TW201537589A - 電容式觸控裝置及其製作方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種電容式觸控裝置，包含：一個透明基板單元，及至少一個圖案化透明導電膜層。該圖案化透明導電膜層形成於該透明基板單元上，並具有一個透明絕緣層，及多個實質配置於該透明絕緣層中且彼此電性隔絕的感應線路。各感應線路是實質由多個不透明奈米導體所製成。各感應線路是配置於折射率實質相同的透明絕緣層中，並藉該透明絕緣層提供電性隔絕，能消除圖案化透明導電膜層的蝕刻線，同時省略光學匹配膜層以節省製作成本並使電容式觸控裝置達到薄化的功效。本發明亦提供一種如前述之電容式觸控裝置的製作方法。

Description

電容式觸控裝置及其製作方法
本發明是有關於一種觸控裝置(touch device)，特別是指一種電容式觸控裝置及其製作方法。
近年來，隨著觸控技術不斷地發展，觸控裝置已廣泛應用於諸如手機、個人數位助理(PDA)、遊戲機輸入介面、電腦觸控螢幕等各種電子產品中。在實際應用中，觸控裝置通常與一平面顯示器(flat panel display，FPD)相結合形成觸控面板(touch panel)，安裝於各式電子產品上，使用者通過觸控面板輸入資料和指令，取代了諸如鍵盤、滑鼠等傳統輸入裝置，給使用者帶來極大的方便性。
一般而言，電容式觸控裝置的透明導電基板主要是由透明基板和圖案化(patterned)透明導電層所構成。前述透明導電基板的製法主要是在不具導電性的一透明基板上鍍上一透明導電層，其通常是採用透明金屬氧化物，如氧化銦錫(indium tin oxide，簡稱ITO)等。後續，再對該透明導電層依序施予黃光製程(photolithography process)與蝕刻製程以形成一具有預定圖案的透明導電層(如，形成以單 向間隔排列或雙向交錯排列的電極圖案)，並做為電容式觸控裝置的感應電極層使用。前述電極圖案包括ITO區域(即電極區域)和蝕刻區域，蝕刻區域上無導電薄膜ITO，光線可直射至透明基板上。然而，由於兩個區域對光線的折射率(refractive index)互不相同，使用者能清楚地觀察到ITO區域和蝕刻區域交接處的蝕刻線，此將嚴重地影響觸控面板的外觀視覺效果。
為改善前述問題，此技術領域的相關技術人員多半是採用光學匹配(index match，IM)膜層來改善。參圖1，顯示有一種現有的降低圖案化ITO層蝕刻線明亮度的方法，其主要是先在一聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)膜11上沉積一個IM膜層12；進一步地，於該IM膜層12上沉積一個ITO層13；最後，對該ITO層13施予圖案化處理，從而形成一圖案化ITO層14；其中，該IM膜層12通常是由多個輪流堆疊的高折射率介電(dielectrics)層(如，Nb2O5)與低折射率介電層(如，SiO2)所構成。前述IM膜層12雖然可以削減圖案化ITO層的蝕刻線明亮度；然而，此IM膜層12的總厚度甚高，不僅製作耗時，更提升製作成本。再者，此IM膜層12也對觸控面板的薄化造成了阻礙。
經上述說明可知，減低圖案化透明導電層的蝕刻線明亮度以提升觸控面板的顯示效果，同時節省電容式觸控裝置的製作成本並使電容式觸控裝置得以達到薄化，是此技術領域的相關技術人員所需改進的課題。
因此，本發明之目的，即在提供一種電容式觸控裝置。
本發明之另一目的，即在提供一種電容式觸控裝置的製作方法。
於是，本發明電容式觸控裝置，包含：一個透明基板單元，及至少一個圖案化透明導電膜層。該圖案化透明導電膜層形成於該透明基板單元上，並具有一個透明絕緣層，及多個實質配置於該透明絕緣層中且彼此電性隔絕的感應線路，各感應線路是實質由多個不透明奈米導體所製成。
此外，本發明之電容式觸控裝置的製作方法，包含以下步驟：透明導電漿層形成步驟、預定蝕刻(etching)區定義步驟、固化步驟，及蝕刻步驟。透明導電漿層形成步驟是於一透明基板單元上塗佈至少一含有多個不透明奈米導體的透明漿層。預定蝕刻區定義步驟是對該透明漿層定義出多個彼此間隔排列設置的預定蝕刻區。固化步驟是固化該透明漿層以成為至少一個透明絕緣層。蝕刻步驟是對該等預定蝕刻區分別施予一物理性蝕刻或一化學性蝕刻，以分別移除位於各預定蝕刻區內的不透明奈米導體，且使該透明絕緣層所殘留的不透明奈米導體定義出多個感應線路，並從而形成至少一個圖案化透明導電膜層。
本發明之功效在於，各感應線路是分別配置於折射率實質相同的透明絕緣層中並藉該透明絕緣層彼此電 性隔絕，能消除圖案化透明導電層的蝕刻線以提升觸控面板的顯示效果，同時省略光學匹配膜層能節省電容式觸控裝置的製作成本，並使電容式觸控裝置得以達到薄化的功效。
2‧‧‧透明基板單元
21‧‧‧下透明基板
211‧‧‧可視區
212‧‧‧佈線區
22‧‧‧上透明基板
221‧‧‧可視區
222‧‧‧佈線區
3‧‧‧下圖案化透明導電膜層
30‧‧‧下透明導電漿層
31‧‧‧下透明絕緣體
310‧‧‧下透明漿層
311‧‧‧第一預定蝕刻區
312‧‧‧開孔
32‧‧‧第一感應線路
321‧‧‧感應段
322‧‧‧外端部
323‧‧‧不透明奈米導體
324‧‧‧奈米級通道
325‧‧‧連接段
4‧‧‧上圖案化透明導電膜層
40‧‧‧透明導電漿層
41‧‧‧上透明絕緣體
410‧‧‧上透明漿層
411‧‧‧第二預定蝕刻區
42‧‧‧第二感應線路
421‧‧‧感應段
422‧‧‧外端部
423‧‧‧不透明奈米導體
424‧‧‧奈米級通道
425‧‧‧連接段
51‧‧‧下軟性印刷電路板
511‧‧‧焊墊
52‧‧‧上軟性印刷電路板
521‧‧‧焊墊
61‧‧‧下異向性導電膜
62‧‧‧上異向性導電膜
7‧‧‧透明保護蓋板
81‧‧‧下光學膠層
82‧‧‧上光學膠層
91‧‧‧電極板
92‧‧‧電極板
93‧‧‧電源供應器
94‧‧‧雷射裝置
95‧‧‧遮罩
96‧‧‧第一線路圖案
961‧‧‧感應段
962‧‧‧連接段
963‧‧‧外端部
97‧‧‧第二線路圖案
971‧‧‧感應段
972‧‧‧外端部
X‧‧‧第一方向
Y‧‧‧第二方向
本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一局部正視示意圖，說明一種現有的降低圖案化ITO層輪廓線明亮度的方法；圖2是一局部俯視示意圖，說明本發明電容式觸控裝置的一第一實施例；圖3是沿圖2的直線III-III所取得的局部剖視示意圖；圖4是一俯視示意圖，說明本發明該第一實施例的製作方法的一步驟(A)；圖5是一俯視示意圖，說明本發明該第一實施例的製作方法的一步驟(B)與一步驟(C)；圖6是一俯視示意圖，說明本發明該第一實施例的製作方法的一步驟(D)與一步驟(E)；圖7是一局部俯視示意圖，說明本發明該第一實施例的製作方法的一步驟(F)；圖8是一局部俯視示意圖，說明本發明電容式觸控裝置的一第二實施例；圖9是沿圖8的直線IX-IX所取得的局部剖視示意圖； 圖10是一俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(a)；圖11是一俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(b)；圖12是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(c)；圖13是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(d)與一步驟(e)；圖14是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(f)；圖15是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(g)與一步驟(h)；圖16是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(i)；圖17是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(j)；圖18是一局部俯視示意圖，說明本發明該第二實施例的製作方法的一步驟(k)；圖19一局部俯視示意圖，說明本發明電容式觸控裝置的一第三實施例的一圖案化透明導電膜。
在本發明被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。
參圖2與圖3，本發明電容式觸控裝置的第一實 施例，包含：一個透明基板單元2、一個下圖案化透明導電膜層3、一個上圖案化透明導電膜層4、一個下軟性印刷電路(flexible printed circuit，FPC)板51、一個上軟性印刷電路板52、一個下異向性導電膜(anisotropic conductive film ，ACF)61、一個上異向性導電膜62、一個透明保護蓋板7、一個下光學膠(optical clear adhesive，OCA)層81，及一個上光學膠層82。簡單地來說，本發明該第一實施例的電容式觸控裝置是屬於此技術領域所知悉的雙層結構。
該透明基板單元2具有相向設置的一個下透明基板21及一個上透明基板22。各透明基板21、22分別具有一個可視區211、221，及一個鄰接於其可視區211、221的佈線區212、222。
各圖案化透明導電膜層3、4分別具有形成於該下透明基板21上與該上透明基板22上的一個下透明絕緣層31與一個上透明絕緣層41，及多個分別配置於各透明絕緣層31、41中且彼此電性隔絕的第一感應線路32與第二感應線路42。各第一感應線路32與各第二感應線路42分別具有多個彼此間隔設置的感應段321、421，及一個外端部322、422，並由多個不透明奈米導體323、423所製成，且各第一感應線路32與各第二感應線路42的該等不透明奈米導體323、423，是實質沿各感應線路32、42的一線路方向依序排列且接觸。
在本發明該第一實施例中，該等第一感應線路32的線路方向是分別沿一第一方向X延伸，以使該等第一 感應線路32的各感應段321與各外端部322位於該下透明絕緣層31中，並分別配置於該下透明基板21的可視區211與佈線區212，且該等第一感應線路32是沿一實質垂直於該第一方向X的第二方向Y彼此間隔排列設置。該等第二感應線路42的線路方向是分別沿該第二方向Y延伸，且該等第二感應線路42是沿該第一方向X彼此間隔排列設置，以使該等第二感應線路42的各感應段421與各外端部422位於該上透明絕緣層41中，並分別配置於該上透明基板22的可視區221與佈線區222，且使該等第二感應線路42的各感應段421分別對應橫跨於該等第一感應線路32的各感應段321的上方。
該下軟性印刷電路板51與該上軟性印刷電路板52分別具有多個彼此電性隔絕的焊墊511、521，且各焊墊511、521是分別藉由該下異向性導電膜61與該上異向性導電膜62，對應鍵合於該下圖案化透明導電膜層3的各第一感應線路32的外端部322與該上圖案化透明導電膜層4各第二感應線路42的外端部422。該透明保護蓋板7覆蓋該等圖案化透明導電膜層3、4。該下光學膠層81是貼合於該下透明絕緣層31與該上透明絕緣層41間，該上光學膠層82是貼合於該透明保護蓋板7與該上透明基板22間。
本發明該等不透明奈米導體323、423的外觀形狀是球狀、長條狀，或碟狀。在本發明該第一實施例中，該等不透明奈米導體323、423是外觀形狀為長條狀的奈米銀線，且各透明絕緣層31、41是由一高分子材料所製成， 且該高分子材料是透明樹脂(resin)。本發明該第一實施例的各第一感應線路32與各第二感應線路42是分別配置於折射率實質相同的透明絕緣層31、41中，並透過各透明絕緣層31、41以使該等第一感應線路32與該等第二感應線路42電性隔絕。因此，當本發明該第一實施例的電容式觸控裝置是整合至平面顯示器以成為觸控面板時，自平面顯示器所放射的光源於入射到各圖案化透明導電膜層3、4時，不易在各圖案化透明導電膜層3、4的圖案邊緣處產生明亮的蝕刻線，可有效地提升觸控面板的顯示效果。
本發明該第一實施例的製作方法，是配合參閱圖4至圖7，並再配合參閱圖2與圖3簡單地說明於下。
如圖4所示，步驟(A)是透明導電漿層30、40形成步驟：於該下透明基板21上與該上透明基板22上分別塗佈含有該等不透明奈米導體323、423的一下透明漿層310與一上透明漿層410。在本發明該第一實施例中，各透明漿層310、410分別是一高分子膠層。
如圖5所示，步驟(B)是排列步驟：對各透明導電漿層30、40提供一電場或一磁場，以使該等透明漿層310、410內的該等不透明奈米導體323、423分別沿各感應線路32、42的線路方向依序排列且接觸。較佳地，各透明漿層310、410具有一預定厚度，該排列步驟是透過電連接有一電源供應器93的一對電極板91、92以對各透明導電漿層30、40提供一電場，且各透明漿層310、410的預定厚度是足以使該等不透明奈米導體323、423於實施排列步驟 後局部裸露於各透明漿層310、410外。在本發明該第一實施例中，各透明漿層310、410的預定厚度約100nm；且該下透明漿層310與該上透明漿層410內的該等不透明奈米導體323、423，分別沿該第一方向X與該第二方向Y依序排列且接觸。此處值得一提的是，本發明該等不透明奈米導體323、423於微觀尺度下雖然實際上是相互糾結且纏繞；然而，為進一步地確保各感應線路32、42的電氣穩定性，本發明進一步地實施該排列步驟，以使該等不透明奈米導體、323，423分別沿該第一方向X與該第二方向Y依序排列且接觸，並確保各感應線路32、42可穩定地電性導通，以提升觸控裝置的整體電氣穩定性。
再參圖5，步驟(C)是預定蝕刻區311、411定義步驟：對各透明漿層310、410分別定義出多個沿該第一方向X延伸的第一預定蝕刻區311與多個分別沿該第二方向Y延伸的第二預定蝕刻區411，該等第一預定蝕刻區311與該等第二預定蝕刻區411是分別沿該第二方向Y與該第一方向X彼此間隔排列設置。
參圖6，步驟(D)是固化步驟：固化該下透明漿層310與該上透明漿層410，以分別成為該下透明絕緣層31與該上透明絕緣層41。
再參圖6，步驟(E)是蝕刻步驟：對該等第一預定蝕刻區311與該等第二預定蝕刻區411分別施予一物理性蝕刻或一化學性蝕刻，以分別移除位於各第一預定蝕刻區311內與各該第二預定蝕刻區411內的不透明奈米導體 323、423，且使該下透明絕緣層31與該上透明絕緣層41所殘留的不透明奈米導體323、423，分別定義出該等沿該第一方向X延伸的第一感應線路32與該等沿該第二方向Y延伸的第二感應線路42，並從而分別形成該下圖案化透明導電膜層3與該上圖案化透明導電膜層4。適用於本發明該第一實施例的蝕刻步驟的物理性蝕刻與化學性蝕刻，分別是一雷射燒除法與一選擇性濕式蝕刻法。在本發明該第一實施例中，該蝕刻步驟是採用一雷射裝置94，對該等第一預定蝕刻區311與該等第二預定蝕刻區411分別施予該雷射燒除法，以使該等預定蝕刻區311、411且局部裸露於各透明絕緣層31、41外的該等不透明奈米導體323、423氣化，並於該等預定蝕刻區311、411分別留下多個奈米級通道324、424，且經氣化後的不透明奈米導體323、423氣體分子則是分別經由該等奈米級通道324、424傳輸離開各透明絕緣層31、41。較佳地，該雷射燒除法所實施的雷射功率是介於5W至8W間，且雷射波長為1064nm。此處需說明的是，本發明該第一實施例的電容式觸控裝置於實施雷射燒除法雖有留下該等奈米級通道324、424，但基於該等奈米級通道324、424是屬於人眼於宏觀下所無法辨識到的尺度，因此，其並不會引起視覺上的不良影響。又，此處更值得一提的是，於各透明絕緣層31、41內所留下的該等奈米級通道324、424，可於各透明絕緣層31、41內部形成粗糙的界面，此等粗糙界面更可有效地提供光源的散射(scattering)。
參圖7，步驟(F)是外部線路連接步驟：以該下異向性導電膜61及該上異向性導電膜62，分別使該下透明絕緣層31內的各第一感應線路32的外端部322與該下軟性印刷電路板51的各焊墊511，及該上透明絕緣層41內的各第二感應線路42的外端部422與該上軟性印刷電路板52的各焊墊521彼此對應鍵合。
再參圖3，步驟(G)是封裝步驟：以該下光學膠層81貼合該下透明絕緣層31與該上透明絕緣層41，並以該上光學膠層82貼合該上透明基板22與該透明保護蓋板7。
參圖8與圖9，本發明電容式觸控裝置的第二實施例，大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，該第二實施例只包含該下圖案化透明導電膜層3，未包含該下光學膠層81，且該透明基板單元2只具有該下透明基板21，該下圖案化透明導電膜層3的細部結構也不同於該第二實施例。簡單地來說，本發明該第二實施例的電容式觸控裝置是屬於此技術領域所知悉的單層結構。
更詳細地來說，在本發明該第二實施例中，該下圖案化透明導電膜層3具有形成於該下透明基板21上的下透明絕緣層31，及實質配置於該下透明絕緣層31中且彼此電性隔絕的該等第一感應線路32與第該等二感應線路42。該下透明絕緣層31具有多對開孔312。各第一感應線路32與各第二感應線路42還分別具有多個連接其每兩相鄰感應段321、421的連接段325、425。
該等第一感應線路32的線路方向是分別沿該第一方向X延伸，以使該等第一感應線路32的各感應段321與各外端部322位於該下透明絕緣層31中，並分別配置於該下透明基板21的可視區211與佈線區212，且該等第一感應線路32是沿該第二方向Y彼此間隔排列設置。該等第二感應線路42的線路方向是分別沿該第二方向Y延伸，且該等第二感應線路42是沿該第一方向X彼此間隔排列設置，以使該等第二感應線路42的各感應段421與各外端部422位於該下透明絕緣層31中，並分別配置於該下透明基板21的可視區211與佈線區212。該下透明絕緣層31的各對開孔312是分別沿該第二方向Y對應位於該等第二感應線路42的每兩相鄰感應段421的相向兩端。該等第二感應線路42的各連接段425是分別形成於該下透明絕緣層31上，並對應填充各對開孔312以橋接其兩相鄰的感應段421，且使該等第二感應線路42的各連接段425分別對應橫跨於該等第一感應線路32的各連接段325的上方。該上光學膠層82是貼合於該下透明絕緣層31與該透明保護蓋板7間。
本發明該第二實施例的製作方法，是配合參閱圖10至圖18，並再配合參閱圖8與圖9簡單地說明於下。
如圖10所示，步驟(a)是下透明導電漿層30形成步驟：於該下透明基板21上塗佈含有該等不透明奈米導體323、423的該下透明漿層310。
如圖11所示，步驟(b)是第一次排列步驟：透過電連接有該電源供應器93的該對電極板91、92對該下透 明導電漿層30提供該電場，以使該下透明漿層310內的該等不透明奈米導體323、423分別沿該第一方向X依序排列且接觸。
參圖12，步驟(c)是預定蝕刻區311定義步驟：於該下透明導電漿層30上形成一遮罩(mask)層95，以對裸露於該遮罩層95外的下透明漿層310定義出該等第一預定蝕刻區311。該遮罩層95具有多個沿該第一方向X延伸並沿該第二方向Y間隔設置的第一線路圖案96，及多個第二線路圖案97。各第一線路圖案96具有多個感應段961、多個連接其兩相鄰感應段961的連接段962，及一個連接其最外側的感應段961的外端部963。各第二線路圖案97具有多個沿該第一方向X與該第二方向Y間隔設置的感應段971，及一個連接其最外側感應段971並沿該第二方向Y延伸的外端部972，且各第二線路圖案97的該等感應段971是分別位於每兩相鄰第一線路圖案96的連接段962間。
參圖13，步驟(d)是第一次固化步驟：固化該下透明漿層310的第一預定蝕刻區311。再參圖13，步驟(e)是蝕刻步驟：以該雷射裝置94對該等第一預定蝕刻區311施予該雷射燒除法，以使該等第一預定蝕刻區311且局部裸露於該下透明漿層310外的該等不透明奈米導體323、423氣化，並於該等第一預定蝕刻區311分別留下該等奈米級通道324、424，且經氣化後的不透明奈米導體323、423氣體分子則是分別經由該等奈米級通道324、424傳輸離開該下透明漿層310。
參圖14，步驟(f)是第二次固化步驟：移除各第一線路圖案96，且固化裸露於各第一線路圖案96外的該下透明漿層310，並從而沿該第一方向X形成各的第一感應線路32的該等感應段321、外端部322與連接段325。
參圖15，步驟(g)是第二次排列步驟：移除各第二線路圖案97，透過電連接有該電源供應器93的該對電極板91、92對該下透明導電漿層30提供該電場，以使剩餘該等不透明奈米導體423分別沿該第二方向Y依序排列且接觸。再參圖15，步驟(h)是第三次固化步驟：固化裸露於各第二線路圖案97外的下透明漿層310，並從而形成該下透明絕緣層31、各第二感應線路42的該等感應段421及外端部422。
參圖16，步驟(i)是挖孔步驟：沿該第二方向Y於該下透明絕緣層31的各第二感應線路42的每兩相鄰感應段421的相向兩端形成各對開孔312。在本發明該第二實施例中，該挖孔步驟的實施手段可以同時採用現有的黃光微影製程與乾式蝕刻製程(dry etching)來實施。關於挖孔步驟的實施手段並非本發明的技術重點，於此不再多加贅述。
參圖17，步驟(j)是各第二感應線路42的各連接段425形成步驟：於該下透明絕緣層31上形成各第二感應線路42的該等連接段425，以填充各對開孔312並橋接其兩相鄰的感應段421，且使該等第二感應線路42的各連接段425分別對應橫跨於該等第一感應線路32的各連接段 325的上方，並從而形成該下圖案化透明導電膜層3。
參圖18，步驟(k)是外部線路連接步驟：以該下異向性導電膜61及該上異向性導電膜62，分別使該下透明絕緣層31內的各第一感應線路32的外端部322與該下軟性印刷電路板51的各焊墊511，及該下透明絕緣層31內的各第二感應線路42的外端部422與該上軟性印刷電路板52的各焊墊521彼此對應鍵合。
再參圖8與圖9，步驟(l)是封裝步驟：以該上光學膠層82貼合該下透明絕緣層31與該透明保護蓋板7。
參圖19，本發明電容式觸控裝置的第三實施例，大致上是相同於該第二實施例，其不同處是在於，本發明該第三實施例只包含該下圖案化透明導電膜層3、該下軟性印刷電路反51與該下異向定導電膜61，且該下圖案化透明導電膜層3內的結構有別於該第二實施例。在本發明該第三實施例中，該下圖案化透明導電膜層3的該等第一感應線路32是分別對應設置於該等第二感應線路42內，並配置於該下透明絕緣層31中且位於共平面。該等第一感應線路32與該等第二感應線路42是沿該第一方向X間隔設置，且各第一感應線路32與各第二感應線路42是沿該第二方向Y延伸。各第一感應線路32的連接段325是分別沿該第一方向Y延伸，且各第一感應線路32的該等感應段321是沿該第二方向Y依序間隔設置並自其連接段325兩兩地反向延伸；各第二感應線路42的連接段425是沿該第 二方向Y延伸並圍繞其所對應的第一感應線路32，且各第二感應線路42的該等感應段421是沿該第二方向Y依序間隔設置，並自其連接段425且與其所對應的第一感應線路32的各感應段321處兩兩地相向延伸。該等第一感應線路32與該等第二感應線路42的感應段321、421與連接段325、425是分別配置於該下透明基板21的可視區211，該等第一感應線路32與該等第二感應線路42的外端部322、422是分別連接於其連接段325、425，並分別配置於該下透明基板21的配線區212，且該等第一感應線路32的各感應段321的形狀與其相鄰第二感應線路42的各感應段421的形狀彼此互補。
經上述各實施例的詳細說明可知，本發明該等實施例的各第一感應線路32與各第二感應線路42是分別配置於折射率實質相同的透明絕緣層31、41中，或同時配置於折射率實質相同的該下透明絕緣層31中，並透過各透明絕緣層31、41以使該等第一感應線路32與該等第二感應線路42電性隔絕。因此，當本發明該等實施例的電容式觸控裝置是整合至平面顯示器以成為觸控面板時，自平面顯示器所放射的光源於入射到各圖案化透明導電膜層3、4時，不只不易在各圖案化透明導電膜層3、4的圖案邊緣處產生明亮的蝕刻線，可有效地提升觸控面板的顯示效果，也可省略掉先前技術所提到的光學匹配膜層以薄化觸控裝置的整體厚度。
又，此處更值得一提的是，本發明各實施例的 該等第一感應線路32與該等第二感應線路42的該等不透明奈米導體323、423，皆採用奈米銀線。各實施例可直接以其第一感應線路32與第二感應線路42的外端部322、422來取代現有的外部線路(也就是，以銀膠所構成的外部傳輸線路)，而奈米銀線所呈現出來的視覺效果為透明的，其無需如同現有技術般，必須再配置黑色基質(black matrix，BM)來遮擋由銀膠所製成的外部傳輸線路。因此，可有效地窄化電容式觸控裝置的邊框。再者，位在各透明絕緣層31、41內的該等奈米級通道324、424更可於各透明絕緣層31、41內形成粗糙的界面，有利於提供光源的散射並使光線更為均勻，而經該電場排列後的該等不透明奈米導體323、423能沿各感應線路32、42的線路方向排列且接觸，也確保了各感應線路32、42的電氣導通特性，有效地提升觸控裝置的整體電氣穩定性。
綜上所述，本發明電容式觸控裝置及其製作方法，其各感應線路32、42是分別配置於折射率實質相同的透明絕緣層31、41中，或同時配置於折射率實質相同的下透明絕緣層31中，並藉各透明絕緣層31、41彼此電性隔絕，能消除圖案化透明導電膜層3、4的蝕刻線以提升觸控面板的顯示效果，同時省略光學匹配膜層能節省電容式觸控裝置的製作成本，並使電容式觸控裝置得以達到薄化的功效；再者，本發明無須額外配製由銀膠所構成的外部線路與黑色基質(BM)，可有效地窄化電容式觸控裝置的邊框，更可藉由各透明絕緣層31、41內的該等奈米級通道324 、424來使光線更為均勻，並藉由該等不透明奈米導體323、423彼此沿各感應線路32、42的線路方向排列且接觸以提升觸控裝置的整體電氣穩定性，故確實能達成本發明之目的。
惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
2‧‧‧透明基板單元
21‧‧‧下透明基板
211‧‧‧可視區
212‧‧‧佈線區
22‧‧‧上透明基板
221‧‧‧可視區
222‧‧‧佈線區
31‧‧‧下透明絕緣體
32‧‧‧第一感應線路
321‧‧‧感應段
322‧‧‧外端部
323‧‧‧不透明奈米導體
41‧‧‧上透明絕緣體
42‧‧‧第二感應線路
421‧‧‧感應段
422‧‧‧外端部
423‧‧‧不透明奈米導體
51‧‧‧下軟性印刷電路板
511‧‧‧焊墊
52‧‧‧上軟性印刷電路板
521‧‧‧焊墊
61‧‧‧下異向性導電膜
62‧‧‧上異向性導電膜
X‧‧‧第一方向
Y‧‧‧第二方向

Claims (14)

  1. 一種電容式觸控裝置，包含：一個透明基板單元；及至少一個圖案化透明導電膜層，形成於該透明基板單元上，並具有一個透明絕緣層，及多個實質配置於該透明絕緣層中且彼此電性隔絕的感應線路，各感應線路是實質由多個不透明奈米導體所製成。
  2. 如請求項1所述的電容式觸控裝置，其中，該等不透明奈米導體的外觀形狀是球狀、長條狀，或碟狀。
  3. 如請求項2所述的電容式觸控裝置，其中，該等不透明奈米導體是外觀形狀為長條狀的奈米銀線，且該透明絕緣層是由一高分子材料所製成。
  4. 如請求項1所述的電容式觸控裝置，其中，該圖案化透明導電膜層的各感應線路的該等不透明奈米導體，是實質沿各感應線路的一線路方向依序排列且接觸。
  5. 如請求項4所述的電容式觸控裝置，其中，是包含一個下圖案化透明導電膜層及一個上圖案化透明導電膜層；該透明基板單元具有相向設置的一個下透明基板及一個上透明基板，各透明基板分別具有一個可視區，及一個鄰接於其可視區的佈線區；各圖案化透明導電膜層分別具有形成於該下透明基板上與該上透明基板上的一個下透明絕緣層與一個上透明絕緣層，及多個分別配置於該下透明絕緣層與該上透明絕緣層中且彼此電性隔絕的第一感應線路與第二感應線路；各第一感應線路與 各第二感應線路分別具有多個彼此間隔設置的感應段及一個外端部；該等第一感應線路的線路方向是分別沿一第一方向延伸，以使該等第一感應線路的各感應段與各外端部位於該下透明絕緣層中，並分別配置於該下透明基板的可視區與佈線區，且該等第一感應線路是沿一實質垂直於該第一方向的第二方向彼此間隔排列設置；該等第二感應線路的線路方向是分別沿該第二方向延伸，且該等第二感應線路是沿該第一方向彼此間隔排列設置，以使該等第二感應線路的各感應段與各外端部位於該上透明絕緣層中，並分別配置於該上透明基板的可視區與佈線區，且使該等第二感應線路的各感應段分別對應橫跨於該等第一感應線路的各感應段的上方。
  6. 如請求項4所述的電容式觸控裝置，其中，是包含一個下圖案化透明導電膜層；該透明基板單元具有一個下透明基板，該下透明基板具有一個可視區，及一個鄰接於其可視區的佈線區；該下圖案化透明導電膜層具有一個形成於該下透明基板上的下透明絕緣層，及多個實質配置於該下透明絕緣層中且彼此電性隔絕的第一感應線路與第二感應線路；該下透明絕緣層具有多對開孔；各第一感應線路與各第二感應線路分別具有多個彼此間隔設置的感應段、多個連接其每兩相鄰感應段的連接段及一個外端部；該等第一感應線路的線路方向是分別沿一第一方向延伸，以使該等第一感應線路的各感應段與各外端部位於該下透明絕緣層中，並分別配置於該下透 明基板的可視區與佈線區，且該等第一感應線路是沿一實質垂直於該第一方向的第二方向彼此間隔排列設置；該等第二感應線路的線路方向是分別沿該第二方向延伸，且該等第二感應線路是沿該第一方向彼此間隔排列設置，以使該等第二感應線路的各感應段與各外端部位於該下透明絕緣層中，並分別配置於該下透明基板的可視區與佈線區，該下透明絕緣層的各對開孔是分別沿該第二方向對應位於該等第二感應線路的每兩相鄰感應段的相向兩端，該等第二感應線路的各連接段是分別形成於該下透明絕緣層上，並對應填充各對開孔以橋接其兩相鄰的感應段，且使該等第二感應線路的各連接段分別對應橫跨於該等第一感應線路的各連接段的上方。
  7. 如請求項4所述的電容式觸控裝置，其中，是包含一個下圖案化透明導電膜層；該透明基板單元具有一個下透明基板，該下透明基板具有一個可視區，及一個鄰接於其可視區的佈線區；該下圖案化透明導電膜層具有一個形成於該下透明基板上的下透明絕緣層，及多個位於該下透明絕緣層中且彼此電性隔絕的第一感應線路與第二感應線路，且該等第一感應線路與該等二感應線路位於共平面；該等第一感應線路與該等第二感應線路是沿一第一方向間隔設置，且各第一感應線路與各第二感應線路是沿一實質垂直於該第一方向的第二方向延伸，各第一感應線路與各第二感應線路分別具有多個沿該第二方向彼此間隔設置的感應段、一個沿該第二方向延伸 且連接其感應段的連接段，及一個連接其連接段的外端部，該等第一感應線路與該等第二感應線路的感應段與連接段分別配置於該下透明基板的可視區，該等第一感應線路與該等第二感應線路的外端部分別配置於該下透明基板的配線區，且該等第一感應線路的各感應段的形狀與其相鄰第二感應線路的各感應段的形狀彼此互補。
  8. 一種電容式觸控裝置的製作方法，其包含以下步驟：透明導電漿層形成步驟：於一透明基板單元上塗佈至少一含有多個不透明奈米導體的透明漿層；預定蝕刻區定義步驟：對該透明漿層定義出多個彼此間隔排列設置的預定蝕刻區；固化步驟：固化該透明漿層以成為至少一個透明絕緣層；及蝕刻步驟：對該等預定蝕刻區分別施予一物理性蝕刻或一化學性蝕刻，以分別移除位於各預定蝕刻區內的不透明奈米導體，且使該透明絕緣層所殘留的不透明奈米導體定義出多個感應線路，並從而形成至少一個圖案化透明導電膜層。
  9. 如請求項8所述的電容式觸控裝置的製作方法，還包含排列步驟，該排列步驟是對該透明導電漿層提供一電場或一磁場，以使該透明漿層內的該等不透明奈米導體分別沿各感應線路的一線路方向依序排列且接觸。
  10. 如請求項9所述的電容式觸控裝置的製作方法，其中， 該等不透明奈米導體的外觀形狀是球狀、長條狀，或碟狀。
  11. 如請求項10所述的電容式觸控裝置的製作方法，其中，該等不透明奈米導體是外觀形狀為長條狀的奈米銀線，且該透明漿層具有一預定厚度，該排列步驟是對該透明導電漿層提供一電場，且該透明漿層的預定厚度是足以使該等不透明奈米導體於實施排列步驟後局部裸露於該透明漿層外。
  12. 如請求項11所述的電容式觸控裝置的製作方法，其中，該蝕刻步驟的物理性蝕刻是一雷射燒除法，該蝕刻步驟的化學性蝕刻是一選擇性濕式蝕刻法。
  13. 如請求項12所述的電容式觸控裝置的製作方法，其中，該蝕刻步驟是對該等預定蝕刻區分別施予該雷射燒除法，以使該等預定蝕刻區的該等不透明奈米導體氣化，並於該等預定蝕刻區分別留下多個奈米級通道。
  14. 如請求項13所述的電容式觸控裝置的製作方法，其中，該雷射燒除法所實施的雷射功率是介於5W至8W間。
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