TW201400320A - 熱轉印記錄媒體、熱轉印記錄媒體的製造方法及熱轉印記錄方法 - Google Patents

熱轉印記錄媒體、熱轉印記錄媒體的製造方法及熱轉印記錄方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201400320A
TW201400320A TW102104569A TW102104569A TW201400320A TW 201400320 A TW201400320 A TW 201400320A TW 102104569 A TW102104569 A TW 102104569A TW 102104569 A TW102104569 A TW 102104569A TW 201400320 A TW201400320 A TW 201400320A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
thermal transfer
recording medium
transfer recording
heat
Prior art date
Application number
TW102104569A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI530403B (zh
Inventor
Godai Fukunaga
Takehito Yamato
Yasuo Sugishita
Yoko Hirai
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Publication of TW201400320A publication Critical patent/TW201400320A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI530403B publication Critical patent/TWI530403B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/02—Dye diffusion thermal transfer printing (D2T2)
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/06—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers relating to melt (thermal) mass transfer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/30—Thermal donors, e.g. thermal ribbons
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/36—Backcoats; Back layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/38—Intermediate layers; Layers between substrate and imaging layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
    • B41M5/44—Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by the macromolecular compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

本發明提供一種熱轉印記錄媒體，其在高速印像時之轉印感度高，而且可減少在高濃度部所發生的圖像品質不良，亦即印像物表面會局部性粗糙化的現象，且可防止由於在印像時發生皺紋而造成印像不良。本發明之熱轉印記錄媒體，具備含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層，該基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下，此外，更佳為耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α為0.05至0.40μm，而且在150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00至0.70μm，該平均值α與該平均值β之差為0.00至0.30μm。

Description

熱轉印記錄媒體、熱轉印記錄媒體的製造方法及熱轉印記錄方法
本發明關於一種使用於熱轉印(thermosensitive transfer)方式之印像機(printer)的熱轉印記錄媒體、其製造方法及熱轉印記錄方法，亦即關於一種熱轉印記錄媒體、其製造方法及熱轉印記錄方法，該熱轉印記錄媒體在基材的一面設置耐熱滑性層(heat-resistant lubricating layer)，在該基材的另一面依序形成基底塗層(undercoat layer)、染料層。
一般而言，熱轉印記錄媒體是被稱為熱色帶(thermal ribbon)、被使用於熱轉印方式之印像機的印墨色帶(ink ribbon)，而在基材的一面設置熱轉印層，在該基材的另一面設置耐熱滑性層(背塗層(backcoat layer))者。在此，熱轉印層是印墨之層，用於以印像機之熱轉印頭(thermal head)所產生的熱將印墨昇華(昇華轉印(sublimation transfer)方式) 或熔融(熔融轉印(melt transfer)方式)而轉印於被轉印體(transferred matter)側者。
目前，在熱轉印方式中，尤其是昇華轉印方式，由於與印像機之高功能化同時可簡便地將各種影像加以全色(full color)形成，被廣泛應用於數位式相機之自印像(self-printing)、身分證等卡片類、娛樂(amusement)用輸出物等。 與如上述的用途多樣化同時，要求小型化、高速化、低成本化、且對於所獲得印像物(printed matter)的耐久性之呼聲也增高，使得近年來已演變成有一種熱轉印記錄媒體已相當受到歡迎，其係在基材薄片的同一側具有設置成使得用於對印像物賦予耐久性的保護層等是不重疊的複數個熱轉印層者。
在如此的狀況中，伴隨著用途之多樣化與應用的擴展、印像機之印像速度進一步高速化的進展，若為先前的熱轉印記錄媒體，則會發生無法獲得充分的印像濃度(print density)的問題。因此，為提高轉印感度(transfer sensitivity)，雖然已試圖藉由熱轉印記錄媒體之薄膜化來提高在印像時之轉印感度，但是卻存在著在熱轉印記錄媒體之製造或印像時會發生由於熱或壓力等而產生的皺紋(wrinkle)、或在某些情況下會發生斷裂的問題。
此外，也試圖增大在熱轉印記錄媒體之染料層中的染料/樹脂(Dye/Binder)之比率來提高印像濃度、或在印像時之 轉印感度，但是卻不僅因需要增加染料量而導致成本增加，也會導致部分染料在製造過程中的捲取狀態時，則將會轉移(translocation)到熱轉印記錄媒體之耐熱滑性層(背轉移(back translocation))，其後在退繞時，則其經轉移的染料會再轉移到其他顏色之染料層、或保護層(背背轉移(back-back translocation))，以致若將此已受到污染的層對被轉印體進行熱轉印時，則會呈與經指定的顏色不同的色調(hue)，亦即會發生所謂的「罩色污染(scumming)」。
此外，也在試圖非在熱轉印記錄媒體側而在印像機側提高在影像形成時之能量，但是除了不僅會導致耗電量增加、縮短印像機之熱轉印頭的耐用期限以外，也容易發生染料層與被轉印體會熔融黏結，亦即所謂的「異常轉印(abnormal transfer)」。針對於此，若為防止異常轉印而對染料層或被轉印體添加大量離型劑時，則將發生影像滲出(bleeding)或罩色污染。
為了解決如上述問題，例如，在專利文獻1，係提案一種在基材與染料層間具有包含聚乙烯基吡咯啶酮樹脂與改質聚乙烯基吡咯啶酮樹脂之黏著層(基底塗層)的熱轉印薄片(thermal transfer sheet)。
此外，在專利文獻2，不僅是為解決轉印感度不足的技術問題，也為解決印像物表面會局部性粗糙(mat)化的技術問題而提案一種熱轉印薄片，其係具有由乙烯基吡咯啶酮與醋 酸乙烯酯之共聚物樹脂及膠體狀無機顏料超微粒子所構成的基底塗層。
如上所述，伴隨著轉印感度提高，染料層的進一步薄膜化變得可行，使得染料之總量減少，且也與成本降低有關，但是在另一方面，卻存在著在熱轉印記錄媒體之印像時，由於熱或壓力等而發生皺紋而導致印像不良、或在某些情況下會發生斷裂的問題。
熱轉印記錄媒體在印像時所發生的皺紋，若耐熱滑性層之滑性為不足夠時，則有時會以基材與熱轉印頭之黏結為原因而發生。此外，若耐熱滑性層之滑性，在低能量印像時與高能量印像時為大幅地不同的情況，例如在同一影像上同時存在著印像部(printed domain)與非印像部(non-printed domain)等時，則有時會以在兩者間的熱轉印頭與耐熱滑性層之摩擦有差異為原因而發生，因此伴隨著染料層之薄膜化，則對熱轉印記錄媒體要求特別強的耐熱性。
為了解決如上述問題，在專利文獻3，提案一種藉由與矽酮改質樹脂同時將金屬皂及填料添加於耐熱滑性層，以提高在高能量印像時之滑性來防止在印像時發生皺紋之方法。
〔先前技術文獻〕 (專利文獻)
專利文獻1：日本特開2005-231354號公報
專利文獻2：日本特開2008-155612號公報
專利文獻3：日本特開第2006-306017號公報
但是，根據在專利文獻1中所提案的熱轉印記錄媒體，並以在最近的昇華轉印方式之高速印像機進行印像結果，雖然並未確認到異常轉印，但是在印像時之轉印感度卻為低、未達到足夠的水準，並且由於導入黏著層，關於形成黑影像時之黑色的高濃度部，卻發生印像物表面會局部性粗糙化之圖像品質不良。
根據在專利文獻2所提案的熱轉印記錄媒體進行相同的印像結果，雖然在印像時之轉印感度高、已達到足夠的水準，但是仍然可確認到圖像品質不良(畫質不良)。
如上所述，在使用最近的昇華轉印方式之高速印像機時，若為先前技術，則藉由導入基底塗層而可獲得在印像時之轉印感度，但是關於形成黑影像時之黑色的高濃度部，目前卻並未發現可充分地改善印像物表面會局部性粗糙化的現象之熱轉印記錄媒體。
此外，在另一方面，經組合在專利文獻3所提案的熱轉 印記錄媒體、與在專利文獻1、2所提案的熱轉印記錄媒體之耐熱滑性層時，與將在專利文獻1、2所提案的熱轉印記錄媒體以單獨印像的情況相比較，由於在印像時發生皺紋而造成印像不良，雖然已獲得稍微改善，但是無法充分地加以防止。
因此，在使用最近的昇華轉印方式之高速印像機時，若為先前技術，雖然藉由導入基底塗層而可獲得在印像時之轉印感度，但是關於形成黑影像時之黑色的高濃度部，卻並未發現可充分地改善印像物表面會局部性粗糙化的現象之熱轉印記錄媒體，而且也無法充分地防止由於在印像時發生皺紋而造成印像不良。
因此，有鑑於上述技術問題，本發明之目的在於提供一種熱轉印記錄媒體，其在高速印像時之轉印感度高，而且可減少在高濃度部所發生的圖像品質不良亦即印像物表面會局部性粗糙化的現象，並可防止由於在印像時發生皺紋而造成印像不良。
為了解決上述技術問題，本發明是以具有下列構成為其特徵：
(1)一種熱轉印記錄媒體，具備基材、形成於該基材的一面之耐熱滑性層、形成於前述基材的另一面之基底塗層、及形成於在該基底塗層中的與前述基材對向的面成相反側的面 之染料層，並且，該熱轉印記錄媒體熱轉印記錄媒體的特徵在於：前述基底塗層，含有作為主成分的水溶性高分子，在溫度23℃且濕度50%的條件下的平衡吸濕率(equilibrium moisture absorption rate)為15%以下。
(2)如前述第(1)項所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為13%以下。
(3)如前述第(1)或(2)項所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差(root-mean-square deviation)Sq)的平均值α為0.05至0.40μm，而且在150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00至0.70μm，該平均值α與該平均值β之差為0.00至0.30μm。
(4)如前述第(1)至(3)項中的任一項所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述基底塗層的乾燥後的塗佈量為0.05至0.30 g/m2。
(5)如上述第(1)至(4)項中的任一項之熱轉印記錄媒體，其中，被轉印體的被轉印側的至少一層，是以水系之塗佈液所形成。
(6)一種熱轉印記錄媒體的製造方法，是製造熱轉印記錄媒體的方法，該熱轉印記錄媒體，其被轉印體的被轉印側的 至少一層，是使用以水系的塗佈液所形成的被轉印體，並且，具備形成為薄膜狀或薄片狀之基底(base)、形成於在該基底的兩面中的一方的基底面上之耐熱滑性層、形成於與該耐熱滑性層成相反側的基底面上之基底塗層、及形成於該基底塗層上之染料層；其中，該熱轉印記錄媒體的製造方法的特徵在於：在與前述耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液後，將該基底塗層形成液加以乾燥處理，使得該基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為15%以下。
(7)如上述第(6)項所述之一種熱轉印記錄媒體的製造方法，其中，將前述基底塗層形成液加以乾燥處理，使得前述基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為13%以下。
(8)如上述第(6)或(7)項所述之一種熱轉印記錄媒體的製造方法，其中，在與前述耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液，使得該基底塗層形成液的乾燥後的塗佈量為0.05 g/m2以上且0.30 g/m2以下，然後將前述基底塗層形成液加以乾燥處理。
(9)一種熱轉印記錄方法，其特徵在於：預先製備如上述第(1)至(5)項中的任一項所述之熱轉印記錄媒體，並藉由熱將在該染料層中所含有的染料加以昇華而轉印於被轉印體。
本發明之熱轉印記錄媒體，含有作為主成分的水溶性高分子的前述該基底塗層，其在23℃/50%中的平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下，此外，更佳為前述耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α為0.05至0.40μm，而且在150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00至0.70μm，該平均值α與該平均值β之差為0.00至0.30μm。因此，即便使用於最近的昇華轉印方式之高速印像機，也能獲得一種印像物，其在高速印像時之轉印感度高，而且可防止印像物表面會局部性粗糙化的現象及由於在印像時發生皺紋而造成印像不良。
1‧‧‧熱轉印記錄媒體
2‧‧‧被轉印體
10‧‧‧基材
20‧‧‧基底塗層
30‧‧‧染料層
40‧‧‧耐熱滑性層
100‧‧‧基材
200‧‧‧隔熱層
300‧‧‧受像層
第1圖是關於根據本發明之實施形態的熱轉印記錄媒體之側截面圖。
第2圖是關於根據本發明之實施形態的被轉印體之側截面圖。
〔本發明之最佳實施方式〕
本發明之一實施例之熱轉印記錄媒體，是如第1圖所示，其構成為在基材(10)的一面設置用於賦予與熱轉印頭的滑移性(slippage)之耐熱滑性層(40)，而在基材(10)的另一面依序形成基底塗層(20)、染料層(30)。
基材(10)，由於被要求不致於在熱轉印時之熱壓下而軟化變形的耐熱性與強度，因此可將例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、賽璐玢、醋酸酯、聚碳酸酯、聚碸、聚醯亞胺、聚乙烯醇、芳香族聚醯胺、聚芳醯胺(aramid)、聚苯乙烯等之合成樹脂薄膜，及電容器紙(condenser paper)、石蠟紙(paraffin paper)等之紙類等，以單獨或作為經組合的複合物來使用。其中，若考慮及物性、加工性及成本方面等時，則較佳為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
此外，基材(10)之厚度可考慮操作性、加工性而使用在2μm以上且50μm以下之範圍者，但是若考慮及轉印適性或加工性等之操作使用性時，則較佳為約2μm以上且9μm以下者。
此外，在基材(10)中，也可在形成耐熱滑性層(40)或/及基底塗層(20)的面施加黏著處理。黏著處理係可適用電暈處理、火焰處理、臭氧處理、紫外線處理、放射線處理、粗面化處理、電漿處理、底漆處理(primer treatment)等之習知的技術，且也可將該等處理兩種以上併用。本發明對於提高基材與基底塗層之黏著性有效，且從成本方面考慮，則 較佳為使用經底漆處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
其次，耐熱滑性層(40)，其耐熱滑性層40的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α為0.05至0.40μm，而且在150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00至0.70μm，該平均值α與該平均值β之差為0.00至0.30μm之範圍是必要的。
關於均方根偏差Sq，可以各種方法進行測定，但是採用不易受到基底的影響、可進行微細形狀測定之非接觸式測定方法而使用雷射顯微鏡之測定。
裝置是使用掃描型共焦點雷射顯微鏡(scanning type confocal laser microscope)OLS4000(OLYMPUS(股)公司(OLYMPUS Corporation)製)。在使用雷射顯微鏡進行測定時，解析性(resolving power)係視物鏡(object lens)之開口數(Numerical Aperture)而定。在另一方面，為緩和測定偏差(deviation)，選擇測定範圍係以廣泛為較佳、開口數與測定範圍的平衡良好的50倍之物鏡，且隨機測定10點。數據處理係僅作傾斜校正、且將經在無截止(cut-off)條件所獲得Sq之值加以平均，作為耐熱滑性層40之Sq值。
另外，耐熱滑性層40的表面粗糙度，係可藉由均方根波紋度(root-mean-square waviness)Wq加以評估。若均方根 波紋度Wq的平均值α為0.05至0.90μm(亦即，在0.05μm以上且0.90μm以下之範圍內)，而且在溫度為150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根波紋度Wq)的平均值β為0.00至1.40μm(亦即，在0.00μm以上且1.40μm以下之範圍內)，該平均值α與該平均值β之差為0.00至0.50μm(亦即，在0.00μm以上且1.40μm以下之範圍內)即可。
關於均方根波紋度Wq係可以各種方法進行測定，但是使用顯微鏡雷射位移計(microscope laser displacement meter)，計算出經使用截止值λ f 1.25 mm、λ c 0.25 mm之輪廓曲線濾光片(profile filter)所獲得波紋度(waviness)曲線之均方根波紋度，且以n=10進行測定，作為平均值。並且，在150℃、10分鐘的環境下靜置後，也以相同的方法計算出耐熱滑性層40之Wq值，測定在150℃、10分鐘的環境下的靜置前後之差。
並且，在150℃、10分鐘的環境下靜置後，也以相同的方法計算出耐熱滑性層40之Sq值，測定在150℃、10分鐘的環境下的靜置前後之差。
藉由在耐熱滑性層40具有一定的凹凸(concave and convex)，耐熱滑性層40與熱轉印頭之接觸面積變小，兩者之摩擦降低而獲得滑性、可防止印像不良，因此在本發明中，耐熱滑性層40的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值 α之值為0.05μm至0.40μm。若耐熱滑性層40之均方根偏差Sq為0.05μm以下時，則呈接近平滑的狀態，使得與熱轉印頭之摩擦上升而造成印像不良。在另一方面，若印像前之耐熱滑性層40之均方根偏差Sq為0.40μm以上時，則凹凸之程度變得太大，導致來自熱轉印頭的熱傳導不均勻，且也會變成濃度不均勻而顯現在印像物上。
此外，若從低能量印像至高能量印像皆能保持一定的凹凸時，則從低能量印像時至高能量印像時可獲得穩定的滑性，使得即使在同一影像上存在著印像部與非印像部，也不致於在兩者間造成差異而可抑制發生皺紋。因此，若將耐熱滑性層在150℃的環境下靜置10分鐘時，在前後之均方根偏差Sq的平均值之差為在0.00至0.30μm之範圍時，則在低能量印像時與高能量印像時，在表面之凹凸不會發生太大的差異，可防止發生皺紋。
若欲滿足上述表面粗糙度之範圍，則必須調整耐熱滑性層(40)之凹凸。
耐熱滑性層40係可因應需要而摻合例如作為黏合劑之樹脂、用於賦予離型性或滑移性之功能性添加劑、填充劑、硬化劑、溶劑等來調製用於形成耐熱滑性層所需要的(形成用)塗佈液，然後加以塗佈、乾燥來形成。
此耐熱滑性層(40)的乾燥後的塗佈量，以約0.1 g/m2以上且2.0 g/m2以下為適當。在此，耐熱滑性層(40)的乾 燥後的塗佈量係意謂耐熱滑性層形成用之塗佈液經塗佈、乾燥後所殘留的固體成份含量，後述的基底塗層(20)的乾燥後的塗佈量及染料層(30)的乾燥後的塗佈量，也相同地意謂塗佈液經塗佈、乾燥後所殘留的固體成份含量。
耐熱滑性層之一例，可使用聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯基乙醯基縮醛樹脂、聚酯樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚醚樹脂、聚丁二烯樹脂、丙烯酸系多元醇、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、丙烯酸環氧酯、硝化纖維素樹脂、醋酸纖維素樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺基醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂等。
相同地，作為功能性添加劑，可使用動物系蠟、植物系蠟等之天然蠟，合成烴系蠟、脂肪族醇與酸系蠟、脂肪酸酯與甘油酯系蠟、合成酮系蠟、胺及醯胺系蠟、氯化烴系蠟、α-烯烴系蠟等之合成蠟，硬脂酸丁酯、油酸乙酯等之高級脂肪酸酯，硬脂酸鈉、硬脂酸鋅、硬脂酸鈣、硬脂酸鉀、硬脂酸鎂等之高級脂肪酸金屬鹽，長鏈烷基磷酸酯、聚氧化烯烷基芳基醚磷酸酯，或聚氧化烯烷基醚磷酸酯等之磷酸酯等之界面活性劑等。
此外，作為填充劑，可使用滑石、二氧化矽、氧化鎂、氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、高嶺土、黏土、矽酮粒子、聚乙烯樹脂粒子、聚丙烯樹脂粒子、聚苯乙烯樹脂粒子、聚甲基 丙烯酸甲酯樹脂粒子、聚胺基甲酸酯樹脂粒子等。
此外，硬化劑可使用伸甲苯基二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、四甲基二甲苯二異氰酸酯等之異氰酸酯類、及其衍生物。
其次，基底塗層(20)是將含有作為主成分的水溶性高分子塗佈液加以塗佈、乾燥而形成。並且，在23℃/50%的平衡吸濕率為15%以下是必要的。在此，所謂的「主成分」係表示除了該水溶性高分子以外，也可在不損及本發明之功效範圍內進一步添加其他成分，且意謂該水溶性高分子之合計，由形成基底塗層時的整體來考慮，則含有超過50質量%，較佳為80質量%以上。
在基底塗層所使用的水溶性高分子之一例，可列舉：聚乙烯醇及其改質/共聚物、聚乙烯基吡咯啶酮及其改質/共聚物、澱粉、明膠、甲基纖維素、乙基纖維素、羧基甲基纖維素等。
其中，可獲得基材與染料層之黏著性為較良好且高印像濃度的是聚乙烯醇及其改質/共聚物、聚乙烯基吡咯啶酮及其改質/共聚物。
在本發明並且需要基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下。若平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下時，則可抑制關於在形成黑影像時之黑色 的高濃度部的印像物表面會局部性粗糙化之影像不良。發生粗糙化的機制並不清楚，但是可推測為：若平衡吸濕率為15%時，則由於在基底塗層中所含有的水分在印像時氣化或膨張，使得染料層與印像物表面局部性熔融黏結而造成局部性色調差，結果印像物表面會局部性粗糙化，或氣化或膨張的水分在印像物表面形成微細的凹凸而造成光散射，結果導致局部性粗糙化的緣故。
另外，在23℃/50%中的平衡吸濕率的下限值並無特殊的限制，本發明之在23℃/50%中的平衡吸濕率的範圍，係取決於所使用的樹脂等所能達成之範圍，只要是在高速印像時可獲得高印像濃度之範圍即可。
在23℃/50%中的平衡吸濕率，係在聚乙烯醇及其改質/共聚物為8至10%、在聚乙烯基吡咯啶酮及其改質/共聚物為25至30%、在羧基甲基纖維素為約30%、在澱粉(starch)為10至16%，所欲為使用聚乙烯醇及其改質/共聚物，但是只要基底塗層的平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下時即可，也可將聚乙烯醇與聚乙烯基吡咯啶酮任意混合而使得平衡吸濕率為15%以下，較佳為13%以下。
另外，在本發明所謂的「平衡吸濕率」，是根據ISO規格所表示在溫度23±1℃、濕度50±2% RH的試料之吸濕度指標，且以下列方法進行測定。在底面直徑為5.3公分之鋁杯稱取在基底塗層所使用的材料約5克，在105℃乾燥3小時 。將此放置在3℃/50% RH之恆溫恆濕機(thermo-hygrostat)中直至成為恆量為止，測定其質量(W)後，將此在105℃乾燥3小時後測定絕對乾燥質量(W0)，以下式計算出平衡吸濕率。
平衡吸濕率(質量%)={(W-W0)/W0}×100。
作為聚乙烯醇，可列舉：例如，KURARAY POVAL PVA-235(可樂麗(股)公司(Kuraray Co.,Ltd.)製)、KURARAY POVAL PVA-117(可樂麗(股)公司製)、KURARAY POVAL PVA-124(可樂麗(股)公司製)、GOHSENOL KH-20(日本合成化學工業(股)公司(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.)製)、GOHSENOL N-300(日本合成化學工業(股)公司製)等之聚乙烯醇，具有乙醯乙醯基、富於反應性之乙醯乙醯基化聚乙烯醇之Gohsefimer Z-200、Z-320(日本合成化學工業(股)公司製)，或將聚乙烯醇之一部份醇基加以縮醛改質之水系聚乙烯基縮醛Essreck KX系列(積水化學工業(股)公司(Sekisui Chemical Co.,Ltd.)製)、Essreck KW系列(積水化學工業(股)公司製)等。
作為聚乙烯基吡咯啶酮，可列舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-4-吡咯啶酮等之乙烯基吡咯啶酮的均聚物(homopolymer)或此等之共聚物。除此以外，可列舉改質聚乙烯基吡咯啶酮樹脂等。改質聚乙烯基吡咯啶酮樹脂係N-乙 烯基吡咯啶酮系單體與其他單體之共聚物。另外，共聚合形態並無特殊的限制而可為無規共聚合、嵌段共聚合、接枝共聚合等。上述之N-乙烯基吡咯啶酮系單體係指N-乙烯基吡咯啶酮(N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-4-吡咯啶酮等)及其衍生物者。衍生物可列舉：例如N-乙烯基-3-甲基吡咯啶酮、N-乙烯基-5-甲基吡咯啶酮、N-乙烯基-3,3,5-三甲基吡咯啶酮、N-乙烯基-3-苯甲基吡咯啶酮等之在吡咯啶酮環具有取代基者。
可與N-乙烯基吡咯啶酮系單體共聚合之單體成分，可列舉如下述之乙烯基聚合性單體。例如，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯等之(甲基)丙烯酸系單體，反丁烯二酸(富馬酸)、順丁烯二酸(馬來酸)、伊康酸等之不飽和羧酸，乙烯、丙烯、氯乙烯、醋酸乙烯酯、乙烯醇、苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、偏二氯乙烯、四氟乙烯、偏二氟乙烯等。
基底塗層(20)在乾燥後的塗佈量，雖然不能一概而限制，但是較佳為在0.05 g/m2以上且0.30 g/m2以下之範圍內。若為少於0.05 g/m2時，由於在染料層積層時之基底塗層劣化，在高速印像時之轉印感度不足夠，以致有在與基材或染料層之密著性上存在著問題的顧慮。在另一方面，若為超過0.30 g/m2時，則將影響熱轉印記錄媒體本身之感度降低，以致有在高速印像時之轉印感度不足夠的顧慮。
此外，在基底塗層或基底塗層形成塗佈液中，在不損及前述性能之範圍內，可使用膠體狀無機顏料超微粒子、異氰酸酯化合物、矽烷偶合劑、分散劑、黏度調整劑、穩定化劑等習知的添加劑。
此外，作為膠體狀無機顏料超微粒子，可列舉：先前習知者，例如，二氧化矽(膠質二氧化矽)、氧化鋁或氧化鋁水合物(氧化鋁溶膠、膠質氧化鋁、陽離子性鋁氧化物或其水合物、似水鋁石等)、矽酸鋁、矽酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、氧化鈦等。
其次，染料層(30)可利用先前習知者，例如可摻合熱遷移性染料、黏合劑、溶劑等來調製染料層形成用之塗佈液，並加以塗佈、乾燥而形成。染料層(30)的乾燥後的塗佈量，則以約1.0 g/m2為適當。另外，染料層可以單色之單層來構成、或將含有色調不同的染料之複數個染料層在同一基材的同一面依面順序重複進行形成。
熱遷移性染料，係可藉由熱而熔融、擴散或昇華遷移之染料。例如，黃色成分可列舉溶劑黃56,16,30,93,33、分散黃201,231,33等。品紅色(magenta)成分可列舉：C.I.分散紫31、C.I.分散紅60、C.I.分散紫26、C.I.溶劑紅27、或C.I.溶劑紅19等。藍色(cyan)成分可列舉：C.I.分散藍354、C.I.溶劑藍63、C.I.溶劑藍36、C.I.溶劑藍266、C.I.分散藍 257、或C.I.分散藍24等。黑色之染料通常為組合前述各染料來調色。
在染料層(30)中所含有的樹脂並無特殊的限制，先前習知的樹脂黏合劑任何者皆可使用，可列舉：乙基纖維素、羥基乙基纖維素、乙基羥基纖維素、羥基丙基纖維素、甲基纖維素、醋酸纖維素等之纖維素系樹脂，或聚乙烯醇、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯醯胺等之乙烯基系樹脂，或聚酯樹脂、苯乙烯-丙烯腈共聚合樹脂、苯氧基樹脂等。
在此，染料層(30)之染料與樹脂的摻合比率，以質量為基準，較佳為(染料)/(樹脂)=10/100至300/100。其係若(染料)/(樹脂)之比率為低於10/100時，則由於染料太少而發色感度變得不足夠，以致無法獲得良好的熱轉印影像，相反地，若該比率為超過300/100時，則由於對樹脂的染料之溶解性會極端地降低，作為熱轉印記錄媒體時之保存穩定性惡化，使得染料易於析出的緣故。此外，在染料層中，也可在不損及性能之範圍內含有異氰酸酯化合物、矽烷偶合劑、分散劑、黏度調整劑、穩定化劑等之習知的添加劑。
另外，耐熱滑性層(40)、基底塗層(20)、染料層(30)任一者皆可藉由先前習知的塗佈方法進行塗佈、乾燥即 可形成。塗佈方法之一例可列舉：照相凹版塗佈法(gravure coating method)、網版印刷法、噴霧塗佈法、逆向輥塗佈法。
本發明之熱轉印記錄媒體的製造方法，其特徵為：該熱轉印記錄媒體係使用於被轉印體的被轉印側的至少一層係以水系之塗佈液所形成的被轉印體，且具備形成為薄膜狀或薄片狀之基底、形成於在該基底的兩面中之一方的基底面上之耐熱滑性層、形成於與該耐熱滑性層成相反側的基底面上之基底塗層、及形成於該基底塗層上之染料層；且係在與該耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液後，將該基底塗層形成液加以乾燥處理，使得該基底塗層的平衡吸濕率在溫度23℃、濕度50%的條件下為15%以下，較佳為13%以下。
此時，較佳為在與前述耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液，使得該基底塗層形成液的乾燥後的塗佈量為0.05 g/m2以上且0.30 g/m2以下後，將該基底塗層形成液加以乾燥處理，使得該基底塗層的平衡吸濕率在溫度23℃、濕度50%的條件下為13%以下。
本發明之熱轉印記錄方法，其特徵為：預先製備熱轉印記錄媒體，並藉由熱將在該染料層中所含有的染料加以昇華而轉印於第2圖所示之被轉印體2。
《實施例》
在下文中，例示使用於本發明之各實施例及各比較例的材料。另外，除非另有特別指示以外，在下文中之「份」係以質量為基準。此外，本發明並不受限於此等實施例。
<附有耐熱滑性層之基材的製造>
基材係使用4.5μm之經單面易黏著處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜，並在其未經易黏著處理面上，以照相凹版塗佈法塗佈下述組成之耐熱滑性層塗佈液-1，使得乾燥後的塗佈量為0.5 g/m2，在100℃進行乾燥1分鐘，以獲得附有耐熱滑性層之基材。
<耐熱滑性層塗佈液-1>
˙矽酮丙烯酸酯(東亞合成(股)公司 50.0份
(Toagosei Co.,Ltd.)、US-350)
˙MEK(甲基乙基酮) 50.0份
(實施例1)
在附有耐熱滑性層之基材的易黏著處理面上，以照相凹版塗佈法塗佈下述組成之基底塗層塗佈液-1，使得乾燥後的塗佈量為0.20 g/m2，在100℃進行乾燥2分鐘，以形成基底塗層。接著，在該基底塗層上，以照相凹版塗佈法塗佈下述組成之染料層塗佈液-1，使得乾燥後的塗佈量為0.70 g/m2，在90℃進行乾燥1分鐘而形成染料層，以獲得實施例1之熱 轉印記錄媒體。在實施例1，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.057、β=0.072。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為8%。
<基底塗層塗佈液-1>
<染料層塗佈液>
(實施例2)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了基底塗層使用下述組成之基底塗層塗佈液-2以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得實施例2之熱轉印記錄媒體。在實施例2，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.058、β=0.068。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為14%。
<基底塗層塗佈液-2>
˙聚乙烯醇 3.00份
(實施例3)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了將基底塗層加以塗佈、乾燥使得乾燥後的塗佈量為0.03 g/m2以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得實施例3之熱轉印記錄媒體。在實施例3，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.060、β=0.070。
(實施例4)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了將基底塗層加以塗佈、乾燥使得乾燥後的塗佈量為0.35 g/m2以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得實施例4之熱轉印記錄媒體。在實施例4，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.058、β=0.077。
(實施例5)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體1中，除了耐熱滑性層40使用耐熱滑性層塗佈液-2以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得實施例5之熱轉印記錄媒體。在實施例5，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.175、β=0.265。
<耐熱滑性層塗佈液-2>
(實施例6)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體1中，除了耐熱滑性層40使用耐熱滑性層塗佈液-3以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得實施例6之熱轉印記錄媒體。在實施例6，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.386、β=0.673。
<耐熱滑性層塗佈液-3>
(比較例1)
在附有耐熱滑性層之基材的易黏著處理面上，不形成基底塗層而在易黏著處理面上，以照相凹版塗佈法塗佈與實施例1相同的染料層塗佈液，使得乾燥後的塗佈量為0.70 g/m2，在90℃進行乾燥1分鐘而形成染料層，以獲得比較例1之熱轉印記錄媒體。在比較例1，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.063、β=0.078。
(比較例2)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了基底塗層使用下述組成之基底塗層塗佈液-3以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例2之熱轉印記錄媒體。在比較例2，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.060、β=0.068。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為30%。
<基底塗層塗佈液-3>
(比較例3)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了基底塗層使用下述組成之基底塗層塗佈液-4以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例3之熱轉印記錄媒體。
在比較例3，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.063、β=0.074。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為20%。
<基底塗層塗佈液-4>
(比較例4)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了基底塗層使用下述組成之基底塗層塗佈液-5以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例4之熱轉印記錄媒體。在比較例4，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α= 0.062、β=0.075。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為30%。
<基底塗層塗佈液-5>
(比較例5)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體中，除了基底塗層使用下述組成之基底塗層塗佈液-6以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例5之熱轉印記錄媒體。在比較例5，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.066、β=0.072。此時的基底塗層在23℃/50%中的平衡吸濕率為3%。
<基底塗層塗佈液-6>
(比較例6)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體1中，除了耐熱滑性層40使用耐熱滑性層塗佈液-4以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例6之熱轉印記錄媒體。在比較例6，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.462 、β=0.544。
<耐熱滑性層塗佈液-4>
(比較例7)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體1中，除了耐熱滑性層40使用耐熱滑性層塗佈液-5以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例7之熱轉印記錄媒體。在比較例7，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.033、β=0.045。
<耐熱滑性層塗佈液-5>
(比較例8)
在經實施例1所製得熱轉印記錄媒體1中，除了耐熱滑性層40使用耐熱滑性層塗佈液-6以外，其餘則以與實施例1相同的方式獲得比較例8之熱轉印記錄媒體。在比較例8，耐熱滑性層40之均方根偏差Sq的平均值α及β為α=0.164、β=0.513。
<耐熱滑性層塗佈液-6>
<被轉印體之製造>
基材係使用188μm之白色發泡聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜，在其一面將下述組成之受像層(image receiving layer)塗佈液以照相凹版塗佈法加以塗佈、乾燥使得乾燥後的塗佈量為5.0 g/m2，以製造熱轉印用之被轉印體。
<受像層塗佈液>
<印像評估>
經使用實施例1至6、比較例1至8之熱轉印記錄媒體，以熱模擬器(thermal simulator)進行印像，評估低濃度部及最高反射濃度之結果展示於表1。另外，最高反射濃度是以X-Rite 528測定未確認到印像物表面的粗糙化之印像部之值。低濃度部是測定將最高反射濃度的255灰階(gray-scale)分成11區中在23至46灰階的反射濃度之結果。另外，反射濃度是以X-Rite 528測定之值。
另外，印像條件如下所示：
˙印像環境：23℃/50% RH
˙線週期：0.7 msec
˙印像密度：主掃描300 dpi 副掃描300 dpi
<異常轉印評估>
異常轉印之評估係以下列基準進行。△○以上係在實務應用上無問題之水準。
○：無法辨識到對於被轉印體之異常轉印；△○：僅可辨識到極少對於被轉印體之異常轉印； △：稍微可辨識到對於被轉印體之異常轉印；X：可全面辨識到對於被轉印體之異常轉印。
<印像物表面評估>
此外，印像物表面之粗糙化評估係以下列基準進行：○：無法辨識到粗糙化；△：可局部性辨識到粗糙化；X：可清楚辨識到粗糙化。
由表1所示結果，得知設置含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層的實施例1至6、比較例2至4及6至8之熱轉印記錄媒體，係與未設置基底塗層之比較例1、或未含有作為主成分的水溶性高分子的比較例5之熱轉印記錄媒體相比較，則在高速印像時之轉印感度為高。並且，由實施例1及比較例2、4之最高反射濃度得知水溶性高分子係以聚乙烯醇為更佳。
此外，若為在23℃/50%中的平衡吸濕率為15%以下的實施例1至6、比較例4至8，則雖然未確認到印像物表面會局部性粗糙化的現象，但是若為在23℃/50%中的平衡吸濕率為15%以上的比較例2至4，則可確認到。
此外，實施例3之熱轉印記錄媒體，若與實施例1之熱轉印記錄媒體相比較，得知由於基底塗層之塗佈量為少於0.10 g/m2，低灰階之轉印感度提高，但是密著性卻會降低一些。此外，實施例4之熱轉印記錄媒體，若相同地與實施例1之熱轉印記錄媒體相比較，得知由於基底塗層之塗佈量為超過0.30 g/m2，則低濃度部之轉印感度降低。
〔產業上之利用可能性〕
根據本發明所獲得之熱轉印記錄媒體，由於可使用於昇華轉印方式之印像機，且與印像機之高速‧高功能化同時可簡便地將各種影像加以全色形成，可廣泛利用於數位式相機 之自印像、身分證明書等之卡片類、娛樂用輸出物等。
1‧‧‧熱轉印記錄媒體
10‧‧‧基材
20‧‧‧基底塗層
30‧‧‧染料層
40‧‧‧耐熱滑性層

Claims (9)

  1. 一種熱轉印記錄媒體，具備基材、形成於該基材的一面之耐熱滑性層、形成於前述基材的另一面之基底塗層、及形成於在該基底塗層中的與前述基材對向的面成相反側的面之染料層，並且，該熱轉印記錄媒體的特徵在於：前述基底塗層，含有作為主成分的水溶性高分子，在溫度23℃且濕度50%的條件下的平衡吸濕率為15%以下。
  2. 如請求項1所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為13%以下。
  3. 如請求項1或請求項2所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α為0.05至0.40μm，而且在150℃、10分鐘的條件下靜置後的該耐熱滑性層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00至0.70μm，前述平均值α與前述平均值β之差為0.00至0.30μm。
  4. 如請求項1至請求項3中的任一項所述之熱轉印記錄媒體，其中，前述基底塗層的乾燥後的塗佈量為0.05至0.30 g/m2。
  5. 如請求項1至請求項4中的任一項所述之熱轉印記錄媒體，其中，被轉印體的被轉印側的至少一層，是以水系的塗佈液所形成。
  6. 一種熱轉印記錄媒體的製造方法，是製造熱轉印記錄媒體的方法，該熱轉印記錄媒體，其被轉印體的被轉印側的至 少一層，是使用以水系的塗佈液所形成的被轉印體，並且，具備形成為薄膜狀或薄片狀之基底、形成於在該基底的兩面中的一方的基底面上之耐熱滑性層、形成於與該耐熱滑性層成相反側的基底面上之基底塗層、及形成於該基底塗層上之染料層；其中，該熱轉印記錄媒體的製造方法的特徵在於：在與前述耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液後，將前述基底塗層形成液加以乾燥處理，使得前述基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為15%以下。
  7. 如請求項6所述之熱轉印記錄媒體的製造方法，其中，將前述基底塗層形成液加以乾燥處理，使得前述基底塗層的平衡吸濕率，在溫度23℃、濕度50%的條件下為13%以下。
  8. 如請求項6或請求項7所述之熱轉印記錄媒體的製造方法，其中，在與前述耐熱滑性層成相反側的基底面上，塗佈含有作為主成分的水溶性高分子之基底塗層形成液，使得該基底塗層形成液的乾燥後的塗佈量為0.05 g/m2以上且0.30 g/m2以下，然後將前述基底塗層形成液加以乾燥處理。
  9. 一種熱轉印記錄方法，其特徵在於：預先製備如請求項1至請求項5中的任一項所述之熱轉印記錄媒體，並藉由熱將在前述染料層中所含有的染料加以昇華而轉印於被轉印體。
TW102104569A 2012-02-10 2013-02-06 A thermal transfer recording medium, a method of manufacturing a thermal transfer recording medium, and a thermal transfer recording method TWI530403B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012027378 2012-02-10
JP2012072321 2012-03-27
JP2012072467 2012-03-27
JP2012074341 2012-03-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201400320A true TW201400320A (zh) 2014-01-01
TWI530403B TWI530403B (zh) 2016-04-21

Family

ID=48947233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102104569A TWI530403B (zh) 2012-02-10 2013-02-06 A thermal transfer recording medium, a method of manufacturing a thermal transfer recording medium, and a thermal transfer recording method

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9493023B2 (zh)
EP (1) EP2813373B1 (zh)
JP (1) JP6183217B2 (zh)
CN (1) CN104105603B (zh)
TW (1) TWI530403B (zh)
WO (1) WO2013118459A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6379990B2 (ja) * 2014-10-21 2018-08-29 凸版印刷株式会社 感熱転写記録媒体
CN105711280A (zh) * 2014-12-04 2016-06-29 全斯福新材料（苏州）有限公司 一种易用的喷墨热升华转印纸
JP6795026B2 (ja) * 2016-02-29 2020-12-02 凸版印刷株式会社 感熱転写記録媒体
WO2017159870A1 (ja) * 2016-03-18 2017-09-21 大日本印刷株式会社 中間転写媒体、中間転写媒体と熱転写シートとの組合せ、及び印画物の形成方法
EP3501824A4 (en) * 2016-08-18 2019-09-18 FUJIFILM Corporation POLYESTER FOIL AND METHOD FOR PRODUCING THE POLYESTER FOIL
US10919327B2 (en) 2016-09-30 2021-02-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Thermal transfer sheet
JP7073627B2 (ja) * 2017-03-21 2022-05-24 株式会社リコー ラベル用透明感熱記録媒体、及び物品
CN108288431B (zh) * 2018-02-23 2019-12-10 广东溢达纺织有限公司 热烫标签及其制备方法
CN110722883A (zh) * 2019-11-28 2020-01-24 徐州太平洋印务有限公司 一种高灵敏度的转印膜

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH042061Y2 (zh) * 1984-11-02 1992-01-23
US5147843A (en) * 1991-05-16 1992-09-15 Eastman Kodak Company Polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone mixtures as dye-donor subbing layers for thermal dye transfer
EP0803764B2 (en) * 1996-04-26 2005-03-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing a photothermographic material
JP2000177256A (ja) * 1998-12-14 2000-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 熱転写記録用転写シート
JP2000247049A (ja) * 1999-03-02 2000-09-12 Oji Paper Co Ltd 熱転写記録体
JP2004188826A (ja) * 2002-12-12 2004-07-08 Sony Corp 可逆性記録層を有する光学記録媒体、及びこれを用いた記録方法
JP2005035122A (ja) * 2003-07-18 2005-02-10 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シート
JP3908765B2 (ja) 2004-01-20 2007-04-25 大日本印刷株式会社 熱転写シート
CN100475548C (zh) * 2004-08-04 2009-04-08 株式会社理光 热转印接收体、其生产方法、记录图像的方法和记录的图像
EP1623840B1 (en) 2004-08-04 2008-07-16 Ricoh Company, Ltd. Thermal transfer receiver sheet, method for producing the same, method for recording images, and recorded images.
JP2006069198A (ja) * 2004-08-04 2006-03-16 Ricoh Co Ltd 熱転写受容体及びその製造方法、並びに記録方法及び記録体
CN100548707C (zh) * 2004-11-02 2009-10-14 大日本印刷株式会社 热转印片
JP4562640B2 (ja) * 2004-11-02 2010-10-13 大日本印刷株式会社 熱転写シート
US7651976B2 (en) * 2004-11-02 2010-01-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Thermal transfer sheet
JP2006306017A (ja) 2005-03-30 2006-11-09 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シート
JP4816518B2 (ja) 2006-09-29 2011-11-16 大日本印刷株式会社 熱転写シート
JP5499756B2 (ja) * 2010-02-22 2014-05-21 凸版印刷株式会社 感熱転写記録媒体
JP5668302B2 (ja) * 2010-03-19 2015-02-12 凸版印刷株式会社 昇華型熱転写媒体
WO2013046625A1 (ja) * 2011-09-27 2013-04-04 凸版印刷株式会社 感熱転写記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
TWI530403B (zh) 2016-04-21
CN104105603B (zh) 2017-03-08
JPWO2013118459A1 (ja) 2015-05-11
EP2813373B1 (en) 2016-10-12
WO2013118459A1 (ja) 2013-08-15
EP2813373A1 (en) 2014-12-17
CN104105603A (zh) 2014-10-15
US20140340459A1 (en) 2014-11-20
US9493023B2 (en) 2016-11-15
JP6183217B2 (ja) 2017-08-23
EP2813373A4 (en) 2015-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI530403B (zh) A thermal transfer recording medium, a method of manufacturing a thermal transfer recording medium, and a thermal transfer recording method
TWI526332B (zh) Thermal transfer recording medium
JP4319964B2 (ja) 熱転写シート
JP4562640B2 (ja) 熱転写シート
JP5979183B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP5585351B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2008155612A (ja) 熱転写シート
JP5691684B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2019142219A (ja) 転写シート
JP5648974B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2007290302A (ja) 熱転写受容シート
JP5674242B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2013014091A (ja) 感熱転写記録媒体
JP5640799B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2009202584A (ja) 感熱転写による画像形成方法
JP5751436B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP5924057B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2010234733A (ja) 熱転写シート
JP5924056B2 (ja) 感熱転写記録媒体
JP2012196852A (ja) 感熱転写記録媒体
JP2016078386A (ja) 感熱転写記録媒体
JP2006306088A (ja) 熱拡散型熱転写シート
JP2012200904A (ja) 感熱転写記録媒体