TW201731694A - 附保護膜之偏光板、液晶面板及保護膜的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種附保護膜之偏光板，具備：包含基材膜及積層於前述基材膜上的黏著劑層之保護膜；以及積層於前述黏著劑層上之偏光板；前述保護膜在波長380nm之單體穿透率為10%以下；前述黏著劑層之紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下。

Description

附保護膜之偏光板、液晶面板及保護膜的製造方法
本發明係關於附保護膜之偏光板、液晶面板及保護膜的製造方法。
由於封入液晶面板所使用的液晶單元之液晶，因紫外線而劣化，故對貼合於液晶單元的偏光板等周邊構件，要求紫外線吸收性能。例如於液晶面板的辨識側，因暴露於來自外部的光，配置於辨識側的偏光板，即使安裝於製品後，也需要紫外線吸收能力。而且，製造包含液晶面板的製品時，有使用活性能量線硬化型樹脂貼合液晶面板與覆蓋玻璃之情事。於該情況，照射的紫外線，也可能從液晶面板的背光側照射液晶單元，為了防止液晶的劣化，對背光側的偏光板，也要求紫外線吸收能力。
為了賦予偏光板紫外線吸收能力，一般在使用接著劑貼合於偏光子的單面或兩面之保護膜，調配紫外線吸收劑[特開2014-142630號公報]。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開2014-142630號公報
近年受到如智慧型手機、平板電腦等移動式終端的薄型化的要求，偏光板也薄型化。伴隨偏光板的薄型化將保護膜薄膜化時，於欲得到與薄膜化前相同程度的紫外線吸收能力的情況，必須增加保護膜中單位膜厚的紫外線吸收劑的量。因此恐會產生下述的缺陷。
(1)增加保護膜中單位膜厚的紫外線吸收劑的量時，保護膜中無法充分溶解或分散紫外線吸收劑，滲出的可能性變高。
(2)藉由熔融擠出製作含有紫外線吸收劑的保護膜時，少許被認為是樹脂在加熱熔融時蒸發後再固化的紫外線吸收劑粒子有附著於所得的保護膜的表面之可能性。而且，由於熔融擠出裝置的長時間操作，在T型模頭等處產生包含紫外線吸收劑的液狀附著物，有因其垂落而附著於保護膜表面，或者成為與樹脂不同的異物而混入保護膜內的可能性。
本發明的目的，在於提供可防止製造包含液晶面板的製品時由於紫外線照射之液晶劣化，且可抑制來自紫外線吸收劑的缺陷之偏光板的構成。
[1]附保護膜之偏光板，具備：包含基材膜及積層於前述基材膜上的黏著劑層之保護膜；以及積層於前述黏著劑層之偏光板；前述保護膜在波長380nm之單體穿透率為10%以下；前述黏著劑層之紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下。
[2]如[1]記載的附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為苯并噁嗪酮(benzoxazinone，又稱苯并酮)系紫外線吸收劑。
[3]如[1]記載的附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為三嗪(triazine，又稱三)系紫外線吸收劑。
[4]如[1]記載的附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為苯并三唑(benzotriazole)系紫外線吸收劑，而且前述黏著劑層所含紫外線吸收劑之含量，以重量分率計為90ppm以下。
[5]如[1]至[4]中任一項記載的附保護膜之偏光板，其中前述偏光板包含增亮膜；於前述黏著劑層上，直接積層前述增亮膜。
[6]如[1]至[5]中任一項記載的附保護膜之偏光板，其中前述偏光板在波長380nm之單體穿透率為10%以上。
[7]如[1]至[6]中任一項記載的附保護膜之偏光板，其中前述基材膜具有包含紫外線吸收劑的聚酯系樹脂膜。
[8]如[1]至[7]中任一項記載的附保護膜之偏光板，其係貼合於液晶單元的背光側用之偏光板。
[9]液晶面板，包括：液晶單元；以及貼合於前述液晶單元的背光側之如[1]至[8]中任一項記載的附保護膜之偏光板。
[10]保護膜的製造方法，包括：得到包含離型膜及積層於前述離型膜上的黏著劑層之黏著片的步驟；以及於前述黏著片的黏著劑層上，積層包含紫外線吸收劑的基材膜之步驟。
[11]如[10]記載的保護膜的製造方法，其中前述保護膜在波長380nm之單體穿透率為10%以下；前述黏著劑層之紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下。
根據本發明，可提供可防止製造包含液晶面板的製品時由於紫外線照射之液晶劣化，且可抑制來自紫外線吸收劑的缺陷之偏光板的構成。
10‧‧‧偏光子
21、22‧‧‧保護膜
31‧‧‧第1黏著劑層
32‧‧‧第3黏著劑層
50‧‧‧增亮膜
60‧‧‧保護膜
61‧‧‧基材膜
62‧‧‧第2黏著劑層
70‧‧‧離型膜
100、200、300、400、500‧‧‧偏光板
第1圖係表示關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
第2圖係表示關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
第3圖係表示關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
第4圖係表示關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
第5圖係表示關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
〈附保護膜之偏光板〉 (1)附保護膜之偏光板的構成
關於本發明的附保護膜之偏光板的層構成之一例，使用第1圖加以說明。如第1圖所示，附保護膜之偏光板具備依序包括離型膜70、第1黏著劑層31、保護膜22、偏光子10、第3黏著劑層32、增亮膜50之偏光板100；以及積層於偏光板100的增亮膜50側的表面之保護膜60。保護膜60係由基材膜61及積層於其上的第2黏著劑層62所構成，隔著第2黏著劑層62貼合積層於偏光板100。
附保護膜之偏光板的層構成之其他例，參考第2圖至第5圖加以說明，但層構成不限於該等例。
第2圖所示的附保護膜之偏光板，具備依序包括離型膜70、第1黏著劑層31、保護膜22、偏光子10、保護膜21、第3黏著劑層32、增亮膜50之偏光板200；以及積層於前述偏光板200表面之保護膜60。
第3圖所示的附保護膜之偏光板所具有的偏 光板300，除省略保護膜22，第1黏著劑層31直接積層於偏光子10的表面外，具有與第2圖所示的偏光板相同的層構成。
第4圖所示的附保護膜之偏光板所具有的偏光板400，除省略增亮膜50及第3黏著劑層32，保護膜60直接積層於保護膜21的表面外，具有與第3圖所示的偏光板相同的層構成。
第5圖所示的附保護膜之偏光板所具有的偏光板500，除省略增亮膜50及第3黏著劑層32，保護膜60直接積層於保護膜21的表面外，具有與第2圖所示的偏光板相同的層構成。
雖省略圖式，偏光子10與保護膜21、22的貼合，可使用接著劑進行。
(2)保護膜
保護膜60，係由基材膜61及積層於其上的第2黏著劑層62所構成。保護膜60是為了保護偏光板100表面的膜，例如於液晶單元等影像顯示元件或其他光學構件貼合附保護膜之偏光板後，與其所具有的第2黏著劑層62一起剝離除去。
構成基材膜61的樹脂，例如可為如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等熱塑性樹脂。較理想為聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯 系樹脂。基材膜61可為單層構造亦可為多層構造，從製造容易性及製造成本等觀點，較理想為單層構造。基材膜61可為一軸延伸膜亦可為二軸延伸膜，從膜的機械強度、製造容易性及製造成本等觀點，較理想為二軸延伸膜。
構成基材膜的樹脂，包含紫外線吸收劑較理想。紫外線吸收劑，可為在波長約200至400nm具有極大吸收的紫外線吸收劑，其種類並無特別限制，例如三嗪系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑等。
(三嗪系紫外線吸收劑)
三嗪系紫外線吸收劑，係由下述一般式(i)：Q1-Q2-OH (i)表示。式中，Q1表示1,3,5-三嗪環，Q2表示芳香族環。
作為上述一般式(i)所示的三嗪系紫外線吸收劑，例如下述一般式(i-A)：
表示的化合物。
式中，R2、R2'、R2"、R11、R11'及R11"，表示與後述一般式(i-B)中的R2、R2'、R2"、R11、R11'及R11"相同的官能基，R18’及R18"表示互相獨立的氫原子、羥基或烷氧基(-OR1)。
一般式(i-A)所示的三嗪系紫外線吸收劑中，被使用較理想的三嗪系紫外線吸收劑為下述一般式(i-B)：
表示的化合物。
式中，R1表示碳原子數1至18的烷基；碳原子數5至12的環烷基；碳原子數3至18的烯基；苯基；苯基、羥基、碳原子數1至18的烷氧基、碳原子數5至12的環烷基、碳原子數3至18的烯氧基、鹵原子、-COOH、-COOR4、-O-CO-R5、-O-CO-O-R6、-CO-NH2、-CO-NHR7、-CO-N(R7)(R8)、CN、NH2、NHR7、-N(R7)(R8)、-CO-NH-R5、苯氧基、碳原子數1至18的烷基取代之苯氧基、苯基-碳原子數1至4的烷氧基、碳原子數6至15的雙環烷氧基、碳原子數6至15的雙環烷基烷氧基、碳原子數6至15的雙環烯基烷氧基或碳原子數6至15的三環烷氧基取代的碳原子數1 至18的烷基；羥基、碳原子數1至4的烷基、碳原子數2至6的烯基或-O-CO-R5取代的碳原子數5至12的環烷基；環氧丙基；-CO-R9或-SO2-R10；或R1表示被1個以上的氧原子中斷及/或羥基、苯氧基或碳原子數7至18的烷基苯氧基取代的碳原子數3至50的烷基；或R1表示-A；-CH2-CH(XA)-CH2-O-R12；-CR13R13’-(CH2)m-X-A；-CH2-CH(OA)-R14；-CH2-CH(OH)-CH2-XA；
-CR15R15'-C(=CH2)-R15"；-CR13R13'-(CH2)m-CO-X-A；-CR13R13'-(CH2)m-CO-O-CR15R15'-C(=CH2)-R15"或-CO-O-CR15R15'-C(=CH2)-R15"(式中A表示-CO-CR16=CH-R17)表示的定義之一。
R2、R2'及R2"表示互相獨立的碳原子數6至18的烷基；碳原子數2至6的烯基；苯基；碳原子數7至11的苯基烷基；COOR4；CN；-NH-CO-R5；鹵原子；三氟甲基；-O-R3。
R3表示對R1賦予的定義；R4表示碳原子數1至18的烷基；碳原子數3至18的烯基；苯基；碳原子數7至11的苯基烷基；碳原子數5至12的環烷基；或者R4表示可被1個以上的-O-、-NH-、-NR7-、-S-中斷及可被OH、苯氧基或碳原子數7至18的烷 基苯氧基取代的碳原子數3至50的烷基；R5表示H；碳原子數1至18的烷基；碳原子數2至18的烯基；碳原子數5至12的環烷基；苯基；碳原子數7至11的苯基烷基；碳原子數6至15的雙環烷基；碳原子數6至15的雙環烯基；碳原子數6至15的三環烷基；R6表示H；碳原子數1至18的烷基；碳原子數3至18的烯基；苯基；碳原子數7至11的苯基烷基；碳原子數5至12的環烷基；R7及R8表示互相獨立的碳原子數1至12的烷基；碳原子數3至12的烷氧基烷基；碳原子數4至16的二烷基胺基烷基；或表示碳原子數5至12的環烷基；或者R7及R8一起表示碳原子數3至9的伸烷基；碳原子數3至9的氧基伸烷基或碳原子數3至9的氧雜伸烷基；R9表示碳原子數1至18的烷基；碳原子數2至18的烯基；苯基；碳原子數5至12的環烷基；碳原子數7至11的苯基烷基；碳原子數6至15的雙環烷基；碳原子數6至15的雙環烷基烷基、碳原子數6至15的雙環烯基；或碳原子數6至15的三環烷基；R10表示碳原子數1至12的烷基；苯基；萘基；或碳原子數7至14的烷基苯基；R11、R11'及R11"表示互相獨立的H；碳原子數1至18的烷基；碳原子數3至6的烯基；苯基；碳原子數7至11的苯基烷基；鹵原子；碳原子數1至18的烷氧基；R12表示碳原子數1至18的烷基；碳原子數3至18的 烯基；苯基；被碳原子數1至8的烷基、碳原子數1至8的烷氧基、碳原子數3至8的烯氧基、鹵原子或三氟甲基取代1至3次之苯基；或表示碳原子數7至11的苯基烷基；碳原子數5至12的環烷基；碳原子數6至15的三環烷基；碳原子數6至15的雙環烷基；碳原子數6至15的雙環烷基烷基；碳原子數6至15的雙環烯基烷基；-CO-R5；或R12表示可被1個以上的-O-、-NH-、-NR7-、-S-中斷及可被OH、苯氧基或碳原子數7至18的烷基苯氧基取代的碳原子數3至50的烷基；R13及R13'表示互相獨立的H；碳原子數1至18的烷基；苯基；R14表示碳原子數1至18的烷基；碳原子數3至12的烷氧基烷基；苯基；苯基-碳原子數1至4的烷基；R15、R15'及R15"表示互相獨立的H或CH3；R16表示H；-CH2-COO-R4；碳原子數1至4的烷基；或CN；R17表示H；-COOR4；碳原子數1至17的烷基；或苯基；X表示-NH-；-NR7-；-O-；-NH-(CH2)p-NH-；或-O-(CH2)q-NH-；m表示數字0至19；n表示數字1至8；p表示數字0至4；q表示數字2至4； 但是，一般式(i-B)中，R1、R2、R2'、R2"、R11、R11’及R11"的至少之一包含2個以上的碳原子。
作為三嗪系紫外線吸收劑的具體例，例如2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-乙氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-(2-羥基-4-丙氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-己氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-十二烷氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-苯甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪等。
(二苯甲酮系紫外線吸收劑)
二苯甲酮系紫外線吸收劑，係由下述一般式(ii)：
表示。式中，Q3及Q4表示互相獨立之芳香族環。Y表示取代基，Z表示氧原子、硫原子或氮原子。YZ亦可為氫原子。
作為二苯甲酮系紫外線吸收劑，例如2,4-二羥基-二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-二苯甲酮、2-羥基-4-正辛氧基-二苯甲酮、2-羥基-4-十二烷氧基-二苯甲酮、2-羥 基-4-十八烷氧基-二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基-二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧基-二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基-二苯甲酮等。
(苯并三唑系紫外線吸收劑)
苯并三唑系紫外線吸收劑，係由下述一般式(iii)：
表示。式中，R20、R21、R22、R23及R24表示互相獨立之一價有機基，R20、R21及R22中至少之一表示總碳數為10至20的無取代的分支或直鏈烷基。
作為苯并三唑系紫外線吸收劑，例如2-(2’-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二第3丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-第3丁基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二第3丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-(3’’,4’’,5’’,6’’-四氫鄰苯二甲醯亞胺甲基)-5’-甲基苯基)苯并三唑、2,2-亞甲基雙(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚)、2-(2’-羥基-3’-第3丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二第3戊基苯基)-5-氯苯并三唑等。
(苯甲酸酯系紫外線吸收劑)
苯甲酸酯系紫外線吸收劑，係由下述一般式(iv)：
表示。式中的R25、R26表示互相獨立之碳原子數1至8的烷基。
作為苯甲酸酯系紫外線吸收劑，例如2,4-二第3丁基苯基-3’,5’-二第3丁基-4’-羥基苯甲酸酯、2,6-二第3丁基苯基-3’,5’-二第3丁基-4’-羥基苯甲酸酯、正十六烷基-3,5-二第3丁基-4-羥基苯甲酸酯及正十八烷基-3,5-二第3丁基-4-羥基苯甲酸酯等。
(氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑)
氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑，係由下述一般式(v)：
表示。式中的R27為烷基、烷氧基烷基、芳烷基、環烷基、烯基、芳香基等有機基。
(苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑)
苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑，例如適合使用下述一般式(vi)：
表示者。式中的R28表示2價的芳香族烴基，X1及X2表示互相獨立之氫或選自烷基、芳香基、異原子芳香基、鹵原子、烷氧基、芳香氧基、羥基、羧基、酯基及硝基所成群的官能基，但不限定於該等。
上述構造式所示的化合物中，使用2,2’、(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]較理想。
作為紫外線吸收劑，可單獨使用上述紫外線吸收劑，亦可併用2種以上。而且，於併用2種以上的情況，互相可為相同系統的紫外線吸收劑，亦可為不同系統的紫外線吸收劑。
作為紫外線吸收劑，可使用市售品，例如作為三嗪系紫外線吸收劑，可例舉Chemipro化成公司製的商品名「Kemisorb102」、ADEKA公司製的商品名「Adekastab LA46」、「Adekastab LAF70」、BASF公司製的商品名「TINUVIN 460」、「TINUVIN 405」、「TINUVIN 400」、 「TINUVIN 477」、SUNCHEMICAL公司製的商品名「CYASORB UV-1164」；作為苯并三唑系紫外線吸收劑，可例舉ADEKA公司製的商品名「Adekastab LA31」、「Adekastab LA36」、住化CHEMTEX公司製的商品名「SUMISORB 200」、「SUMISORB 250」、「SUMISORB 300」、「SUMISORB 340」、「SUMISORB 350」、Chemipro化成公司製的商品名「Kemisorb74」、「Kemisorb79」、「Kemisorb279」、BASF公司製的商品名「TINUVIN 99-2」、「TINUVIN 900」、「TINUVIN 928」等。
紫外線吸收劑，從抑制基材膜61成形中的蒸發的觀點，各自的重量平均分子量以500至1000較理想，550至800更理想。重量平均分子量太小時，成形中容易蒸發，重量平均分子量太大時，與構成基材膜61的樹脂的相溶性容易變低。所謂重量平均分子量，係指氣相層析質量分析法(使用管柱：Phenyl Arylene聚合物、攜帶氣體：He(氦氣))所測定的值。
紫外線吸收劑，於使用對甲苯、甲基乙基酮等用以稀釋黏著劑組成物的溶劑之溶解度低者的情況，可更顯著得到本發明的效果。從本發明達成更顯著效果的觀點，在25℃的環境下對溶劑100g之紫外線吸收劑的溶解度以100g以下較理想，5g以下更理想，1g以下又更理想，0.1g以下最理想。
紫外線吸收劑，以在極大吸收波長之莫耳吸光係數為10L/莫耳‧cm以上較理想，15L/莫耳‧cm以上 更理想。紫外線吸收劑的莫耳吸光係數為上述範圍時，可提高保護膜60的紫外線吸收能力，或者維持良好的紫外線吸收能力，且可減少紫外線吸收劑的含量。
基材膜61中的紫外線吸收劑的含量，為了賦予保護膜60充分的耐光性，保護膜60在380nm波長的單體穿透率宜調整為10%以下，較理想為8%以下，更理想為7%以下。因為單體穿透率也取決於基材膜61的厚度，故宜亦考慮所採用的厚度後決定紫外線吸收劑的含量。保護膜60在380nm波長的單體穿透率，係以下述式：單體穿透率(%)=(MD+TD)/2(式中，MD表示波長380nm的MD穿透率，TD表示波長380nm的TD穿透率)定義。此處，所謂「MD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光方向與保護膜60樣品的TD平行時的穿透率，而且所謂「TD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光方向與保護膜60樣品的TD垂直時的穿透率。穿透率，可藉由紫外光可見光吸光光度計、分光光度計等測定。
基材膜61中紫外線吸收劑的含量，從防止紫外線吸收劑滲出的觀點，保護膜60在380nm波長的單體穿透率調整為0.01%以上較理想，調整為0.1%以上更理想。
雖與基材61的厚度有關，基材膜61中紫外線吸收劑的含量，通常為0.1重量%以上，較理想為0.5重量%以上。而且，通常紫外線吸收劑的含量為5重量%以下。再者，此處所謂含量，係指以基材膜的全部量為100 重量%時的紫外線吸收劑的含量。
而且，關於作為附保護膜之偏光板全體的紫外線穿透率，為了賦予充分的耐光性，以穿透率極低較理想。具體而言，在波長380nm的單體穿透率為3%以下較理想，2%以下更理想。作為附保護膜之偏光板全體的波長380nm的單體穿透率，係以下述式：單體穿透率(%)=(MD+TD)/2(式中，MD表示波長380nm的MD穿透率，TD表示波長380nm的TD穿透率)定義。此處，所謂「MD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光方向與附保護膜之偏光板樣品的穿透軸平行時的穿透率，而且所謂「TD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光方向與附保護膜之偏光板樣品的穿透軸垂直時的穿透率。穿透率，可藉由紫外光可見光吸光光度計、分光光度計等測定。
使基材膜61含有紫外線吸收劑，藉由降低基材膜61的紫外線穿透率，可降低附保護膜之偏光板全體的紫外線穿透率。所以，於本發明的附保護膜之偏光板，保護膜中的紫外線吸收劑的量比傳統的保護膜少，或者可不含有紫外線吸收劑。
基材膜61的厚度，例如為5至200μm的程度，從膜的強度及操作性的觀點，較理想為10至150μm，更理想為15至100μm。
於基材膜61之與第2黏著劑層62積層的面， 為了提高與該黏著劑層的黏合性，亦可設置塗佈層。塗佈層的厚度，通常最終乾燥的厚度為0.02至0.5μm，較理想為0.03至0.3μm的範圍。
藉由設置塗佈層，被認為可抑制包含於基材膜61的紫外線吸收劑因熱、溶劑等的影響而移至第2黏著劑層62。
關於第2黏著劑層62，引用關於後述第1黏著劑層31、第3黏著劑層32的記載。
第2黏著劑層62中的紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下，90ppm以下較理想，60ppm以下更理想，20ppm以下又更理想，10ppm以下(例如0ppm)特別理想。此處所謂「紫外線吸收劑的含量」，於包含2種以上紫外線吸收劑的情況，係指該等的合計含量，第2黏著劑層62中的三嗪系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑的分別含量為上述範圍較理想。特別是第2黏著劑層62中的苯并三唑系紫外線吸收劑之含量，以重量分率計為90ppm以下較理想。本案發明人等發現若第2黏著劑層62包含紫外線吸收劑時，於附保護膜之偏光板的製造步驟中，在偏光板100的表面附著紫外線吸收劑析出之異物，保護膜60從偏光板100剝離後，產生所謂外觀缺陷的課題。對該課題，本案發明人等發現，藉由使第2黏著劑層62中的紫外線吸收劑的含量以重量分率計為120ppm以 下，能夠有效抑制從基材膜61朝黏著劑層的紫外線吸收劑的滲出，可防止外觀缺陷的發生。
而且，本案發明人等發現，縱然在使第2黏著劑層62中不含有紫外線吸收劑時製造保護膜60的情況(例如保護膜60剛製造後的黏著劑層的紫外線吸收劑的含量為0ppm的情況)，基材膜61若包含紫外線吸收劑時，在貼合偏光板100與保護膜60的步驟、貼合液晶單元與偏光板100的步驟等，於對保護膜60加熱的情況，包含於基材膜61的紫外線吸收劑持續朝第2黏著劑層62移動。紫外線吸收劑一般容易滲出，本發明由於直接規定包含於保護膜60的第2黏著劑層62中的紫外線吸收劑的重量比例，可有效防止如上述般外觀缺陷的發生。
(3)保護膜的製造方法
保護膜60可用以下的方法製作。首先，得到包含離型膜及積層於該離型膜上的黏著劑層(第2黏著劑層62)的黏著片。
作為離型膜，可使用單面實施離型處理的熱塑性樹脂膜。離型處理之例，有聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等。構成離型膜的熱塑性樹脂，例如可為如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂等。
黏著劑層，較理想為於離型膜上，塗佈溶解於溶劑的黏著劑後乾燥而形成。乾燥以在溫度60至150℃ 的條件下，進行0.5至10分鐘較理想。為了提高生產性，在較高溫進行乾燥者較理想，具體而言以80℃以上較理想，100℃以上更理想。黏著劑層亦可在基材膜61上塗佈黏著劑組成物後乾燥而形成，於該情況，由於黏著劑層的形成所使用的溶劑、乾燥熱，紫外線吸收劑從基材膜61移動至黏著劑層，恐會產生滲出。黏著劑層形成於離型膜上時，可有效抑制紫外線吸收劑從基材膜61移動至黏著劑層。
然後，於黏著片的黏著劑層上積層包含紫外線吸收劑的基材膜61，可得到保護膜60。
(4)偏光子
偏光子10，係具有吸收具有平行其吸收軸的振動面的直線偏光、穿透具有垂直吸收軸(平行穿透軸)的振動面的直線偏光的性質之吸收型偏光子，可適合使用二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜的偏光膜。偏光子10，例如可藉由包含一軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜的步驟；用二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜，使二色性色素吸附的步驟；吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜，用硼酸水溶液處理的步驟；以及藉由硼酸水溶液處理後進行水洗的步驟之方法而製造。
作為聚乙烯醇系樹脂，可使用使聚乙酸乙烯酯皂化者。作為聚乙酸乙烯系樹脂，除乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯外，可舉例如乙酸乙烯酯與可與其 共聚合的其他單體的共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之例，包括不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類及具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。再者，於本說明書，所謂「(甲基)丙烯醯胺類」，表示選自丙烯醯胺類及甲基丙烯醯胺類所成群的至少1種。其他賦予「(甲基)」的用語也相同。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85至100莫耳%，以98莫耳%以上較理想。聚乙烯醇系樹脂可被改性，例如可使用經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，通常為1000至10000，較理想為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，可根據JIS K6726求得。
將如此的聚乙烯醇系樹脂製成之膜，被使用作為偏光子10(偏光膜)的原料膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜的方法，無特別限制，可採用習知的方法。聚乙烯醇系原料膜的厚度，無特別限制，為了使偏光子10的厚度為15μm以下，通常使用5至35μm者，較理想為20μm以下。若將厚度超過35μm之聚乙烯醇系原料膜延伸製造厚度15μm以下的偏光子10，必須提高延伸倍率，在使偏光子10的厚度成為15μm以下的情況，在高溫環境下的尺寸收縮變大。而且，於厚度未達5μm的情況，延伸時的操作性低，在偏光子製造時變得容易產生切斷等缺陷。
聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸，可在二色性色素的染色前、與染色同時或染色後進行。於一軸延伸在 染色後進行的情況，該一軸延伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。而且，亦可在該等的複數階段進行一軸延伸。
一軸延伸時，可在轉速不同的滾輪之間進行一軸延伸，亦可使用熱滾輪進行一軸延伸。而且，一軸延伸，可為在大氣中進行延伸的乾式延伸，亦可為在使用溶劑或水使聚乙烯醇系樹脂膜膨脹的狀態下進行延伸的濕式延伸。延伸倍率，通常為3至8倍。
作為用二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜的方法，例如採用浸漬該膜於含有二色性色素的水溶液的方法。作為二色性色素，可使用碘或二色性有機染料。再者，聚乙烯醇系樹脂膜，在染色處理前預先實施對水的浸漬處理較理想。
作為藉由碘的染色處理，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀的水溶液的方法。該水溶液之碘的含量，對水每100重量份，通常為0.01至1重量份。碘化鉀的含量，對水每100重量份，通常為0.5至20重量份。而且，該水溶液的溫度，通常為20至40℃。另一方面，作為藉由二色性有機染料的染色處理，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性有機染料的水溶液的方法。含有二色性有機染料的水溶液，亦可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。該水溶液之二色性有機染料的含量，對水每100重量份，通常為1×10-4至10重量份。該水溶液的溫度，通常為20至80℃。
作為藉由二色性色素染色後的硼酸處理，通 常採用將已染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液的方法。於使用碘作為二色性色素的情況，該含有硼酸的水溶液，以含有碘化鉀較理想。含有硼酸的水溶液之硼酸的量，對水每100重量份，通常為2至15重量份。該水溶液之碘化鉀的量，對水每100重量份，通常為0.1至15重量份。該水溶液的溫度，可為50℃以上，例如為50至85℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜，通常進行水洗處理。水洗處理，例如可藉由將硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水進行。水洗處理之水的溫度，通常為5至40℃。
水洗後實施乾燥處理，得到偏光子10。乾燥處理，可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。偏光子10的厚度為15μm以下，以10μm以下較理想。使偏光子10的厚度為15μm以下，係有利於偏光板100及影像顯示裝置的薄型化。偏光子10的厚度，通常為2μm以上(例如5μm以上)。
藉由乾燥處理，使偏光子10的水分比例降低至實用的程度。其水分比例，通常為5至20重量%，以8至15重量%較理想。水分比例低於5重量%時，失去偏光子10的可撓性，偏光子10在其乾燥後有損傷、破裂的情況。而且，水分比例高於20重量%時，有偏光子10的熱安定性差的情況。
(5)保護膜
可積層於偏光子10的單面或兩面的保護膜21、22，可為具有透光性(較理想為光學上透明)的熱塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素等纖維素系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如甲基丙烯酸甲酯系樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；丙烯腈‧丁二烯‧苯乙烯系樹脂；丙烯腈‧苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚乙縮醛系樹脂；改性聚苯醚系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等所構成的膜。其中，使用聚烯烴系樹脂、纖維系樹脂較理想。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴的單獨聚合物外，可舉例如2種以上的鏈狀烯烴所構成的共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂，係以環狀烯烴作為聚合單元之聚合樹脂之總稱。舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例，有環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯等鏈狀烯烴的共聚物(代表性者為無規共聚物)以及該等以不飽和羧酸或其衍生物改性的接枝聚合物以及該等的氫化物等。其中，作為環狀烯烴，以使用降莰烯或多環降莰烯系單體等降莰烯系單體之降莰烯 系樹脂較理想。
所謂纖維素系樹脂，係指從棉絨或木漿(闊葉樹木漿、針葉樹木漿)等原料纖維素所得之纖維素的羥基之氫原子的一部分或全部被乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代之纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯。例如由纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯及該等的混合酯等所構成者。其中，以三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯較理想。
(甲基)丙烯酸系樹脂，係包含來自(甲基)丙烯酸系單體的構成單元的聚合物。該聚合物之典型為包含甲基丙烯酸酯的聚合物。較理想為包含來自(甲基)丙烯酸酯的構成單元的比例，對全部構成單元而言為50重量%以上的聚合物。(甲基)丙烯酸系樹脂，可為甲基丙烯酸酯的單獨聚合物，亦可為包含來自其他聚合性單體的構成單元的共聚物。於該情況，來自其他聚合性單體的構成單元的比例，較理想為對全部構成單元而言為50%以下。
作為可構成(甲基)丙烯酸系樹脂的甲基丙烯酸酯，較理想為甲基丙烯酸烷酯。作為甲基丙烯酸烷酯，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯等烷基的碳數為1至8的甲基丙烯酸烷酯。包含於甲基丙烯酸烷酯的烷基的碳數，較理想為1至4。於(甲基)丙烯酸系樹脂，甲基丙烯酸烷酯可只使用單 獨1種，亦可併用2種以上。
作為可構成(甲基)丙烯酸系樹脂的其他聚合性單體，例如丙烯酸酯及其他分子內具有聚合性碳-碳雙鍵的化合物。其他聚合性單體，可只使用單獨1種，亦可併用2種以上。作為丙烯酸酯，較理想為丙烯酸烷酯。作為丙烯酸烷酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第3丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-羥基乙酯等烷基的碳數為1至8的丙烯酸烷酯。包含於丙烯酸烷酯的烷基的碳數，較理想為1至4。於(甲基)丙烯酸系樹脂，丙烯酸烷酯可只使用單獨1種，亦可併用2種以上。
作為其他分子內具有聚合性碳-碳雙鍵的化合物，例如乙烯、丙烯、苯乙烯等乙烯基系化合物或如丙烯腈等乙烯基氰化物。其他分子內具有聚合性碳-碳雙鍵的化合物，可只使用單獨1種，亦可併用2種以上。
於保護膜21、22，為了提高偏光板的耐光性，雖亦可調配紫外線吸收劑，但於本發明，藉由含有紫外線吸收劑的保護膜60，因可確保耐光性，故保護膜21、22中的紫外線吸收劑的含量，可比傳統的保護膜低，或者較理想為可以不含紫外線吸收劑。
保護膜21、22中的紫外線吸收劑的含量少者，可防止紫外線吸收劑從保護膜滲出。而且，保護膜21、22中的紫外線吸收劑的含量越少，偏光板的波長380nm的 單體穿透率變大。保護膜21、22中的紫外線吸收劑的含量調整為使偏光板100在波長380nm的單體穿透率成為10%以上較理想，調整成為25%以上更理想，調整成為30%以上又更理想。偏光板100在波長380nm的單體穿透率，係由與附保護膜之偏光板的單體穿透率相同的式定義，與附保護膜之偏光板的單體穿透率同樣，可藉由紫外光可見光吸光光度計、分光光度計等測定。
雖與保護膜21、22的厚度有關，該保護膜中的紫外線吸收劑的含量，未達1.0重量%較理想，未達0.5重量%更理想，0重量%最理想。再者，此處所謂含量，係指保護膜的全部量為100重量%時的紫外線吸收劑的含量。
保護膜21、22中的紫外線吸收劑的含量，比傳統的保護膜低，或不含有紫外線吸收劑的偏光板，例如在以下的點有利。
[a]因可減少保護膜中每單位膜厚的紫外線吸收劑的量，可抑制或防止保護膜中紫外線吸收劑無法充分溶解或分散而發生滲出。
[b1可抑制或防止如上述來自紫外線吸收劑的異物附著‧混入。亦即，該異物的附著‧混入，被推測係藉由熔融擠出法製作保護膜時，形成保護膜的樹脂的加熱熔融時在T型模頭蒸發，其再度固化成粒子狀後生成的粒子附著於膜的表面，或者含有紫外吸收劑之液狀物滴下附著於膜表面或混入膜內而發生，藉由極力抑制紫外線吸 收劑的含量，可抑制、防止如此的異物的附著‧混入。
而且，即使於用熔融擠出法製作保護膜的未延伸膜、將其實施延伸處理的情況，亦可抑制或防止如上述的異物的附著‧混入。保護膜，藉由如上述的熔融擠出法製作後，為了賦予所期望的光學特性、機械特性，亦可實施延伸處理。延伸處理，可用傳統習知的方法進行，例如一軸延伸、二軸延伸等。作為延伸方向，例如未延伸膜的機械移動方向(MD)、與其垂直的方向(TD)、與機械移動方向(MD)斜交的方向等。二軸延伸，可為同時延伸2個延伸方向的同時二軸延伸，亦可為延伸一方向後再延伸另一方向的逐次二軸延伸。
特別是保護膜21、22中，藉由抑制成為液晶面板時配置於液晶單元側的保護膜22的紫外線吸收劑的含量，可抑制形成於液晶面板的交叉尼柯爾中含有異物。如此於液晶顯示裝置的黑色顯示中，可有效地防止起因於漏光等的辨識性降低。
[c]因保護膜21、22的紫外線吸收劑的含量低(較理想為不含紫外線吸收劑)，保護膜21、22藉由紫外線硬化性接著劑貼合於偏光子10的情況，在不選擇接著劑的光聚合引發劑的種類且生產性高的條件下，可使接著劑容易硬化同時提高硬化度。藉此，可提高所得之偏光板中偏光子10與保護膜21、22的密合性及偏光板的機械強度。另一方面，因於保護膜60調配充分量的紫外線吸收劑，可對附保護膜之偏光板賦予充分的耐光性。
保護膜21、22在紫外線中，特別是在260至320nm波長區域的穿透率高較理想，具體而言在260至320nm的波長全部區域的穿透率為20%以上較理想，40%以上更理想。260至320nm的波長區域，係偏光子與保護膜貼合用的紫外線硬化性接著劑的一般感應波長區域，藉由提高在該波長區域的穿透率，可提高紫外線硬化性接著劑的硬化速度及硬化度，也可抑制接著劑中的光聚合引發劑的添加量。在260至320nm的波長全部區域的保護膜穿透率，係由與保護膜60的單體穿透率相同的式定義，與保護膜60的單體穿透率同樣，可藉由紫外光可見光吸光光度計、分光光度計等測定。
保護膜21、22的厚度，通常為1至100μm，保護膜21、22的厚度越薄，不發生紫外線吸收劑的滲出、異物混入的缺陷，保護膜不易含有紫外線吸收劑。所以，本發明特別適合使用於保護膜薄膜化的情況。保護膜21、22的厚度，從強度、操作性等的觀點，較理想為5至40μm，更理想為5至30μm，又更理想為5至25μm。只要是該範圍內的厚度，可在機械上保護偏光子10，即使暴露於濕熱環境下偏光子10亦不收縮，可保持安定的光學特性。
偏光板100，從薄膜化的觀點，可為不具備保護膜21、22中之任一方的構成。
只於偏光子10的一側的面積層保護膜的情況，於偏光子10之與保護膜積層的面相反側的面，可設置 由與後述的活性能量線硬化性接著劑相同的活性能量線硬化性樹脂組成物所形成的保護層。藉由設置保護層，即使只於偏光子10的一側的面具有保護膜的構成，亦可更有效地抑制伴隨溫度變化的捲曲、偏光子10的劣化。
於偏光子的兩面貼合保護膜的情況，該等保護膜，可用同種的熱塑性樹脂構成，亦可用不同種的熱塑性樹脂構成。而且，厚度可為相同，亦可為相異。再者，可具有相同的相位差特性，亦可具有不同的相位差特性。
保護膜21、22的至少一方，於其外面(與偏光子10相反側的面)，亦可具備如硬塗層、抗眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值的相位差層等)、抗反射層、帶電防止層、防污層等表面處理層(塗佈層)或其他光學層。
保護膜21、22，可含有1種或2種以上的其他添加劑。舉其他添加劑的例，有橡膠粒子、潤滑劑、分散劑、熱安定劑、紅外線吸收劑、帶電防止劑、抗氧化劑等。
調配橡膠粒子之情事，於使用(甲基)丙烯酸系樹脂作為保護膜21、22的情況，在可改善製膜性、膜的耐衝擊性、膜表面的平滑性的點有利。所謂橡膠粒子，係指包含顯示橡膠彈性的層之橡膠彈性體粒子。
橡膠粒子，可為只由顯示橡膠彈性的層所構成的粒子，亦可與顯示橡膠彈性的層同時具有其他層的多層構造的粒子。作為橡膠彈性體，例如烯烴系彈性聚合 物、二烯系彈性聚合物、苯乙烯-二烯系彈性聚合物、丙烯酸系彈性聚合物等。其中，從耐光性及透明性的觀點，使用丙烯酸系彈性聚合物較理想。
丙烯酸系彈性聚合物，可為以丙烯酸烷酯為主體，亦即以全部單體量為基準包含50重量%以上來自丙烯酸烷酯的構成單元之聚合物。丙烯酸系彈性聚合物，可為丙烯酸烷酯的單獨聚合物，亦可為包含50重量%以上來自丙烯酸烷酯的構成單元以及50重量%以下來自其他聚合性單體的構成單元之共聚物。
作為構成丙烯酸系彈性聚合物的丙烯酸烷酯，通常使用其烷基的碳數為4至8者。舉上述其他聚合性單體的例，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等甲基丙烯酸烷酯；如苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯系單體；如丙烯腈、甲基丙烯腈般不飽和腈等單官能基單體，又如(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸甲基烯丙酯等不飽和羧酸的烯酯；如順丁烯二酸二烯丙酯等二元酸的二烯酯；如烷二醇二(甲基)丙烯酸酯般二醇類的不飽和羧酸二酯等多官能基單體。
包含丙烯酸系彈性聚合物的橡膠粒子，較理想為具有丙烯酸系彈性聚合物層之多層構造粒子。具體而言，例如於丙烯酸系彈性聚合物層的外側具有以甲基丙烯酸烷酯為主體的硬質聚合物層的2層構造者、或於丙烯酸系彈性聚合物的層的內側更具有以甲基丙烯酸烷酯為主體的硬質聚合物層的3層構造者。
構成形成於丙烯酸系彈性聚合物層的外側或內側之硬質聚合物層之以甲基丙烯酸烷酯為主體的聚合物中單體組成之例，係與被舉為(甲基)丙烯酸系樹脂之例之以甲基丙烯酸烷酯為主體的聚合物的單體組成之例相同，特別以使用甲基丙烯酸甲酯為主體的單體組成較理想。如此的多層構造的丙烯酸系橡膠彈性體粒子，例如可藉由特公昭55-27576號公報記載的方法製造。
橡膠粒子，從丙烯酸系樹脂的製膜性、膜的耐衝擊性、膜表面的平滑性的觀點，至包含於其中的橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性聚合物層)為止的平均粒徑為10至350nm的範圍較理想。該平均粒徑，更理想為30nm以上，又更理想為50nm以上，而且更理想為300nm以下，又更理想為280nm以下。
橡膠粒子之至橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性聚合物層)為止的平均粒徑，由以下方式測定。亦即，如此的橡膠粒子混合於(甲基)丙烯酸系樹脂後進行薄膜化，其剖面用氧化釕染色時，只有橡膠彈性體層著色，觀察到為幾乎圓形狀，母層的(甲基)丙烯酸系樹脂不被染色。所以，如此從染色後的薄膜剖面，使用切片機等調製薄片，對其使用電子顯微鏡觀察。然後，隨機抽出100個染色的橡膠粒子，算出各粒徑(至橡膠彈性體層為止的直徑)後，將其數量平均值作為上述平均粒徑。因以如此的方法測定，所得之上述平均粒徑為數量平均粒徑。
於最外層為以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬 質聚合物，其中包裹橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性體層)之橡膠粒子的情況，將其混合於母體的(甲基)丙烯酸系樹脂時，橡膠粒子的最外層與母體的(甲基)丙烯酸系樹脂混合。因此，其剖面用氧化釕染色，用電子顯微鏡觀察時，橡膠粒子係被觀察到除了最外層的狀態之粒子。具體而言，於內層為丙烯酸系彈性聚合物、外層為以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬質聚合物之2層構造的橡膠粒子的情況，觀察到內層的丙烯酸系彈性聚合物部分被染色的單層構造的粒子。而且，於最內層為以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬質聚合物、中間層為丙烯酸系彈性聚合物、最外層為以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬質聚合物之3層構造的橡膠粒子的情況，變成觀察到最內層的粒子中心部分沒有被染色，只有中間層的丙烯酸系彈性聚合物部分被染色之2層構造的粒子。
從(甲基)丙烯酸系樹脂的製膜性、膜的耐衝擊性、膜表面的平滑性的觀點，橡膠粒子，與構成保護膜21、22的(甲基)丙烯酸系樹脂的合計量為基準，以調配3重量%以上、60重量%以下的比例較理想，更理想為45重量%以下，又更理想為35重量%以下。橡膠彈性體粒子比60重量%多時，膜的尺寸變化變大，耐熱性低。另一方面，橡膠彈性體粒子比3重量%少時，膜的耐熱性雖然良好，製膜時的捲取性差，生產性低。再者，於本發明，作為橡膠彈性體粒子，於使用具有顯示橡膠彈性的層及其他層的多層構造粒子的情況，以顯示橡膠彈性的層與其內側的層 所構成部分的重量，作為橡膠彈性體粒子的重量。例如，於使用上述3層構造的丙烯酸系橡膠彈性體粒子的情況，係以中間層的丙烯酸系橡膠彈性聚合物部分及最內層以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬質聚合物部分的合計重量，作為橡膠彈性體粒子的重量。上述3層構造的丙烯酸系橡膠彈性體粒子溶解於丙酮時，中間層的丙烯酸系橡膠彈性聚合物部分及最內層以甲基丙烯酸甲酯為主體的硬質聚合物部分，因殘留作為不溶成分，可容易求得佔3層構造的丙烯酸系橡膠彈性體粒子之中間層及最內層的合計重量比例。
於構成保護膜21、22的(甲基)丙烯酸系樹脂組成物包含橡膠粒子的情況，含有該膜的製作所使用的橡膠粒子之(甲基)丙烯酸系樹脂組成物，除可藉由熔融混練等混合(甲基)丙烯酸系樹脂與橡膠粒子外，亦可藉由首先製作橡膠粒子，在其存在下使成為(甲基)丙烯酸系樹脂的原料之單體組成物聚合的方法得到。
(6)接著劑層
保護膜21、22例如隔著接著劑層，可貼合於偏光子10。作為形成接著劑層的接著劑，可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較理想為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。
作為水系接著劑，例如聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺酯(urethane)系乳化接著劑等。其中，適合使用聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的 水系接著劑。作為聚乙烯醇系樹脂，除乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯經皂化處理所得之乙烯醇同元聚合物外，可使用乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體的共聚物經皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物、或該等的羥基經部分改性的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑，可包含醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
於使用水系接著劑的情況，偏光子10與保護膜21、22貼合後，為了除去包含於水系接著劑中的水，實施乾燥步驟較理想。乾燥步驟後，亦可設置進行熟成之熟成步驟。熟成時的溫度，通常為20至45℃。
上述所謂活性能量線硬化性接著劑，係指藉由照射如紫外線、電子線等活性能量線而硬化的接著劑，例如包含聚合性化合物及光聚合引發劑的硬化性組成物、包含光反應性樹脂的硬化性組成物、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑的硬化性組成物等。較理想為紫外線硬化性接著劑。作為聚合性化合物，例如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體、來自光聚合性單體的寡聚物。作為光聚合引發劑，例如包含藉由活性能量線的照射而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性物種的物質者。作為包含聚合性化合物及光聚合引發劑的活性能量線硬化性接著劑，可使用包含光硬化性環氧系單體及光陽離子聚 合引發劑的硬化性組成物、包含光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合引發劑的硬化性組成物、或該等硬化性組成物的混合物較理想。
作為光硬化性環氧系單體，較理想為脂環式環氧化合物。所謂脂環式環氧化合物，係指分子內具有1個以上的與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環的構造之化合物。脂環式環氧化合物，可只使用單獨1種，亦可併用2種以上。所謂「與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環的構造」，係指以下所示的構造中從(CH2)m除去1個或複數個氫原子的形態的基。下式中，m為2至5之整數。
所以，除去(CH2)m中1個或複數個氫原子的形態的基與其他化學構造鍵結之化合物，可成為脂環式環氧化合物。(CH2)m中1個或複數個氫原子，可適當地被甲基、乙基等的直鏈狀烷基取代。脂環式環氧化合物中，具有氧雜雙環己環(於上述式中m=4者)、氧雜雙環庚環(於上述式中m=5者)之脂環式環氧化合物，因顯示良好的接著性的點故較理想。以下，具體例示較理想使用的脂環式環氧化合物。
於使用活性能量線硬化性接著劑的情況，偏光子10與保護膜21、22貼合後，依需要進行乾燥步驟，然後進行藉由照射活性能量線使活性能量線硬化性接著劑硬化的硬化步驟。所以，於使用活性能量線硬化性接著劑的情況，接著劑層為其硬化物層。活性能量線的光源，無特別限制，以具有波長400nm以下的發光分佈的紫外線較理想，具體而言可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
偏光子10與保護膜21、22貼合時，為了提高接著性，可於該等至少一者的貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等。
於偏光子10的兩面貼合保護膜的情況，貼合該等保護膜用的接著劑，可為同種的接著劑，亦可為不同種的接著劑。
(7)其他光學膜
偏光板100，可包含偏光子10及保護膜21、22以外的其他光學膜。其代表例有增亮膜50及相位差膜。於偏光板100包含其他光學膜的情況，保護膜60亦可積層於該光學膜的表面。
增亮膜50，也稱為反射型偏光膜，被使用作為具有分離從光源(背光源)的射出光為穿透偏光及反射偏光或散射偏光的功能之偏光轉換元件。藉由配置增亮膜50於偏光子10上，利用反射偏光或散射偏光之遞歸光。可提高從偏光子10射出的直線偏光的射出效率。增亮膜50，可隔著黏著劑層(第3黏著劑層32)積層於偏光子10上。偏光子10與增亮膜50之間，可存在如保護膜等其他膜。
增亮膜50，例如可為各向異性反射偏光子。各向異性反射偏光子的一例，係穿透一振動方向的直線偏光而反射另一振動方向的直線偏光之各向異性多重薄膜，其具體例有3M公司製的商品名「DBEF」(參考日本公 開專利特開平4-268505號公報)、商品名「APF」。各向異性反射偏光子的另一例，係膽固醇液晶層與λ/4板的複合體，其具體例有日東電工製的商品名「PCF」(參考日本公開專利特開平11-231130號公報)。各向異性反射偏光子的又一例，係反射光柵偏光子，其具體例有對金屬實施細微加工後在可見光區域也射出反射偏光的金屬格子反射偏光子(參考美國專利第6288840號說明書等)、添加金屬微粒子於高分子基質中的延伸膜(參考日本公開專利特開平8-184701號公報)。
增亮膜50中與第3黏著劑層32的貼合面，可預先進行表面活性化處理。藉此，於濕熱環境下，在第3黏著劑層32與增亮膜50之間不易發生剝離，可成為濕熱耐久性佳的偏光板100。作為表面活性化處理，例如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子線處理等)等乾式處理；如使用水、丙酮等溶劑的超音波處理、鹼處理、錨定處理等濕式處理。該等處理，可單獨進行，亦可組合2種以上。其中，在連續處理捲狀的膜上，較理想為電暈處理、電漿處理。
增亮膜50的厚度，通常為10至100μm，從偏光板100的薄膜化的觀點，較理想為10至50μm，更理想為10至30μm。
於保護膜60所積層的偏光板100之增亮膜50或偏光板50之保護膜21的外面，亦可設置硬塗層、抗 眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、帶電防止層、防污層等表面處理層(塗佈層)或其他光學層。藉由形成如此的層，可提高與保護膜60、背光膠帶的黏合性、顯示影像的均勻性。再者，表面處理層，由於紫外線的照射，有與增亮膜50或保護膜的黏合性降低的情況。於本發明的附保護膜之偏光板，保護膜60具有紫外線吸收能力。所以，於增亮膜50的外面設置表面處理層的情況，可防止紫外線到達表面處理層，可抑制表面處理層與增亮膜50或保護膜的黏合性降低之缺陷發生。
(8)黏著劑層
第1黏著劑層31係配置於偏光板100最表面的黏著劑層，可使用於將附保護膜之偏光板貼合於影像顯示元件(例如液晶單元)或其他光學構件。第3黏著劑層32，係使用於構成偏光板100的光學膜彼此(例如增亮膜50等其他光學膜與偏光子10或保護膜21)的貼合。第1黏著劑層31、第3黏著劑層32，可由如(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醇系等樹脂為主成分的黏著劑組成物所構成。其中，適合以透明性、耐候性、耐熱性等佳的(甲基)丙烯酸系樹脂為基質聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物，亦可為活性能量線硬化型、熱硬化型。
作為黏著劑組成物所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物)，例如適合使用以1種或2種以上如 (甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯為單體的聚合物或共聚物。於基質聚合物，較理想為共聚合極性單體。作為極性單體，例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物，可為只包含上述基質聚合物者，但通常再含有交聯劑。作為交聯劑，例如可為2價以上的金屬離子，與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；聚胺化合物，與羧基之間形成醯胺鍵結者；聚環氧化合物或聚醇，與羧基之間形成酯鍵結者；聚異氰酸酯化合物，與羧基之間形成醯胺鍵結者。其中，較理想為聚異氰酸酯化合物。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物，係指具有受到如紫外線、電子線等活性能量線的照射而硬化的性質，於活性能量線的照射前也具有黏著性，可與膜等的被黏著體黏合，藉由活性能量線的照射而硬化，具有可調整黏合力的性質之黏著劑組成物。活性能量線硬化型黏著劑組成物，較理想為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物，除基質聚合物、交聯劑外，可更含有活性能量線聚合性化合物。再者，依需要亦可含有光聚合引發劑、光增感劑等。
黏著劑組成物，可包含賦予光散射性用的微粒子、珠粒(樹脂粒、玻璃珠等)、玻璃纖維、基質聚合 物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉或其他無機粉等)、抗氧化劑、帶電防止劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合引發劑等添加劑。
第1黏著劑層31及第3黏著劑層32，可藉由塗佈上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液於基材上，使其乾燥而形成。黏著劑組成物的稀釋所使用的有機溶劑，可依據黏著劑的組成適當選擇，適合使用甲苯、乙酸乙酯、甲基乙基酮等。基材，可為如偏光子10、保護膜21、22、增亮膜50般之光學膜、離型膜(例如離型膜70)等。於使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況，對所形成的黏著劑層，藉由照射活性能量線，可成為具有所期望的硬化度之硬化物。
第1黏著劑層31及第3黏著劑層32的厚度，可為1至40μm，從偏光板100薄膜化的觀點以及保持良好的加工性且抑制偏光板100的尺寸變化的觀點，較理想為3至25μm(例如3至20μm，又3至15μm)。
(9)離型膜
離型膜70，係直到將第1黏著劑層31貼合於影像顯示元件(例如液晶單元)或其他光學構件為止為了保護其表面而暫時貼附的膜。離型膜70，通常由單面實施離型處理的熱塑性樹脂膜所構成，該離型處理面與第1黏著劑層31貼合。構成離型膜70的熱塑性樹脂膜，例如可為如聚乙烯等聚乙烯系樹脂、如聚丙烯等聚丙烯系樹脂、如聚對苯二 甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂等。於第3黏著劑層32的表面，為了直到貼合增亮膜50等光學膜為止暫時保護其表面，可先貼附與上述相同的離型膜。離型膜70的厚度，例如為10至50μm。
〈液晶面板〉
關於本發明的液晶面板，包括液晶單元及貼合於前述液晶單元的背光側的上述關於本發明的附保護膜之偏光板。附保護膜之偏光板，以積層於前述液晶單元的背光側面上較理想。於液晶面板，附保護膜之偏光板係配置成其第1黏著劑層31(於具有離型膜70的情況為將其剝離除去後)在液晶單元側。附保護膜之偏光板隔著第1黏著劑層31貼合於液晶單元後，在所期望的時間點剝離除去保護膜60。所以，使用關於本發明的液晶面板所製造的液晶顯示裝置，除製造液晶顯示裝置時防止因紫外線的照射之液晶的劣化外，因最後不包括保護膜60，故可抑制起因於保護膜60中之紫外線吸收劑的缺陷發生之品質降低。
[實施例]
以下，顯示實施例及比較例，更具體說明本發明，但本發明不受限於該等例。
〈保護膜〉
保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的含量、保護膜在波長380nm之單體穿透率、偏光板在波長380nm之單體 穿透率，係根據以下的方法測定。以下，表示使用量、含量等的份及%，在無另外註明下為重量基準。
[黏著劑層中紫外線吸收劑的含量]
黏著劑層中紫外線吸收劑的含量，從保護膜刮取黏著劑，用以下的順序進行前處理後，從液相層析法所得峰之面積進行定量。再者，從保護膜刮取黏著劑時，不使用溶劑而使用刮勺等金屬製的勺進行。使用溶劑時，由於該溶劑的影響，可能從包含紫外線吸收劑的基材膜萃取紫外線吸收劑，測定精確度有變差之虞。
(前處理)
首先，從保護膜使用刮勺刮取黏著劑。然後，藉由溶劑萃取包含於黏著劑層中的紫外線吸收劑，重複過濾洗淨所得之溶液後，進行濃縮，藉由再溶解得到測試溶液。
(層析法之測定條件)
所得之測試溶液使用液相層析法測定，從紫外線吸收劑成份的峰之面積進行定量。所使用的紫外線吸收劑為2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]、Kemisorb102(Chemipro化成公司製)、Adekastab LA31(ADEKA公司製)、Adekastab LA46(ADEKA公司製)時，測定條件係如下述。
裝置：LC-20A(島津製作所公司製)
移動相：A)水、B)乙腈
管柱：J-Pak Core C18(4.6×75mm、2.7μm)
流量：1.0mL/min
梯度：B Conc.)10%-15分鐘-100%(10分鐘)
管柱溫度：40℃
檢測：DAD345nm
所使用的紫外線吸收劑為Kemisorb279(Chemipro化成公司製)時，上述層析法測定條件的移動相B為乙腈/四氫呋喃(體積比50/50)。
[保護膜及偏光板的單體穿透率]
將保護膜、偏光板，使用光學上透明的(甲基)丙烯酸系黏著劑，貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]，作為光學特性測定樣品。在波長380nm之單體穿透率的測定，係用附積分球的分光光度計[日本分光(股)公司製的商品名「V7100」]進行。
測定時，光學特性測定樣品係將其無鹼玻璃側朝向光源側設置於分光光度計。說明具體的測定方法，係求得在波長380nm之MD穿透率(MD)及TD穿透率(TD)，根據下述式：單體穿透率(%)=(MD+TD)/2，求得在波長380nm之單體穿透率。
此處，於測定對象為保護膜的情況，所謂「MD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光的方向與保護膜樣品的TD平行時的穿透率，而且所謂「TD穿透 率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光的方向與保護膜樣品的TD垂直時的穿透率。於測定對象為偏光板的情況，所謂「MD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光的方向與偏光板樣品的穿透軸平行時的穿透率，而且所謂「TD穿透率」係指從格蘭湯普森稜鏡射出的偏光的方向與偏光板樣品的穿透軸垂直時的穿透率。
〈製造例1〉 [保護膜的製作] (聚酯(A)的製造)
於反應器，取對苯二甲酸二甲酯100份、乙二醇70份及乙酸鈣-水鹽0.07份，加熱升溫的同時，蒸餾除去甲醇進行酯交換反應，反應開始後約需要4小時半，升溫至230℃，實質上使酯交換反應終止。然後，添加磷酸0.04份及三氧化銻0.035份，根據通常的方法進行聚合。亦即，反應溫度慢慢提高，最終為280℃，另一方面壓力逐漸降低，最終為0.05mmHg。4小時候後反應結束，根據通常的方法，得到粒化的聚酯(A)。所得之聚酯粒的溶液黏度IV為0.66。
(聚酯(B)的製造)
製造上述聚酯(A)時，添加平均粒徑2μm的非晶質二氧化矽1000ppm，製成聚酯(B)。
(聚酯(C)的製造)
製造上述聚酯(A)時，添加2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]使其成為10%濃度作為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑，製成聚酯(C)。
使用作為紫外線吸收劑之2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]，對甲苯及甲基乙基酮的溶解度，分別為0.01g。
(聚酯膜的製造)
將上述聚酯(A)、(C)分別以85%、15%的比例混合而成的混合原料，作為B層用原料，聚酯(B)作為A層用原料，將A層及B層用原料分別藉由分開的熔融擠出機熔融擠出，得到(A層/B層/A層)的2種原料所構成的3層積層無定形薄片。然後，於冷卻的鑄膜鼓上，共擠出薄片後使其冷卻固化，得到無配向的薄片。然後，於90℃縱方向延伸2.9倍後，再於拉幅機內經過預熱步驟後於90℃橫方向延伸5.5倍，於215℃進行10秒的熱處理，得到厚度38μm的含有紫外線吸收劑的聚酯膜。
(黏著劑層的形成)
將(甲基)丙烯酸系黏著劑與聚異氰酸酯系硬化劑，調配為黏著劑與硬化劑的固體成分的重量比為100：3，用有機溶劑(甲苯)稀釋溶解，調製成黏著劑用(甲基)丙烯酸系聚合物溶液。上述異氰酸酯的NCO基殘存的時間，約為7小 時。使乾燥後的厚度成為15μm之方式塗佈黏著劑用(甲基)丙烯酸系聚合物溶液於塗有聚矽氧樹脂的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜所構成的離型膜上後，於110℃乾燥2分鐘，形成黏著劑層於離型膜上，得到黏著片。
(保護膜的製作)
在上述製成的含有紫外線吸收劑的聚酯膜上貼合黏著片，得到積層體(附離型膜之保護膜)。
(測定)
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為1ppm。
〈製造例2〉
於製造例1，除了添加2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]作為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中以重量分率計含有15ppm外，使用與製造例1相同的方法製成積層體。
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為13ppm。
(製造例3〉
於製造例1，除了添加2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]作為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中以重量分率計含有45ppm外，使用與製造例1相同的方法製成積層體。
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為40ppm。
〈製造例4〉
於製造例1，除了添加2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]作為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中以重量分率計含有110ppm外，使用與製造例1相同的方法製成積層體。
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為105ppm。
〈製造例5〉
將製造例1所製作的積層體(附離型膜之保護膜)，在附有離型膜的狀態下投入80℃的高溫烤箱12小時。
從熱處理後的積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為9ppm。
〈製造例6〉
將製造例1所製作的積層體，在附有離型膜的狀態下投入90℃的高溫烤箱12小時。
從熱處理後的積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為37ppm。
〈製造例7〉
於製造例1，除了添加2,2’-(1,4-伸苯基)雙[4H-3,1-苯并噁嗪-4-酮]作為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中以重量分率計含有140ppm外，使用與製造例1相同的方法製成積層體。
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為130ppm。
〈製造例8〉
於製造例8，於與製造例1相同的含有紫外線吸收劑的聚酯膜，直接塗佈與製造例1相同的黏著劑用(甲基)丙烯酸系聚合物溶液使乾燥後的厚度為15μm，進行乾燥後形成黏著劑層於聚酯膜上。然後，除了將黏著劑層貼合於塗有聚矽氧樹脂的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜所構成的離型膜以外，使用與製造例1相同的方法製成積層體。
從所得之積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為162ppm。
〈製造例9〉
將製造例1所製作的積層體，在附有離型膜的狀態下投入105℃的高溫烤箱12小時。
從熱處理後的積層體除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量，以重量分率計為125ppm。
〈製造例10〉
在製造例10，除了使用不含紫外線吸收劑的厚度38μm的聚酯膜[三菱樹脂公司製的商品名「DIAFOIL」]取代製造例8的含有紫外線吸收劑的聚酯膜外，使用與製造例8相同的方法製成積層體。
從所得之附離型膜之保護膜除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為91.7%。而且，包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑的量為0ppm。
〈製造例11〉 [保護膜的製作] (含有紫外線吸收劑的聚酯膜的製造)
將聚酯粒(TRN-8580FH、帝人公司製)及三嗪系紫外線吸收劑(Kemisorb102、Chemipro化成公司製)，在彼等的合計量100重量%中調配三嗪系紫外線吸收劑使其含量成為2重量%，藉由混練造粒，得到含有紫外線吸收劑的聚酯粒。將所得之含有紫外線吸收劑的聚酯粒，使用擠壓機進行擠出成形，使成為厚度256μm的含有紫外線吸收劑的聚酯膜。
(保護膜的製作)
除了於製造例1的乾燥後的黏著片添加三嗪系紫外線吸收劑Kemisorb102(Chemipro化成公司製)使其含量以重量分率計成為151ppm以外，使用與製造例1相同的方法製成黏著片。
將所得之黏著片貼合於上述製得之含有紫外線吸收劑的聚酯膜，得到積層體(附離型膜之保護膜)。
從所得之附離型膜之保護膜除去離型膜後 貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為5.5%。
〈製造例12〉
於製造例11，除了添加Kemisorb102(Chemipro化成公司製)作為三嗪系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為235ppm外，使用與製造例11相同的方法，製成積層體(附離型膜之保護膜)。
〈製造例13〉
於製造例11，除了添加Kemisorb102(Chemipro化成公司製)作為三嗪系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為939ppm外，使用與製造例11相同的方法，製成積層體(附離型膜之保護膜)。
〈製造例14〉 (含有紫外線吸收劑的聚酯膜的製造)
於製造例11，除了與聚酯粒調配的紫外線吸收劑為苯并三唑系紫外線吸收劑Kemisorb279(Chemipro化成公司製)外，使用與製造例11相同的方法，得到含有紫外線吸收劑的聚酯膜。厚度為101μm。
(保護膜的製作)
除了於製造例1的乾燥後的黏著片，添加苯并三唑系 紫外線吸收劑Kemisorb279(Chemipro化成公司製)使其含量以重量分率計為97ppm以外，使用與製造例1相同的方法，製成黏著片。
將所得之黏著片貼合於上述製成之含有紫外線吸收劑的聚酯膜，得到積層體(附離型膜之保護膜)。
從所得之附離型膜之保護膜除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為2.8%。
〈製造例15〉
於製造例14，除了添加Kemisorb279(Chemipro化成公司製)作為苯并三唑系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為244ppm外，使用與製造例14相同的方法，製成積層體。
〈製造例16〉 (含有紫外線吸收劑的聚酯膜的製造)
於製造例11，除了與聚酯粒調配的紫外線吸收劑為苯并三唑系紫外線吸收劑Adekastab LA31(ADEKA公司製)以外，使用與製造例11相同的方法，得到含有紫外線吸收劑的聚酯膜。厚度為112μm。
(保護膜的製作)
除了於製造例1的乾燥後的黏著片，添加苯并三唑系 紫外線吸收劑Adekastab LA31(ADEKA公司製)使其含量以重量分率計為13ppm以外，使用與製造例1相同的方法，製成黏著片。
將所得之黏著片貼合於上述製成之含有紫外線吸收劑的聚酯膜，得到積層體(附離型膜之保護膜)。
從所得之附離型膜之保護膜除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為1.8%。
〈製造例17〉
於製造例16，除了添加Adekastab LA31(ADEKA公司製)作為苯并三唑系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為24ppm外，使用與製造例16相同的方法，製成積層體。
〈製造例18〉
於製造例16，除了添加Adekastab LA31(ADEKA公司製)作為苯并三唑系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為150ppm外，使用與製造例16相同的方法，製成積層體。
〈製造例19〉 (含有紫外線吸收劑的聚酯膜的製造)
於製造例11，除了與聚酯粒調配的紫外線吸收劑為三 嗪系紫外線吸收劑Adekastab LA46(ADEKA公司製)以外，使用與製造例11相同的方法，得到含有紫外線吸收劑的聚酯膜。厚度為154μm。
(保護膜的製作)
除了於製造例1的乾燥後的黏著片，添加三嗪系紫外線吸收劑Adekastab LA46(ADEKA公司製)使其含量以重量分率計為135ppm以外，使用與製造例1相同的方法，製成黏著片。
將所得之黏著片貼合於上述製成之含有紫外線吸收劑的聚酯膜，得到積層體(附離型膜之保護膜)。
從所得之附離型膜之保護膜除去離型膜後貼合於無鹼玻璃[康寧公司製的商品名「Eagle XG」]時，在波長380nm之單體穿透率為8.9%。
〈製造例20〉
於製造例19，除了添加Adekastab LA46(ADEKA公司製)作為三嗪系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量以重量分率計為191ppm外，使用與製造例19相同的方法，製成積層體。
〈製造例21〉
於製造例19，除了添加Adekastab LA46(ADEKA公司製)作為三嗪系紫外線吸收劑使乾燥後的黏著片中之含量 以重量分率計為375ppm外，使用與製造例19相同的方法，製成積層體。
[附保護膜之偏光板的製作]
使用製造例1至21的保護膜，製成附保護膜之偏光板。具體的製造方法係如下述。
(1)單面附保護膜之偏光板的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上、厚度30μm的聚乙烯醇膜，藉由乾式進行約4倍的一軸延伸，在保持緊張的狀態下，浸漬於40℃的純水1分鐘後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/10/100的水溶液60秒。然後，於68℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/7.5/100的水溶液300秒。接著用10℃的純水洗淨20秒後，於65℃下乾燥，得到一軸延伸的碘吸附配向於聚乙烯醇膜的偏光膜。偏光膜的厚度為11μm。
將聚乙烯醇粉末[Kuraray公司製之商品名「KL-318」、平均聚合度1500]溶解於95℃的熱水，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液，相對於聚乙烯醇粉末2重量份混合1重量份比例之交聯劑[田岡化學工業公司製的商品名「SUMIREZ RESIN650」]，作為水系接著劑。
於上述偏光膜的單面，使用上述製作的水系接著劑，貼合厚度23μm的保護膜[日本ZEON公司製的 環狀聚烯烴系樹脂膜商品名「ZEONOR ZF14-023」的貼合面實施電暈處理者]。然後，於40℃進行1分鐘的乾燥處理，得到由偏光膜/水系接著劑層/保護膜所構成的單面附保護膜之偏光板。
(2)兩面附保護膜之偏光板
將以下的各成分混合、脫氣，調製液體狀態之紫外線硬化性接著劑。
再者，光陽離子聚合引發劑係使用以50%碳酸丙烯酯溶液的形態取得者。上述調配量(2.25份)為固體成分量。
準備厚度23μm的保護膜[日本ZEON公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜商品名「ZEONOR ZF14-023」的貼合面實施電暈處理者]，於其電暈處理面，使用微凹版塗佈機塗佈上述製作的紫外線硬化性接著劑，將其貼合於上述製作的單面附保護膜之偏光板的偏光膜面。然後，從紫外線硬化性接著劑貼合的保護膜側，使用安裝有Fusion UV系統公司製的紫外線燈商品名「D bulb」之附皮帶傳送機之紫外線照射裝置，使UVA的累積光量為250mJ/cm2(以 UV Power PuckII[電子儀器科技公司製]測定)，照射紫外線，使紫外線硬化性接著劑硬化。硬化後的紫外線硬化性接著劑層的厚度為1.0μm。所得之兩面附保護膜之偏光板在波長380nm的單體穿透率為30.0%。
(3)附保護膜之偏光板的製作
從製造例1至21所得之積層體剝離離型膜後貼合於厚度20μm的具有硬塗層的增亮膜[3M(股)公司製商品名「APF-V4 HC」]。此時，保護膜貼合於增亮膜的硬塗層上。然後，隔著厚度5μm的光學透明的丙烯酸黏著劑，貼合增亮膜與上述(2)所得之偏光板(兩面附保護膜之偏光板)。於與偏光板之貼合增亮膜的面之相反側的面，藉由貼合單面具有離型膜的厚度20μm的光學透明的丙烯酸黏著劑，得到附保護膜之偏光板。
[UVA結晶的滲出測試]
將所得之附保護膜之偏光板，使用剪刀切出80mm×80mm的正方形，剝離離型膜後貼合於無鹼玻璃，得到玻璃貼合樣品。將所得之玻璃貼合樣品，投入60℃、90%RH的烤箱指定的時間(12小時、240小時)。藉由暴露於60℃、90%RH的條件，加速包含於保護膜的黏著劑層中的紫外線吸收劑結晶化。
從由烤箱取出的玻璃貼合樣品剝離保護膜後，在樣品面內中央部50mm×50mm的範圍，使用光學顯 微鏡[基恩士(股)公司製的商品名「VHX-100」]200倍觀察，計算附著於增亮膜的硬塗層表面之紫外線吸收劑的結晶個數。結果表示於表1。於表1，所謂380nm單體穿透率，係指在波長380nm的單體穿透率。
10‧‧‧偏光子
22‧‧‧保護膜
31‧‧‧第1黏著劑層
32‧‧‧第3黏著劑層
50‧‧‧增亮膜
60‧‧‧保護膜
61‧‧‧基材膜
62‧‧‧第2黏著劑層
70‧‧‧離型膜
100‧‧‧偏光板

Claims (11)

  1. 一種附保護膜之偏光板，具備：包含基材膜及積層於前述基材膜上的黏著劑層之保護膜；以及積層於前述黏著劑層之偏光板；前述保護膜在波長380nm之單體穿透率為10%以下；前述黏著劑層之紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為苯并噁嗪酮系紫外線吸收劑。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為三嗪系紫外線吸收劑。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之附保護膜之偏光板，其中前述紫外線吸收劑為苯并三唑系紫外線吸收劑，而且前述黏著劑層所含紫外線吸收劑之含量，以重量分率計為90ppm以下。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之附保護膜之偏光板，其中前述偏光板包含增亮膜；於前述黏著劑層上，直接積層前述增亮膜。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之附保護膜之偏光板，前述偏光板在波長380nm之單體穿透率為10%以上。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之附保護膜之偏光板，其中前述基材膜具有包含紫外線吸收劑的 聚酯系樹脂膜。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之附保護膜之偏光板，其係貼合於液晶單元的背光側用之偏光板。
  9. 一種液晶面板，包括：液晶單元；以及貼合於前述液晶單元的背光側之如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之附保護膜之偏光板。
  10. 一種保護膜的製造方法，包括：得到包含離型膜及積層於前述離型膜上的黏著劑層之黏著片的步驟；以及於前述黏著片的前述黏著劑層上，積層包含紫外線吸收劑的基材膜之步驟。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之保護膜的製造方法，其中前述保護膜在波長380nm之單體穿透率為10%以下；前述黏著劑層之紫外線吸收劑的含量，以重量分率計為120ppm以下。
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