一種物品，其包含如上述[5]至[7]中任一項所記載之附撥水膜之基體。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種能夠形成撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性優異之撥水膜的撥水膜形成用組合物。進而，根據本發明，可提供一種使用該撥水膜形成用組合物而形成之撥水膜、於基體上之至少一部分具備該撥水膜之附撥水膜之基體、及包含該附撥水膜之基體之輸送機器用窗材料、相機/感測器類之窗材料/透鏡等物品。
以下，對本發明之實施形態進行說明。再者，本發明並非限於下述說明而解釋者。 於本說明書中，式所表示之化合物或基亦書寫為附加該式之編號之化合物或基，例如式(1)所表示之化合物亦書寫為化合物(1)。 [撥水膜形成用組合物] 本發明之撥水膜形成用組合物按以下之比率包含化合物(1)、及由式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物(以下，亦稱為「化合物(21)」)。 撥水膜形成用組合物中之化合物(1)及化合物(21)之含量係如下之比率：化合物(1)中之SiR1 p X1 3 － p 與化合物(21)中之SiR2 r X2 3 － r 的莫耳比([化合物(1)中之SiR1 p X1 3 － p 之莫耳數]/[化合物(21)中之SiR2 r X2 3 － r 之莫耳數])為1.5～20，且上述撥水膜形成用組合物中之化合物(1)與化合物(21)之含量之莫耳比([化合物(1)之莫耳數]/[化合物(21)之莫耳數])成為2～40。 本發明之撥水膜形成用組合物以成為上述特定之量比之方式含有具有全氟烷基且不具有醚鍵之水解性矽烷化合物(化合物(1))、及具有聚(氧氟伸烷基)並且具有複數個特定結構之水解性矽烷基之化合物(化合物(21))，藉此能夠形成撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性優異之撥水膜。 於本發明之撥水膜形成用組合物中，化合物(1)中之SiR1 p X1 3 － p 與化合物(21)中之SiR2 r X2 3 － r 之莫耳比較佳為1.5～10，更佳為1.5～8。又，本發明之撥水膜形成用組合物之化合物(1)與化合物(21)之含量之莫耳比較佳為3～30，更佳為4～20。 〈化合物(1)〉 化合物(1)係下式(1)所表示之具有全氟烷基之水解性矽烷化合物。 式(1)：Rf1 -Q1 -SiR1 p X1 3 － p 式(1)中，Rf1 為基：Ck F2k ＋ 1 (其中，k為1～8之整數)，可為直鏈狀亦可為支鏈狀。若考慮環境負荷，則k較佳為1～6之整數。其中，就耐候性優異之方面而言，較佳為直鏈狀之基：CF3 (CF2 )k － 1 (其中，k如上所述)，更佳為CF3 (CF2 )3 -、CF3 (CF2 )4 -、或CF3 (CF2 )5 -，尤其較佳為CF3 (CF2 )5 -。 式(1)中，Q1 為碳原子數1～6之二價烴基，可列舉：直鏈狀或支鏈狀之伸烷基、於碳原子數2～6之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基之碳-碳原子間具有醯胺基或醚性氧原子的基等。其中，就耐候性優異之方面而言，較佳為碳原子數1～6之直鏈狀之伸烷基：-(CH2 )t -(其中，t為1～6之整數)，更佳為-(CH2 )2 -、-(CH2 )3 -、或-(CH2 )4 -，尤其較佳為-(CH2 )2 -。 式(1)中，R1 為碳原子數1～6之一價烴基，可列舉直鏈狀或支鏈狀之烷基。其中，就獲取容易性方面而言，較佳為碳原子數1～4之直鏈狀或支鏈狀烷基，更佳為甲基或乙基。於存在複數個之情形時，R1 可相同亦可不同，但就獲取容易性方面而言，較佳為相同者。 式(1)中，X1 為羥基或水解性基。此處，水解性基意指可藉由Si-X1 之水解而形成Si-OH之基，例如可列舉：烷氧基、醯氧基、酮肟基、烯氧基、胺基、胺基氧基、醯胺基、異氰酸基、鹵素原子等。X1 較佳為羥基、烷氧基(例如碳原子數1～4之烷氧基)、異氰酸基或鹵素原子(例如氯原子)，更佳為甲氧基、乙氧基、或氯原子，尤其較佳為甲氧基。於存在複數個之情形時，X1 可相同亦可不同，但就獲取容易性方面而言，較佳為相同者。 於X1 為氯原子之情形時，反應性較高，即便不添加酸性觸媒，水解反應亦充分進行。根據用途，可較佳地使用X1 為氯原子之化合物。 式(1)中，p為0～2之整數，就密接性、耐久性優異之方面而言，較佳為0或1，更佳為0。 作為化合物(1)，例如可列舉以下。式中，k、t、X1 、R1 之例示及較佳之態樣如上所述。 式(1-1)：CF3 (CF2 )k － 1 -(CH2 )t -SiX1 3 式(1-2)：CF3 (CF2 )k － 1 -(CH2 )t -SiR1 X1 2 化合物(1)可單獨使用，亦可併用2種以上。化合物(1)可藉由通常之製造方法而製造，又，可商業性獲得。 〈化合物(21)〉 化合物(21)係下式(2)所表示之具有聚(氧氟伸烷基)、及複數個特定結構之水解性矽烷基之化合物，且為數量平均分子量3000以上之化合物。 式(2)：[A]b1 Q2 [B]b2 式(2)中，A為Rf3 -O-Rf2 -所表示之基。 Rf3 為全氟烷基，碳原子數較佳為1～20，更佳為1～6。Rf3 可為直鏈狀亦可為支鏈狀。其中，就獲取容易性方面而言，較佳為直鏈狀之基：CF3 (CF2 )m2 － 1 (其中，m2為1～20，較佳為1～6)，更佳為CF3 -、或CF3 (CF2 )2 -，尤其較佳為CF3 (CF2 )2 -。 式(2)中，Rf2 為聚(氧氟伸烷基)鏈。 Rf2 例如為-(Ca F2a O)n -(a為1～6之整數，n為2以上之整數，各-Ca F2a O-單元可相同亦可不同)。-Ca F2a O-單元可為直鏈狀亦可為支鏈狀，例如可列舉：-CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O-、-CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O-、-CF2 CF2 CF2 CF2 O-、-CF2 CF2 CF2 O-、-CF(CF3 )CF2 O-、-CF2 CF2 O-、-CF2 O-。n可根據所需之數量平均分子量適宜調整。n之較佳之上限值為200。 Rf2 亦可為複數個單元之組合，於該情形時，各單元可以嵌段、交替、無規之任一方式存在。例如就耐光性優異之方面而言，較佳為包含-CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O-、-CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O-、-CF2 CF2 CF2 CF2 O-，該等結構之存在比率宜較大，就合成容易性方面而言，更佳為將-CF2 CF2 CF2 CF2 O-與-CF2 CF2 O-組合而成之單元即-CF2 CF2 O-CF2 CF2 CF2 CF2 O-。 關於Rf2 ，具體而言，可列舉-(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n1 -(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n2 -(CF2 CF2 CF2 CF2 O)n3 -(CF2 CF2 CF2 O)n4 -(CF(CF3 )CF2 O)n5 -(CF2 CF2 O)n6 -(CF2 O)n7 -(此處，n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7分別獨立為0以上之整數，n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7之合計為2以上，各重複單元可以嵌段、交替、無規之任一方式存在)。 作為Rf2 ，較佳為{(CF2 O)n11 (CF2 CF2 O)n12 }、(CF2 CF2 O)n13 、(CF2 CF2 CF2 O)n14 、(CF2 CF2 O-CF2 CF2 CF2 CF2 O)n15 ，更佳為{(CF2 O)n11 (CF2 CF2 O)n12 }、(CF2 CF2 CF2 O)n14 。其中，n11為1以上之整數，n12為1以上之整數，n11＋n12為2～200之整數，n11個CF2 O及n12個CF2 CF2 O之鍵結順序無限定。n13及n14為2～200之整數，n15為1～100之整數。 式(2)中，Rf3 -O-Rf2 -所表示之基A之數量(b1)為1～3之整數。式(2)中，於存在複數個基A之情形時，基A可相同亦可不同。基A與化合物(1)中之全氟烷基係有助於所獲得之撥水膜之撥水性之基。於化合物(21)具有複數個基A之情形時，Rf3 -O-Rf2 -基之密度變高，就表面層之耐摩擦性優異之方面而言較佳。 式(2)中，基B係於末端具有1個-R12 -(SiR2 r X2 3 － r )(以下，亦稱為「基(Bt)」)，且不包含環狀矽氧烷結構及氟原子之一價基。 基B具體而言係-Y-R12 -(SiR2 r X2 3 － r )所示之基。藉由-Y-而基(Bt)與Q2 連結。Y為單鍵，或為不包含環狀矽氧烷結構及氟原子之二價有機基。Y例如為於末端包含碳原子數6～8之伸苯基等伸芳基之伸烷基(例如碳原子數8～16之伸烷基-伸芳基等)、伸烷基(例如碳原子數1～20)與矽伸烷基結構(例如碳原子數1～10、Si原子數2～10)或矽伸芳基結構(例如碳原子數1～10、Si原子數2～10)鍵結而成之二價基，基(Bt)側之末端為伸烷基以外。Y所鍵結之Q2 之原子為構成主鏈之原子，具體而言，可列舉：Si、C、N。Y較佳為單鍵。 R12 係亦可於碳-碳原子間或與Si鍵結之相反側之末端具有醚性氧原子、或亦可於碳-碳原子間具有-NH-之碳原子數2～10之烴基。具體而言，較佳為選自由-CH2 CH2 -、-CH2 CH2 CH2 -、-CH2 OCH2 CH2 CH2 -、-OCH2 CH2 CH2 -所組成之群中之基(其中，右側鍵結於Si)，就撥水膜之耐光性優異之方面而言，尤佳為不具有醚性氧原子之-CH2 CH2 -、-CH2 CH2 CH2 -。於式(2)中存在複數個之基B之R12 可均為相同之基，亦可均為不同之基。 X2 係羥基或水解性基，作為水解性基，應用X1 中之水解性基之例示及較佳之態樣。r為0～2之整數，就密接性及耐久性優異之方面而言，較佳為0或1，更佳為0。於存在複數個X2 之情形時，X2 可相同亦可不同，但就獲取容易性方面而言，較佳為相同者。 R2 係氫原子、或碳原子數1～6之一價烴基，該烴基亦可含有取代基。作為烴基，可列舉直鏈狀或支鏈狀之烷基。其中，就獲取容易性方面而言，較佳為碳原子數1～4之直鏈狀或支鏈狀烷基，更佳為甲基或乙基。作為取代基，可列舉鹵素原子(例如氯原子)。Si所鍵結之R2 之數量即r為0～2之整數。於存在複數個R2 之情形時，R2 可相同亦可不同，但就獲取容易性方面而言，較佳為相同者。 式(2)中，b2所示之基B之數量為2～9之整數。因此，化合物(21)中之基(Bt)之數量為2～9。基(Bt)係有助於所獲得之撥水膜之耐光/耐磨性之基。就所獲得之撥水膜之耐光/耐磨性優異之方面而言，化合物(21)中之基B之數量即基(Bt)之數量較佳為2～4。 再者，化合物(21)所具有之複數個基B可相同亦可不同。關於基(Bt)，亦為可相同亦可不同。 式(2)中，Q2 係(b1＋b2)價連結基。Q2 例如為烴基，亦可於末端或碳原子-碳原子間具有酯鍵、醚鍵、醯胺鍵、胺基甲酸酯鍵、伸苯基、-S-、二價胺基、矽伸烷基結構、矽伸芳基結構、矽氧烷結構(不包括環狀矽氧烷結構)，烴基之氫原子亦可被取代為氟原子。烴基之氫原子亦可被取代為羥基，進行取代之羥基之個數較佳為1～5個。烴基可為直鏈狀亦可為支鏈狀。Q2 中之碳原子數較佳為1～20，更佳為1～10。 再者，於Q2 中，基A與基B亦可鍵結於相同之原子，但較佳為鍵結於不同之原子，更佳為所鍵結之原子彼此於分子內儘可能地隔開。 又，Q2 亦可具有直接鍵結於分子鏈之末端以外之原子的-SiR0 r1 X4 3 － r1 (R0 、X4 、及r1分別與基(Bt)之R2 、X2 、及r相同)，但作為化合物(21)，較佳為不具有基(Bt)以外之水解性矽烷基。再者，於化合物(21)具有直接鍵結於分子鏈之末端以外之原子的-SiR0 r1 X4 3 － r1 之情形時，該-SiR0 r1 X4 3 － r1 於算出化合物(1)之SiR1 p X1 3 － p 與化合物(21)之SiR2 r X2 3 － r 的莫耳比率之情形時不包括於SiR2 r X2 3 － r 中。 化合物(21)之數量平均分子量為3000以上，就耐磨性、耐化學品性優異之方面而言，較佳為3500～20000，更佳為4000～15000。此處，數量平均分子量係藉由利用NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)分析法，以末端基為基準求出氧全氟伸烷基單元之數量(平均值)而算出。 作為化合物(21)，例如可列舉以下之化合物(21-1)～(21-5)。於化合物(21-1)～(21-5)中較佳之數量平均分子量與化合物(21)相同。 (化合物(21-1)) 化合物(21-1)係於下式(2-1)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物。 式(2-1)：RF2 -O-(Rf4 O)m1 -Q3 -[C(O)N(R3 )]p2 -R11 -C[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]3 式(2-1)中，RF2 -O-(Rf4 O)m1 -相當於式(2)中之基A，-Q3 -[C(O)N(R3 )]p2 -R11 -C相當於式(2)中之Q2 ，-R12 -SiR2 r X2 3 － r 相當於式(2)中之基B。式(2-1)所表示之化合物係於一末端具有1個基A，於另一末端具有3個基B之化合物。 再者，式(2-1)中之符號如下所述。 RF2 為碳原子數1～20之全氟烷基； Rf4 為不具有支鏈結構之氟伸烷基； m1為2～200之整數； (Rf4 O)m1 亦可為包含碳原子數不同之2種以上之Rf4 O者； Q3 為不具有支鏈結構之氟伸烷基； R3 為氫原子或烷基； p2為0或1； R11 為單鍵、伸烷基、於伸烷基之末端(其中為與C[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]3 鍵結之側之末端)具有醚性氧原子之基、於碳原子數2以上之伸烷基之碳-碳原子間具有醚性氧原子之基、或於碳原子數2以上之伸烷基之末端(其中為與C[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]3 鍵結之側之末端)及碳-碳原子間具有醚性氧原子之基； R12 為上述式(2)之R12 所表示之基中亦可於碳-碳原子間或與Si鍵結之相反側之末端具有醚性氧原子之碳原子數2～10之烴基； R2 及r與上述式(2)相同； X2 為上述式(2)之X2 所示之基中之水解性基； 3個[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]可相同亦可不同。 式(2-1)中之RF2 -O-(Rf4 O)m1 -之較佳之形態與式(2)中之基A之較佳之形態相同。又，式(2-1)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態與式(2)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態相同。 Q3 可為不具有支鏈結構之全氟伸烷基，亦可為包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之氟伸烷基。Q3 中之碳原子數較佳為1～20，更佳為1～10。根據Q3 不具有支鏈結構之化合物(21-1)，可形成耐摩擦性及潤滑性優異之表面層。 Q3 係來自Rf4 之氟伸烷基、或來自具有於製造化合物(21-1)時所使用之醯胺基及水解性矽烷基之化合物的氟伸烷基。 於p2為0之情形、且Q3 為包含2個以上之氫原子的不具有支鏈結構之氟伸烷基之情形、且在R11 之與Q3 鍵結之側之末端不存在醚性氧原子之情形時，於Q3 之與R11 鍵結之側之末端的碳原子上鍵結有至少1個氟原子。 作為[C(O)N(R3 )]p2 基中之R3 ，就化合物(21-1)之製造容易性方面而言，較佳為氫原子。於R3 為烷基之情形時，作為烷基，較佳為碳原子數1～4之烷基。 關於R11 ，於p2為0之情形時，作為R11 ，就化合物(21-1)之製造容易性方面而言，較佳為選自由單鍵、-CH2 O-、-CH2 OCH2 -、-CH2 OCH2 CH2 O-及CH2 OCH2 CH2 OCH2 -所組成之群中之基(其中，左側鍵結於Q3 )。於p2為1之情形時，作為R11 ，就化合物(21-1)之製造容易性方面而言，較佳為選自由單鍵、-CH2 -及CH2 CH2 -所組成之群中之基。 又，作為化合物(21-1)之較佳之形態，可例示於式(2-1a)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物(亦稱為化合物(21-1a))。 式(2-1a)：RF2 -O-Q11 -(RF1 O)m10 -Q12 -[C(O)N(R3 )]p2 -R11 -C[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]3 其中，RF2 、R3 、p2、R11 、R12 、R2 、X2 及r與上述式(2-1)相同； Q11 為單鍵、包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之碳原子數1～20之氟伸烷基、於包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之碳原子數1～20之氟伸烷基之末端(其中，與RF2 -O鍵結之側之末端除外)具有醚性氧原子之基、於包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之碳原子數2～20之氟伸烷基之碳-碳原子間具有醚性氧原子之基、或於包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之碳原子數2～20之氟伸烷基之末端(其中，與RF2 -O鍵結之側之末端除外)及碳-碳原子間具有醚性氧原子之基(其中，氧數為10以下)； RF1 為不具有支鏈結構之碳原子數1～6之全氟伸烷基； m10為2～200之整數； (RF1 O)m10 亦可為包含碳原子數不同之2種以上之RF1 O者； Q12 為不具有支鏈結構之全氟伸烷基、包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之氟伸烷基、或於包含1個以上之氫原子的不具有支鏈結構之碳原子數2以上之氟伸烷基之碳-碳原子間具有醚性氧原子之基。 式(2-1a)中之RF2 -O-Q11 -(RF1 O)m10 -之較佳之形態與式(2)中之基A之較佳之形態相同。又，式(2-1a)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態與式(2)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態相同。 Q12 於p2為0之情形、且例如(RF1 O)m10 為{(CF2 O)n11 (CF2 CF2 O)n12 }或(CF2 CF2 O)n13 之情形時為碳原子數1之全氟伸烷基，於(RF1 O)m10 為(CF2 CF2 CF2 O)n14 之情形時為碳原子數2之全氟伸烷基，於(RF1 O)m10 為(CF2 CF2 O-CF2 CF2 CF2 CF2 O)n15 之情形時為碳原子數3之直鏈之全氟伸烷基。 -[C(O)N(R3 )]p2 -R11 -之較佳之形態與式(2-1)中之-[C(O)N(R3 )]p2 -R11 -之較佳之形態相同。 將式(2-1a)所表示之化合物之具體例示於以下。其中，於以下式中，PFPE表示RF2 -O-Q11 -(RF1 O)m10 -Q12 -。PFPE之較佳之形態成為將上述較佳之RF2 、Q11 、(RF1 O)m10 及Q12 組合而成者。再者，作為化合物(21-1a)，可列舉於以下化合物中以數量平均分子量成為3000以上之方式調整PFPE而成之化合物。 [化1][化2](化合物(21-2)) 化合物(21-2)係於下式(2-2)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物。 式(2-2)：RF2 -O-Q4 -(Rf11 O)m11 -Rf12 -R13 -N[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]2 式(2-2)中，RF2 -O-Q4 -(Rf11 O)m11 -相當於式(2)中之基A，-Rf12 -R13 -N相當於式(2)中之Q2 ，-R12 -SiR2 r X2 3 － r 相當於式(2)中之基B。式(2-2)所表示之化合物係於一末端具有1個A，於另一末端具有2個B之化合物。 再者，式(2-2)中之符號如下所述。 RF2 與上述式(2-1)相同， Q4 為單鍵、包含1個以上之氫原子之碳原子數1～20之氟伸烷基、於包含1個以上之氫原子之碳原子數1～20之氟伸烷基之末端(其中，與RF2 -O鍵結之側之末端除外)具有醚性氧原子之基、於包含1個以上之氫原子之碳原子數2～20之氟伸烷基之碳-碳原子間具有醚性氧原子之基、或於包含1個以上之氫原子之碳原子數2～20之氟伸烷基之末端(其中，與RF2 -O鍵結之側之末端除外)及碳-碳原子間具有醚性氧原子之基， Rf11 及Rf12 分別獨立為全氟伸烷基，m11為2～200之整數，(Rf11 O)m11 亦可為包含碳原子數不同之2種以上之Rf11 O者， R13 為單鍵、伸烷基、於伸烷基之末端(其中，與N鍵結之側之末端除外)具有醚性氧原子或NH-之基、於碳原子數2以上之伸烷基之碳-碳原子間具有醚性氧原子或NH-之基、或於碳原子數2以上之伸烷基之末端(其中，與N鍵結之側之末端除外)及碳-碳原子間具有醚性氧原子或NH-之基，碳原子數較佳為0～20，更佳為0～10， R12 為上述式(2)之R12 所示之基中亦可於碳-碳原子間具有醚性氧原子或NH-之碳原子數2～10之烴基； R2 及r與上述式(2)相同； X2 為上述式(2)之X2 所示之基中之水解性基； 2個[-R12 -SiR2 r X2 3 － r ]可相同亦可不同。 式(2-2)中之RF2 -O-Q4 -(Rf11 O)m11 -之較佳之形態與式(2)中之基A之較佳之形態相同。又，式(2-2)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態與式(2)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態相同。 Rf12 例如於(Rf11 O)m11 為{(CF2 O)n11 (CF2 CF2 O)n12 }或(CF2 CF2 O)n13 之情形時為碳原子數1之全氟伸烷基，於(Rf11 O)m11 為(CF2 CF2 CF2 O)n14 之情形時為碳原子數2之全氟伸烷基，於(Rf11 O)m11 為(CF2 CF2 O-CF2 CF2 CF2 CF2 O)n15 之情形時為碳原子數3之直鏈之全氟伸烷基。若Rf12 為不具有支鏈結構之全氟伸烷基，則撥水膜之耐摩擦性及潤滑性優異。 作為R13 ，就化合物(2-2)之製造容易性方面而言，較佳為選自由-CH2 -、-CH2 CH2 -、-CH2 CH2 CH2 -、-CH2 OCH2 CH2 -及-CH2 NHCH2 CH2 -所組成之群中之基(其中，左側鍵結於Rf12 )。 將式(2-2)所表示之化合物之具體例示於以下。其中，於以下式中，PFPE表示RF2 -O-Q4 -(Rf11 O)m11 -Rf12 -。PFPE之較佳之形態成為將上述較佳之RF2 、Q4 、(Rf11 O)m11 、及Rf12 組合而成者。再者，作為化合物(21-2)，可列舉於以下化合物中以數量平均分子量成為3000以上之方式調整PFPE而成之化合物。 [化3](化合物(21-3)) 化合物(21-3)係於下式(2-3)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物。 式(2-3)：[Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -Rf24 -G-]a1 Z[-(R23 -O)c -R24 -SiR2 r X2 3 － r ]a2 式(2-3)中，Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -相當於式(2)中之基A，-(R23 -O)c -R24 -SiR2 r X2 3 － r 相當於式(2)中之基B，包含Z之殘基相當於式(2)中之Q2 。式(2-3)所表示之化合物係於一末端具有a1個具有基A之一價基，於另一末端具有a2個基B之化合物。 再者，式(2-3)中之符號如下所述。 Rf21 於m21為0時為碳原子數1～20之直鏈狀之全氟烷基，於m21為1以上時為碳原子數1～20之直鏈狀之全氟烷基、或於全氟烷基之碳原子-碳原子間具有1個以上之醚性氧原子的碳原子數2～20之直鏈狀之基； Rf22 為具有1個以上之氫原子之碳原子數1～10之直鏈狀之氟伸烷基； m21為0～10之整數，於m21為2以上時，(Rf22 O)m21 亦可為包含碳原子數及氫數之任一者或兩者不同之2種以上之Rf22 O者； Rf23 為碳原子數1～10之直鏈狀之全氟伸烷基； m22為2～200之整數，(Rf23 O)m22 亦可為包含碳原子數不同之2種以上之Rf23 O者； Rf24 為碳原子數1～10之直鏈狀之全氟伸烷基； G為-R21 -O-R22 -、-R21 -CONH-R22 -、-CONH-R22 -或單鍵； R21 及R22 為伸烷基； c為0或1； Z為(a1＋a2)價烴基、或於烴基之碳原子-碳原子間具有1個以上之醚性氧原子的碳原子數2以上之(a1＋a2)價基，碳原子數較佳為2～20； R23 及R24 為伸烷基，合計之碳原子數為2～10； R2 及r與上述式(2)相同； X2 為上述式(2)之X2 所示之基中之水解性基； a1為1～3之整數， a2為2～9之整數，較佳為2～4， 於a1為1時，a2為4以上，於a1為2以上時，a2為2以上；於a1為2以上時，a1個[Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -Rf24 -G-]可相同亦可不同；a2個[-(R23 -O)c -R24 -SiR2 r X2 3 － r ]可相同亦可不同。 式(2-3)中之Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -之較佳之形態與式(2)中之基A之較佳之形態相同。又，式(2-3)中之-(R23 -O)c -R24 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態與式(2)中之-R12 -SiR2 r X2 3 － r 之較佳之形態相同。 Rf24 例如於(Rf23 O)m22 為{(CF2 O)n11 (CF2 CF2 O)n12 }或(CF2 CF2 O)n13 之情形時為-CF2 -，於(Rf23 O)m22 為(CF2 CF2 CF2 O)n14 之情形時為-CF2 CF2 -，於(Rf23 O)m22 為(CF2 CF2 O-CF2 CF2 CF2 CF2 O)n15 之情形時為-CF2 CF2 CF2 -。 於G為-R21 -O-R22 -或-R21 -CONH-R22 -之情形時，R21 與R22 之合計碳原子數為2～10。-R21 -O-R22 -較佳為-CH2 -O-CH2 -。於G為-CONH-R22 -之情形時，R22 之碳原子數為1～10，較佳為1。 將式(2-3)所表示之化合物之具體例示於以下，其中，於以下式中，PFPE表示Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -Rf24 -。PFPE之較佳之形態成為將上述較佳之Rf21 -O-(Rf22 O)m21 -(Rf23 O)m22 -及Rf24 組合而成者。再者，作為化合物(21-3)，可列舉於以下化合物中以數量平均分子量成為3000以上之方式調整PFPE而成之化合物。 [化4][化5](化合物(21-4)) 化合物(21-4)係於下式(2-4)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物。 式(2-4)：[化6] 式(2-4)中，A1 相當於式(2)中之基A，-Q10 -C(OH)＜相當於式(2)中之Q2 ，-Y1 -R12 -SiR2 r X2 3 － r 相當於式(2)中之基B。式(2-4)所表示之化合物係於一末端具有1個基A，於另一末端具有2個基B之化合物。 再者，於式(2-4)中，A1 與式(2)中之基A相同，Q10 與上述式(2-1)中之Q3 相同。-Y1 -R12 -(SiR2 r X2 3 － r )與式(2)中之基B相同。2個-Y1 -R12 -(SiR2 r X2 3 － r )可相同亦可不同。 作為Y1 之具體例，可列舉：單鍵、-(CH2 )3 -Si(CH3 )2 -Ph-Si(CH3 )2 -、-(CH2 )3 -Si(CH3 )2 -O-Si(CH3 )2 -等。 將化合物(21-4)之具體例示於以下。 [化7](化合物(21-5)) 化合物(21-5)係於下式(2-5)所表示之化合物中數量平均分子量為3000以上之化合物。 式(2-5)：A-Q5 -SiQ6 k1 Y2 3 － k1 式(2-5)中，A與式(2)之基A相同， Q5 表示二價有機基， Y2 分別獨立表示羥基、能夠進行水解之基、或烴基，但Y2 均為烴基之情形除外， Q6 分別獨立表示-R12 -SiX2 n21 Q7 3 － n21 ， R12 分別獨立與式(2)之R12 相同， X2 分別獨立與式(2)之X2 相同， Q7 分別獨立表示氫原子、碳原子數1～6之一價烴基或Q8 ， Q8 與Q6 相同， n21於各Q6 及Q8 中分別獨立為選自0～3中之整數，n21之總和為1以上， Q6 中，經由R12 基而連結為直鏈狀之Si最多為5個， k1分別獨立為選自1～3中之整數。 再者，於式(2-5)中，相當於化合物(2)之基B的基之數量為2～9。 式(2-5)中，Q5 較佳為-Rf6 -(R6 )p3 -(Q9 )q3 -R7 -所表示之二價有機基。 Rf6 為碳原子數1～10之直鏈狀之全氟伸烷基， R6 表示(CH2 )s1 或伸苯基， R7 表示(CH2 )t1 或伸苯基， Q9 為將選自-O-、-S-、伸苯基、-C(O)O-、-CONR8 -、-O-CONR8 -、-NR8 -(R8 分別獨立表示氫原子、苯基或碳原子數1～6之烷基)、-Si(R9 )2 -、-(Si(R9 )2 O)t2 -Si(R9 )2 -及(CH2 )t3 -(R9 分別獨立為苯基及碳原子數1～6之烷基)中之1～10個進行連結而成之基， t2分別獨立為1～100之整數， t3分別獨立為1～20之整數， s1為1～20之整數， t1為1～20之整數， p3為0或1， q3為0或1。 作為式(2-5)所表示之化合物，例如較佳為以下之式所表示之化合物。其中，關於式中之符號，R2 及r以外之符號與式(2-5)中相同，R2 及r與式(2)之R2 及r相同。 [化8]將上述式所表示之化合物中之化合物(21-5)之具體例示於以下。 式(21-5a)：CF3 CF2 CF2 O(CF2 CF2 CF2 O)20 CF2 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]3 式(21-5b)：CF3 O(CF2 CF2 O)15 (CF2 O)16 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]3 式(21-5c)：CF3 CF2 CF2 O(CF2 CF2 CF2 O)20 CF2 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si{CH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]2.5 (OCH3 )0.5 }3 再者，於化合物(21-5c)中，[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]2.5 (OCH3 )0.5 意指[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]及(OCH3 )平均存在2.5及0.5。 化合物(2)例如可藉由以下方式進行合成。作為原料，準備於全氟伸烷基之兩末端分別具有CF2 =CF-O-、及羧基或能夠轉化為羧基之基的化合物，並使其於醇或含氟醇之存在下進行聚合，而形成包含經全氟化之氧伸烷基單元作為重複單元之化合物。其次，將該化合物氟化後，繼而與低級醇進行反應，進而於分子末端導入複數個乙烯性不飽和鍵後，與具有反應性基之含水解性基之矽烷化合物進行反應，藉此可獲得化合物(2)。 又，例如可藉由向具有特定數量(基A與基B之合計導入數)之OH基之多元醇導入與基B之導入量相應之乙烯性不飽和鍵後，利用剩餘之OH基導入基A，進而使乙烯性不飽和鍵與具有反應性基之含水解性基之矽烷化合物進行反應而獲得化合物(2)。 化合物(21)亦可使用市售品。作為市售品，可列舉：X-71-195(信越化學工業公司製造)、UF503(DAIKIN INDUSTRIES公司製造)、UD509 (DAIKIN INDUSTRIES公司製造)等。 本發明之撥水膜形成用組合物以上述特定之量比含有化合物(1)及化合物(21)。化合物(1)及化合物(21)亦可於不會對形成撥水膜時之作業性造成影響之範圍內，於撥水膜形成用組合物中分別形成部分水解縮合物，亦可形成兩者之部分水解共縮合物。如此以本發明之量比含有化合物(1)及化合物(21)之撥水膜形成用組合物之化合物(1)及化合物(21)適度地進行部分水解(共)縮合而成之組合物亦為本發明之撥水膜形成用組合物之範疇。 〈溶劑〉 就作業性、撥水膜之厚度控制之容易性等方面而言，本發明之撥水膜形成用組合物可包含溶劑，作為溶劑，較佳為有機溶劑。作為有機溶劑，可使用使必須成分溶解者，例如可列舉：醇類、醚類、酮類、芳香族烴類、石蠟系烴類、酯類(例如乙酸酯類)等。其中，較佳為包含氟原子之有機溶劑(例如氟醇、氟烴(全氟己烷、全氟甲基環己烷、全氟-1,3-二甲基環己烷、二氯五氟丙烷等)、氟醚(CF3 CH2 OCF2 CHF2 等))。溶劑可單獨使用，亦可併用2種以上。本發明之組合物亦可包含為了製造化合物(1)或化合物(21)而使用之溶劑。 就所獲得之撥水膜之均一性方面而言，溶劑之含量相對於化合物(1)與化合物(21)之合計100質量份，較佳為9900質量份以下，更佳為2900質量份以下，例如可設為400～2900質量份。 〈其他成分〉 本發明之撥水膜形成用組合物可於無損本發明之效果之範圍內包含除化合物(1)、化合物(21)、溶劑以外之其他成分。作為其他成分，可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦等金屬氧化物之微粒子、染料、顏料、防污性材料、硬化觸媒、各種樹脂等。其他成分之添加量相對於撥水膜形成用組合物之固形物成分(除溶劑以外之成分)之100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為10質量份以下，例如可設為1～10質量份。 可使用本發明之撥水膜形成用組合物形成撥水膜。撥水膜之形成方法可利用含氟有機矽烷化合物系之表面處理劑中之公知之方法，例如可列舉如下方法，即於基體之表面藉由刷塗、淋塗、旋轉塗佈、浸漬塗佈、刮刀塗佈、噴霧塗佈、手塗而應用撥水膜形成用組合物，於大氣中或氮氣氛圍下視需要使之乾燥後使之硬化。硬化之條件可適宜選擇，例如可列舉溫度20～50℃、濕度50～95%RH之條件。撥水膜之厚度無特別限定，較佳為50 nm以下，例如可設為2～20 nm之厚度。 [附撥水膜之基體] 〈基體〉 本發明之附撥水膜之基體中之基體只要為包含通常要求賦予撥水性之材質之基體，則無特別限定。作為此種基體之材質，可列舉金屬、塑膠、玻璃、陶瓷、藍寶石、或其組合(複合材料、積層材料等)，其中較佳為玻璃、藍寶石。 玻璃可列舉鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃及石英玻璃等，較佳為鈉鈣玻璃。再者，於基體為鈉鈣玻璃之情形時，就耐久性方面而言，較佳為進而設置防止Na+ 離子之溶出之膜。又，於基體為藉由浮式法而製造之玻璃之情形時，就耐久性方面而言，較佳為於表面錫量較少之面設置撥水膜。玻璃亦可進行化學強化。 基體之形狀無特別限定，可為板狀或者整個面或一部分具有曲率之形狀。基體之厚度可根據用途適宜選擇，較佳為1～10 mm。 於附撥水膜之基體中，撥水膜形成於基體上之至少一部分。基體表面之形成撥水膜之區域無特別限定，可根據用途適宜選擇。於基體為板狀之情形時，撥水膜通常形成於基體之兩個主面或任一主面之整個面。 〈基底層〉 本發明之附撥水膜之基體可於基體與撥水膜之間具備基底層。作為基底層，可使用SiO2 之蒸鍍膜、利用水解性矽烷化合物而形成之膜(以下，亦稱為「基底二氧化矽層」)、抗反射層等。藉由具備此種基底層，撥水膜與基體之密接性增大，可期待耐久性之進一步提高。 (基底二氧化矽層) 基底二氧化矽層可利用式(3)：Si(X3 )4 (式中，X3 分別獨立為碳原子數1～4之烷氧基、鹵素原子或異氰酸基)所表示之化合物、或其部分水解縮合物等而形成。 作為化合物(3)，具體而言，可列舉：Si(NCO)4 、Si(OCH3 )4 、Si(OC2 H5 )4 等。 基底二氧化矽層之厚度無特別限定，較佳為設為20 nm以下，例如可設為1～10 nm。 (抗反射層) 抗反射層具有提高撥水膜與基體之密接性並且降低反射率之功能。藉由具有抗反射層，而與不具有抗反射層之情形相比，附撥水膜之基體之反射率變低。 作為抗反射層，例如可列舉以下者。 (1)折射率相對較低之低折射率層與折射率相對較高之高折射率層交替積層而成之多層結構之抗反射層。 (2)包含折射率低於基體之低折射率層之抗反射層。 高折射率層與低折射率層可為分別包括1層之形態，亦可為分別包括2層以上之構成。於分別包括2層以上之高折射率層與低折射率層之情形時，較佳為將高折射率層與低折射率層交替積層之形態。 (1)之抗反射層中之高折射率層、低折射率層之材料無特別限定，可考慮所要求之抗反射之程度或生產性等而選擇。作為構成高折射率層之材料，例如可較佳地使用選自氧化鈮(Nb2 O5 )、氧化鈦(TiO2 )、氧化鋯(ZrO2 )、氮化矽(SiN)、氧化鉭(Ta2 O5 )中之1種以上。作為構成低折射率層之材料，可較佳地使用氧化矽(SiO2 ，二氧化矽)。 作為高折射率層，就生產性或折射率之程度而言，更佳為上述高折射率層包含選自氧化鈮層、氧化鉭層、氧化鈦層中之任一者，且上述低折射率層為氧化矽層。(1)之抗反射層之厚度較佳為100～800 nm，更佳為200～600 nm。 於(2)之抗反射層中，低折射率層之折射率根據基體之折射率而設定。例如於基體為玻璃之情形時，低折射率層之折射率較佳為1.1～1.5，更佳為1.1～1.3。 作為(2)之抗反射層，例如可列舉於將二氧化矽作為主成分之基質中具有孔隙之二氧化矽系多孔質膜等。作為二氧化矽系多孔質膜，例如可列舉包含於粒子內部具有孔隙之中空粒子與基質者等。(2)之抗反射層之厚度較佳為50～300 nm，更佳為80～160 nm。 [物品] 本發明之附撥水膜之基體例如可用作輸送機器用窗材料等輸送機器用物品、相機/感測器類之窗材料等精密機器用物品、透鏡等光學物品。作為輸送機器，可列舉：電車、汽車、船舶及航空器。又，作為用於該等之物品，可列舉：機體、窗玻璃(例如擋風玻璃、側窗玻璃、頂窗玻璃及後窗玻璃)、後視鏡及保險杠。作為輸送機器用物品，較佳為輸送機器用窗玻璃，更佳為汽車用窗玻璃。 本發明之撥水膜係撥水性優異，且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性優異。因此，即便於包括輸送機器用物品於室外之使用在內之各種使用條件下長期使用，亦可維持撥水性，從而適於該用途。 [實施例] 實施例係製備撥水膜形成用組合物，並利用所獲得之撥水膜形成用組合物製備附撥水膜之基體而進行評價。例1～3、6～8、11～13、16、17、20～22為實施例，例4、5、9、10、14、15、18、19、23～25為比較例。再者，於撥水膜形成用組合物中調配之各成分如下所述。 〈化合物(1)〉 C6Cl：CF3 (CF2 )5 CH2 CH2 SiCl3 (SYNQUEST公司製造) C6(OMe)：CF3 (CF2 )5 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 (SYNQUEST公司製造) 〈化合物(21)/化合物(X)〉 如下所述準備作為化合物(21)之化合物(21-a)～化合物(21-d)。又，準備具有聚(氧氟伸烷基)鏈與水解性矽烷基但並不相當於化合物(21)之含聚(氧氟伸烷基)鏈之矽烷化合物(以下，亦稱為「化合物(X)」)即化合物(X-1)～化合物(X-3)。 (化合物(21-a)) 將藉由日本專利特開2015-199906之實施例1之化合物3之合成方法而合成的以下化學式所表示之化合物(數量平均分子量：4,430)作為化合物(21-a)使用。 [化9]p1＝21、q1＝22 (化合物(21-b)) 將藉由日本專利第5761305號之合成例4之合成方法而合成的以下化學式所表示之化合物(數量平均分子量：4,190)作為化合物(21-b)使用。 CF3 CF2 CF2 O(CF2 CF2 CF2 O)20 CF2 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]3 (化合物(21-c)) 將藉由日本專利第5761305號之合成例15之合成方法而合成的以下化學式所表示之化合物(數量平均分子量：3,520)作為化合物(21-c)使用。 CF3 O(CF2 CF2 O)15 (CF2 O)16 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]3 (再者，作為平均組成，包含有0.17個(CF2 CF2 CF2 CF2 O)之重複單元及0.18個(CF2 CF2 CF2 O)之重複單元，但由於微量故而省略書寫) (化合物(21-d)) 將藉由日本專利第5761305號之合成例10之合成方法而合成的以下化學式所表示之化合物(數量平均分子量：5,180)作為化合物(21-d)使用。 CF3 CF2 CF2 O(CF2 CF2 CF2 O)20 CF2 CF2 CH2 OCH2 CH2 CH2 Si{CH2 CH2 CH2 Si[CH2 CH2 CH2 Si(OCH3 )3 ]2.5 (OCH3 )0.5 }3 (化合物(X-1)) 將藉由WO2014/126064中之化合物(ii-2)之合成方法而合成的以下化學式所表示之化合物(數量平均分子量：4,920)作為化合物(X-1)使用。 CF3 CF2 OCF2 CF2 O(CF2 CF2 CF2 CF2 OCF2 CF2 O)13 CF2 CF2 CF2 C(O)NHCH2 CH2 CH2 Si(OMe)3 (化合物(X-2)) 將以下化學式所表示之數量平均分子量為4,570之化合物作為化合物(X-2)使用。 [化10](化合物(X-3)) 將藉由日本專利第5814209號之實施例中之合成方法而合成的以下之化合物a、化合物b、化合物c以化合物a：化合物b：化合物c之莫耳比%成為5：80：15之方式混合，將所得混合物作為化合物(X-3)使用。於該混合物中，數量平均分子量為5,380，每個分子之平均(CH2 )3 Si(OCH3 )3 個數為3個。 (化合物a) [化11]Rfa：-CF2 (OC2 F4 )p (OCF2 )q -OCF2 -(p＝21、q＝24)，n＝3，1個分子中之三烷氧基數平均為5個以上。 (化合物b) [化12]Rfa：-CF2 (OC2 F4 )p (OCF2 )q -OCF2 -(p＝21、q＝24)，n＝3，1個分子中之三烷氧基數平均為2.5個以上。 (化合物c) CF3 (OC2 F4 )p (OCF2 )q -OCF3 (p＝21、q＝24) [例1～25] 如下所述製備用於製造各例之附撥水膜之基體的撥水膜形成用組合物。 (撥水膜形成用組合物1～19之製備) 使用乙酸丁酯(純正化學公司製造)及氫氟烷基(AC6000，旭硝子公司製造)之混合溶劑(乙酸丁酯：AC6000以質量比計為2：8)，將化合物(1)、及化合物(21)以表1、2所示之莫耳比且以將混合溶劑設為100質量%之情形時合計量成為3質量%之方式加以混合。首先，量取混合溶劑放入容器中，依序添加化合物(21)、化合物(1)並攪拌60分鐘，從而獲得撥水膜形成用組合物。 (撥水膜形成用組合物23～25之製備) 除將化合物(21)變更為化合物(X)，並以表3所示之莫耳比與化合物(1)混合以外，與撥水膜形成用組合物1～19同樣地製備。 (撥水膜形成用組合物20之製備) 使用異丙醇(純正化學公司製造)及氫氟烷基醚(AE3000，旭硝子公司製造)之混合溶劑(異丙醇：AE3000以質量比計為2：8)，將化合物(1)、及化合物(21)以表2所示之莫耳比且以將混合溶劑設為100質量%之情形時合計量成為3質量%之方式加以混合。首先，量取混合溶劑放入容器中，依序添加化合物(21)、化合物(1)，進而滴加成為溶液整體質量之0.05%之量的60%硝酸並攪拌60分鐘，從而獲得撥水膜形成用組合物20。 (撥水膜形成用組合物21之製備) 以將混合溶劑設為100質量%之情形時成為0.1質量%之方式變更化合物(1)與化合物(21)之合計量，除此以外，與撥水膜形成用組合物7同樣地製備。 (例1～19、例21、例23～25之附撥水膜之基體之製作) 藉由以下方法形成基底二氧化矽層作為基底層後，藉由刮刀塗佈法塗佈上述各例中所製備之撥水膜形成用組合物，而獲得附撥水膜之基體。 首先，藉由乙酸丁酯(純正化學公司製造)以成為5質量%之方式稀釋四異氰酸酯矽烷(Matsumoto Fine Chemical公司製造)，而製備基底二氧化矽層形成組合物。 作為基體，使用藉由氧化鈰研磨清洗表面並經過乾燥之潔淨之鈉鈣玻璃基板(水接觸角5度、300 mm×300 mm×厚度3 mm)，於該玻璃基板之表面藉由刮刀塗佈法塗佈上述所獲得之基底二氧化矽層形成用組合物0.5 g，並於25℃下乾燥1分鐘而形成基底二氧化矽層(未硬化)。 其次，於各例中，於所形成之基底二氧化矽層(未硬化)之表面，藉由刮刀塗佈法塗佈表1～3所示之編號之上述所獲得之撥水膜形成用組合物0.5 g，於設定為50℃、60%RH之恆溫恆濕槽中保持48小時，而在形成撥水膜之同時進行基底二氧化矽層之硬化。其次，用浸染有2-丙醇之紙巾擦拭撥水膜之表面，而獲得自基體側依序具有基底二氧化矽層及撥水膜之附撥水膜之基體。於所獲得之附撥水膜之基體之所有例中，基底二氧化矽層之厚度為5 nm，撥水膜之厚度為7 nm。 (例22之附撥水膜之基體之製作) 除將基底二氧化矽層形成用組合物之塗佈量變更為0.1 g以外，與例1同樣地形成基底二氧化矽層(未硬化)。其次，於所形成之基底二氧化矽層(未硬化)之表面，利用ASAHI SUNAC公司製造之R-Coater並藉由噴霧法塗佈撥水膜形成用組合物21，於設定為50℃、60%RH之恆溫恆濕槽中保持48小時，而在形成撥水膜之同時進行基底二氧化矽層之硬化，從而獲得自基體側依序具有基底層及撥水膜之附撥水膜之基體。於所獲得之附撥水膜之基體中，基底二氧化矽層之厚度為5 nm，撥水膜之厚度為7 nm。 噴霧法之條件係霧化空氣(Atomizing air)0.075 MPa、圖案空氣(Pattern Air) 0.125 MPa、槍高度50 mm、槍速度500 mm/秒鐘、間距8 mm、液量8 ml/分鐘。 (例20之附撥水膜之基體之製作) 除將基底層變更為藉由以下蒸鍍法而形成之抗反射層以外，與例7同樣地製作例20之附撥水膜之基體。所獲得之撥水膜之厚度為7 nm。 〈抗反射層之形成〉 於進行抽真空，並以設定溫度200℃左右加熱玻璃基板之狀態下保持後，一面向薄膜形成裝置導入Ar氣體與O2 氣體，一面於0.03 Pa左右之壓力下藉由電子束蒸鍍以約14 nm之膜厚形成第1層之高折射率層之Ta2 O5 。此時，向成膜裝置中附帶之離子源流入Ar氣體與O2 氣體，並施加電壓1000 V、電流1000 mA，而於基板上一面輔助氬離子或氧離子一面進行成膜。以下，關於第2～4層，亦同樣地於玻璃基板上一面輔助氬離子或氧離子一面進行成膜。 其次，於0.03 Pa左右之壓力下藉由電子束蒸鍍以約33 nm之膜厚形成第2層之低折射率層之SiO2 。其後，與第1層同樣地，以約121 nm之膜厚形成第3層之高折射率層之Ta2 O5 。其次，與第2層同樣地，以約81 nm之膜厚形成第4層之低折射率層之SiO2 ，從而獲得蒸鍍之抗反射層。藉此，獲得玻璃基板與4層結構之抗反射層積層而成之積層體。 再者，於表1～3中，基底層於基底二氧化矽層之情形時書寫為「二氧化矽」，於抗反射層之情形時書寫為「AR」。再者，於表1～3中，表示化合物(21)(或化合物(X))相對於化合物(1)與化合物(21)(或化合物(X))之合計的質量比(表中書寫為「化合物(21)/[化合物(1)＋化合物(21)][質量比]」、或「化合物(X)/[化合物(1)＋化合物(X)][質量比]」)、化合物(1)與化合物(21)(或化合物(X))之莫耳比(表中書寫為「(化合物(1))/(化合物(21)(或化合物(X)))[莫耳比]」)、化合物(1)中之基：SiR1 p X1 3 － p 與化合物(21)(或化合物(X))中之基：SiR2 r X2 3 － r 之莫耳比(表中書寫為「(化合物(1)中之SiR1 p X1 3 － p )/(化合物(21)(或化合物(X))中之SiR2 r X2 3 － r )[莫耳比]」)。 [評價] 如下所述對上述各例中所獲得之附撥水膜之基體進行評價。 〈水接觸角〉 利用DM-701(協和界面科學公司製造)測定置於附撥水膜之基體之撥水膜表面的直徑1 mm之水滴之接觸角。於撥水膜表面之不同之5處位置進行測定，算出其平均值。 〈初期之水接觸角〉 於進行各試驗前測定水接觸角。再者，若初期之水接觸角為110°以上，則可謂具有充分耐受實際使用之撥水性。 〈耐磨性〉 基於JIS L 0849：2013(ISO 105-X12：2001)，利用往復式平面磨耗試驗機(大榮精機公司製造之PA-300A)，使Rubber Eraser(Minoan公司製造)於負載：5 N、速度：80 rpm之條件下於附撥水膜之基體之撥水膜表面往復1萬次後，測定水接觸角。若試驗後之水接觸角為80°，則可謂具有對實際使用而言充分之耐磨性。 〈耐光性〉 利用東洋精機公司製造之SUNTEST XLS+，於黑面板溫度63℃下對附撥水膜之基體之撥水膜表面照射光線(650 W/m2 、300～700 nm)3000小時後，藉由上述方法測定水接觸角。若試驗後之水接觸角為80°以上，則可謂具有對實際使用而言充分之耐光性。 〈耐光/耐磨性〉 關於在室外之實際使用，劣化因磨耗、光之複合因素而進行。因此，於以下條件下實施耐磨性-耐光性複合試驗。 對附撥水膜之基體之撥水膜表面往復實施1000次上述耐磨性試驗後，實施300小時上述耐光性試驗，將該過程設為1組，測定實施5組後之水接觸角。若試驗後之水接觸角為80°以上，則可謂具有對實際使用而言充分之耐光/耐磨性。 [表1] [表2] [表3] 如表1、2所示，可知實施例之附撥水膜之基體藉由以特定之量比含有化合物(1)及化合物(21)，而撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性(耐光/耐磨性)優異。 另一方面，可知於作為比較例之例4、9、14、18中，若(化合物(1)中之SiR1 p X1 3 － p )/(化合物(21)中之SiR2 r X2 3 － r )[莫耳比]未達1.5則為本發明之範圍外，對於容易凝聚之化合物(21)而言化合物(1)之量不夠充分，故而所獲之撥水膜形成用組合物之形狀不均一，無法形成具有於實用上充分之耐光/耐磨性之撥水膜。又，可知於作為比較例之例5、10、15、19中，若(化合物(1))/(化合物(21))[莫耳比]超過40則為本發明之範圍外，無法使具有耐光/耐磨性提高作用的化合物(21)之量相對於化合物(1)而成為充分之量，由此無法對所獲得之撥水膜賦予於實用上充分之耐光/耐磨性。 進而，可知使用具有聚(氧氟伸烷基)鏈與水解性矽烷基但並不相當於化合物(21)之含聚(氧氟伸烷基)鏈之矽烷化合物(X)來代替化合物(21)的比較例即例23～25無法對所獲得之撥水膜賦予於實用上充分之耐光/耐磨性。 [產業上之可利用性] 根據本發明，提供一種能夠形成撥水性優異，並且耐磨性、尤其是以接近實際使用之形式與耐光性試驗組合評價之耐磨性優異之撥水膜的撥水膜形成用組合物。進而，根據本發明，可提供一種使用該撥水膜形成用組合物而形成之撥水膜、於基體上之至少一部分具備該撥水膜之附撥水膜之基體、及包含該附撥水膜之基體之輸送機器用窗材料、相機/感測器類之窗材料/透鏡等物品。

Claims (8)

  1. 一種撥水膜形成用組合物，其特徵在於：其係包含下式(1)所表示之化合物、及由下式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物者，且 上述式(1)所表示之化合物中之基：SiR1 p X1 3 － p 與由上述式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物中之基：SiR2 r X2 3 － r 的莫耳比([式(1)所表示之化合物中之SiR1 p X1 3 － p 之莫耳數]/[由式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物中之SiR2 r X2 3 － r 之莫耳數])為1.5～20，且上述式(1)所表示之化合物與由上述式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物的莫耳比([式(1)所表示之化合物之莫耳數]/[由式(2)所表示且數量平均分子量為3000以上之化合物之莫耳數])為2～40， 式(1)：Rf1 -Q1 -SiR1 p X1 3 － p (式(1)中， Rf1 為基：Ck F2k ＋ 1 (其中，k為1～8之整數)， Q1 為碳原子數1～6之二價烴基， R1 分別獨立為碳原子數1～6之一價烴基， X1 分別獨立為羥基或水解性基， p為0～2之整數) 式(2)：[A]b1 Q2 [B]b2 (式(2)中， Q2 為(b1＋b2)價連結基， A為Rf3 -O-Rf2 -(Rf2 為聚(氧氟伸烷基)鏈，Rf3 為全氟烷基)所表示之基， B為具有1個-R12 -(SiR2 r X2 3 － r )(R12 為亦可於碳-碳原子間或與Si鍵結之相反側之末端具有醚性氧原子、或亦可於碳-碳原子間具有-NH-之碳原子數2～10之烴基，R2 分別獨立為氫原子、或碳原子數1～6之一價烴基，該烴基亦可含有取代基，X2 分別獨立為羥基或水解性基，r為0～2之整數)且不包含氟原子之一價基， Q2 及B不包含環狀矽氧烷結構， b1為1～3之整數， b2為2～9之整數， 於b1為2以上之情形時，b1個A可相同亦可不同， b2個B可相同亦可不同)。
  2. 如請求項1之撥水膜形成用組合物，其中式(2)中之Rf2 為-(Ca F2a O)n -(a為1～6之整數，n為2以上之整數，各-Ca F2a O-單元可相同亦可不同)所表示之基。
  3. 如請求項1之撥水膜形成用組合物，其中式(2)中之Rf2 為基：-(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n1 -(CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 O)n2 -(CF2 CF2 CF2 CF2 O)n3 -(CF2 CF2 CF2 O)n4 -(CF(CF3 )CF2 O)n5 -(CF2 CF2 O)n6 -(CF2 O)n7 -(n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7分別獨立為0以上之整數，n1、n2、n3、n4、n5、n6及n7之合計為2以上，各重複單元可以嵌段、交替、無規之任一方式存在)所表示之基。
  4. 一種撥水膜，其係使用如請求項1至3中任一項之撥水膜形成用組合物而形成。
  5. 一種附撥水膜之基體，其具備基體且於上述基體上之至少一部分具備如請求項4之撥水膜。
  6. 如請求項5之附撥水膜之基體，其於上述基體與上述撥水膜之間具備基底層。
  7. 如請求項5或6之附撥水膜之基體，其中上述基體為玻璃或藍寶石。
  8. 一種物品，其包含如請求項5至7中任一項之附撥水膜之基體。
TW106126854A 2016-08-19 2017-08-09 撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品 TW201829718A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016161075 2016-08-19
JP??2016-161075 2016-08-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201829718A true TW201829718A (zh) 2018-08-16

Family

ID=61197251

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106126854A TW201829718A (zh) 2016-08-19 2017-08-09 撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11643571B2 (zh)
EP (1) EP3502200B1 (zh)
JP (1) JP6881458B2 (zh)
KR (1) KR102443756B1 (zh)
CN (1) CN109642112B (zh)
TW (1) TW201829718A (zh)
WO (1) WO2018034138A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018193742A1 (ja) * 2017-04-20 2018-10-25 信越化学工業株式会社 反射防止部材及びその製造方法
JP6965930B2 (ja) * 2017-08-17 2021-11-10 信越化学工業株式会社 撥水部材及び撥水部材の製造方法
EP3693160A4 (en) * 2017-10-03 2021-07-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. HYDROPHOBIC AND OLEOPHOBIC ELEMENT AND PROCESS FOR MAKING A HYDROPHOBIC AND OLEOPHOBIC ELEMENT
WO2019163282A1 (ja) * 2017-12-27 2019-08-29 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品及びその製造方法
KR102594548B1 (ko) * 2019-01-02 2023-10-27 삼성디스플레이 주식회사 윈도우, 윈도우의 제조 방법 및 윈도우를 포함하는 표시 장치
CN113874334B (zh) * 2019-05-31 2023-07-18 Ａｇｃ株式会社 带防污层的透明基板
WO2020241750A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03 Ａｇｃ株式会社 撥水撥油層付き基材
KR20220074914A (ko) * 2019-09-30 2022-06-03 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 함불소 경화성 조성물 및 물품
CN114867768A (zh) 2019-10-18 2022-08-05 迈图高新材料公司 反应性聚(氟烷基官能硅氧烷)低聚物、其形成工艺和使用其的组合物
JP7083921B2 (ja) * 2019-10-18 2022-06-13 ダイキン工業株式会社 表面処理剤

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4097370A (en) 1977-04-14 1978-06-27 The Lummus Company Hydrotreating of pyrolysis gasoline
JPS5814209B2 (ja) 1977-09-10 1983-03-17 松下電工株式会社 ヘアドライヤ−
JP5076257B2 (ja) * 2001-02-01 2012-11-21 旭硝子株式会社 撥水性組成物、表面処理された基材、その製造方法および輸送機器用物品
JP5669257B2 (ja) * 2009-10-27 2015-02-12 信越化学工業株式会社 フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品
JP5235026B2 (ja) * 2010-09-28 2013-07-10 信越化学工業株式会社 フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物および該組成物を含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品
JP2012219217A (ja) 2011-04-12 2012-11-12 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 撥水処理剤及びその製造方法
JP5712353B2 (ja) * 2011-04-20 2015-05-07 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 帯電防止性撥水塗料組成物及び帯電防止性撥水部材並びに照明カバー
JP5814209B2 (ja) 2012-10-24 2015-11-17 信越化学工業株式会社 コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品
EP2915833B1 (en) 2012-11-05 2018-06-06 Daikin Industries, Ltd. Silane compound containing perfluoro(poly)ether group
WO2014126064A1 (ja) 2013-02-15 2014-08-21 旭硝子株式会社 撥水膜形成用組成物及びその使用
JP6168825B2 (ja) * 2013-04-11 2017-07-26 キヤノン株式会社 コーティング材料、コーティング及びその製造方法、並びにインクジェットヘッド及びその製造方法
JP2015129230A (ja) * 2014-01-08 2015-07-16 信越化学工業株式会社 表面改質剤及び物品
US10030170B2 (en) * 2014-02-24 2018-07-24 Xerox Corporation Wear resistant transparent coating
JP6451279B2 (ja) 2014-03-31 2019-01-16 信越化学工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品
JP6008037B2 (ja) 2015-01-29 2016-10-19 ダイキン工業株式会社 表面処理剤
CN105175713B (zh) * 2015-10-19 2017-06-06 北京莱诺泰克科技有限公司 全氟聚醚硅烷及其制备方法与应用
JP2018065946A (ja) * 2016-10-20 2018-04-26 キヤノン株式会社 コーティング用材料およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3502200B1 (en) 2021-07-21
KR102443756B1 (ko) 2022-09-15
CN109642112B (zh) 2021-08-24
US20190177574A1 (en) 2019-06-13
EP3502200A1 (en) 2019-06-26
CN109642112A (zh) 2019-04-16
JPWO2018034138A1 (ja) 2019-06-13
WO2018034138A1 (ja) 2018-02-22
KR20190040025A (ko) 2019-04-16
JP6881458B2 (ja) 2021-06-02
EP3502200A4 (en) 2020-04-15
US11643571B2 (en) 2023-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201829718A (zh) 撥水膜形成用組合物、撥水膜、附撥水膜之基體及物品
EP3006447B1 (en) Fluorochemical surface treating agent and article treated therewith
EP2725078B1 (en) Coating composition, surface treating material containing said composition, and article whose surface is treated with said surface treating material
TWI421283B (zh) 表面修飾劑及其用途
EP3858943B1 (en) Surface treatment agent
TW201602165A (zh) 含有氟聚醚基之聚合物變性矽烷、表面處理劑及物品
TW201336905A (zh) 表面修飾劑
TWI609050B (zh) 氟系表面處理劑與其製造方法及經該表面處理劑進行了處理的物品
JP7392667B2 (ja) 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
EP4011936A1 (en) Fluoropolyether-group-containing polymer, surface treatment agent, and article
US20240150522A1 (en) Surface treatment method for glass and resin substrates
JP2014024288A (ja) 撥水膜付き基板
TW201739787A (zh) 含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷、表面處理劑及物品
EP3880371A1 (en) Easy to clean coating
KR102587594B1 (ko) 플루오로옥시알킬렌기 함유 중합체 변성 포스폰산 유도체, 해당 유도체를 포함하는 표면 처리제, 해당 표면 처리제로 처리된 물품 및 광학 물품
CN109790443A (zh) 表面处理剂
JP6520419B2 (ja) フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性ホスホン酸誘導体及び該誘導体を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品
JP2014156061A (ja) 下地層及び撥水膜を有する基体、及びこの下地層及び撥水膜を有する基体を含む輸送機器用物品
JP2013129695A (ja) 撥水膜形成用組成物、撥水膜付き基体および輸送機器用物品
WO2022270318A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル混合物、コーティング剤、物品、及び物品の製造方法
WO2023167203A1 (ja) 着氷着雪防止組成物
WO2024053354A1 (ja) 含フッ素組成物、表面処理剤及び物品
TW202120602A (zh) 表面處理劑