JPH01249747A - 含フッ素ジアリルイソフタレート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、高機能性含フツ素ジアリルイソフタレート
樹脂の原料として特に有用な新規含フツ素シアリルイソ
フタレート（５−ペルフルオロノネニルオキシジアリル
イソフタレート）およびその製造方法に関する。

従来の技術 ジアリルイソ７タレート樹脂は優れた電気性能、耐薬品
性および寸法安定性等の特性を有するので、高信頼性が
要求される電気電子部品や小型化、高性能化および精密
化等が要求される各種の機械部品等の材料としてエンジ
ニアリングプラスチックスの分野において汎用されてい
るばかりでなく、耐熱性の化粧板等の建築材料としても
多用されている。

しかしながら、該樹脂は撥水撥油性、防汚性および摺動
性等の点で劣るという欠点があるためにその改良が要請
されている。

発明が解決しようとする課題 この発明は、ジアリルイソフタレート樹脂のこのような
欠点を改良することによって該樹脂の付加価値を大幅に
高めるためになされたものである。

課題を解決するための手段 即ち本発明は、一般式（Ｉ）： （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す）で表わさ
れる含フツ素ジアリルイソ７タレートおよびその製造方
法に関する。

式（Ｉ）中のペルフルオロノネニル基ＣＩＦ１７は例、
ｔばヘキサフルオロプロペンの三量体Ｃｓ　Ｆ　ｌａか
ら誘導される残基である。

一般式（Ｉ）で表わされる含フツ素ジアリルイソフタレ
ートの製造方法は特に限定的ではないが、以下に記載す
る製法が好適である。

即ち、一般式（■）： ［式中、Ｘは塩素原子、水酸基または低級アルコキシ基
○ＣｎＨｚｎ＋ｔ（ｎは１〜４の数を示す）を示す］で
表わされる含フツ素イソフタル酸誘導体を一般式（■）
： ＣＨ，＝Ｃ（Ｒ）ＣＨ，ＯＨ（ＩＩ［）（式中、Ｒは前
記と同意義） で表わされるアリルアルコールと反応させる方法である
。

一般式（ｎ）においてＸが塩素原子を示す場合、即ち、
含フツ素イソフタル酸クロリドと該アリルアルコールと
の反応は脱酸剤の存在下でおこなう。

脱酸剤として好適なものは、取り扱いが容易な第三級ア
ミン、特にトリエチルアミン、ピリジン等であり、その
使用量は、生成するＨＣＱを中和するのに十分な量であ
り、通常は含フツ素イソフタル酸クロリドの２倍モルで
ある。

反応モル比は通常ｌ：２〜１：１０であり、反応温度は
一般的には０〜１００°Ｃである。

この場合、ジーＬ−ブチルフェノールもしくはハイドロ
キノン等の重合禁止剤を適宜使用してもよい。

一般式（Ｉ［）においてＸが水酸基を示す場合、即ち、
含フツ素イソフタル酸と該アリルアルコールとの反応は
酸触媒の存在下でおこなう。

酸触媒としては一般のエステル化触媒、例えば（ｉｉｔ
Ｅ酸、ｐ　−トルエンスルホン酸、スルホン酸型イオン
交換樹脂等を適宜使用すればよいが、硫酸またはｐ−ト
ルエンスルホン酸が好適である。

反応モル比は通常ｌ：２〜１：ｌＯであり、反応温度は
一般的には５０〜２００°Ｃ１好ましくは６０〜１５０
℃である。

この場合、所望により溶媒、例えばベンゼン、トルエン
、キシレンおよびメシチレン等の芳香族炭化水素、ジク
ロロエタン、四塩化炭素およびクロロホルム等のハロゲ
ン化炭化水素等を適宜使用してもよい。

一般式（Ｉ［）においてＸが低級アルコキシ基０ＣｎＨ
２ｎ＋＋（ｎは１〜４の数を示す）を示す場合、即ち、
含フツ素イソフタル酸ジエステルと該アリルアルコール
との反応は触媒と重合禁止剤の存在下でおこなう。

触媒としてはｐ−トルエンスルホン酸またはナトリウム
メトキシド等を使用すればよく、重合禁止剤としてはジ
−ｔ−ブチルフェノールまたはハイドロキノン等を使用
すればよい。

含フツ素低級アルキルエステルとしてはジメチルエステ
ル、メエルエチルエステル、ジエチルエステル、ジ−ｎ
−プロピルエステル、ジ−ミープロピルエステル、ジ−
ｎ−ブチルエステル、’；−ｉ−ブチルエステル、ジー
５ｅｃ−ブチルエステル等が例示されるが、ジメチルエ
ステルおよびジエチルエステル等が好適である。

反応モル比は通常ｌ：２〜１：ｌＯであり、反応温度は
一般的には５０〜１５０℃、好ましくは６０〜１２０°
Ｃである。

上記の製造法の出発原料として使用する一般式（Ｉ［）
で表わされる含フツ素イソフタル酸誘導体は、例えば次
の方法で調製することができる。

含フツ素イソフタル酸は、５−ヒドロキシイソフタル酸
にヘキサフルオロプロペンの三量体を過剰のアミンの存
在下で反応させることによって高収率で得られる。

含フツ素イソフタル酸クロリドは該含フツ素イソフタル
酸に塩化チオニル等の塩素化剤と反応させることによっ
て高収率で得られる。

さらに、含フツ素イソフタル酸ジエステルは該酸クロリ
ドをピリジンまたはトリエチルアミン等の塩基性触媒の
存在下で低級アルコールと反応させることよって得られ
る。

以下、本発明を実施例によって説明する。

実施例１ 温度計、冷却管および滴下漏斗を備えた反応容器内にア
リルアルコール６．４ｇ（０，１１モル）、トリエチル
アミン１１．１９（０，１１モル）、ハイドロキノン０
．１ｇおよびクロロホルム１５０＋ｎｆｆヲ入れ、該溶
液へ、５−ペルフルオロノネニルオキシイソフタル酸ク
ロリド３２．５９（０，０５モル）をクロロホルム５０
ｍｆｆに溶解した溶液を室温で撹拌しながら約３０分間
で滴下し、滴下終了後、系の温度が４０℃以上にならな
いようにして撹拌を約５時間続行した。

反応終了後、有機層を分取して水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムを用いて乾燥し、次いで分液した有機層をエバポレ
ーターを用いる蒸発処理に付すことによって化合物１ａ
を３１．０ｇ得た（収率８９゜６％）。

化合物Ｉａの物性を以下の表−１に示す。

実施例２ 水分除去手段を有する冷却管および温度計を備えた反応
容器内に５−ペルフルオロノネニルオキシイソフタル酸
６１．２９（０，１モル）、アリルアルコール２３．２
９（０，４モル）、ｐ−トルエンスルホン酸１．７ｇ（
０，０１モル）およびベンゼン３００ｍＱを入れ、撹拌
下で約２０時間加熱反応をおこない、生成水は共沸によ
って除去した。

反応終了後、有機層を分取して水洗を２回おこなった後
、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで分液した有機層をエ
バポレーターを用いる蒸発処理に付すことによって化合
物Ｉａを５９．４ｇ得た（収率８７％）。

実施例３ アリルアルコールの代わりにメタアリルアルコールを使
用する以外は実施例１と同様にして化合物Ｉｂを得た（
収率８５％）。

化合物Ｉｂの物性を以下の表−１に示す。

表−１゛ 発明の効果 高信頼性が要求される電気電子部品や小型化、高性能化
および精密化等が要求される各種の機械部品等の材料並
びに耐熱性の化粧板等の建築材料等して汎用されている
ジアリルイソフタレート樹脂の原料として本発明による
含フツ素ジアリルイソ７タレートを用いることによって
、該樹脂に撥水撥油性、防汚性および摺動性等の特性を
付与することができるので、この種の樹脂の付加価値を
大幅に高めることができる。

また、本発明による含フツ素ジアリルイソ７タレートは
ジアリルフタレート樹脂の表面改質剤、封止材料エポキ
シ樹脂の変性剤、ビニル系および繊維素系樹脂の可塑剤
、ゴムの添加剤等としての樹脂原料としても有用である
。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明による含フツ素ジアリルイ
ソフタレートＩａおよびＩｂの’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
（６０ＭＨｚ）である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す）で表わさ
   れる含フッ素ジアリルイソフタレート。 ２、一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｘは塩素原子、水酸基または低級アルコキシ基
   ＯＣ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１（ｎは１〜４の数を示す）
   を示す］で表わされる含フッ素イソフタル酸誘導体を一
   般式（III）： ＣＨ＿２＝Ｃ（Ｒ）ＣＨ＿２ＯＨ（III） （式中、Ｒは前記と同意義） で表わされるアリルアルコールと反応させることを特徴
   とする、請求項１に記載された含フッ素ジアリルイソフ
   タレートの製造方法。