TW201422733A - 低折射層用塗覆組合物及包含該塗覆組合物的透明導電膜 - Google Patents

低折射層用塗覆組合物及包含該塗覆組合物的透明導電膜 Download PDF

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Heon-Jo Kim
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Abstract

本發明是關於一種包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物。並且，本發明是關於一種包含低折射層的透明導電膜，該低折射層利用該低折射層用塗覆組合物而形成。

Description

低折射層用塗覆組合物及包含該塗覆組合物的透明導電膜
本發明是關於一種低折射層用塗覆組合物及包含該塗覆組合物的透明導電膜。
觸控面板根據位置檢測方法，分為光學方式、超聲波方式、靜電容量方式及電阻膜方式等。電阻膜方式的觸控面板的結構是，透明導電膜和附著有透明導電體層的玻璃隔著間隔部相向配置，使電流在透明導電膜流動，並測定附著有透明導電體層的玻璃中的電壓的結構。另一方面，靜電容量方式的觸控面板的基本結構是，在基材上形成透明導電層，特徵在於沒有可動部分，並且，由於具有高耐久性、高透射率，因此，也適用於車載用途等。
普遍地，適用於該觸控面板的透明導電膜，在透明的膜基材的一方面，從上述膜基材側開始，依次形成底漆層及導電層，而在日本特許公開公報第2003-197035號揭露了在基材膜和導電層之間形成有底塗層的透明導電膜。近年來，不僅是對該透明導電膜，對同時確保構成透明導電膜的底塗層的折射率的調節及耐久性的底塗層組合物的研究也一直持續進行著。
本發明的一實施例提供低折射層用塗覆組合物，該低折射層用塗覆組合物包含矽氧烷化合物(Siloxane compounds)及金屬鹽，從而使低折射層的結構性結合更加緊密，且降低外部環境引起的損傷。
本發明的再一實施例提供包含低折射層的透明導電膜，該低 折射層是由該低折射層用塗覆組合物形成。
本發明的一實施例提供包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物。
在本發明的一實施例中，該金屬鹽可包含選自於由鋅、釔、三價鉻、二價及三價鈷、鎳、鎂、鋁、一價及二價銅、三價鐵、鎘、銻、水銀、銣、釩及它們的組合所組成之群組中的一種以上的鹽。
在本發明的一實施例中，該金屬鹽可包含選自於由硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、鹵化物、醇鹽、乙醯丙酮鹽及它們的組合所組成之群組中的一種以上的鹽。
在本發明的一實施例中，相對於總100重量%，可包含約0.1重量%至約1.0重量%的該金屬鹽。
在本發明的一實施例中，該矽氧烷化合物可包含矽氧烷聚合物，該矽氧烷聚合物選自於由四甲氧基矽烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基矽烷(tetraethoxysilane)、甲基三甲氧基矽烷(methyltrimethoxysilane)、縮水甘油醚氧丙基三甲氧基矽烷(glycidyloxy propyltrimethoxysilane)及它們的組合所組成之群組中的至少一種。
在本發明的一實施例中，該矽氧烷聚合物的分子量可以為約1000至約50000。
在本發明的一實施例中，相對於總100重量%，可包含約5重量%至約100重量%的該矽氧烷化合物。
本發明的再一實施例提供透明導電膜，包含利用上述低折射層用塗覆組合物形成的低折射層。
在本發明的一實施例中，該透明導電膜可以是透明基材、高折射層、低折射層及導電層的層疊結構。
在本發明的一實施例中，該低折射層的折射率可以是約1.4至約1.5。
在本發明的一實施例中，該低折射層的厚度可以是約5奈米(nm)至約100nm。
在本發明的一實施例中，該高折射層的厚度可以是約20nm 至約150nm。
在本發明的一實施例中，該透明基材可以是包含選自於由聚 對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚碸(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚醋酸乙烯酯(PVA)及它們的組合所組成之群組中的某一種的單一膜或層疊膜。
在本發明的一實施例中，該導電層可包含氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)或氟摻雜氧化錫(Fluorine-doped Tin Oxide,FTO)。
在本發明的一實施例中，在該透明基材的單面或雙面更可包 含硬塗層。
使用該低折射層用塗覆組合物，可確保塗敷性、光特性及阻 隔特性優異的低折射層。
該透明導電膜對酸或鹼種類之蝕刻液的抵抗性優異，並且， 可降低導電層的電阻。
1‧‧‧透明基材
2‧‧‧硬塗層
3‧‧‧高折射層
4‧‧‧低折射層
5‧‧‧導電層
10‧‧‧透明導電膜
第1圖繪示本發明一實施例的透明導電膜的截面。
第2圖繪示本發明再一實施例的透明導電膜的截面。
以下，詳細說明本發明的實施例。但是，這僅僅作為例示來提示，不會因這些實施例而限制本發明，本發明僅根據申請專利範圍所要保護的範疇來定義。
為了準確說明本發明，省略與說明無關的部分，在說明書全文中，對相同或類似的結構要素附加相同的附圖文字。
附圖中，為了明確表示各個層及區域，厚度有所放大。並且，在附圖中，為了便於說明，將一部分層及區域的厚度放大表示。
以下，在基材的“上部(或下部)”或基材的“上(或下)”形成任意結構，不僅表示任意結構以接觸方式形成在該基材的上表面(或 下表面)，還表示並不局限於在該基材和基材上(或下)形成的任意結構之間不包括其他結構。
低折射層用塗覆組合物
本發明的一實施例提供包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物。
在形成透明導電膜時，普遍情況下，在低折射層的上部蒸鍍導電層，並在實施用於結晶化的高溫退火過程之後，導電層的各個區域之間會產生傳導率的差異，這是因為在透明基材中產生的揮發性氣體和水分等防止導電層的結晶化。並且，存在著由於導電層與低折射層及高折射層之間的折射率的差異引起的可視性的問題，以及進行用於在導電層形成圖案的蝕刻時產生的低折射層遭到破壞的問題。
為此，該低折射層用塗覆組合物同時包含矽氧烷化合物和金屬鹽，從而可以對包含該低折射層用塗覆組合物的低折射層賦予阻隔特性，並由於上述阻隔特性，在透明基材中產生的揮發性氣體和水分不會影響導電層，從而能夠降低導電層的傳導率減少的現象。並且，可以防止由酸或鹼等蝕刻液引起的損傷，且在降低導電層的阻力的同時，還能確保物理特性的提高。
進而，由於矽氧烷化合物本身的物理折射率低，因此，利用包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物來形成低折射層，並藉由調節該低折射層的折射率及厚度，能夠體現優異的可視性。
該低折射層用塗覆組合物可包含金屬鹽。金屬鹽是指包含金屬的酸進行中和反應，從而與水一同產生的金屬化合物，因此，藉由包含該金屬鹽，就能在形成導電層之後，在高溫進行退火時，不使透明基材中產生的揮發性氣體接觸導電層，從而能夠防止在導電層的結晶化程序之後傳導率降低的現象。並且，藉由同時包含矽氧烷化合物和該金屬鹽，能夠使得該低折射層用塗覆組合物的結構性結合更加緊密，從而可以形成密度高的低折射層。
該金屬鹽可包含選自於由鋅、釔、三價鉻、二價及三價鈷、鎳、鎂、鋁、一價及二價銅、三價鐵、鎘、銻、水銀、銣、釩及它們的組 合所組成之群組中的一種以上的鹽，但本發明並不局限於此，還可選擇使用具有傳導率之普遍的過渡金屬中的一種。並且，該金屬鹽可包含選自於由硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、鹵化物、醇鹽、乙醯丙酮鹽及它們的組合所組成之群組中的一種以上的鹽。
具體地，相對於總100重量%，包含約0.1重量%至約1.0重量%的該金屬鹽。藉由以上述範圍的含量包含該金屬鹽，能夠確保低折射層用塗覆組合物的塗敷性，且利用上述塗覆組合物進行塗敷時，能夠促進凝膠化，而增加固化速度。進而，在形成低折射層時，金屬鹽填充空隙(void)部分，從而能夠改善低折射層的耐化學性。
該低折射層用塗覆組合物可包含矽氧烷化合物。該矽氧烷化合物可包含矽氧烷聚合物，該矽氧烷聚合物包含選自於由四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、縮水甘油醚氧丙基三甲氧基矽烷及它們的組合所組成之群組中的至少一種。
具體地，該矽氧烷化合物可包含由化學式1形成的矽氧烷聚合物。化學式1為(R1)n-Si-(O-R2)4-n，該R1是碳數1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、環氧基或丙烯酸基，該R2是具有碳數1至6的烷基或乙醯氧基，該n是0<n<4的整數。
因此，除了上述的之外，該矽氧烷化合物可包含矽氧烷聚合物，該矽氧烷化合物包含選自三乙氧基(乙基)矽烷(C2H5Si(OC2H5)3)、三乙醯氧基(甲基)矽烷(CH3CO2)3SiCH3)、三乙醯氧基(乙烯基)矽烷(CH3CO2)3SiCH=CH2)、三(2-甲氧基乙氧基)(乙烯基)矽烷(CH3OCH2CH2O)3SiCH=CH2)、三甲氧基(辛基)矽烷(CH3(CH2)7Si(OC2H5)3)、三甲氧基[2-(7-氧雜二環[4.1.0]]庚-3-基)乙基]矽烷(C11H22O4Si)、三甲氧基(丙基)矽烷(CH3CH2CH2Si(OCH3)3)、三甲氧基(氧基)矽烷(CH3(CH2)7Si(OCH3)3)、三甲氧基(十八烷基)矽烷(CH3(CH2)17Si(OCH3)3)、異丁基(三甲氧基)矽烷(CH3)2CHCH2Si(OCH3)3、三乙氧基(異丁基)矽烷((CH3)2CHCH2Si(OC2H5)3)、三甲氧基(7-辛烯-1-基)矽烷(H2C=CH(CH2)6Si(OCH3)3)、三甲氧基(2-苯乙基)矽烷(C6H5CH2CH2Si(OCH3)3)、二甲氧基-甲基(3，3，3-三氟丙基)矽烷 (C6H13F3O2Si)、二甲氧基(二甲基)矽烷(C2H6Si(OC2H6)2)、三乙氧基(1-苯基乙烯基)矽烷((C2H5O)3SiC(CH2)C6H5)、三乙氧基[4-(三氟甲基)苯基]矽烷(CF3C6H4Si(OC2H5)2)、三乙氧基(4-甲氧苯基)矽烷((C2H5O)3SiC6H4OCH3)、3-(三甲氧基甲矽烷基)丙基甲基丙烯酸酯(H2C=C(CH3)CO2(CH2)3Si(OCH3)3)、(3-環氧丙氧基)甲基二乙氧基矽烷(C11H24O4Si)、3-(三乙氧基)丙基異氰酸酯(C2H5O)3Si(CH2)3NCO)、異丁基三乙氧基矽烷(CH3)2CHCH2Si(OC2H5)3)及它們的組合所組成之群組中的至少一種。
該矽氧烷聚合物的分子量可以為約1000至約50000。該矽氧烷聚合物由上述化學式1形成，藉由使該矽氧烷聚合物維持上述分子量的範圍，能夠使低折射層用塗覆組合物維持塗敷性，並在形成低折射層時，可賦予薄膜光學物理性質及耐化學性。
更具體地，相對於總100重量%，可包含約5重量%至約100重量%的該矽氧烷化合物。該矽氧烷化合物對該低折射層用塗覆組合物的折射率及光學物理性質造成影響，因此，能夠包含上述範圍的矽氧烷化合物，能夠控制折射率，還能容易地體現透射率及反射率優異的低折射層。
透明導電膜
本發明的再一實施例提供包含低折射層的透明導電膜，該低折射層利用包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物而形成。
第1圖簡要表示本發明一實施例的透明導電膜的截面。參照第1圖，該透明導電膜10是透明基材1、硬塗層2、高折射層3、低折射層4及導電層5的層疊結構。
透明基材1可包含透明性和強度優異的膜。具體地，該透明基材1可以是選自於由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚碸(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚醋酸乙烯酯(PVA)及它們的組合所組成之群組中的某一種的單一膜或層疊膜的形態。
該高折射層3及該低折射層4在透明基材1和導電層5之間發揮提高絕緣特性及透射率的作用，此時，低折射層可包含該低折射層用塗覆組合物。
普遍的低折射層要求透射率和霧度(haze)等光學特性和在導電層形成圖案時不會妨礙傳導率的阻隔特性。為此，藉由利用包含金屬鹽及矽氧烷化合物的低折射層用塗覆組合物，來形成規定厚度的低折射層，能夠提高透射率的同時，還能降低透射b*、反射b*。
並且，在單獨使用該矽氧烷化合物的情況下產生的空隙(void)部分由該金屬鹽填充，從而能夠對低折射層賦予阻隔特性，且由於上述阻隔特性，幾乎不會對導電層的結晶化程序造成影響，在酸、鹼環境中也不會遭到破壞，因此，能夠帶來優異的可視性效果。
該低折射層4的折射率可以為約1.4至約1.5。藉由利用包含物理折射率低的矽氧烷化合物的低折射層用塗覆組合物來形成該低折射層，能夠將折射率調節為約1.4至約1.5，且能夠調節與高折射層之間的折射率差異，因此，能夠提高透明導電膜的整體可視性。
該低折射層4的厚度可以為約5nm至約100nm。圖案隱蔽性是指在該低折射層的上部對導電層進行圖案化時，具有導電性物質的部分和沒有導電性物質的部分不會產生透射率、反射率或色差值的差異，而為了隱蔽圖案，重要的是將導電層的下部的低折射層等的特定折射率和厚度維持恆定。因此，藉由將該低折射層的厚度維持恆定，能夠容易地體現圖案隱蔽性(折射率匹配)的效果。
該高折射層3的厚度可以為約20nm至約150nm。藉由使該高折射層3維持上述厚度，能夠提高優異的透射率及可視性，並能夠降低應力引起破裂(crack)及捲曲(curl)。
該導電層5形成於該低折射層4的上部，可包含氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)或氟摻雜氧化錫(Fluorine-doped Tin Oxide,FTO)。具體地，該導電層5的厚度可以為約5nm至約50nm，藉由將該導電層的厚度維持在上述範圍，在能夠使該導電層確保較低的電阻的方面具有很好的效果。
第2圖簡要表示本發明再一實施例的透明導電膜的截面，第2圖中，透明基材1的下部還形成有硬塗層2。硬塗層2發揮提高表面硬度的作用，且只要是丙烯酸類化合物等用於形成硬塗層，就能不受限制地利用。
該硬塗層2如第1圖所示，可僅形成於透明基板1的單面，但如第2圖所示，也可形成於透明基材1的雙面。
以下，提出本發明的具體實施例。但是，以下所記載的實施例僅僅用於具體例示或說明本發明，本發明並不受此限制。
製備例
製備例1-1至製備例1-4：低折射層用塗覆組合物
以1：2：2的比例混合矽酸四乙酯(TEOS)、乙醇及水，並添加硝酸，反應24小時，來合成折射率為1.43的二氧化矽溶膠。測定所合成的該二氧化矽溶膠的固體成分，並利用甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出上述固體成分的10%的矽氧烷化合物。
在所製備出的該矽氧烷化合物中混合下表1中的金屬鹽，並利用甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出總固體成分的5%的低折射層用塗覆組合物(製備例1-1至製備例1-4)。
製備例1-5：低折射層用塗覆組合物
在矽酸四乙酯(TEOS)中導入少量甲基三甲氧基矽烷，並以1：2：2的比例混合乙醇、水後，添加硝酸，反應24小時，來合成折射率為1.43的二氧化矽溶膠。測定所合成的該二氧化矽溶膠的固體成分，並利用甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出上述固體成分的10%的矽氧烷化合物。
製備例1-6：低折射層用塗覆組合物
以1：2：2的比例混合矽酸四乙酯(TEOS)、乙醇及水，並添加硝酸，反應24小時，來合成折射率為1.43的二氧化矽溶膠。測定所合成的上述二氧化矽溶膠的固體成分，並利用甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出上述固體成分的10%的矽氧烷化合物。
表1
製備例2：硬塗層用塗覆組合物
相對於固體成分總100重量份，混合20重量份的雙季戊四醇六丙烯酸酯、60重量份的紫外線固化型丙烯酸酯(商品名稱：HX-920UV，共榮社)、15重量份的二氧化矽微粒子(商品名稱：XBA-ST，一山化學)、5重量份的光聚合引發劑豔佳固-184(汽巴公司)，並利用稀釋溶劑甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出固體成分45%的硬塗層用塗覆組合物(折射率為1.52)。
製備例3：高折射層用塗覆組合物
相對於固體成分總100重量份，混合36重量份的紫外線固化型丙烯酸酯(產品名稱：HX-920UV，共榮社)、60重量份的高折射奈米粒子(ZrO2奈米粒子)、4重量份的光聚合引發劑(產品名稱：豔佳固-184，巴斯夫公司)，並利用稀釋溶劑甲基乙基酮(MEK)稀釋，來製備出固體成分5%的高折射層用塗覆組合物(折射率為1.64)。
實施例及比較例
實施例1
利用邁耶棒(Meyer bar)將製備例2的硬塗層用塗覆組合物塗敷於125μm的PET膜上，使得乾燥膜的厚度成為1.5μm，並利用180W的高壓水銀燈照射300mJ的紫外線來進行固化，從而製備出硬塗層膜。在與所製備出的該硬塗層膜相反的一面以相同的方法塗敷製備例2的硬塗層用塗覆組合物，使得乾燥膜的厚度成為1.5μm，並進行固化，從而製備出在雙面包含硬塗層的膜。
之後，在雙面都包含硬塗層的膜的單面塗敷藉由製備例3製備的高折射層用塗覆組合物，使得乾燥膜的厚度成為50nm，並利用180W的高壓水銀燈照射300mJ的紫外線來進行固化，來製備出高折射層。
之後，在該高折射層塗敷藉由製備例1-1製備的低折射層用塗覆組合物，使得乾燥膜的厚度成為20nm，並在150℃的烘箱中固化1分鐘，從而形成低折射層。此時，利用銦：錫=95：5的ITO靶，在低折射層形成膜厚度為20nm的ITO層，來製備出透明導電膜。
實施例2
除了適用藉由製備例1-2製備的低折射層用塗覆組合物，並將低折射層的厚度塗敷為40nm之外，利用與上述實施例1相同的方法製備出透明導電膜。
實施例3
除了適用藉由製備例1-3製備的低折射層用塗覆組合物，並將低折射層的厚度塗敷為50nm之外，利用與上述實施例1相同的方法製備出透明導電膜。
實施例4
除了適用藉由製備例1-4製備的低折射層用塗覆組合物，並將低折射層的厚度塗敷為60nm之外，利用與上述實施例1相同的方法製備出透明導電膜。
比較例1
除了適用藉由製備例1-5製備的低折射層用塗覆組合物，並將低折射層的厚度塗敷為100nm之外，利用與上述實施例1相同的方法製備出透明導電膜。
比較例2
除了適用藉由製備例1-6製備的低折射層用塗覆組合物，並將低折射層的厚度塗敷為100nm之外，利用與上述實施例1相同的方法製備出透明導電膜。
實驗例：透明導電膜的物理特性
利用上述實施例及比較例的透明導電膜測定以下多種物理性質，並將結果記載於下述表2中。
1)酸穩定性評價：利用在該低折射層進行了圖案化的絲網，來塗敷感光性樹脂，並進行乾燥及固化後，在25℃、5%鹽酸水溶液浸漬。之後，藉由肉眼觀察圖案，來評價低折射層是否因酸性液而受損。
2)透射率、透射b*/反射b*：利用CM-5(柯尼卡美能達公司)，來測定全光線透射率及透射b*值/反射b*值。
3)霧度(Haze)：利用CM-5(柯尼卡美能達公司)，來測定霧度值。
4)塗敷性：第一次利用肉眼，第二次利用光學顯微鏡AM413T Dino-Lite Pro來確認，從而測定出透明導電膜的塗敷性。
5)緊貼性：將塗敷層表面，利用刀片(cutter)以1mm間隔切割成橫×豎為10mm×10mm的棋盤模樣，並利用賽璐玢膠帶(cellophane tape)(米其邦公司)進行了剝離試驗。利用膠帶對相同的部位進行3次剝離試驗，並進行評價之後，以“/100”的標記方式記錄緊貼性數值。
對酸的損傷-○：嚴重損傷，△：普通損傷，×：無損傷
塗敷性-◎：非常優異，○：優異，△：普通，X：差
藉由上述表2的測定結果能夠瞭解到，實施例1至實施例4的透明導電膜具有規定水準以上的光特性、塗敷性及緊貼性，且幾乎沒有由酸引起的損傷。尤其，藉由上述酸的穩定性評價，使得由包含金屬鹽的低折射層用塗覆組合物形成的低折射層的結構更加緊密，從而肉眼就能判斷幾乎不存在因蝕刻液即酸性溶液引起的損傷。
相反地，在包含由不包含金屬鹽的低折射層用塗覆組合物形成之低折射層的比較例1及比較例2的透明導電膜的情況下，透射率、透射b*及反射b*與實施例1至實施例4的測定值類似，且塗敷性及緊貼性也維持在普通以上的水準，但在酸穩定性評價方面產生了由蝕刻液即酸引起的損傷。
結果能夠瞭解到，由包含矽氧烷化合物及金屬鹽的低折射層用塗覆組合物形成的低折射層及包含該低折射層的透明導電膜借助金屬鹽來防止由酸引起的損傷，因此能夠類推出，由於該低折射層，而不會受到為了導電層的圖案化而賦予的蝕刻液之影響，並對透明基材中產生的揮發性氣體等，能夠確保阻隔特性。
雖然本發明已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧透明基材
2‧‧‧硬塗層
3‧‧‧高折射層
4‧‧‧低折射層
5‧‧‧導電層
10‧‧‧透明導電膜

Claims (15)

  1. 一種低折射層用塗覆組合物，包含矽氧烷化合物及金屬鹽。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物，其中該金屬鹽包含選自於由鋅、釔、三價鉻、二價及三價鈷、鎳、鎂、鋁、一價及二價銅、三價鐵、鎘、銻、水銀、銣、釩及它們的組合所組成之群組中的一種以上的鹽。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物，其中該金屬鹽包含選自於由硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、鹵化物、醇鹽、乙醯丙酮鹽及它們的組合所組成之群組中的一種以上的鹽。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物，其中相對於總100重量%，包含0.1重量%至1.0重量%的該金屬鹽。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物，其中該矽氧烷化合物包含矽氧烷聚合物，該矽氧烷聚合物選自於由四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、縮水甘油醚氧丙基三甲氧基矽烷及它們的組合所組成之群組中的至少一種。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之低折射層用塗覆組合物，其中該矽氧烷聚合物的分子量為1000至50000。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物，其中相對於總100重量%，包含5重量%至100重量%的該矽氧烷化合物。
  8. 一種透明導電膜，包含利用如申請專利範圍第1項所述之低折射層用塗覆組合物形成的低折射層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之透明導電膜，其中該透明導電膜是透明基材、高折射層、低折射層及導電層的層疊結構。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之透明導電膜，其中該低折射層的折射率為1.4至1.5。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之透明導電膜，其中該低折射層的厚度為5奈米(nm)至100nm。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之透明導電膜，其中該高折射層的厚度為20nm至150nm。
  13. 如申請專利範圍第9項所述之透明導電膜，其中該透明基材為包含選自於由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚碸(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚醋酸乙烯酯(PVA)及它們的組合所組成之群組中的某一種的單一膜或層疊膜。
  14. 如申請專利範圍第9項所述之透明導電膜，其中該導電層包含氧化銦錫(ITO)或氟摻雜氧化錫(FTO)。
  15. 如申請專利範圍第9項所述之透明導電膜，其中在該透明基材的單面或雙面更包含硬塗層。
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