TW201127630A - Polyester films with improved oil repellency - Google Patents

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TW201127630A
TW201127630A TW99129595A TW99129595A TW201127630A TW 201127630 A TW201127630 A TW 201127630A TW 99129595 A TW99129595 A TW 99129595A TW 99129595 A TW99129595 A TW 99129595A TW 201127630 A TW201127630 A TW 201127630A
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Neville Everton Drysdale
Surbhi Mahajan
Kenneth Gene Moloy
Fredrik Nederberg
Joel M Pollino
Joachim C Ritter
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Du Pont
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Description

201127630 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 早體之共聚酯製成之薄膜。 本發明為關於由衍生自全氟單體 该等聚醋薄膜具改良撥油性。 【先前技術】 ,可用於聚合物相關產 氟化材料具有多種用途。特別是, 通產業中,其係用於使材料具抗污、 文良之阻燃性。一般來說,氟化化合 但由於材料會因為磨損與清洗而損 業,尤其是在纖維相關產業中, 抗水以及抗油性以及改良之阻燃性。 物係用於局部處理 耗’故其有效性隨著時間減弱。 因此仍存在提供一種一般來說具有改良且更持久之抗 污及抗油性之聚合材料的需求。藉由結合氟化芳香族二酯 到聚合物主鏈’可達到更長久之抗污與抗油性。 【發明内容】 本發明之一態樣為由一共聚醋形成之一薄膜包含一全說 化單體,其中該共聚酯約為全氟化單體之0至100重量百分 比’且其中由該共聚酯製成之該薄膜呈現一己烧接觸角大 於60度’一水接觸角大於丨1〇度。 該共聚酯可由式I、IutII表示:
150628.doc 201127630
(Π)
其中,對於⑴與(II), 每一 R為獨立地Η、CrCH)烷基、C5-C15芳香基、或 C6-C20芳香炫基; 每一 R1為獨立地(^-(:1()烷基、C5-C15芳香基、或C6-C20芳 香烧基; 每一 X獨立地為0或CF2 ; 每一 Y獨立地為0或CF2 ; 每一 Z獨立地為Cl或Br ; 每一 Rf1獨立地為(CF2)n,其中每一 η獨立地為0-10 ; 每一 Rf2獨立地為(CF2)P,其中每一 ρ獨立地為0-10, 150628.doc 201127630 其限制條件為p是ο,Y是CF2 ; 每一 q獨立地為0-10 ; m為 1-1〇,〇〇〇 ;以及 w為 1-1〇,〇〇〇 ; 且其中,對於(III), C5-C15芳香基、或 每一 R獨立地為Η、CVCio烷基 C6-C2〇芳香基院基; 或。6-(:20芳 每一 R1獨立地為(:丨-(:丨0烷基、C5-Cb芳香A 香基烷基; 每一 X獨立地為〇或cf2 ; 每一 Y獨立地為〇或CF2 ; 每一 Z獨立地為Η、ci或Br, Η ;以及 其限制條件為只有_ ζ可為 每一 Rf1獨立地為(CF2)n,其中每— 2 > n燭立地為〇-1〇每
Rf獨立地為(CF2)p,其中每一 _立地為〇·】〇, 其限制條件為P為〇,γ為CF2 ; 每一 q獨立地為〇·〗〇 ; m為 1-1〇,〇00 ;以及 w為 1-1〇,〇〇〇 0 【實施方式】 在此揭露之新穎共聚酯已發現具有使其可用於多種終端 用途之特性,豸等用途包含薄膜與模製物品以及由該纖維 製造之纖維與材料。該共聚酯包含作為聚合單元之I,〗,〗· 二氟芳香族酯’其可選擇性鹵素化’例如2_鹵素_丨,丨,2•三 150628.doc 201127630 氟芳香無s旨。共聚s|也適用於纖維纺織。 催香族二酿為於有一溶劑(可經選擇性_素化)與-催化劑存在下,經由
Mm 田加A &基方香族二酯到-全氟化乙 、土 &物,例如全氟化乙烯基醚製備。 ::經基芳香族二醋皆可使用其中特別適用者為,2·經 ㈣本二甲酸认二甲醋、Μ·二窥基對苯二甲酸二乙 酉曰2-赵基對苯二甲酸二甲氧酉旨、5_經基間苯二甲酸二甲 酯、4-羥基間苯二甲醅- ?酉夂一"曰、4,6_二羥基間苯二曱酸二 甲醋、2-經基間苯二甲酸二甲醋、2,5_二經基間笨二甲酸 二"旨、二經基間苯二甲酸二甲酉旨、2,3_二經基間苯 二甲酸二甲醋、3,基醜酸二"旨、4,基駄酸二"旨、 3,4-一經基酞酸二甲酯4_ T曰4,5_一麵基酞酸二曱酯、3,6-二羥 基敝酸二甲m經基萘H酸二甲醋、3,7_二 Μ基蔡·U5.二甲酸二甲s旨與2,6_二經基萘十%二甲酸二甲 酯。 數種全氣化乙稀基化合物可以用於該處揭露之&成中, 例如’舉例來說,认⑴从七氟-心山^-六 氣-3-(1,2,2·三敗乙稀氧)丙院_2_基氧)㈣,七氟㈣基三 氟乙烯基鱗’全氟化乙烯、全敗化丙+烯、全氣化丁小 浠、全敗化戊-i-稀、全氟化已小稀、全氟化庚烯、全 敗化辛-1-婦、全氟化壬-丨_稀、及全a化癸小稀。 -般而言,以上揭露之經基芳香族二酿與全氟化乙烯基 化合物於齒化溶劑中混合,言亥齒化溶劑係例如四氯甲烧、 四溴曱娱i、六氯乙烧與六漠乙院。 150628.doc 201127630 於該揭露之反應為由驗催化。可使用數種驗性催化劑, 換言之,即任何可以使酚去質子化的催化劑,非限制實例 包含甲氧鈉、氫化約、鈉金屬、曱氧鉀與三級丁氧鉀。特 別適用者為三級丁氧鉀。 i基务香私一醋與全氟化乙稀基化合物為於有溶劑與催 化劑存在下混合,直到反應完成。一般而言,反應溫度為 介於約-7(TC到反應混合物之回流溫度之範圍,較佳為約 室溫(25°C )到反應混合物之回流溫度。反應混合物可維持 於回流溫度直到達到所要反應進程。反應時間因反應溫度 與反應混合物成分而有變化,且可由熟悉該項技藝人士使 用數種技術㈣決定,包含但不限於核磁共振光譜、薄層 層析法與氣相層析法。之後,選擇性使用酸(例如,1〇% hC1)使反應混合物驟冷,之後於真空中m容劑潤洗 (例如’二氣曱烧)。超過—種全氟化芳香族二醋可以由反 應混合物製得’之後可利用任何熟悉該項技藝人士已知方 法包含利用蒸餾或管柱層析法分離。 終2-齒素-1,1,2-三氟芳香族酯可以由下列式之一表示:
(A) 150628.doc 201127630
其中,對於(A)與(B), 每一 R獨立地為Η、CrC,。烷基、C5-C15芳香基、或 C6-C2〇芳香基烷基; 每一 R1獨立地為匕-匚^烷基、C5-C15芳香基、或C6-C20芳 香基烧基; 每一X獨立地為0或CF2 ; 每一 Y獨立地為〇或CF2 ; 每一 Z獨立地為Η、Cl或Br ; 150628.doc 201127630 每一 Rf1獨立地為(CF2)n,其中每一η獨立地為〇-l〇 ; 每一Rf2獨立地為(CF2)p,其中每一 p獨立地為〇_1〇 ’ 其限制條件為當p是〇,Y是CF2 ; 與每一 q獨立地為〇-1 〇 ; 其中,對於(C), 每一 R獨立地為Η、(:〗-(:,〇烷基、c5-c15芳香基、或 C6-C2〇芳香基院基; 每一 R1獨立地為(^-(:1()烷基、C5-Cu芳香基、或C6-C20芳 香基烷基; 每一 X獨立地為〇或CF2 ; 每一 Y獨立地為〇或CF2 ; 每一 Z獨立地為H、C1或Br,其限制條件為只有一 2為 Η ; 每一 Rf獨立地為(CF2)n ’其中每一 η獨立地為0-10 ;每 Rf獨立地為(CF2)p ’其中每一Ρ獨立地為0-10, 其限制條件為當p是〇,γ是CF2 ;以及 每一 q獨立地為〇-10。 可由上述式可注意到取代基可接於苯環之任何位置,泛 此可得到上述定義之鄰、間與對取代基。 匕為使共聚酯包含全氟化醚芳香族二酯,其他芳香族二 酉曰包合方香族二曱酸與其二甲基酯加入反應中。可加少 呈特别有用之二酯為對苯二曱酸二曱酯。某些非限制性, 八弋表!·生芳香族二曱酸為間苯二曱酸、對苯二甲 不一文、4,4·-磺醯基二苯甲酸、4-磺酸基酞醆與 150628.doc 201127630 本-4二甲離 —τ故。這些二羧酸之二酯也可合成,例如藉由 有催化齊丨存名τ ▲ r甘卜,加入二羧酸至一種二元醇(例如】,3_丙二 酵)0 —船而-士 又叩& ’使用以鈦(IV)為基材之轉酯反應催化劑 (例如丁氧敍(JV)與異丙氧欽⑺)於反應卜不過也可使用 ::種它種催化劑(例如以錄、辞與錫為基材之催化劑)。 此5物於提高之溫度下搜拌與反應±到反應完成,/ 形成聚醋選擇性地以熟悉技藝之人所習知方法分之後所 真空蒸餾、沉澱或拆解容器。 隹’例如 唣之共聚 當製得一種包含U,2-三氟(全氟化醚)乙氧基 酯,產物可以下列—般式之一表示:
P P
(I),
P P
(II),或 150628.doc 11- 201127630
其中,對於(I)與(II), 每一 R獨立地為Η、q-C丨〇烷基、c5_Ci5芳香基、或 C6_C2〇方香基烧基; 母·一 R獨立地為Ci-Ciq炫•基、C5-Ci5芳香基、成c芳 香基烧基; 每一 X獨立地為〇或CF2 ; 每一 Y獨立地為0或CF2 ; 每一 Z獨立地為η、Cl或Br ; 每一 Rf獨立地為(CF2)n,其中每一 “蜀立地為〇_ i 〇 ; 每一 Rf獨立地為(CF2)p,其中每一 ρ獨立地為〇_ i 〇, 其限制條件為當ρ為〇,γ是CF2 ; 每一 q獨立地為0-10 ; m為 1-1〇,〇〇〇 ;以及 w為 1-1〇,〇〇〇 ; 與其中,對於(III), 每一尺獨立地為H、C广Cn)烷基、C5-C15芳香基、或 150628.doc •12- 201127630 C6-C2〇芳香基烧基; 母R獨立地為Ci-Ch)烧基、C5-C15芳香基、或C6-C2〇芳 香基烧基; 每一 X獨立地為〇或CF2 ; 每一 Y獨立地為〇或CF2 ; 每一 Z獨立地為H、〇或Br,其限制條件為只有一 z可為 Η ; 每Rf獨立地為(CF2)n,其中每_η獨立地為〇_1〇 ;每 一Rf2獨立地為(CF2)p,其中每一ρ獨立地為〇1〇, 其限制條件為當Ρ為〇,Υ為CF2 ; 每一 q獨立地為〇_1〇 ; ni為 1-1〇,〇〇〇 ;以及 w為 1-1〇,〇〇〇。 共聚酯可藉由混合一全氟化芳香基二甲酸、一二級芳香 基二甲酸與一二元醇,以上述類似方法製備。 由上述式可注意到取代基可接於苯環之任何位置,因此 可得到上述定義之鄰、間與對取代基。 用以準備於此揭露材料所使用之1>3_丙二醇可以藉由各 種已知化學途徑或生物化學變化途徑取得。較佳途徑揭露 於例如 US 20050069997A1。 較佳丙二醇為由可再生源以生化方式取得(「生物衍 生」】,3-丙二醇)。 ,佳之1,3.丙二醇源是經由—可再生生物源以發酵方式 取得。如同自—可再生源得到之起始材料的說明性實例, 150628.doc -13- 201127630 所揭露之1,3-丙二醇(PD〇)之生化途徑使用由生物與可再 生源,例如玉米原料所製得之原料。舉例而言,可將甘油 轉化為1,3-丙二醇之細菌株已發現於克雷伯氏菌 (KiebsieUa)、檸檬酸桿菌、芽胞梭菌 (Clostridium)及乳酸桿菌(Lact〇baciUus)種中尤其是 US5821092揭露一種使用重組有機體自甘油得到丨,3-丙二 醇的生物生產方法。該方法結合大腸桿菌(E c〇⑴,該菌 係以對1,2-丙二醇具有特定性之異源丙二醇利用的脫水酶 基因(heter〇l〇gOUS pdu di〇1 dehydratase gene)加以轉化該 經轉化的大腸桿菌係於甘油存在下作為一碳源生長,並且 將1,3-丙二醇由生長介f中分離。因為細菌與酵母菌皆可 將葡萄糖(例如’玉米糖)或其他碳水化合物轉換為甘油, 該些公開文獻巾所揭露之方法提供—快速、廉價且對環境 衫響較小的1,3 -丙二醇單體來源。 上述揭露與參照的方法所生產之生㈣生的1,3 -丙 醇已3來自大氣中二氧化碳中植物所利用的碳,從而 成生產1,3-丙—醇的原料。在此方法+所揭露之較佳使 的生物何生13-丙二醇只含有可再生的碳,而沒有以化 燃料基或石油基的碳。因此,衍生自該生物Μ·丙二醇 =〇3G可降低對環境的衝擊,如同組成物巾所使用的I』” 二醇不消耗正在減少的石化燃料,並且在降解:幻 碳釋放到大氣中供植物使用。因此,在某些實施財:: 此揭露之組成物之特點比其他含有石 物較自然且對環境衝擊較少。 一的類似㈣ 150628.doc •14· 201127630 如此揭露者’可經由合成途徑對聚g旨主鏈進行修飾以使 聚合物具固有疏油性或提供加強之疏水性。更特定言之, 對本一甲酸二甲酯(DMT)、全亂化鱗對苯二f酸二甲醋或 全敦㈣間苯二甲酸二甲醋與Μ-丙二醇(咖)之共聚物 已經製仔與用於形成共聚物。一般來說,可引入兩不同全 氟化越側鏈長度使得每-重複單元係1()或⑽氣原子。 、八聚物可以使用氟化對苯二甲酸二甲醋/對苯二甲酸, 或間苯二曱酸二甲酿/間苯二甲酸以㈣於dmt/tpa之各 種濃度Μ吏用例如TYZ0R_異丙氧基鈦作為催化劑合 成。 可藉由光譜術(4-NMR,〗9f_NMr)與熱分析相辨認該對 應八聚5物結構,该荨方法一般只顯示熔化之微量擾動, 及與純聚對苯二甲酸丙二醋相較下之玻璃轉化溫度。典型 為得到黏度(IV)為0.9-1 ·〇之共聚酯。 共聚物可用使用自&塑性聚合物形成薄膜技術領域中通 常技藝之人習知之方法形成薄膜或薄層。典型情況下,術 語「薄層」係用於厚度為250微米或更厚之物件,而術語 「薄膜」係用於厚度低於25〇微米之物件。用以形成薄膜 之方法一般落於三大範圍之範疇:溶液鑄製(適合用於製 造塗層)、溶化鑄製與塵塑。 溶液鑄製典型係用於不能進行融化_擠出或極度對熱敏 感之聚合物,但可用於數種聚合物,例如於該揭露之共聚 酯。於溶液鑄製薄膜中,聚合物選擇地與例如抗氧化劑、 阻燃劑與/或色素之添加物溶於溶劑。典型為勻相聚合 150628.doc •15- 201127630 物冷液㈣遽與脫氣後形成凝膠薄膜與將之乾燥。 後可以沉積於_ *品、炫_ 一 * 1 '合硬之 式形成。適杏之實例有溶液以蒸發或凝聚方 k田之實例有金屬、玻璃或其他聚合物,取決 表面之黏著性質與所要之終 、、 自笮腔铱… π鑄製後,溶劑可以 賴移除’例如藉由加熱。取決於終端用途, =面或撕除以形成一無依附之薄膜。薄 =的速率部分取決於溶劑擴散速率;因 2 向,所有方::: 特徵包含低殘餘定 门所有方向均具均一性與平滑表面。 ::鑄製典型為用於自一炼融聚合物形成一 聚“勿’典型為粒狀物'片狀物或粉 垃 擠出機(單螺桿或雙螺桿),1Λ冑人—炼融 遠〜”八中來合物係經熔融後形成_ 且、=融1之後於以螺桿旋轉所造成之壓力飯入薄膜槿 模具厚度係經選定,一般Α的9 ς 、、 壤,心 飯為約25至100微米但可更 ,例如10微米。如上述,選擇性 料至擠出機。薄膜寬度可物共進 公分或寬至6英^此外,模呈可以:編乍中可窄至25 中办圓焱社—, 〜、了 M將缚膜形成為一連續 質\、、直控可為數英时。製程條件會影響薄膜性 負。取決於聚合物、自薄膜散熱之速 專職 度與結晶結構與殘餘定向程度。另―二疋涛膜結晶程 薄膜散熱處之溫度。若需要一高品質;=膜性質因素為 速率,可使用-針扎步驟。針札定 …傳遞 用於鑄製表面。針扎可以利用氣刀:::融薄膜強制施 電場執行。針扎可使整個薄膜保持::軋報或強靜 f生貝時,仍可達到 150628.doc 201127630 二=二:扎力可預防氣體被限制於薄膜與鑄製表面間。 、的選擇取決於操作料與薄膜特性。 =典型為以相對小規模方式進行,例如實驗室而 聚合物置於具所要長、寬與厚度(例如4英叶 “ X150也卡厚)之框内,之後將之加熱與加屋使用例 7 。使聚合物有足夠時間填充框與之後將之冷卻,薄 膜可以自框移走並加以測試。 引入k㈣可顯著降低終絲物之表面能。炫融擠壓 /、紡織樣本顯示氣化低能成分可厚實㈣响氣-固介面, 與’、屯聚對苯—甲酸丙二g旨相比較,可導致其撥水性與撥油 t I加典型為純聚對笨二甲酸丙二醋係藉由十六#16- 脂質)液滴完全浸潤,並呈現水接觸角超過60。。聚醋包含 或更多全氟化單體’例如F16異·全氟化_•聚對苯二甲 酸:二s旨為基礎’及相對於對苯二甲酸二甲醋單體係佔10 重量百分比之全敗化單體,其具有如圖la與2a顯示之超過 6〇。之十六烧接觸角與超過UG。之水接㈣。加人之十六 烷液滴被移除時為完全非浸·態,因此可證明該新賴表 面之疏油性。由聚®旨製成之薄膜包含-或更多全氟化單 體,例如以卩,6·對-全氟化醚_全氟化醚-聚對苯二甲酸丙二 酉旨為基礎,並且相對於對笨二甲酸二曱酯單體係佔ι〇重量 百分比之全氟化單體,具有如圖3顯示之超過50。之十六烷 接觸角與超過105。之水接觸角。由聚酯製成之薄膜包含— 或更多全氟化單體,例如Fi〇_異_全氟化醚_聚對笨二曱酸 丙二酯為基礎,及相對於對笨二甲酸二曱酯單體係佔⑺重 150628.doc •17· 201127630 量百分比之全氟化單體,具有如圖4顯示之超過35。之十六 烷接觸角與超過90。之水接觸角。 ESCA/XPS為於表面以45〇測量,總取樣深度為〜5〇 A, 與確5忍氣為位於最外層表面且相較於一般總成分該濃度較 高,如以下實例與表1 -3所示。 因此加入全氟化單體至聚對苯二曱酸丙二酯,即便只包 含少量氟,可使所產生之共聚物具有顯著地改良之撥油性 以及更南的防水性。 靜接觸角為以附有一整合DR〇Pimage先進v2.3軟體系統 之 Rame’-Hart lnstrument Co.的測角器 Rame,_Hart M〇del 100-25-A設備加以紀錄。一微注射器分配系統其係為分配 水或十六烷,所使用分配液體體積為4 。 用於化學分析(ESCA) aka X射線光電子能譜(xps)之電 子旎谱術為利用Ulvac-PHI Quantera SXM光譜儀,使用一 單色A1 X-光源(100 μπι,1〇〇 w,175⑺執行。為了分析之 用,樣本表面(〜U50 μΓηχ200 μπ〇先以廣泛測量掃描方式 測試,確認那種元素出餘表面4解析細節光譜之取得 為使用55電子伏特通行能與〇2電子伏特步進規模,其係 用以決定所測得元素之化學㈣與其原子濃度。典型為 碳、氧與敗為於45°出口角(對碳電子為〜70 Α逃離深度)分 析。PHI MultiPak軟體用於資料分析。 實例 化學物與反應劑於實例中為依取得時狀態使用: 自 Sigma-Aldrich’ Milwaukee,WI取得· 150628.doc •18· 201127630 •對苯二甲酸二甲酯 • Tyzor® TPT四-正-丙氧 •三級丁氧鉀 •二曱基甲醯胺 •二氯甲烷 •四氯甲烷(四氯化碳) •四溴甲烷(四溴化碳) •氫氯酸(HC1) •無水硫酸鈉 • 2-羥基對苯二甲酸込扣二曱酯 自 DuPont Tate & Lyle,Loudon,TN取得: • 1,3-丙二酯 自 SynQuest Labs·,Alachua, FL取得: •七氟丙基三氣乙稀基趟
氧基)乙氧基)對苯二曱酸二甲酯;
於一乾燥箱中,2-羥基對笨二甲酸丨,4_二甲酯(3〇 25 g, 0.144 mol)加入經烘箱烘乾,配有一攪拌棒與均壓器 (pressure equaling)容量500 mL之多頸反應燒瓶中。四氫呋 -19· 150628.doc 201127630 喃(THF,288 mL)加入形成混合物。攪拌混合物直到成為_ 勻相溶液。加入三級丁氧鈉(4.435 g,0.040 mol) ’終得到 一非勻相混合物。經由均壓器漏斗,1,1,1,2,2,3,3-七 氟-3-(1,1,1,2,3,3-六氟-3-(1,2,2三氟乙烯基氧基)丙基_2_基 氧基)丙烷(155.52 g ’ 0.36 mol)加入形成一反應混合物。 反應混合物於室溫(約25。(:)攪拌〜40小時。將反應混合物 加入5 mL的10% HC1以使其驟冷。一材料由反應混合物形 成。反應瓶中材料於減壓下濃縮。材料之後溶解於二氣曱 烷中(〜300 mL)且之後先以10% HCi (2x75 mL)再以水(〜75 mL)潤洗’得到-有機與水相、經分離之有機相以無水硫 酸鈉乾燥。將硫酸鈉濾除,將所得之材料於減壓下加以濃 縮之後並進行真空分餾。對於134_1361及141丨【⑽ (84.55 g ’產率91·4〇/°)還有 136_138t 與 1.1 torr (3 35 g)(綜 合產率95.G4%)T料料加m這些樣本之NMRs (核磁共振光譜)顯示其為2-U,l,2·三氟·2·(1,1,2,3,3,34 H(全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)對笨二甲酸二甲醋。 製備5-(1,1,2-三氟,2-(1 j 2 3 3 39 ,人技 、,1,2,3,3,3-,、氟-2-(全氟化丙氧基)丙 氧基)乙氧基)間笨二甲酸二甲醋;
於一乾燥箱中 四氫呋喃(THF,1000 mL)與弘羥基間苯 150628.doc 201127630 —甲酸二甲酿(42.00 g,0.20 mol)加入經烘箱供乾配有搜 拌棒與加料漏斗之圓底反應燒瓶;之後加入三級丁氧钟 (6.16 g,〇.〇55 mol)。1,11,2,2,3,3_七氟_3_(1,1,12,3,3_六 氟-3-(1,2,2三氟乙稀基氧基)丙基_2_基氧基)丙烷(216 g, 0.50 mol)經由加料漏斗加入形成一混合物。反應於室溫下 攪拌進行。攪拌24小時後加入80 mL 10% HC1終止反應。 反應經減壓濃縮,溶解於二氯曱烷稀釋,先以1〇% HCl(2xl〇〇 mL)潤洗,再以水(2x100 mL)潤洗,得到—有 機相與粗產物。有機相經由無水硫酸鈉乾燥並經減壓濃 縮。粗產物經管柱層析純化得到86.07 g(產率67.32%)之二 曱基5-(1,1,2-二氟- 2-(l,l,2,3,3,3-六氟- 2-(全氟^匕丙氧基)丙 氧基)乙氧基)間苯二曱酸二甲酯。 實例 1 : 1,3-丙二醇與5-(l,l,2-三氟-2-(l,l,2,3,3,3-六氟-2- (全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)間苯二曱酸二曱酯之共聚 合反應 對苯二曱酸二曱酯(DMT,130 g,0.66 mol)與 5-(1,1,2-三 氟-2-(1,1,2,3,3,3-六氣-2-(全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)間 本一曱酸二曱自旨(相對於DMT之重量百分比),與ι,3_丙二 醇(90.4 g,1.19 mol,對DMT為1.8當量)填入經預乾燥之 500 mL三頸圓底反應燒瓶。將一頂置式攪拌器與一蒸餾濃 縮益裝置於反應燒瓶上。反應燒瓶中反應物以5 〇 rpm搜 拌,終反應產物置於氮氣(g}(N2)吹淨環境,濃縮器則維持 於23°C。反應燒瓶内含物經將反應燒瓶抽真空降壓至1〇〇 Torr之後填充氮氣(NO之方式進行除氣三次。TyZOr®TPT催 150628.doc •21 - 201127630 化劑[對理論上聚合物產率加入50 ppm Ti, δτγζ〇κ=〇 96 g/mL]於第一次抽真空後加入。反應燒瓶浸入預熱(設定為 160°C )金屬浴中。反應燒瓶中固體可完全於i6(rc經2〇分 鐘且攪拌速率緩慢增加到1 80 rpm下熔化。反應燒瓶溫度 增加到210°C並保持於該溫度90分鐘用於蒸散於蒸餾瓶中 所形成曱醇之多數。當氮氣吹淨關閉且開始真空斜線上 升,反應燒瓶溫度增加到250。(:,約60分鐘後,真空達到 50-60 mTorr。當真空穩定,攪拌器的攪拌速度增加到225 rpm且反應保持在最大值3-4小時。監測攪拌器的扭矩(讀 數為180 rpm)且於扭矩值達〜1〇〇 N/cm2時一般反應會終 止。以移除熱源方式終止該聚合反應。終止頂置式搜拌 器’於關閉真空前將之從反應燒瓶底部移除,系統以氮氣 (N2)吹淨。於反應燒瓶中形成之產物將之冷卻至外界溫度 且移除反應容器,於小心以I追子打破玻璃後,回收產物。 所分離聚合物產物包含一 1,3-丙二醇與5-(1,1,2-三 氣-2-(1,1,2,3,3,3-六氟-2-(全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)間 苯二甲酸二甲酯與對苯二甲酸二甲酯之共聚物,且對苯二 曱酸二曱酯使用威利磨(Wiley mill)以低溫磨細(ery〇_ ground)(使用液態氮)為米白粉末。總產率為〜80-90%。 W-NMR (CDCl3/TFA-d,700 MHz) : δ 8.60 (ArH,s,主 鏈),8.25-7.90 (ArH-,m,主鏈),7·65 (ArH, s,環化二聚 體),6.10(-CF2-CFH-O-,d,侧鏈),4.75-4.45 (COO-CH2-, m,主鏈)’ 3.95 (HO-CH2-R, t,末端官能基),3.82 (-CH2-O-CH2-,t ’ 主鍵DPG),2-45-2.05 (-CH2-,m,主鍵)。一 150628.doc • 11 · 201127630 f19-nmr實例顯示於圖5。 田堅‘為薄膜,純聚對苯二甲酸丙二酯完全為十六院液 滴(Cl6_脂質)所浸潤,具有之水接觸角為約60。。由聚酯形 成之薄膜包含一或更多全氟化單體,例如匕6_異_全氟化 醚聚對本—甲酸丙二酯_為基礎之共聚物(對笨二曱酸二甲 酯佔10重量百分比,總氟化單體含量為2·9莫耳百分比)如 圖1與圖2所示,包含一超過6〇。之十六烷接觸角,與一超 過110°之水接觸角。 下表1顯示ESCA/XPS資料 表1 : 實例 F(原子百分比) C(原子百分比) 〇(原子百分比) 聚對苯二曱酸丙二酯 / 73.3 26.7 (對照組) 實例1氟化共聚合物 13 63 23 實例 2 : 1,3-丙二醇與 2-(1,1,2-三氟-2-(l,l,2,3,3,3-六氟_2- (全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)對苯二曱酸二曱酯之共聚 合反應 對苯二甲酸二甲酯(DMT,130 g,0.66 mol),2-(1,1,2-三 氟-2-(1,1,2,3,3,3-六氟-2-(全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)對 苯二甲酸二甲酯(相對於DMT之重量百分比),與丨,3_丙二 醇(90.4 g’ 1.19 mol,相對於DMT為1.8當量)填入經預乾 燥之500 mL三頸圓底反應燒瓶。一頂置式攪拌器與蒸餾濃 I50628.doc •23· 201127630 縮器附於反應燒航。反應燒瓶中反應物以50 rpm攪拌,且 終反應產物置於氮氣(N2)吹淨環境,濃縮器則維持於 23°C。反應燒瓶内含物經將反應燒瓶抽真空降壓至1〇〇 Torr之後填充氮氣(N2)進行除氣三次。Tyzor®TPT催化劑 [相對理_上聚合物產率加入50 ppm Ti, 5tyzor=〇.96 g/mL] 於第一次抽真空後加入。反應燒瓶浸入預熱(設定為160»c ) 金屬浴中。反應燒瓶中固體可完全於160°C經20分鐘且檀 拌速率緩慢增加到1 80 rpm下炼化。反應燒瓶溫度增加到 2 1 0°C並保持於該溫度90分鐘以使大部分於蒸餾瓶中形成 之曱醇蒸散。當氮氣吹淨關閉且開始真空斜線上升,反應 燒瓶溫度增加到250°C,約60分鐘後,真空達到50-60 mTorr。當真空穩定,授拌器的搜拌速度增加到225 rpm且 反應保持在最大值3 - 4小時。監測授拌器的扭矩(讀數為1 8 〇 rpm)且於扭矩值達〜1〇〇 N/cm2反應通常即終止。聚合反應 為以移除熱源方式終止。終止頂置式攪拌器,且於關閉真 空前將之從反應燒瓶底部移除且以氮氣(n2)吹淨。於反應 燒瓶中形成之產物將之冷卻至外界溫度且移除反應容器, 於小心以鎚子打破玻璃後,回收產物。所分離聚合物產物 包含一 1,3-丙二醇與2-(1,1,2-三氟-2-(l,l,2,3,3,3-六氟_2- (王氣化丙氧基)丙氧基)乙氧基)間苯二甲酸二曱g旨之共聚 物’且對苯二甲酸二曱酯使用威力磨(Wiiey mui)以低溫磨 細(cryo-ground)(使用液態氮)為米白粉末。總產率為〜8〇_ 90%。WNMR (CDCl3/TFA-d, 700 MHz) : δ 8.25-7.90 (ArH-,m,主鏈),7.65 (ArH, s ,環化二聚體),618 150628.doc * 24 - 201127630 (-CF2-CFH-〇-, d ^ #J^) , 4.75-4.45 (COO-CH2- m , ^ 鏈),H7 ⑽-CH2-R,t_br〇ad,末端官能基),382(^ 〇偶_,t,主鏈 DPG)’2 45_2〇5(cH2_,m_)。 2 當壓製為薄膜,材料(對苯二甲酸二甲醋佔_量百分 比)當己烧與水液滴個別以圖3^3b所示加於其上,其: 現〜50。與〜1〇9。之接觸角。 下表2顯示ESCA/XPS資料。 表2 : c(原子百分比
實例3 : 1,3-丙二醇與5-(^,2-三氟_2_(全氟化丙氧基)乙氧 基)間苯二甲酸二曱酯之共聚合反應 對本一:甲酸一甲醋(DMT, 130 g,0.66 mol)、5-(1 12 -二 氟-2-(全氟化丙氧基)乙氧基)間苯二曱酸二曱醋與ι,3_丙二 醇(90.4 g ’ 1.19 mol ’對DMT為1.8當量)填入經預乾燥之 500 mL三頸圓底反應燒瓶。一頂置式攪拌器與蒸德濃縮器 附於反應燒瓶。反應燒瓶中反應物以50 rpm檀拌,且終反 應產物置於氮氣^(N2)吹淨環境,濃縮器則維持於23t:。 反應燒瓶内含物經將反應燒瓶抽真空降壓至1 〇〇 Torr之後 填充氮氣(N2)方式除氣三次。Tyzor®TPT催化劑[相對理論 150628.doc -25- 201127630 t δ 物產率加入5〇 ppm Ti,3tyzor=〇.96 g/mL]且於第— -人抽真空後加入。反應燒瓶浸入預熱(設定為16〇ec )金屬浴 中。反應燒瓶中固體可完全於l60〇c經2〇分鐘且攪拌速率 緩k增加到180 rpm下熔化。反應燒瓶溫度增加到2i〇°c並 保持於該溫度9 0分鐘以使大部分於蒸餾瓶中形成之甲醇蒸 散。當氮氣吹淨關閉且開始真空斜線上升,反應燒瓶溫度 增加到250°C,約60分鐘後,真空達到50_6〇 mTorr。當真 空穩定,攪拌器的攪拌速度增加到225 rpm且反應保持在 最大值3-4小時。監測攪拌器的扭矩(讀數為18〇 rpm)且於 扭矩值達〜100 N/cm2反應通常即終止。聚合反應為以移除 熱源方式終止。終止頂置式攪拌器,且於關閉真空前將之 從反應燒瓶底部移除且以氮氣(NO吹淨。於反應燒瓶中形 成之產物將之冷卻至外界溫度且移除反應容器,於小心以 鎚子打破玻璃後,回收產物。所分離聚合物產物包含一 1,3-丙一醇與5-(1,1,2-二氟-2-(全氟化丙氧基)乙氧基)間苯 —曱酸二甲酯之共聚物。對苯二曱酸二曱酯使用威利磨以 低溫磨細(使用液態氮)為米白粉末。總產率為〜8〇_9〇%。 W-NMR (CDCl3/TFA-d, 700 MHz) : δ 8.60 (ArH, s,主 鏈)’ 8.25-7.90 (ArH-,m,主鏈),7 65 (ArH,s,環化二聚 體)’ 6.10 〇CF2-CFH-〇-,d,側鏈),4.75-4.45 (COO-CH2-, m ’ 主鏈),3.95 (HO-CH2-R, t ’ 末端官能基),3 82 (_CH2_ 〇-CH2-,t,主鏈DPG),2.45-2.05 (-CH2-,m,主鏈)。 當壓製為薄膜,材料(對苯二甲酸二甲酯佔1〇重量百分 比)當己烷與水液滴個別以圖4a與4b所示加於其上,其呈 150628.doc •26· 201127630 現〜35°與〜93°之接觸角。 ESCA/XPS資料出現於下述表格3。 表3 實例 F(原子百分比) C(原子百分比) 〇(原子百分比) 聚對苯二甲酸丙二酯 / 73.3 26.7 (對照組) 實例3氟化共聚合物 9.1 67 24 【圖式簡單說明】 圖la是在一聚對苯二甲酸丙二酯之同元聚合物表面一己 烷珠(bead)之攝影圖。 圖lb是在一聚對苯二曱酸丙二酯之同元聚合物表面之水 珠之攝影圖。 圖2a是一聚對苯二甲酸丙二酯與一全氟化單體之共聚物 表面一己院珠之攝影圖。 圖2b是一聚對苯二甲酸丙二酯與一全氟化單體之共聚物 表面之水珠之攝影圖。 圖3a是一聚對苯二甲酸丙二酯與一全氟化單體之共聚物 表面一己烧珠之攝影圖。 圖3b是一聚對苯二曱酸丙二酯與一全氟化單體之共聚物 表面之水珠之攝影圖。 圖4a是一聚對苯二曱酸丙二酯與一全氟化單體之共聚物 表面一己烧珠之攝影圖。 150628.doc -27- 201127630 圖4b疋聚對苯二甲酸丙二酯與—全氟化單體之共聚物 表面之水珠之攝影圖。 圖 5 是 1,3-丙二醇與 5-(1,1,2-三氟-2-(l,l,2,3,3,3-六氟·2_ (全氟化丙氧基)丙氧基)乙氧基)間苯二曱酸二曱酯與對苯 二曱酸二甲酯之共聚物之一 W-NMR與一 19F-NMR掃描之 表示圖。 150628.doc -28-

Claims (1)

  1. 201127630 七、申請專利範圍: 1. 一薄膜由一共聚酯形成,包含一全氟化單體,其中該全 氟化單體含量為該共聚酯的百分之0至100重量百分比, 其中該薄膜呈現一超過60度己烷接觸角,以及一超過 110度之水接觸角。 2. 如申請專利範圍第1項之薄膜,其中該共聚酯係以式 (I)、(Π)、或(III)表示 150628.doc
    (II) 201127630
    (III) 其中,針對於⑴與(π), 每一R獨立地為Η、CVCw烷基、C5-C15芳香基、或 C6-C2〇芳香基烧基; 母一 R獨立地為Ci-Cig烧基、C5-C15芳香基、或C6-C20 芳香基烧基; 每一 X獨立地為〇或CF2 ; 每一 Y獨立地為〇或CF2 ; 每一 Z獨立地為η、Cl或Br ; 每一Rf1獨立地為(CF2)n,其中每一n獨立地為〇_1〇 ; 每一 Rf獨立地為(CF2)P ,其中每一ρ獨立地為〇_ i 〇, 其限制條件為當p是0,Y是CF2 ; 每一 q獨立地為0-10 ; m是 1-1〇,〇〇〇 ;以及 〜是 1-10,000 ; 以及其中,對於(III), 每—R獨立地為H、(VCw烷基' Km芳香基、或CV 150628.doc -2· 201127630 C20芳香基烧基; <15芳香基、或C6-C20 每一 R1獨立地為^/⑺烷基、C 芳香基烧基; 每一 X獨立地為〇或CF2 ; 每一 Y獨立地為0或CF2 ; 每一 Z獨立地為H、cuiBr,其限制條件為只有一2可 為Η ;以及 每一 Rf1獨立地為(CF2)n,其中每— η獨立地為〇1〇每一 Rf2獨立地為(CF2)P,其中每一p獨立地為〇_1〇, 其限制條件為當P為〇,γ是CF2 ; 每一 q獨立地為0-10 ; m是 1-1〇,〇〇〇 ;以及 w是 1-1〇,〇〇〇。 150628.doc
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