TW201228040A - Led package - Google Patents

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TW201228040A
TW201228040A TW100131923A TW100131923A TW201228040A TW 201228040 A TW201228040 A TW 201228040A TW 100131923 A TW100131923 A TW 100131923A TW 100131923 A TW100131923 A TW 100131923A TW 201228040 A TW201228040 A TW 201228040A
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TW
Taiwan
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light
emitting diode
lead frame
resin
diode package
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TW100131923A
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English (en)
Inventor
Tetsuro Komatsu
Hiroaki Oshio
Original Assignee
Toshiba Kk
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Description

201228040 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 後述之實施形態係大槪有關發光二極體（Light Emitting Diode :發光二極體）封裝及其製造方法。 【先前技術】 以往，在搭載發光二極體晶片之發光二極體封裝中， 作爲控制配光性，提高來自發光二極體封裝的光之取出效 率爲目的，設置由白色樹脂所成之碗狀外圍器，於外圍器 的底面上搭載發光二極體晶片，於外圍器的內部封入透明 樹脂埋入發光二極體晶片。並且，外圍器係多經由聚醯胺 系之熱可塑性樹脂所形成。但近年，伴隨著發光二極體封 裝之適用範圍擴大，要求有更一層之成本降低。 【發明內容】 本發明之實施形態係提供低成本之發光二極體封裝及 其製造方法。 有關實施形態之發光二極體封裝係具備：相互隔離之 第1及第2的導線框架，和設置於前述第1及第2的導線 框架上方，一方的端子連接於前述第1的導線框架，另一 方的端子則連接於前述第2的導線框架之發光二極體晶片 ，和被覆前述發光二極體晶片，被覆前述各第1及第2的 導線框架之上面，下面之一部分及端面之一部分，使前述 下面之殘留部及前述端面之殘留部露出之樹脂體。前述樹 -5- 201228040 脂體係具有至少配置於前述發光二極體晶片之上面與在前 述樹脂體之上面之前述發光二極體晶片正上方區域之間， 使前述發光二極體晶片所射出的光透過之第1部分，和圍 住前述第1部分，前述光的透過率則較在前述第1部分之 前述光的透過率爲低的第2部分。並且，前述樹脂體的外 形則構成發光二極體封裝之外形。 有關實施形態之發光二極體封裝之製造方法係準備由 導電性材料所成，複數之元件範圍配列成矩陣狀，形成有 包含在各前述元件範圍係相互隔離之第1及第2之導線框 架之基本圖案，對於前述第1及第2之導線框架之中至少 一方，係設置有從前述元件範圍之外緣隔離之基底部，在 前述元件範圍間的切割範圍中，設置有前述基底部通過前 述切割範圍延伸至鄰接之前述元件範圍之複數支的連結部 分之導線框架薄板。並且，具備於在此導線框架薄板之前 述切割範圍及前述元件範圍之外周部分的上方，形成由第 1之樹脂所成之第1構件的工程，和經由在前述導線框架 薄板之上面的前述第1部分所圍住之各範圍，搭載發光二 極體晶片之同時，將前述發光二極體晶片之一方的端子連 接於前述第1之導線框架，而將另一方的端子連接於前述 第2之導線框架的工程，和被覆前述發光二極體晶片，經 由形成前述發光二極體晶片所射出的光之透過率則較在前 述第1之樹脂之前述光的透過率爲低之第2之樹脂所成之 第2構件之時，形成被覆前述第1構件及前述第2構件所 成，至少位置於前述發光二極體晶片，以及在前述導線框 -6- 201228040 架薄板之前述元件範圍的部分之上面，前述基底部之端面 及前述連結部分之下面的樹脂板的工程，和經由去除配置 於前述導線框架薄板及在前述樹脂板之前述切割範圍之部 分之時，將配置於前述導線框架薄板及在前述樹脂板之前 述元件範圍之部分作爲個片化之工程。另外，前述個片化 部分之外形作爲發光二極體封裝之外形。 如根據本發明之實施形態，可提供低成本之發光二極 體封裝及其製造方法。 【實施方式】 有關實施形態之發光二極體封裝係具備：相互隔離之 第1及第2的導線框架，和設置於前述第1及第2的導線 框架上方，一方的端子連接於前述第1的導線框架，另一 方端子則連接於前述第2的導線框架之發光二極體晶片， 和被覆前述發光二極體晶片，被覆前述各第1及第2的導 線框架之上面，下面之一部分及端面之一部分，使前述下 面之殘留部及前述端面之殘留部露出之樹脂體。前述樹脂 體係具有至少配置於前述發光二極體晶片之上面與在前述 樹脂體之上面之前述發光二極體晶片正上方區域之間，使 前述發光二極體晶片所射出的光透過之第1部分，和圍住 前述第1部分，前述光的透過率則較在前述第1部分之前 述光的透過率爲低的第2部分。並且，前述樹脂體的外形 則構成發光二極體封裝之外形。 有關實施形態之發光二極體封裝之製造方法係準備由 201228040 導電性材料所成，複數之元件範圍配列成矩陣狀，形成有 包含在各前述元件範圍係相互隔離之第1及第2之導線框 架之基本圖案，對於前述第1及第2之導線框架之中至少 一方，係設置有從前述元件範圍之外緣隔離之基底部，在 前述元件範圍間的切割範圍中，設置有前述基底部通過前 述切割範圍延伸至鄰接之前述元件範圍之複數支的連結部 分之導線框架薄板。並且，具備於在此導線框架薄板之前 述切割範圍及前述元件範圍之外周部分的上方，形成由第 1之樹脂所成之第1構件的工程，和經由在前述導線框架 薄板之上面的前述第1部分所圍住之各範圍，搭載發光二 極體晶片之同時，將前述發光二極體晶片之一方的端子連 接於前述第1之導線框架，而將另一方的端子連接於前述 第2之導線框架的工程，和被覆前述發光二極體晶片，經 由形成前述發光二極體晶片所射出的光之透過率則較在前 述第1之樹脂之前述光的透過率爲低之第2之樹脂所成之 第2構件之時，形成被覆前述第1構件及前述第2構件所 成，至少位置於前述發光二極體晶片，以及在前述導線框 架薄板之前述元件範圍的部分之上面，前述基底部之端面 及前述連結部分之下面的樹脂板的工程，和經由去除配置 於前述導線框架薄板及在前述樹脂板之前述切割範圍之部 分之時，將配置於前述導線框架薄板及在前述樹脂板之前 述元件範圍之部分作爲個片化之工程。另外’前述個片化 部分之外形作爲發光二極體封裝之外形。 以下，參照圖面，對於本發明之實施形態加以說明° -8 - 201228040 首先，對於第1實施形態加以說明。 圖1係例示有關本實施形態之發光二極體封裝的斜視 圖。 圖2 ( a )〜（d )係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯示於（a) 之A-A ’線的剖面圖，（c )係下面圖，（d )係經由顯示於 (a)之B-B’線的剖面圖。 圖3 ( a )〜（c )係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝之導線框架的圖，（a )係上面圖，（b )係經由顯 示於（a )之C_C’線的剖面圖，（c )係經由顯示於（a ) 之D-D’線的剖面圖。 如圖1〜圖3所示，在有關本實施形態之發光二極體 封裝1中，係設置有一對之導線框架11及12。導線框架 11及12的形狀係平板狀，配置於同一平面上，相互隔離 。導線框架1 1及1 2係由相同導電性材料所成，例如，於 銅板的上面及下面形成有銀鍍層而加以構成。然而，對於 導線框架11及12之端面上係未形成有銀鍍層，而露出有 銅板。 以下’在本說明書中，說明之方便上，導入XYZ垂 直座標系。將對於導線框架11及12之上面而言，平行方 向之中從導線框架1 1朝向於導線框架1 2之方向作爲+ X 方向，而將對於導線框架11及12之上面而言，垂直方向 之中從上方，即導線框架而視搭載有後述之發光二極體晶 片之方向作爲+ Z方向，將對於+ X方向及+ z方向之雙 -9- 201228040 方而言垂直交叉之方向之中一方作爲+ γ方向。然而，將 + Χ方向，+ Υ方向及+ Ζ方向之相反方向，各作爲—X 方向，一Υ方向及_ζ方向。另外，例如將「+Χ方向」 及「一 X方向」作爲總稱，亦單稱作「X方向」。 在導線框架11中，從ζ方向而視設置有1個矩形之 基底部11a，從此基底部11a延伸出有6支吊銷lib，11c ，lid，lie，Ilf，llg。吊銷lib及11c係從朝向基底部 11a之+ Y方向的端緣之一 X方向側之部分及+ X方向側 之部分朝向+ Y方向延伸出。吊銷lid及lie係從朝向基 底部11a之_Y方向的端緣之_X方向側之部分及+ X方 向側之部分朝向-Y方向延伸出。在X方向之吊銷lib及 1 1 d之位置係相互同一，而吊銷1 1 c及1 1 e之位置係相互 同一吊銷Ilf及llg係從朝向基底部11a之_X方向的 端緣之- Y方向側之部分及+ Y方向側之部分朝向一 X方 向延伸出。如此，吊銷lib〜llg係從基底部lla之相互 不同之3邊各延伸出。 導線框架12係與導線框架11做比較，X方向之長度 爲短，Y方向之長度爲相同。在導線框架12中，從Z方 向而視設置有1個矩形之基底部12a，從此基底部12a延 伸出有4支吊銷12b，12c，12d，12e。吊銷12b係從朝向 基底部12a之+ Y方向的端緣之X方向中央部附近朝向+ Υ方向延伸出。吊銷12C係從朝向基底部12a之一Υ方向 的端緣之X方向中央部附近朝向_Y方向延伸出。吊銷 12d及12e係從朝向基底部12a之+ Χ方向的端緣之一Υ -10- 201228040 方向側之部分及+ Y方向側之部分朝向+ X方向延伸出。 如此，吊銷12b〜12e係從基底部12a之相互不同之3邊 各延伸出。導線框架11之吊銷llg及Ilf之寬度係亦可 與導線框架12之吊銷12d及12e之寬度同一，而亦可爲 不同。但如將吊銷lid及lie之寬度與吊銷12d及12e之 寬度作爲不同，容易判別陽極與陰極。 對於在導線框架11之下面111的基底部11a之中央 部，係形成有凸部lip。因此，導線框架11之厚度係採取 2水準的値，基底部11a之中央部，即形成有凸部lip之 部分係成爲相對爲厚之厚板部11s，基底部11a之外周部 及吊銷lib〜llg係成爲相對爲薄之薄板部lit。同樣地， 對於在導線框架12之下面121的基底部12a之中央部， 係形成有凸部12p。由此，導線框架12之厚度亦採取2水 準的値’，基底部12a之中央部係形成有凸部12p之故而成 爲相對爲厚之厚板部12s，基底部12a之外周部及吊銷 12b〜12e係成爲相對爲薄之薄板部12t。換言之，對於基 底部11a及12a之外周部下面係形成有缺口。 如此，凸部1 1 P及1 2P係形成於從對向於在導線框架 11及12之相互的端緣隔離之範圍，包含此等端緣之範圍 係成爲薄板部lit及I2t。導線框架11之上面Iih與導線 框架12之上面12h係位於同一平面上，導線框架11之凸 部lip之下面與導線框架12之凸部12p之下面係位於同 —平面上。另外，在Z方向之各吊銷之上面位置係與導線 框架11及12之上面位置一致。隨之，各吊銷係配置於同 -11 - 201228040 一之χγ平面上。 對於導線框架11之上面llh之一 X方向側之範圍， 係形成有延伸於Y方向的溝11m。另外，對於在上面ilh 之+ X+ Y方向側之範圍，係形成有延伸於γ方向的溝 lln。更且，導線框架12之上面12h之Y方向中央部，係 形成有延伸於X方向的溝12m。溝11m，lln及12m係均 形成於厚板部11s或12s，即凸部lip或12p之正上方區 域的內部，而未到達至厚板部之外緣，另外，在Z方向亦 未貫通導線框架。 對於導線框架11之上面llh之中，爲厚板部11s溝 1 1 m與溝1 1 η之間的2處所之範圍，係被著有晶粒安裝材 1 3 a及1 3 b (以下，總稱爲「晶粒安裝材1 3」）。在本實 施形態中，晶粒安裝材1 3a及1 3b係可爲導電性，而絕緣 性亦可。晶粒安裝材1 3爲導電性之情況，晶粒安裝材1 3 係例如經由銀電糊，焊錫或共晶焊錫等加以形成。晶粒安 裝材1 3爲絕緣性之情況，晶粒安裝材1 3係例如經由透明 樹脂電糊加以形成。 對於晶粒安裝材13a及13b上，係各設置有發光二極 體晶片1 4a及1 4b (以下，總稱「發光二極體晶片1 4」） 。即，經由晶粒安裝材1 3則經由將發光二極體晶片1 4固 定於導線框架1 1之時，發光二極體晶片1 4則加以搭載於 導線框架11。發光二極體晶片14b係從發光二極體晶片 14a而視，配置於+ X方向側且+ Y方向側。即’發光二 極體晶片1 4a與發光二極體晶片1 4b係位於相互傾斜之位 -12- 201228040 置關係。發光二極體晶片14係例如於藍寶石基板上，層 積有氮化鎵（GaN )等所成之半導體層的構成，其形狀係 例如爲直方體，於其上面設置有端子14s及14t。發光二 極體晶片14係經由供給電壓於端子14s及端子14t之間者 ，例如射出藍色的光線。 另外，對於導線框架12之上面12h之中，爲厚板部 12s較溝12m爲+ Y方向側的範圍，係被著有晶粒安裝材 1 5。晶粒安裝材1 5係導電性的材料，例如經由銀電糊， 焊錫或共晶焊錫等加以形成。對於晶粒安裝材1 5上係設 置有齊納二極管（ZD晶片）1 6。即，經由晶粒安裝材1 5 則經由將ZD晶片16固定於導線框架12之時，ZD晶片 1 6則加以搭載於導線框架1 2。ZD晶片1 6係上下導通型 之晶片，其下面端子（未圖示）係藉由晶粒安裝材15而 連接於導線框架12上。 發光二極體晶片14a及14b之端子14s及14t，以及 ZD晶片16之上面端子16a係經由導線17a〜17e (以下， 總稱爲「導線17」）而連接於導線框架11或12。導線I7 係經由金屬，例如金或鋁所形成。以下，具體說明各端子 與各導線框架之連接狀態。然而，在圖3(d)中，導線 17係在圖示被省略。在後述之同種的圖中亦爲相同。 對於發光二極體晶片14a之端子14s係接合有導線 17a之一端。導線17a係從發光二極體晶片14a之端子 14s導出於+ Z方向（正上方方向），朝向於一 X方向與 -Z方向之間的方向而彎曲，導線17a之另一端係接合於 -13- 201228040 較在導線框架11之上面llh的溝llm爲一 X方向側之範 圍。由此’發光二極體晶片14a之端子14s係藉由導線 17a而連接於導線框架11。 對於發光二極體晶片14a之端子14t係接合有導線 17b之一端。導線17b係從發光二極體晶片14a之端子 14t導出於+ Z方向，朝向於+ X方向與一Z方向之間的方 向而彎曲，導線17b之另一端係接合於較在導線框架12 之上面12h的溝爲一Y方向側之範圍。由此，發光二 極體晶片14a之端子14t係藉由導線17b而連接於導線框 架12。 對於發光二極體晶片14b之端子14s係接合有導線 17c之一端。導線17c係從發光二極體晶片14b之端子 14s導出於+ Z方向，朝向於一 X方向與一Z方向之間的方 向而彎曲，導線17c之另一端係接合於較在導線框架11 之上面llh的溝llm爲一X方向側之範圍。由此，發光二 極體晶片14b之端子14s係藉由導線17c而連接於導線框 架1 1。 對於發光二極體晶片14b之端子14t係接合有導線 17d之一端。導線17d係從發光二極體晶片14b之端子 14t導出於+ Z方向，朝向於+ X方向與一Y方向與一Z方 向之間的方向而彎曲，導線17d之另一端係接合於較在導 線框架ί2之上面12h的溝12m爲—Y方向側之範圍。由 此，發光二極體晶片14b之端子14t係藉由導線17d而連 接於導線框架1 2。 -14 - 201228040 對於ZD晶片16之上面端子16a係接合有導線17e之 一端。導線17e係從上面端子16a導出於+ Z方向，朝向 於一 X方向與一Z方向之間的方向而彎曲，導線17e之另 —端係接合於較在導線框架11之上面llh的溝lln爲+ X 方向側之範圍。由此，ZD晶片1 6之上面端子1 6a係藉由 導線1 7e而連接於導線框架1 1。 如此，發光二極體晶片1 4a及1 4b以及ZD晶片1 6係 相互並聯連接於導線框架1 1與導線框架1 2之間。另外， 在導線框架1 1之上面1 1 h中，接合有導線1 7a及1 7c的 範圍與被著有晶粒安裝材13a及13b之範圍係指經由溝 11m所區劃。另外，接合有導線17e的範圍與被著有晶粒 安裝材1 3 b之範圍係指經由溝1 1 η所區劃。更且，在導線 框架12之上面12h中，接合有導線l：7b及17d的範圍與 被著有晶粒安裝材1 5之範圍係指經由溝1 2m所區劃。 另外，發光二極體封裝1係設置有樹脂體1 8。樹脂體 1 8之外形係直方體，埋入有導線框架1 1及1 2，晶粒安裝 材1 3，發光二極體晶片1 4，晶粒安裝材1 5，ZD晶片1 6 及導線1 7，樹脂體1 8之外形則成爲發光二極體封裝1之 外形。導線框架1 1之一部分及導線框架1 2之一部分係露 出在樹脂體1 8的下面及側面。即，樹脂體1 8係被覆發光 二極體晶片14，被覆導線框架11及12之各上面之全體， 下面之一部分及端面之一部分，使下面之殘留部及端面之 殘留部露出。然而，在本說明書中，「被覆」係指包含接 觸與未接觸於包覆被覆之構成者之情況的雙方之槪念。
S -15- 201228040 更詳細而言，導線框架Π之下面ill之中，凸部lip 之下面係露出在樹脂體18之下面，吊銷lib〜llg之前端 面係露出在樹脂體18的側面。另一方面，導線框架11之 上面llh之全體，下面Ilf之中凸部lip以外之範圍，即 ，各吊銷及薄板部lit之下面，以及側面之中吊銷之前端 面以外的範圍，即凸部Πρ之側面，基底部11a之端面及 吊銷的側面係經由樹脂體1 8所被覆。同樣地，導線框架 12之凸部12p之下面係露出在樹脂體18的下面，吊銷 12b〜12e之前端面係露出在樹脂體18的側面。另一方面 ，導線框架12之上面12h之全體，下面121之中凸部12p 以外之範圍，即，各吊銷及薄板部1 2t之下面，以及側面 之中吊銷之前端面以外的範圍，即凸部12p之側面，基底 部1 2a之端面及吊銷的側面係經由樹脂體1 8所被覆。在 發光二極體封裝1中，露出在樹脂體18之下面之凸部lip 及12p之下面則成爲外部電極墊片。如此，從上方而視， 樹脂體18之形狀係爲矩形，設置於各導線框架之複數支 的吊銷前端面係露出於樹脂體18之相互不同之3個側面 〇 並且在樹脂體18中，設置有透明部分19a及白色部 分19b。透明部分19a係爲使發光二極體晶片14所射出的 光及後述之螢光體20產生發光的光（以下，總稱爲「出 射光」）透過之部分，例如經由透明之聚矽氧烷樹脂所形 成。然而，對於「透明」係亦包含半透明。白色部分19b 係出射光的透過率則較在透明部分19a之出射光的透過率 -16- 201228040 爲低的部分，例如經由白色的聚矽氧烷樹脂所形成。另外 ，在白色部分19b之外面的出射光之反射率係較在透明部 分19a之外面之出射光的反射率爲高。當舉具體例時，透 明部分19a係經由二甲基系聚矽氧烷樹脂所形成。白色部 分19b亦經由二甲基系聚矽氧烷樹脂所形成，但含有反射 材。反射材係例如將駄氧化物作爲主成分。由此，在可視 光範圍及接近於紫外線範圍之可視光範圍之範圍，例如在 波長爲800〜3 5 0nm之範圍，可實現80%以上，例如90% 以上之反射率。 樹脂體18之最下層部分，即含有導線框架11之上面 1 lh及導線框架12之上面12h之假想的平面及位置於較此 下方之部分係成爲白色部分19b。因此，樹脂體18之下面 係經由白色部分19b所構成。另一方面，在樹脂體18之 最上層部分，即導線17未到達之部分係成爲透明部分19a 。因此，樹脂體18之上面係經由透明部分19a所構成。 並且，在樹脂體18之最下層部分與最上層部分之間的中 間部分中，從Z方向而視，中央部分則成爲透明部分19a ，外周部則成爲白色部分19b。 透明部分19a係接合於導線框架11之上面llh及導 線框架12之上面l2h。晶粒安裝材13a及13b，發光二極 體晶片1 4a及14b，晶粒安裝材1 5，ZD晶片1 6以及導線 17係配置於透明部分19a之內部。因此，透明部分19a係 接合於發光二極體晶片14之上面，至少配置於發光二極 體晶片14之上面與樹脂體18之上面之發光二極體晶片14 -17- 201228040 的正上方區域之間。另外，在樹脂體1 8之中間部分中， 白色部分19b之形狀係成爲圍住透明部分19a之框狀。並 且，樹脂體18之中間部分之透明部分19a與白色部分19b 之界面係成爲伴隨著朝向上方，呈變位於樹脂體18之外 側地傾斜之傾斜面1 9c。傾斜面1 9c係經由4個平面與連 結此等之平面的曲面所構成。 換言之，對於透明部分19a，係設置有配置於樹脂體 18之中間部分之稜線爲圓弧之逆四角錐台形之部分，和構 成樹脂體18之最上層部分的板狀部分，對於白色部分19b ，係設置有圍著導線框架11及12,構成樹脂體18之最下 層部分的8字狀部分，和配置於樹脂體18之中間部分之 外周部分之框狀部分。 對於透明部分19a之內部係分散有多數之螢光體20。 各螢光體20係粒狀，吸收從發光二極體晶片14所射出的 光，發光成波長更長的光》例如，螢光體20係吸收從發 光二極體晶片14所射出之藍色的光之一部分，發光成黃 色的光。由此，從發光二極體封裝1係發光二極體晶片14 所射出，射出未由螢光體20所吸收之藍色的光，和從螢 光體20所發光之黃色的光，射出光係作爲全體而成爲白 色。然而，圖示的方便上，在圖2(b)及（d)中，螢光 體20係較實際顯示小且大。另外，在斜視圖及平面圖中 ，省略螢光體20 ^ 作爲如此之螢光體係例如，可使用發光成黃綠色，黃 色或橘色的光之矽酸鹽系的螢光體。矽酸鹽系的螢光體係 -18- 201228040 可由以下一般式來表示。 (2-x-y)SrO · x(Bau，Cav)〇 . (l-a-b-c-d)Si02 · aP2〇5bAl2〇3cB2〇3dGe02 ： yEu2 + 但 〇<x’ 〇.〇〇5<y<〇.5，x + yS1.6，〇$a，b，c，d <0.5，0<u，0<v，u + v=l。 另外’作爲黃色螢光體，亦可使用YAG系的螢光體 。YAG系的螢光體係可由以下一般式來表示。 (REi-xSmx)3(AlyGai_y)5〇i2 : Ce 但〇Sx<l’ OSygl，RE係由選自γ及Gd之至少1 種的元素。 或’作爲螢光體係亦可混合氮化矽系之紅色螢光體及 綠色螢光體而使用。即，螢光體係可作爲吸收從發光二極 體晶片14所射出之藍色的光而發光成綠色的光之綠色螢 光體，及吸收藍色的光而發光成紅色的光之紅色螢光體。 氮化矽系之紅色螢光體係例如，可由下述一般式來表 不 。 (Mi.x>Rx)aiAlSibi〇ciNdi 但Μ係除了 Si及A1之至少1種的金屬元素，特別是 Ca及Sr之至少一方爲佳。R係發光中心元素，特別是Eu 爲佳。X，al，bl，cl，dl 係 0<χ$1，0.6<al<0.95，2 < bl< 3.9，0_25< cl< 0.45，4< dl< 5.7。 於以下顯示如此之氮化矽系之紅色螢光體的具體例。 Sr2Si7Al7ON13 : Eu2 + 氮化矽系之綠色螢光體係例如，可由下述一般式來表 -19- 201228040 示。 (Mi，x.Rx)a2AlSib2〇c2Nd2 但Μ係除了 Si及Ai之至少1種的金屬元素，特別是 Ca及Sr之至少一方爲佳。R係發光中心元素，特別是Eu 爲佳。X，a2 * b2 » c2，d2 係 0<χ$1，〇.93<a2<1.3， 4.0<b2<5.8，0.6<c2< 1，6<d2< 11。 於以下顯示如此之氮化矽系之綠色螢光體的具體例。 S Γ3 S ΐ 1 3 A 1 3 〇 2N 2 1 · Eu2 + 接著，對於本實施形態之發光二極體封裝之製造方法 加以說明。 圖4係顯示本實施形態之發光二極體封裝之製造方法 的流程圖。 圖5(a)〜（h)係例示在本實施形態之導線框架薄 板之形成方法的工程剖面圖。 圖6(a)係例示本實施形態之導線框架薄板的平面圖 ’ （b)係例示其導線框架薄板的元件範圍之一部分擴大 平面圖。 圖 7(a)〜（d)、圖 8(a)〜（c)，圖 9(a)及 (b)係例示有關本實施形態之發光二極體封裝之製造方 法的工程剖面圖。 首先，如圖4所示，形成導線框架薄板。 EP’如圖5(a)所示，準備銅板21a，洗淨此。接著 ’如圖5(b)所示，對於銅板21a之兩面而言施以光阻劑 塗佈’之後使其乾燥，形成光阻劑膜1 1 1。接著，如圖5 -20- 201228040 (C)所示，於光阻劑膜111上配置光罩圖案112，照射紫 外線而進行曝光。由此，光阻劑膜1 1 1之曝光部分則產生 硬化，形成光阻劑光罩1 1 1 a。接著，如圖5 ( d )所示， 進行顯像，沖洗在光阻劑膜1 Π之未硬化的部分。由此， 於銅板21a之上下面上，殘留有光阻劑圖案111a。接著， 如圖5 ( e )所示，將光阻劑圖案1 1 1 a作爲光罩而施以蝕 刻，從兩面除去在銅板2 1 a之露出部分。此時，蝕刻深度 係作爲銅板2 1 a之板厚的一半程度。由此，僅從單面側加 以蝕刻的範圍係加以半蝕刻，貫通從兩面側加以蝕刻的範 圍。接著，如圖5(f)所示，除去光阻劑圖案111a。接 著，如圖5 (g)所示，經由光罩113而被覆銅板21a之端 部，施以電鍍。由此，於銅板21之端部以外的部分之表 面上，形成銀鍍層21b。接著，如圖5(h)所示，進行洗 淨而去除光罩1 1 3。之後，進行檢查。如此作爲而製作導 線框架薄板23。 如圖6 ( a )所示，在導線框架薄板2 3中，例如設定 有3個方塊B，對於各方塊B係例如設定有1000個程度 之元件範圍P。如圖5 ( b )所示，元件範圍P係配列成矩 陣狀，元件範圍P間係成爲格子狀之切割範圍D。在各元 件範圍P中，形成有包含相互隔離之導線框架11及12之 基本圖案。在切割範圍D中，形成導電薄板21之導電性 材料則呈連結鄰接之元件範圍P間地殘留。 即，在元件範圍P內，導線框架Π與導線框架1 2係 相互隔離，但屬於某個元件範圍P之導線框架11係從此 -21 - 201228040 元件範圍P而視，於屬於位置於一 X方向之旁邊的元件範 圍P之導線框架12，藉由連結部分23a及23b加以連結》 另外’在Y方向中屬於鄰接之元件範圍P之導線框架n 彼此係藉由連結部分23c及2W加以連結。同樣地，在γ 方向中屬於鄰接之元件範圍P之導線框架12彼此係藉由 連結部分23e加以連結。如此，從由在導線框架11及u 之元件範圍P之外緣隔離之基底部11a及12a，各朝向3 方向’呈通過切割範圍D到達至鄰接之元件範圍P地，延 伸有連結部分23a〜23e。更且，將由將從導線框架薄板 23之下面側之蝕刻作爲半蝕刻之時，於導線框架丨丨及i 2 之下面各形成凸部lip及12p(參照圖2)。 接著，如圖7 ( a )所示，於導線框架薄板23之下面 ’貼合例如聚醯亞胺所成之補強膠帶24。然而，圖示的方 便上，在圖7(a)以後的圖中，未區別銅板21a及銀鍵層 2 1 b，作爲導線框架薄板2 3而一體地圖示。 接著，如圖4及圖7(b)所示，準備下模具106及上 模具107。下模具106之上面係爲平坦。對於上模具107 下面係形成有凹部1 〇7a。從上模具1 07之下面側而視，凹 部107a之形狀係爲格子狀。另外，凹部l〇7a之側面係越 接近上模具107之下面，凹部107a之寬度則呈變寬地傾 斜。並且，於下模具1 06與上模具1 07之間，貼合補強膠 帶24，以及夾入導線框架薄板23，白色樹脂108，例如， 白色的聚矽氧烷樹脂之錠片而作爲模組。此時，白色樹脂 1 08係對於經由在導線框架薄板23之半蝕刻所除去之部分 -22- 201228040 回流，但未殘留於在元件範圍p之中央部分的導線框架薄 板23之上面上。接著，經由下模具106及上模具107，對 於白色樹脂108而言進行加熱壓縮（模硬化）。 接著，如圖7(c)所示，從導線框架薄板23，將下 模具106及上模具107脫模。由此，於在導線框架薄板23 之切割範圍D之全體及元件範圍P之外周部上方，形成有 由白色樹脂108所成，形狀爲格子狀之白色構件109。 接著，如圖4及圖7 ( d )所示，於經由在導線框架薄 板23上面之白色構件109所圍住之範圍，即各元件範圍 P之中央部，將發光二極體晶片14a及14b以及ZD晶片 16(參照圖1)作爲光罩，經由導線17而連接於導線框架 11及12。然而，在圖7〜圖9中，圖示之方便上，將發光 二極體晶片14a及14b以及ZD晶片16作爲1個之發光二 極體晶片14而顯不。 具體而言，於屬於導線框架薄板23之各元件範圍P 之導線框架11的上面，被著晶粒安裝材13a及13b (參照 圖1)之同時’於導線框架12之上面被著晶粒安裝材15 (參照圖1 )。例如，將電糊狀之晶粒安裝材，從吐出器 吐出於導線框架上，或經由機械性手段而轉印於導線框架 上。接著，於晶粒安裝材13a及13b上，安裝發光二極體 晶片14a及14b (參照圖1 )。另外，於晶粒安裝材i 5上 安裝ZD晶片1 6 (參照圖1 )。接著，進行爲了燒結晶粒 安裝材13及15之熱處理（模硬化）。由此，在導線框架 薄板23之各元件範圍P中，於導線框架1 1上，藉由晶粒 -23- 201228040 安裝材13a及13b而搭載發光二極體晶片14a及14b之同 時，於導線框架12上，藉由晶粒安裝材15而搭載ZD晶 片16 〇 接著，例如經由超音波接合，將導線1 7的一端接合 於發光二極體晶片14之端子14s(參照圖1)，將另一端 接合於較在導線框架11之上面的溝llm(參照圖1)爲一 X方向側的範圍。另外，將其他導線17的一端接合於發 光二極體晶片14之端子14t(參照圖1)，將另一端接合 於較在導線框架12之上面的溝12m(參照圖1)爲一Y方 向側的範圍。由此，發光二極體晶片14則藉由導線17而 連接於導線框架1 1與導線框架1 2之間。另一方面，將又 其他導線17的一端接合於ZD晶片16之上面端子16a( 參照圖1)，將另一端接合於較在導線框架11之上面的溝 1 1 η爲+ X方向側的範圍。由此，ZD晶片1 6則藉由晶粒 安裝材15及導線17而連接於導線框架11與導線框架12 之間。 接著，如圖4及圖8(a)所示，準備下模具101。下 模具1 0 1係與後述之上模具1 02同時構成一組的模具之構 成，對於下模具101之上面係形成有直方體形狀之凹部 101a。另一方面，於透明的聚矽氧烷樹脂等之透明樹脂混 合螢光體20，經由攪拌，調製液狀或半液狀之螢光體含有 樹脂材料26。將螢光體混合於透明的聚矽氧烷樹脂之情況 ’亦可使用觸變劑而使螢光體均一地分散於樹脂。並且， 經由分配器103，於下模具101之凹部101a內，供給螢光 -24- 201228040 體含有樹脂材料26。 接者，如圖4及圖8(b)所示，將形成上述之白色構 件109而搭載發光二極體晶片14之導線框架薄板23，呈 朝向下方地，安裝白色構件1〇9及發光二極體晶片14於 上模具102之下面。並且，將上模具1〇2按壓於下模具 1 0 1，壓制模具。由此，導線框架薄板23則按壓於螢光體 含有樹脂材料26。此時，螢光體含有樹脂材料26係被覆 框構件1 0 9 ’發光一極體晶片1 4及導線1 7等。由如此作 爲，將螢光體含有樹脂材料26作爲模組。 接著’如圖4及圖8(c)所示，在於螢光體含有樹脂 材料26按壓導線框架薄板23之上面之狀態，進行熱處理 (模硬化），使螢光體含有樹脂材料26硬化。 接著’如圖9(a)所示，將上模具1〇2從下模具ιοί 拉開。由此，於經由白色構件1 09所圍住之空間及白色構 件1 0 9之下面上，形成透明構件丨丨〇。經由在透明構件 1 1 〇之白色構件1 09所圍住之部分形狀係例如爲逆四角錐 台形’設置於白色構件109下方之部分的形狀爲板狀。另 外’發光二極體晶片14及導線17等係埋入於透明構件 1 1 〇內。經由白色構件1 09及透明構件1 1 〇，形成樹脂板 29。樹脂板29係被覆導線框架薄板23之上面全體及下面 之一部分，埋入發光二極體晶片14等。之後，從導線框 架薄板23剝開補強膠帶24。由此，在樹脂板29的表面， 露出有導線框架11及12之凸部lip及12p(參照圖2) 之下面。 .λ h. -25- 201228040 接著，如圖4及圖9 ( b )所示，經由調和器104，將 導線框架薄板23及樹脂板29所成的結合體，從導線框架 薄板23側切割。由此，除去配置於在導線框架薄板23及 樹脂板29之切割範圍D的部分。此結果，將配置於在導 線框架薄板23及樹脂板29之元件範圍P的部分作爲個片 化，製造圖1〜圖3所示之發光二極體封裝1。然而，導 線框架薄板23及樹脂板29所成之結合體係從樹脂體29 側切割亦可。 在切割後之各發光二極體封裝1中，從導線框架薄板 23分離導線框架11及12。另外，分斷樹脂板29，成爲樹 脂體1 8。此時，白色構件1 09係成爲白色部分1 9b，透明 構件110係成爲透明部分19a。並且，經由分斷連結部分 23a〜23d之時，於導線框架11及12，形成有吊銷lib〜 llg及12b〜12e。吊銷lib〜llg及12b〜12e之前端面係 露出在樹脂體1 8之側面。 接著，如圖4所示，對於發光二極體封裝1，進行各 種測試。此時，亦可將吊銷1 lb〜1 lg及12b〜12e之前端 面作爲測試用的端子而使用。 接著，對於本實施形態之作用效果加以說明。 有關本實施形態之發光二極體封裝1中，在樹脂體18 ，設置有透明部分19a及白色部分19b。並且，發光二極 體晶片1 4係配置於透明部分1 9a內，呈圍住透明部分i 9a 地設置白色部分19b。由此，從發光二極體晶片14射出的 光，及從螢光體所發光的光之大部分則朝向上方（+ Z方 -26- 201228040 向）射出。即，發光二極體封裝1係出射光的指向性爲高 。另外，透明部分19a與白色部分19b之界面的一部分則 經由越朝向上方而越成爲變位於樹脂體18外側之傾斜面 19c之時，從發光二極體晶片14或螢光體射出於橫方向的 光則經由傾斜面1 9c而朝向上方加以反射。由此，出射光 的指向性則上升。 另外，在有關本實施形態之發光二極體封裝1中，對 於較在樹脂體18之發光二極體晶片14爲下方之部分，係 配置有白色部分19b。由此，從發光二極體晶片14射出於 下方的光則在透明部分19a與白色部分19b之界面加以反 射，朝向上方。因此，有關本實施形態之發光二極體封裝 1係光的取出效率爲高。另外，從白色部分19b露出有導 線框架11及12之上面。於導線框架11及12之上面及下 面形成有銀鍍層，銀鍍層係光的反射率爲高之故，可更一 層提升光的取出效率。 更且，在有關本實施形態之發光二極體封裝1中，將 樹脂體18之透明部分19a及白色部分19b，均經由聚矽氧 烷樹脂而形成。聚矽氧烷樹脂係對於光及熱而言的耐久性 爲高之故，發光二極體封裝1之耐久性則提升。隨之，有 關本實施形態之發光二極體封裝1係壽命長，信賴性高， 可適用於廣泛用途。對此，外圍器經由聚醯胺系之熱可塑 性樹脂所形成之發光二極體封裝係經由吸收從發光二極體 晶片14產生的光及熱之時，而劣化容易進展。 另外，在有關本實施形態之發光二極體封裝1中，經 -27- 201228040 由樹脂體18被覆導線框架11及12之下面的一部分及端 面的大部分之時，保持導線框架11及12之周邊部。即， 經由於基底部11a及12a之中央部分形成凸部lip及I2p 之時，於基底部11a及12a之下面的外圍部分實現缺口。 並且，經由捲入有樹脂體18於此缺口內之時，可堅固地 保持導線框架11及12。因此，從導線框架11及12之凸 部lip及12p的下面，從樹脂體18露出而實現外部電極 墊片同時，可提升導線框架11及12之保持性。由此，在 切割時，導線框架1 1及12則不易從樹脂體1 8剝離，可 提升發光二極體封裝1之產率。 又另外，在本實施形態中，將發光二極體晶片14a及 14b，配置於相互傾斜之位置》由此，從一方之發光二極 體晶片1 4射出的光則射入至另一方之發光二極體晶片1 4 之情況爲少。其結果，光的取出效率爲高之同時，可抑制 發光二極體晶片1 4之加熱。 又另外，在本實施形態中，在導線框架11之上面llh 中，從溝1 1 m而視，於+ X方向側的範圍被著晶粒安裝材 13a及13b，於一X方向側的範圍接合導線17a及17p另 外，從溝1 1 η而視，於-X方向側的範圍被著晶粒安裝材 1 3b，於+ X方向側的範圍接合導線1 7e。更且，在導線框 架12之上面12h中，從溝12m而視，於+ Y方向側的範 圍被著晶粒安裝材15,於一Y方向側的範圍接合導線17b 及1 7d。如此，在各導線框架之上面中，經由溝而區劃被 覆晶粒安裝材之範圍與接合導線之範圍之故，晶粒安裝材 -28- 201228040 則進出於接合有導線之預定的範圍，未妨礙 其結果，有關本實施形態之發光二極體封裝 0 又另外，在本實施形態中，對於發光二 及14b而言，並聯地連接有ZD晶片16。由 施形態之發光二極體封裝1係對於ESD Discharge:靜電放電）之耐性爲高。 又另外，在本實施形態中，可從1片的 ，一次製造多數，例如，數千個程度之發光 。另外，於各元件範圍P切割導線框架23石 構成，但直接成爲發光二極體封裝1。由此 個發光二極體封裝1之製造成本。另外，可 體封裝1之零件數及工程數，降低成本。 又另外，在本實施形態中，經由濕蝕刻 薄板23。因此，對於製造新的佈局之發光二 如僅準備光罩的原版即可，與經由根據模具 而形成導線框架薄板23之情況作比較，可 成本。 又另外，在有關本實施形態之發光二極| 從導線框架11及12之基底部1U及12a， 銷。由此，防止基底部本身露出在樹脂體1 降低導線框架11及12之露出面積。其結果 框架1 1及12從樹脂體1 8剝離。另外，亦 架1 1及12之腐蝕。 導線之接合。 1係信賴性高 極體晶片14a 此，有關本實 (Electrostatic 導電性薄板2 1 二極體封裝1 I樹脂板29之 ，可降低每1 減少發光二極 形成導線框架 極體封裝時， 之沖壓等方法 降低抑制初期 豊封裝1中， 各延伸出有吊 8之側面，可 ，可防止導線 可抑制導線框 -29- 201228040 從製造方法的點來看此效果時’如圖6(b)所示’經 由在導線框架薄板23中’呈存在介入有在切割範圍D地 ，設置連結部分23a〜23e之時，減少介入存在於切割範 圍D之金屬部分。由此，切割成爲容易’可抑制切割刀的 磨耗。另外，在本實施形態中，從各導線框架1 1及1 2 ’ 於3方向延伸出有複數支吊銷。由此，在如圖7(d)所示 之發光二極體晶片1 4及ZD晶片1 6的安裝工程中，導線 框架1 1及1 2則經由旁邊元件範圍P之導線框架1 1及1 2 ，從3方向確實地加以支持之故，安裝性爲高。同樣地， 在導線接合工程中，導線1 7之接合位置則從3方向確實 地加以支持之故，例如亦未有施加於超音波接合時之超音 波脫離情況，可良好地接合導線於導線框架及發光二極體 晶片。 又另外，在本實施形態中，在圖9(b)所示之切割工 程中，從導線框架薄板23側進行切割。由此，形成導線 框架11及12之切斷端部之金屬材料則將樹脂體18的側 面上延伸於+Z方向。因此，此金屬材料則將樹脂體1 8的 側面上延伸於-Z方向而從發光二極體封裝1之下面突出， 未有毛邊產生。隨之，在安裝發光二極體封裝1時，未有 因毛邊引起而成爲安裝不良的情況。 接著，對於第2實施形態加以說明。 圖1 〇係例示有關本實施形態之發光二極體封裝的斜_ 視圖。 圖1 1 ( a )〜（d )係例示有關本實施形態之發光二梅 -30- 201228040 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯示於（a) 之A - A ’線的剖面圖，（c )係下面圖，（d )係經由顯示於 (〇之B-B’線的剖面圖。 如圖及圖11所示，有關本實施形態之發光二極體 封裝2係與有關前述之第1實施形態的發光二極體封裝1 (參照圖1〜圖3)作比較，樹脂體18之透明部分19a及 白色部分19b的形狀的點爲不同。在本實施形態中，在除 了樹脂體18之最上層部分及最下層部分之外的中間部分 中，白色部分19b僅沿著樹脂體18之長度方向（X方向 )而延伸，而未延伸於樹脂體18之短邊方向（Y方向） 。即，在樹脂體1 8之中間部分中，白色部分19b的形狀 並非圍著發光二極體晶片14等之框狀，而是延伸於X方 向，在Y方向夾持發光二極體晶片14等之2條的線條狀 。並且，在樹脂體18之中間部分中，透明部分19a係遍 佈於樹脂體18之X方向全長而加以配置。然而，樹脂體 18之最下層部分，即較導線框架11及12上面爲下方的部 分係經由白色部分1 9b所構成。因此，樹脂體1 8之最上 層部分係經由透明部分19a所構成。 如此之發光二極體封裝2係在圖7(b)所示之白色樹 脂1 08的模組工程中，經由並非格子狀而形成線條狀之白 色構件109之時而可加以製造。有關本實施形態之發光二 極體封裝2係對於Y方向出射光的指向性爲高，對於X 方向係可對於廣角度範圍射出出射光。在本實施形態之上 述以外之構成，製造方法及作用效果係與前述之第1實施 -31 - 201228040 形態同樣。 接著，對於第3實施形態加以說明。 圖1 2係例示有關本實施形態之發光二極體 視圖。 圖1 3 ( a )〜（d )係例示有關本實施形態之 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯元 之A_A’線的剖面圖，（c )係下面圖，（d )係經 (a)之B-B’線的剖面圖。 如圖1 2及圖1 3所示，有關本實施形態之發 封裝3係與有關前述之第1實施形態的發光二極 (參照圖1〜圖3)作比較，在樹脂體18之白色 中，延伸於樹脂體18之短邊方向（Y方向）之 度則成爲較延伸於樹脂體18之長度方向（X方 分的高度爲低的點爲不同。例如，將導線框架11 上面作爲基準面，在白色部分19b之延伸於樹脂 短邊方向（Y方向）之部分的高度係成爲延伸於 (X方向）之部分的高度的約一半。有關本實施 光二極體封裝3係對於Y方向係出射光的指向性 於X方向係可對於某種程度廣角度範圍射出出射 實施形態之上述以外之構成，製造方法及作用效 述之第1實施形態同樣。 接著，對於第4實施形態加以說明。 圖14係例示有關本實施形態之發光二極體 視圖。 封裝的斜 發光—極 t 於（a) 由顯示於 光二極體 體封裝1 部分19b 部分的高 向）之部 及12之 體18之 長度方向 形態之發 爲高，對 光。在本 果係與前 封裝的斜 -32- 201228040 圖15(a)〜（d)係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯示於（a) 之A-A’線的剖面圖，（c)係下面圖，（d)係經由顯示於 (a)之B-B’線的剖面圖。 如圖14及圖15所示，有關本實施形態之發光二極體 封裝4係與有關前述之第1實施形態的發光二極體封裝1 (參照圖1〜圖3 )作比較，未設置有ZD晶片16 (參照 圖1)的點爲不同。未設置有ZD晶片16之故，亦未設置 有晶粒安裝材1 5及導線1 7e (參照圖1 )。另外，在導線 框架11之上面，未形成有爲了從晶粒安裝材13b之被著 範圍區劃導線1 7 e的接合位置的溝1 1 η，而在導線框架1 2 之上面，未形成有爲了從晶粒安裝材15之被著範圍區劃 導線17b及17d的接合位置的溝12m。更且，導線I7d之 接合位置係較前述之第1實施形態爲+ X + Y方向側。在 本實施形態之上述以外之構成，製造方法及作用效果係與 前述之第1實施形態同樣。 接著，對於第5實施形態加以說明。 圖16係例示有關本實施形態之發光二極體封裝的斜 視圖。 圖17(a)〜（d)係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯示於（a) 之A-A’線的剖面圖，（c )係下面圖，（d )係經由顯示於 (Ο之B-B’線的剖面圖。 如圖16及圖17所示，有關本實施形態之發光二極體
S -33- 201228040 封裝5係與有關前述之第4實施形態的發光二極體封裝4 (參照圖14及圖15)作比較，發光二極體晶片14a及 14b則射出紅色的光之上下導通型之晶片的點爲不同。對 於發光二極體晶片14a及14b係設置有上面端子14u及下 面端子（未圖示）。因此，未設置有導線17a及17c。另 外，在導線框架11之上面，未形成有爲了從晶粒安裝材 13a及13b之被著範圍區劃導線17a及17c的接合位置的 溝11m。更且，對於透明部分17a係未分散有螢光體20 ( 參照圖15)。在本實施形態之上述以外之構成，製造方法 及作用效果係與前述之第1實施形態同樣。 接著’對於第6實施形態加以說明。 圖18係例示有關本實施形態之發光二極體封裝的斜 視圖。 圖1 9 ( a )〜（d )係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝的圖，（a)係上面圖，（b)係經由顯示於（a) 之A-A’線的剖面圖，（c)係下面圖，（d)係經由顯示於 (a)之B-B’線的剖面圖。 圖20 ( a )〜（c )係例示有關本實施形態之發光二極 體封裝之導線框架的圖，（a )係上面圖，（b )係經由顯 示於（a)之C-C，線的剖面圖，（c)係經由顯示於（〇 之D-D’線的剖面圖。 如圖18〜圖20所示，有關本實施形態之發光二極體 封裝6係與有關前述之第4實施形態的發光二極體封裝4 (參照圖14及圖15)作比較，導線框架1 1則在X方向 -34- 201228040 分割成2片導線框架31及32的點爲不同。導線框架32 係配置於導線框架31與導線框架12之間。 在有關前述之第4實施形態之發光二極體封裝4的導 線框架11之基底部lla(參照圖15)係在本實施形態中 ，相當於導線框架31及32之基底部31a及32b。另外， 導線框架11之吊銷lib〜llg係在本實施形態中，相當於 導線框架31及32之吊銷31b，32c，31d，32e，31f及 31g。更且，導線框架11之凸部lip係分割成導線框架31 之凸部31p及導線框架32之凸部32p。從Z方向而視， 凸部31p及3 2p係各形成於基底部31a及32b之中央部。 並且，導線17a及17c係接合於導線框架31之上面。然 而，與前述之第4實施形態同樣地，導線i7b及導線17d 係接合於導線框架1 2。另外，未設置有ZD晶片1 6 (參照 圖1)，而隨之’亦未設置有晶粒安裝材15及導線17e， 而未形成有溝11m，lln，12m。 在本實施形態中，導線框架3 1及1 2係經由從外部施 加電位之時’作爲外部電極而發揮機能。另一方面，對於 導線框架32係無須施加電位，而可作爲散熱專用之導線 框架而使用。由此’於搭載複數個之發光二極體封裝6於 1個模組之情況，可將導線框架32連接於共通之散熱片。 然而’對於導線框架3 2係亦可施加接地電位，而亦可作 爲浮遊狀態。另外’將發光二極體封裝6安裝於主機板時 ，經由於導線框架31’ 32及12各接合焊錫球之時，可抑 制所謂曼哈頓現象。曼哈頓現象係指在藉由複數個之焊錫 -35- 201228040 球等而於基板安裝裝置等時，因在迴焊爐之焊錫球的熔解 之時間偏差及焊錫的表面張力引起，裝置立起之現象，成 爲安裝不良的原因之現象。如根據本實施形態，經由將焊 錫球在X方向緊密配置之時，不易產生曼哈頓現象。 另外，在本實施形態中，導線框架3 1則經由吊銷3 1 b ，31d，31f，31g，從3方向加以支持之故，導線17a及 1 7C之接合性則爲良好。同樣地，導線框架1 2則經由吊銷 1 2b〜1 2e，從3方向加以支持之故，導線1 7之接合性則 爲良好。 如此之發光二極體封裝6係在前述圖5(a)〜（h) 所示之工程中，經由變更導線框架薄板2 3之各元件範圍 P的基本圖案之時，可以與前述之第1實施形態同樣的方 法加以製造。即，如根據在前述之第1實施形態所說明之 製造方法，僅由變更光罩圖案112之圖案者，可製造各種 佈局之發光二極體封裝。在本實施形態之上述以外之構成 ，製造方法及作用效果係與前述之第4實施形態同樣。 以上，雖說明過本發明之幾個實施形態，但此等實施 形態係作爲例而提示之構成，未意圖限定發明之範圍》此 等新穎的實施形態係可以其他種種形態而實施，在不脫離 發明之內容，可進行種種省略，置換，變更。此等實施形 態或其變形係含於發明之範圍或內容同時，含於記載於申 請專利範圍之發明及其等價物之範圍。另外，前述之各實 施形態係可相互組合而實施。 例如，在前述之第1實施形態中，顯示過將導線框架 -36- 201228040 薄板23，經由濕蝕刻而形成的例，但本發明係不限於此， 而例如亦可經由沖壓等之機械手段而形成。另外，在前述 之第1實施形態中，顯示過在導線框架中，於銅板的上下 面上形成有銀鍍層的例，但本發明並未限定於此。例如， 於銅板的上下面上形成有銀鍍層，再於至少一方的銀鍍層 上形成有鍺（Rh)鍍層亦可。另外，於銅板與銀鍍層之間 ，形成銅（Cu鍍）鍍層亦可。更且，於銅板的上下面上 ，形成有鎳（Ni)鍍層，在於鎳鍍層上形成有金與銀的合 金（Au-Ag合金）鍵層亦可。 另外，在前述之第1實施形態中，顯示過將發光二極 體晶片作爲射出藍色的光之晶片，將螢光體作爲吸收藍色 的光而發光成黃色的光之螢光體，將從發光二極體封裝所 射出的光色作爲白色的例，但本發明並不限定於此。發光 二極體晶片係亦可爲射出藍色以外的顏色之可視光的構成 ，而亦可爲射出紫外線或紅外線的構成。螢光體亦不限定 於發光成黃色光的螢光體，而例如亦可爲發光成藍色光， 綠色光或紅色光的螢光體。 另外’發光二極體封裝全體所射出的光的顏色亦不限 定於白色。對於如上述之紅色螢光體，綠色螢光體及藍色 螢光體’經由調節此等重量比R: G: B之時，可實現任 意的色調。例如，從白色燈泡至白色螢光燈的白色發光係 R: G: B重量比由作爲1: 1: 1〜7: 1: 1及1: 1: 1〜1 :3: 1及1: 1: 1〜1: 1: 3之任一可實現。 更且’對於發光二極體封裝係亦可未設置螢光體。此 -37- 201228040 情況係從發光二極體晶片所射出的光則從發光二極體封裝 所射出β 如根據以上說明之實施形態，可實現成本低的發光二 極體封裝及其製造方法。 【圖式簡單說明】 圖1係例示有關第1之實施形態之發光二極體封裝的 斜視圖。 圖2(a)〜（d)係例示有關第1之實施形態之發光 二極體封裝的圖。 圖3 ( a )〜（c )係例示有關第1之實施形態之發光 二極體封裝之導線框架的圖。 圖4係例示有關第1之實施形態之發光二極體封裝之 製造方法的流程圖。 圖5 ( a )〜（h )係例示在第1之實施形態之導線框 架薄板之形成方法的工程剖面圖。 圖6(a)係例示第1實施形態之導線框架薄板的平面 圖，（b)係例示其導線框架薄板的元件範圍之一部分擴 大平面圖。 圖7 ( a )〜（d )係例示有關第1之實施形態之發光 二極體封裝之製造方法的工程剖面圖。 圖8 ( a )〜（c )係例示有關第1之實施形態之發光 二極體封裝之製造方法的工程剖面圖。 圖9 ( a )及（b )係例示有關第1之實施形態之發光 -38- 201228040 二極體封裝之製造方法的工程剖面圖。 圖1 〇係例示有關第2之實施形態之發光二極體封裝 的斜視圖。 圖Π (a)〜（d)係例示有關第2之實施形態之發光 二極體封裝的圖。 圖12係例示有關第3之實施形態之發光二極體封裝 的斜視圖。 圖13(a)〜（d)係例示有關第3之實施形態之發光 二極體封裝的圖。 圖係例示有關第4之實施形態之發光二極體封裝 的斜視圖。 圖1 5 ( a )〜（d )係例示有關第4之實施形態之發光 二極體封裝的圖。 圖16係例示有關第5之實施形態之發光二極體封裝 的斜視圖。 圖1 7 ( a )〜（d )係例示有關第5之實施形態之發光 二極體封裝的圖。 圖18係例示有關第6之實施形態之發光二極體封裝 的斜視圖。 圖1 9 ( a )〜（d )係例示有關第6之實施形態之發光 201228040 【主要元件符號
I :發光二I II :導線框 1 2 :導線框 11m，1 1 η， 1 la :基底g 1 1 b〜g :吊 1 lp :凸部 12p :凸部 12a :基底音 1 2 b〜e :吊 13a， 13b： 14 :發光二 1 5 :晶粒安 16 : ZD晶戶 1 7 :導線 1 8 :樹脂體 20 :螢光體 2 1 a :銅板 26 :螢光體 29 :樹脂板 1 1 0 :透明釋 III :光阻齊 1 1 1 a :光阻 說明】 I體封裝 架 架 1 2 m :溝 銷 銷 晶粒安裝材 極體晶片 裝材 t有樹脂材料 件 膜 U圖案 -40- 201228040 1 13 :光罩 22c :開口部 23 :導線框架薄板 2 3 e :連結部分 3 1，3 2 :導線框架 3 1 b〜g :吊銷 107a :凹部 1 0 1，1 0 6 :上模具 102 ， 107 :下模具

Claims (1)

  1. 201228040 七、申請專利範圍： 1·一種發光二極體封裝，其特徵爲具備：相互隔離之 第1及第2的導線框架； 和設置於前述第1及第2的導線框架上方，一方的端 子連接於前述第1的導線框架，另一方的端子則連接於前 述第2的導線框架之發光二極體晶片； 和被覆前述發光二極體晶片，被覆前述各第1及第2 的導線框架之上面、下面之一部分及端面之一部分，使前 述下面之殘留部及前述端面之殘留部露出之樹脂體； 前述樹脂體係具有： 至少配置於前述發光二極體晶片之上面與在前述樹脂 體之上面之前述發光二極體晶片正上方區域之間，使前述 發光二極體晶片所射出的光透過之第1部分； 和圍住前述第1部分，前述光的透過率則較在前述第 1部分之前述光的透過率爲低的第2部分； 前述樹脂體的外形則構成其外形。 2.如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，在前述第2部分之外面的前述光的反射率係較在前述 第1部分之外面的前述光的反射率爲高。 3 .如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述第1部分係透明，前述第2部分係白色。 4.如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述第1部分及前述第2部分係經由聚矽氧烷樹脂所 形成。 -42- 201228040 5. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述樹脂體之下面係經由前述第2部分加以構成。 6. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述樹脂體之上面係經由前述第1部分加以構成。 7. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述第1部分與前述第2部分之界面的一部分係伴隨 朝向於上方，呈變位於前述樹脂體之外側地傾斜。 8. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，更加具備配置於前述第1部分內之螢光體。 9. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝，其 中，前述第1的導線框架及前述第2的導線框架之中之至 少一方係具有： 經由前述樹脂體被覆端面之基底部； 和從前述基底部延伸出於相互不同的方向，其下面經 由前述樹脂體所被覆，其前端面則露出於前述樹脂體的側 面之3支吊銷； 對於從在前述第1的導線框架之下面及前述第2的導 線框架之下面之中的一方之另一方隔離的範圍，係形成有 凸部，前述凸部的下面係露出在前述樹脂體的下面，前述 凸部的側面係經由前述樹脂體所被覆。 10· —種發光二極體封裝之製造方法，其特徵爲具備 :由導電性材料所成，複數之元件範圍配列成矩陣狀，形 成有包含在各前述元件範圍係相互隔離之第1及第2之導 線框架之基本圖案，對於前述第1及第2之導線框架之中 -43- 201228040 至少一方，係設置有從前述元件範圍之外緣隔離之基底部 ，在前述元件範圍間的切割範圍中，設置有從前述基底部 通過前述切割範圍延伸至鄰接之前述元件範圍之複數支的 連結部分之導線框架薄板，於前述切割範圍及前述元件範 圍之外周部分的上方，形成第1之樹脂所成之第1構件的 工程； 和經由在前述導線框架薄板之上面的前述第1構件所 圍住之各範圍，搭載發光二極體晶片之同時，將前述發光 二極體晶片之一方的端子連接於前述第1之導線框架，而 將另一方的端子連接於前述第2之導線框架的工程； 和被覆前述發光二極體晶片，經由形成前述發光二極 體晶片所射出的光之透過率則較在前述第1之樹脂之前述 光的透過率爲低之第2之樹脂所成之第2構件之時，形成 被覆前述第1構件及前述第2構件所成，至少位置於前述 發光二極體晶片，以及在前述導線框架薄板之前述元件範 圍的部分之上面，前述基底部之端面及前述連結部分之下 面的樹脂板的工程； 和經由去除配置於前述導線框架薄板及在前述樹脂板 之前述切割範圍之部分之時，將配置於前述導線框架薄板 及在前述樹脂板之前述元件範圍之部分作爲個片化之工程 » 前述個片化部分之外形作爲其之外形。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項記載之發光二極體封裝之 製造方法，其中，在形成前述第1構件之工程中，將位置 -44- 201228040 於較在前述第1構件之前述導線框架薄板爲上方之部分的 形狀作爲格子狀， 在形成前述樹脂板的工程中，將前述第2構件之一部 分’配置於經由前述第1構件所圍住之空間內》 如申請專利範圍第10項記載之發光二極體封裝之 製造方法，其中，在形成前述第1構件之工程中，經由前 述第1構件而被覆前述基底部之端面及前述連結部分之下 面。 13. 如申請專利範圍第10項記載之發光二極體封裝之 製造方法，其中，在形成前述樹脂板的工程中，將前述第 2構件之一部分，配置於前述第1構件上。 14. 如申請專利範圍第10項記載之發光二極體封裝之 製造方法，其中，更加具備：將前述導電性材料所成之導 電薄板，從上面側及下面側各選擇性地蝕刻，至少將來自 前述下面側的蝕刻，於貫通前述導電薄板之前停止’經由 從前述導電薄板選擇性地去除前述導電性材料之時’形成 前述導線框架薄板之工程。 S -45 -
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