TW201323642A - 垂直磁記錄媒體之軟磁性薄膜層用合金及濺鍍靶材 - Google Patents
垂直磁記錄媒體之軟磁性薄膜層用合金及濺鍍靶材 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201323642A TW201323642A TW101129707A TW101129707A TW201323642A TW 201323642 A TW201323642 A TW 201323642A TW 101129707 A TW101129707 A TW 101129707A TW 101129707 A TW101129707 A TW 101129707A TW 201323642 A TW201323642 A TW 201323642A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- alloy
- coercive force
- flux density
- magnetic flux
- recording medium
- Prior art date
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title abstract 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 title 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 abstract 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 abstract 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 abstract 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 abstract 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 40
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/667—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers including a soft magnetic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/07—Alloys based on nickel or cobalt based on cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/10—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/12—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, or niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/14—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing titanium or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/008—Amorphous alloys with Fe, Co or Ni as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/02—Amorphous alloys with iron as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
- H01F41/183—Sputtering targets therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
本發明係提供一種具有低矯頑磁力(coercivity)之垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金。該合金包含:由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上;W及Sn之一種或兩種(但,W及Sn之一種或兩種之一部分或全部可經V及Mn之一種或兩種置換);視需要之由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上;視需要之Ni及Cu之一種或兩種;及其餘部分為Co及Fe,且以原子%計滿足(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24,(2)Zr%+Hf%≦14,(3)3≦W%+Sn%≦19,(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90,(5)3≦W%+Sn%+V%+Mn%≦19(但V%+Mn%可為0),(6)0≦Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%≦9,及(7)0≦Ni%+Cu%≦5。
Description
本申請案基於2011年8月17日提出申請之日本專利申請案2011-178187號主張優先權,其全部揭示內容併入本文供參考。
本發明係關於具有低矯頑磁力之垂直磁記錄媒體之軟磁性薄膜層用合金、及用以製作該合金之薄膜之濺鍍靶材。
近年來,磁記錄技術之進步顯著,為使驅動器之大容量化,已進展磁記錄媒體之高記錄密度化,而可實現比以往普及之面內磁記錄媒體更高之記錄密度,使垂直磁記錄方式實用化。
所謂垂直磁記錄方式係使磁化容易軸以相對於垂直磁記錄媒體之磁性膜中之媒體面於垂直方向配向之方式形成者,而達到高記錄密度之方法。因此,關於垂直磁記錄方式,已開發提高記錄感度之具有磁記錄膜層與軟磁性膜層之二層記錄媒體。該磁記錄膜層一般係使用CoCrPt-SiO2系合金。
另一方面,以往之軟磁性膜層之強磁性與非晶質性為必要,進而依據垂直磁記錄媒體之用途或使用環境,而額外要求高飽和磁通密度(magnetic flux density)、高耐
腐蝕性、高硬度等各種特性。例如,特開2008-260970號公報(專利文獻1)中,使用耐腐蝕性高之強磁性元素Co為基礎,添加用以提高非晶質性之以Zr為代表之非晶質促進元素而成者。且,特開2008-299905號公報(專利文獻2)中,藉由添加Fe而獲得高的飽和磁通密度,藉由添加B而獲得高的硬度。
再者,除了過去以來要求之上述特性以外,亦變得要求具有低的矯頑磁力之軟磁性膜用合金。近年之硬碟驅動器藉由讀取用磁頭之改良、或調整軟磁性合金之磁通密度使軟磁性膜與Ru膜之交換耦合磁場最適化,而使以比以往更低之磁通進行寫入成為可能。相對於此,配置於記錄膜下之軟磁性膜即使以比以高的寫入磁通飽和之高飽和磁通密度更低的寫入磁通亦可使磁化反轉,而有效地成為低的矯頑磁力。
[專利文獻1]特開2008-260970號公報
[專利文獻2]特開2008-299905號公報
本發明人等現今針對合金元素對於垂直磁記錄媒體之軟磁性膜用合金之矯頑磁力所致之影響詳細檢討之結果,發現藉由添加適量之W及/或Sn而獲得顯示低的矯頑磁
力之軟磁性合金。且,亦發現V及/或Mn作為降低矯頑磁力之輔助添加元素係有效。另外,亦得知過去以來使用之非晶質化促進元素的Zr及/或Hf之過量添加可增大矯頑磁力。
進而,本發明之最重要特徵雖在後述實施例即可明瞭,但針對各種添加元素,詳細評價對於飽和磁述密度降低量之矯頑磁力減低效果後,發現W及/或Sn具有最高效果。另外,亦已明瞭次於W及/或Sn,V及/或Mn之矯頑磁力減低效果亦高。
因此,本發明之目的係提供一種具有低矯頑磁力之垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金、及用以製作該合金薄膜之濺鍍靶材。
依據本發明之一樣態係提供一種合金,其為垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金,前述合金包含- 由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上;- W及Sn之一種或兩種(但,W及Sn之一種或兩種之一部分或全部可經V及Mn之一種或兩種置換);- 視需要之由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上;- 視需要之Ni及Cu之一種或兩種;及- 其餘部分為Co及Fe,且以原子%計滿足下述式:
(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24,(2)Zr%+Hf%≦14,(3)3≦W%+Sn%≦19,(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90,(5)3≦W%+Sn%+V%+Mn%≦19(但V%+Mn%可為0),(6)0≦Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%≦9,及(7)0≦Ni%+Cu%≦5。
依據本發明之另一樣態係提供一種由上述合金所成之濺鍍靶材。
以下具體說明本發明。若無特別說明,則本發明中之「%」或無單位之數字意指原子%。
本發明為垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金,該合金包括(comprising)由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上;W及Sn之一種或兩種(但,W及Sn之一種或兩種之一部分或全部可經V及Mn之一種或兩種置換);視需要(optionally)之由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上;視需要(optionally)之Ni及Cu之一種或兩種;及其餘部分為Co及Fe,較好實質上僅由(consisting essentially of)該等元素組成,更好僅由(consisting of)該等元素組成。另外,本發明之合金以原子%計滿足下述(式):
(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24,(2)Zr%+Hf%≦14,(3)3≦W%+Sn%≦19,(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90,(5)3≦W%+Sn%+V%+Mn%≦19(但V%+Mn%可為0),(6)0≦Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%≦9,及(7)0≦Ni%+Cu%≦5。
以下敘述本發明之成分組成之限定理由。
由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上為用以促進非晶質化之必要元素,且以滿足6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24之量包含於合金中。又,B與其他元素相比,由於非晶質化促進效果及飽和磁通密度之降低效果約為1/2,故該式中以B/2進行處理。且,Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2未達6時,非晶質化促進效果不充分,超過24時非晶質化促進效果已飽和同時飽和磁通密度過度降低,故其範圍為6~24,較好為8~18,更好為9~14。
Zr及/或Hf為非晶質化促進效果高的元素,但同時會增大矯頑磁力。Zr%+Hf%超過14時由於會增大矯頑磁力,故其上限為14(亦即Zr%+Hf%≦14),較好為12,更好為8。
W及/或Sn係相對於飽和磁通密度之降低比例,用以提高矯頑磁力之減低效果之必要元素,為本發明中最重
要之添加元素。然而,W%+Sn%之添加量未達3%時矯頑磁力之降低效果不充分,且,超過19%時由於效果已飽和,且飽和磁通密度會過度降低,故其範圍為3~19(亦即3≦W%+Sn%≦19),較好為4~17,更好為6~14。又,針對該高的矯頑磁力降低效果之詳細原理並不清楚,但預測係因飽和磁致變形(magnetostrictive)常數降低所影響。
Co及Fe為用以保持高的飽和磁通密度之必要元素。然而,Fe%/(Fe%+Co%)未達0.20或超過0.90時無法獲得高的飽和磁通密度。因此,Fe%/(Fe%+Co%)之範圍為0.20~0.90,較好為0.25~0.70,更好為0.30~0.65。
V及/或Mn為次於W及/或Sn之有效降低矯頑磁力之元素,可取代W及/或Sn之一部分或全部。然而,W%+Sn%+V%+Mn%未達3時矯頑磁力之減低效果不充分,另一方面,超過19時矯頑磁力減低效果已飽和,且使飽和磁通密度過度降低。因此,W%+Sn%+V%+Mn%之範圍為3~19,較好為4~17,更好為6~14。
Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上對於矯頑磁力之下降不會帶來較大影響,而為可添加以調整飽和磁通密度之任意元素。然而,其合計量超過9%時,飽和磁通密度會過度降低,故Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%之上限為9,較好為4,更好為0。
Ni及/或Cu為可添加以調整飽和磁通密度之任意元素。然而,由於會增加矯頑磁力,故其上限為5%(亦即Ni%+Cu%≦5),較好為3%,更好為0%。
以下針對本發明以實施例具體說明。
通常,垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層係濺鍍與其成分相同成分之濺鍍靶材,於玻璃基板等之上成膜而得。此處藉由濺鍍成膜之薄膜係經急冷。相對於此,本發明中使用單輥式液體急冷裝置製作之急冷薄帶作為實施例及比較例之供試材。此係藉由液體急冷薄帶簡易地評價因利用實際之濺鍍而急冷並成膜之薄膜成分對諸特性之影響者。
至於急冷薄帶之製作條件,係將以特定成分秤量之原料30g以直徑10mm、長度40mm左右之水冷銅鑄模具在減壓氬氣中進行電弧溶解,作成急冷薄帶之熔解母材。急冷薄帶之製作條件係以單輥方式,於直徑15mm之石英管中,設置該熔解母材,將出液噴嘴直徑設為1mm,環境氣壓為61kPa,噴霧壓差60kPa,銅輥(直徑300mm)之轉數3000 rpm,銅輥與出液噴嘴之間隙為0.3mm進行出液。出液溫度為各熔解母材恰可熔解掉落之溫度。以如此製作之急冷薄帶作為供試材,且評價以下項目。
相對於飽和磁通密度降低量之矯頑磁力減低效果之評價係以振動試料型之矯頑磁力計,以雙面膠帶將急冷帶貼合於試料台上,以初期施加磁場144kV/m測定矯頑磁力。接著,利用VSM裝置(振動試料型磁力計),以施加磁場1200 kA/m,供試材重量15mg左右測定飽和磁通密度。由該等測定結果,依據各種元素之添加前與添加後之
矯頑磁力之降低量與飽和磁通密度之降低量之比[(矯頑磁力之降低量)/(飽和磁通密度之降低量)]進行評價。因此,顯示其值愈大,愈可以少的飽和磁通密度降低量獲得大的矯頑磁力減低效果。
另一方面,急冷薄帶之非晶質性之評價,通常於測定非晶質材料之X射線繞射圖型時,未發現繞射波峰,成為非晶質特有之光暈圖型(halo pattern)。且,並非完全非晶質時,雖見到繞射波峰,但與結晶材料比較,波峰高度變低,且亦見到光暈圖型。接著,以下述方法評價非晶質性。
以雙面膠帶將供試材貼合於玻璃板上,以X射線繞射裝置獲得繞射圖型。此時,以使測定面成為急冷薄帶之銅輥接觸面之方式將供試材貼合於玻璃基板上。X射線源為Cu-kα線,以掃描速度為每分鐘4°之條件進行測定。以該繞射塗型可見到光暈圖型者評價為○,完全未見到光暈圖型者評價為×,進行非晶質性之評價。首先,選定兩種基本組成,分別添加一定量之添加元素,探討因添加元素種類所致之矯頑磁力降低效果。其結果示於表1及2。
表1顯示以86(50Co50Fe)-8Zr-6B作為基本組成之添加元素種類之影響(添加量一定之評價)。又,該表記顯示43Co-43Fe-8Zr-6B。
表2顯示以87(35Co65Fe)-3Ti-5Zr-3Nb-2Ta作為基本組成之添加元素種類之影響(添加量一定之評價)。又,該表記顯示30.45Co-56.55Fe-3Ti-5Zr-3Nb-2Ta。
如表1所示,W及/或Sn添加最有效地使矯頑磁力降低,其次,V及/或Mn添加係有效。且,Cr、Mo、Al、C、Si、P及/或Ge添加無法使矯頑磁力產生大的變化。另外,可知Ni及/或Cu添加使矯頑磁力大幅增大。又,表2中亦顯示與表1完全相同之效果,W及/或Sn添
加最有效地使矯頑磁力降低,其次,V及/或Mn添加係有效。且,Cr、Mo、Al、C、Si、P及/或Ge添加無法使矯頑磁力產生大的變化。另外,可知Ni及/或Cu添加使矯頑磁力大幅增大。
由表1及表2所示之試驗結果,可知矯頑磁力之降低效果為(W,Sn)>(V,Mn)>(Cr,Mo,Al,C,Si,P,Ge)>(Ni,Cu),W、Sn、V及/或Mn使矯頑磁力下降,Cr、Mo、Al、C、Si、P及/或Ge使矯頑磁力之變化較小,Ni及/或Cr使矯頑磁力大幅增加。由該結果,可知本發明中之添加之上限量之順位規定為(W,Sn)=(V,Mn)>(Cr,Mo,Al,C,Si,P,Ge)>(Ni,Cu),尤其,增加矯頑磁力且不良影響較大的Ni及/或Cu之添加量上限有必要嚴格控制。
接著,為定量檢討各元素中之添加量之上限值,而製作各種基本成分之供試材,與於其中添加各種量之各種元素之供試材,且進行矯頑磁力、飽和磁通密度、非晶質性
、及飽和磁通密度之試驗。其結果示於表3。
此處,表3中,添加元素置換成基本成分之(Co+Fe)。亦即,表3之編號1之基本成分表示72.8Co-18.2Fe-8Zr-1Ta,編號1之加入添加元素之成分表示70.4Co-17.6Fe-8Zr-1Ta-3W。又,預測Co與Fe之比率對矯頑磁力之影響,本試驗之目的由於可純粹弄清楚添加元素對矯頑磁力帶來之影響,故以使Co與Fe之比率與其他基本成分之量成為一定之組成進行評價。因此,成為該表記。
又,表3中,矯頑磁力降低量與飽和磁通密度降低量係顯示加入各添加元素之供試材之矯頑磁力與飽和磁通密度自各基本成分之供試材之矯頑磁力與飽和磁通密度之降低量,且,非晶質性與飽和磁通密度之評價係顯示加入添加元素之供試材之特性。再者,[矯頑磁力降低量(A/m)]/[飽和磁通密度降低量(T)]為15以上者記為◎,8以上未達15者記為○,-7以上未達8者記為△,未達-8者記為×。再者,飽和磁通密度為0.3T以上者記為○,未達0.3T者記為×。
如表3所示,編號1~27為本發明例,編號28~40為比較例。比較例28由於Fe含量低故飽和磁通密度差。且,比較例編號29由於不含Co故飽和磁通密度差。比較例編號30由於促進低矯頑磁力之元素W含量低故矯頑磁力減低效果不足。比較例編號31由於促進矯頑磁力降低之元素Sn含量低故矯頑磁力減低效果不足。
比較例編號32由於促進低矯頑磁力之元素W含量多故飽和磁通密度差。比較例編號33由於促進非晶質之元素Hf之單獨元素含量低故非晶質性差,矯頑磁力高至超過使用之之測定器之可評價範圍。又一般而言,已知非晶質相中生成大量結晶相時,矯頑磁力顯著增大。比較例編號34由於促進非晶質之元素Zr與Ta、B/2含量之和高故飽和磁通密度差。比較例編號35由於促進非晶質同時使矯頑磁力增大之元素Zr與Hf含量之和高故矯頑磁力減低效果不足。
比較例編號36由於促進低矯頑磁力之元素W、V、Mn含量之和高故飽和磁通密度差。比較例編號37由於促進低矯頑磁力之元素V、Mn含量之和高故飽和磁通密度差。比較例編號38由於用以調整飽和磁通密度之元素Al、Cr、Si含量之和高故飽和磁通密度差。比較例編號39由於Cu元素之含量高故矯頑磁力減低效果差。比較例編號40由於Ni元素之含量高故矯頑磁力減低效果差。
如上述,依據本發明,藉由添加尤其是促進低矯頑磁力之元素W、Sn、V、Mn,而可提供不使飽和磁通密度、非晶質性劣化,可成為低矯頑磁力之飽和磁通密度、非晶質性、低矯頑磁力之均衡性優異之垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金、及用以製作該合金薄膜之濺度靶材。
Claims (6)
- 一種合金,其為垂直磁記錄媒體中之軟磁性薄膜層用合金,前述合金包含- 由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上;- W及Sn之一種或兩種(但,W及Sn之一種或兩種之一部分或全部可經V及Mn之一種或兩種置換);- 視需要之由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上;- 視需要之Ni及Cu之一種或兩種;及- 其餘部分為Co及Fe,且以原子%計滿足下述式:(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24,(2)Zr%+Hf%≦14,(3)3≦W%+Sn%≦19,(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90,(5)3≦W%+Sn%+V%+Mn%≦19(但V%+Mn%可為0),(6)0≦Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%≦9,及(7)0≦Ni%+Cu%≦5。
- 如申請專利範圍第1項之合金,其中W及Sn之一種以上之一部分或全部經V及Mn之一種以上置換,藉此滿足0<V%+Mn%。
- 如申請專利範圍第1或2項之合金,其中前述合金包含由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上,藉此滿足0<Al%+Cr%+Mo%+Si%+P%+C%+Ge%≦9。
- 如申請專利範圍第1或2項之合金,其中前述合金包含Ni及Cu之一種或兩種,藉此滿足0<Ni%+Cu%≦5。
- 如申請專利範圍第1項之合金,其中前述合金僅由下列所組成,- 由Ti、Zr、Hf、Nb、Ta及B所組成群組選出之一種以上;- W及Sn之一種或兩種(但,W及Sn之一種或兩種之一部分或全部可經V及Mn之一種或兩種置換);- 視需要之由Al、Cr、Mo、Si、P、C及Ge所組成群組選出之一種以上;- 視需要之Ni及Cu之一種或兩種;及- 其餘部分為Co及Fe。
- 一種濺鍍靶材,其係由如申請專利範圍第1~5項中任一項之合金所成。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011178187A JP5917045B2 (ja) | 2011-08-17 | 2011-08-17 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201323642A true TW201323642A (zh) | 2013-06-16 |
TWI558831B TWI558831B (zh) | 2016-11-21 |
Family
ID=47715162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101129707A TWI558831B (zh) | 2011-08-17 | 2012-08-16 | An alloy and a sputtering target for a soft magnetic film layer of a vertical magnetic recording medium |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5917045B2 (zh) |
CN (1) | CN103781933B (zh) |
MY (1) | MY166289A (zh) |
SG (1) | SG2014011274A (zh) |
TW (1) | TWI558831B (zh) |
WO (1) | WO2013024845A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6405261B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2018-10-17 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
TWI602940B (zh) * | 2014-06-11 | 2017-10-21 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 軟磁性合金濺鍍靶材及軟磁性合金材料 |
AT14576U1 (de) | 2014-08-20 | 2016-01-15 | Plansee Se | Metallisierung für ein Dünnschichtbauelement, Verfahren zu deren Herstellung und Sputtering Target |
MY179241A (en) * | 2014-09-04 | 2020-11-02 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | Sputtering target |
TWI646208B (zh) * | 2015-02-26 | 2019-01-01 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 非晶軟磁靶材及非晶軟磁材料 |
TWI619817B (zh) * | 2016-10-26 | 2018-04-01 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 鈷鐵鈮基靶材 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265653A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co基合金ターゲット材およびその製造方法 |
JP4699194B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2011-06-08 | 山陽特殊製鋼株式会社 | FeCoB系スパッタリングターゲット材の製造方法 |
US20080083616A1 (en) * | 2006-10-10 | 2008-04-10 | Hitachi Metals, Ltd. | Co-Fe-Zr BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
JP4953082B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2012-06-13 | 日立金属株式会社 | Co−Fe−Zr系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
JP2008189996A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
JP5253781B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2013-07-31 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
JP5605787B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2014-10-15 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
JP2010111943A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Hitachi Metals Ltd | スパッタリングターゲット材の製造方法 |
JP5714397B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2015-05-07 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
-
2011
- 2011-08-17 JP JP2011178187A patent/JP5917045B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-14 SG SG2014011274A patent/SG2014011274A/en unknown
- 2012-08-14 CN CN201280040073.2A patent/CN103781933B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-14 WO PCT/JP2012/070665 patent/WO2013024845A1/ja active Application Filing
- 2012-08-14 MY MYPI2014700309A patent/MY166289A/en unknown
- 2012-08-16 TW TW101129707A patent/TWI558831B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013024845A1 (ja) | 2013-02-21 |
CN103781933A (zh) | 2014-05-07 |
TWI558831B (zh) | 2016-11-21 |
JP2013040377A (ja) | 2013-02-28 |
MY166289A (en) | 2018-06-25 |
SG2014011274A (en) | 2014-04-28 |
JP5917045B2 (ja) | 2016-05-11 |
CN103781933B (zh) | 2017-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI558831B (zh) | An alloy and a sputtering target for a soft magnetic film layer of a vertical magnetic recording medium | |
JP6116928B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材 | |
CN103221999B (zh) | 磁记录介质的籽晶层用合金及溅射靶材 | |
TWI508114B (zh) | A magneto-magnetic recording medium for magnetic recording, a sputtering target, and a magnetic recording medium | |
TWI547567B (zh) | An alloy for a soft magnetic film layer having a low saturation magnetic flux density for a magnetic recording medium and a sputtering target | |
CN103221568B (zh) | 磁记录用软磁性合金、溅射靶材及磁记录介质 | |
JP5631659B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
WO2014027601A1 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP5425530B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFeNi系合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP5031443B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金 | |
TWI604078B (zh) | Perpendicular magnetic recording medium, soft magnetic film layer alloy, sputtering target, and perpendicular magnetic recording medium having a soft magnetic film layer | |
JP6442460B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材 | |
CN107251139B (zh) | Ni-Cu系磁记录介质的籽晶层用合金和溅射靶材及磁记录介质 | |
JP2020135907A (ja) | 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層 | |
TW201726945A (zh) | 非磁性且非晶質之合金以及利用了該合金之濺鍍靶材及磁記錄媒體 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |