TW201044387A - Process for producing optical recording medium and optical recording medium - Google Patents

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TW201044387A
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recording
recording medium
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Takeshi Miki
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Description

201044387 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光記錄媒體之劁谇 心取&方法，以及利用該製造 方法製造之光記錄媒體，係可較妊 J权紆地用於可追加記錄式光 記錄媒體者。 【先前技術】 於先如之使用紅色雷射之可4》女上 追力5己錄式光碟中，於記錄 Ο 層使用有機染料。 但，使用藍色雷射之可追加記錄式光碟中，由於無可昭 射藍色雷射之適合有機染料，因此正研討使用無機染料。 使用無機染料時，為得到充分反射率，或為藉由雷射照 射使熱放射’提案由多声膜开;#占兮從β , 曰膜心成δ己錄層（例如參照專利 獻1)。 又 先前技術文獻 專利文獻 © [專利文獻1]曰本特開2007-1573 14號公報 【發明内容】 旦’由多層膜形成記錄層時，多層膜之成膜需要時間， 且需要具備數個成膜室之高價成膜裝置。 Β 因此，光碟之製造成本增大。 種可降低光記錄媒體製 以及利用該製造方法製 為解決上述問題，本發明提供一 造成本之光記錄媒體之製造方法， 造之光記錄媒體， 己錄媒體之製造方法 本發明之第1光言 係製造包含形成 144640.doc 201044387 於基板上之記錄層及形成於記錄層上之光透射層之光記錄 媒體之方法。並且包含以下步驟：使用ho〕把材及/或 ⑽乾材1姆材，藉由賤鍍法，—面使氧氣與氮氣流 動，一面形成含有化及/或“與⑸與氧之記錄層。 根據上述本發明之第！光記錄媒體之製造方法，藉由錢 鍍法形成記錄層之步驟中，藉由使氧氣流動以外亦使氛氣 流動，可控制含有ΙηΛ/或“細與氧之記錄層中別盘氧 之結合狀態。藉此’可將記錄層之透射率及反射率控制成 期望之值。特別可提高記錄層之透射率’且降低反射率。 本發明之第2光記錄媒體之製造方法，係包含形成於基 板上之2層以上之記錄層、形成於各記錄層間之中間層、 及形成於2層以上記錄層上之光透射層之光記錄媒體之製 造方法。並且’ 2層以上記錄層中，至少於形成最位於光 透射層側之記錄層時’使用1〜〇3乾材及/或Sn〇2乾材、盘 崎材，II錢鑛法，—面使氧氣與氮氣流動，_面形成 記錄層。如此形成含有化及/或〜㈣與氧之記錄層。 /艮據上述本發明之第2光記錄媒體之製造方法，2層以上 己錄層中至^於形成最位於光透射層側之記錄層時，藉 由使氧氣流動以外亦使氮氣流動，可控制該記錄層中Pd^ 氧之結合狀態。藉此’可將記錄層之透射率及反射率控制 成期望之值’特別是較好提高透射率且降低反射率，最位 於光透射層側之記錄層t ’可提高透射率且降低反射率進 行控制。 本毛月之實她形悲之光記錄媒體，包含基板；記錄 144640.doc 201044387 層，其形成於該基板上，含有化及/或如與“與氧’氧含 ϊ杈In及/或Sn完全氧化時之化學計量組成為多；及光透射 層，形成於該記錄層上。 根據上述本發明之一實施形態之光記錄媒體，含有“及/ 或Sn與Pd與氧之記錄層之氧含量較化及/或Sn完全氧化時 之化學计置組成為多。藉此，至少一部份pd原子與氧原子 結合，藉由氧之含量等，可控制以與氧之結合狀態，可將 0 圯錄層之透射率及反射率控制成期望之值。 另，含有In及/或Sn與Pd與氧之記錄層，可只以丄層構成 5己錄層，與於記錄層採用無機材料之多層膜之情形相比， 可降低構成記錄層之層數。 根據本發明之光記錄媒體之製造方法，可將記錄層之透 射率及反射率控制成期望之值，特別是可提高記錄層之透 射率且降低反射率。 另，根據本發明之光記錄媒體，藉由氧之含量等，可控 ❹制Pd與氧之結合狀態，可將記錄層之透射率及反射率控制 成期望之值。 因此，根據本發明，可使記錄層之透射率及反射率最適 化 Λ現具有良好記錄特性之光記錄媒體。 並且本發明中，由於形成含有ιη及/或sn與pd與氧之 。己錄層，因此可只以丨層構成記錄層，因此可降低構成記 錄層之層數，降低光記錄媒體之製造成本。 【實施方式】 以下，對用以實施發明之最佳形態（以下稱為實施形態） 144640.doc 201044387 進行說明。 再者’說明按以下順序進行。 1 ·本發明之内容 2·第1實施形態 3. 第2實施形態 4. 變形例 5. 實驗例 <1.本發明之内容> 本發明之光記錄媒體之製g
Ik方法，在製造包含形成於基 板上之記錄層及形成於記錄層卜 筇層上之先透射層之光記錄媒體 時之於形成記錄層的步驟且右胜户 、有特徵。並且，形成該記錄層 之步驟中，使用Iri2〇3|&材及/戋u 夂/4bn02靶材、與pd靶材，藉 由濺鍍法，一面使氧氣與氮翁内叙 τ , 曰 虱轧流動，一面形成含有In及/或
Sn與Pd與氧之記錄層。 另，其他本發明之光記錄媒體之製造方法，係包含形成 於基板上之2層以上記錄層、形成於各記錄層間之中間 層、形成於2層以上記錄層上之光透射層之光記錄媒體之 製造方法。並且，在2層以上記錄層中，至少於形成最位 於光透射層側之§己錄層時之形成方法具有特徵。 至少形成最位於光透射層側之記錄層時，使用In2〇3把 材及/或Sn〇2靶材、與Pd靶材，藉由濺鍍法，一面使氧氣 與氮氣流動，一面形成記錄層。如此，形成含有“及/或Sn 與Pd與氧之記錄層。 本發明之光s己錄媒體係利用前述製造方法所製造之光記 144640.doc -6- 201044387 錄媒體，其包含基板、形成於基板上之記錄層、及形成於 記錄層上之光透射層。記錄層中，含有化及/或“與…與 乳，且氧含量較化及/或如完全氧化時之化學計量組成為 多。 本發明之光記錄媒體中，作為基板之材料，例如可使用 光碟等光記錄媒體通常使用之基板材料。具體言之，可舉 出聚碳酸酯樹脂等。 本發明之光記錄媒體中，光透射層即所謂稱作覆蓋戶之 層。 曰 §匕綠貝§孔或讀取資訊時 錄層照射雷射光。 作為光透射層之材料，可使用例如藉由紫外線照射使 UV樹脂（紫外線硬化樹脂）硬化者。 塗布UV樹脂（紫外線硬化樹脂）後，藉由照射紫外線使 uv樹脂硬化，可形成光透射層。 Ο 本發明之光記錄媒體中，記錄層含有InA/或如㈣與 氧。即，作為記錄層之構成，可考慮⑴含有化與酿氧之 構成’⑺含有Sn與Pd與氧之構成，(3)含有咖㈣與 =3種構成广及、氧之各成份含有率無特別 、疋可以疋任意含有率。 藉由改變記錄層之形成方法之原料或條件，可控 層各成份之含有率。藉由滅鑛法形成記錄層時，藉由改變' ^使用之乾材之組成、加於各乾材之電能、 動 之氣體的種類與流量等條件，可進行控制。 一動 144640.doc 201044387 由於本發明之光記錄媒體之記錄層含有In及/或Sn與Pd 與氧:因此藉由照射雷射光等，可改變被照射部份之反射 率藉此，可將反射率與反射率發生變化之周圍不同的部 份作為記錄標記形成，因此可對記錄層記錄資訊。 另 — 表明之光記錄媒體之記錄層，氧含量較In及/或
Sn兀王氧化時之化學計量組成為多。藉此，記錄層中含有 之原子中至少—部份pd原子與氧原子結合。並且藉由氧 3里等’可控制pd與氧之結合狀態’因此控制p歧氧之結 合狀態，可將記錄層之透射率及反射率控制成期望之值。 此日寸’ Z錄層中^Pd原子，為以pd原子單獨存在不與氧 原子結合者㈣’·⑴個氧原子結合者（pd〇)，·與2個氧原子 結合者（pdo2)之3種狀態。並且，根據氧含量，該等中存 在1種〜3種狀態。 不與氧原子結合狀態之_子之比例高時，金屬特性變 :’因此記錄層之透射率變低，記錄層之反射率變高。另 -方面，與氧原子結合狀態之以原子之比例高時，氧化物 特性變強，因此記錄層之透射率變高，記錄層之反射率變 藉由錢錢法形成含或s_pd與氧之記錄層時，若 使氧，流^，則可藉由氧氣之流量控制所形成記錄層中之 氧3里藉此，可控制記錄層中pd與氧之結合狀態。 但，只有氧氣或只有氧氣與Ar氣時，藉由控制記錄層中 Pd與氧之結合狀態雖可提高記錄層之透射率，但難以使記 錄層之反射率低於某程度（例如10%)。 144640.doc 201044387 與此相對’如本發明之製造方法，藉由使氧氣流動以外 亦使氮氣流動，不僅控制記錄層中“與氧之結合狀賤，提 高記錄層之透射率，還可使記錄層之反射率低於^程度 (例如10 /〇)。使氧氣流動以外亦使氮氣流，^ 』規察到 比起與2個氧原子結合之狀態_2)，與㈣氧原子結合狀 態（PdO)之pd原子有增加之傾向。 另，氧氣及氮氣之流量可為任意量，但£佳為使氧氣流 ϊ在10 seem〜100 sccm範圍，使氮氣流量在2 “咖〜5〇 seem範圍。 考慮到光記錄媒體大容量化時，若使記錄層為2層 (Dual)，則當然容量變成2倍。目前之光碟中，丄層構造日^ 之記錄容量為25 GB，2層構造時之記錄容量為5〇 Gb。 為實現記錄層為2層以上之多層光記錄媒體，控制光之 最入射側，即最位於光透射層側之記錄層之反射率及透射
率非#重要。藉由控制該記錄層之反射率及透射率，可於 基板側之其他記錄層進行良好記錄。 並且，使記錄層為2層以上時，光記錄媒體構成為進而 包含：形成於含基板與化及/或㈣㈣氧之記錄層間之工 層以上其他記錄層，及形成於各記錄層間之中間層。 其他本發明之光記錄媒體之製造方法，形成2層以上記 錄層中，至；於形成最位於光透射層之記錄層時，藉由濺 鐘法，-面使氧氣與氮氣流動，一面形成含有InA/或⑽
Pd與氧之記錄層。 藉此，可將該記錄層之透射率及反射率控制成期望之 144640.doc 201044387 值°㈣㈣位於光透射層側之記錄層可提高透射率且降 低反射率較佳，藉由—面使氧氣與氮氣流動…面形成記 錄層’可提高透射率且降低反射率進行控制。 再者1於2層以上記錄層中，最位於光透射層側之& 錄層以外之1層以上其他記錄層之構成及形成方法無特 限定。 與最位於光透射層側者相同，可將其他記錄層作為含化 及/或Sn與Pd與氧之記錄層，#可作為完全不同材料或記 錄方式之記錄層，任一者都可。 與最位於光透射層側之記錄層相同，將其他記錄層作為 含In及/或Sn與Pd與氧之記錄層時’可增大可追加記錄式 記錄之記錄容量。 另，將其他記錄層作為含化及/或“與以與氧之記錄層 時’可使氧氣流動而使氮氣不流動之方式形成，亦可使氧 氣及氮氣流動之方式形成’任—者都可。再者，使氧氣及 氣氣流動時’在最位於光透射層側之記錄層與其他記錄 層，藉由改變各氣體流量，亦可改變各記錄層之透射率及 反射率。 本發明中，含有“及/或“與“與氧之記錄層，特別適 用於只記錄一次之進行可追加記錄式記錄之記錄層。 另’该含有In及/或sn與pd與氧之記錄層可只以丨層構成 記錄層’與於記錄層採用無機材料之多層膜之情形相比， 可降低構成a己錄層之層數。藉此，可降低光記錄媒體之材 料成本及製造成本，低價構成光記錄媒體。 144640.doc -10- 201044387 本發明之光記錄媒體可以是作為诵當 疋》F两通吊先S己錄媒體所採用 之盤形狀，亦可以是卡片形狀等其他形狀。 <2.第1實施形態> . 將本發明之光記錄媒體之第1實施形態之概要構成圖（剖 . 面圖）顯示於圖1。 該光記錄媒體1G’於基板1上形成用以進行資訊記錄之 記錄層2，於記錄層2上形成光透射層3。 〇 光記錄媒體10可以是與先前之光碟相同之盤形狀。另， 光記錄媒體10亦可採用卡片形狀等其他形狀。 作為基板1之材料，例如可使用聚碳酸酯樹脂。 作為光透射層（即覆盍層）3之材料，例如可使用藉由紫 外線照射U V樹脂（紫外線硬化樹脂）使其硬化者。 本實施形態之光記錄媒體1〇,特別係記錄層2^nA/或
Sn與Pd與氧且氧含量較匕及/或^完全氧化時之化學計量 組成為多。 〇 記錄層2之構成如前述，係⑴含有Ir^pd與氧之構成， (2)含有Sn與Pd與氧之構成，（3)含有^與如與“與氧之構 成之3種構成中任一者。 如此記錄層2可例如藉由濺鍍法，使用Ιη203靶材及/或
Sn02乾材與Pd㈣’藉由使氧氣及氮氣流動而形成。 另，記錄層2之氧含量較“及/或如完全氧化時之化學計 量組成為多，因此記錄層2中含有之Pd原子中至少一部份 Pd原子與氧原子結合。 藉由該氧含量等，可控制Pd與氧之結合狀態，因此控制 144640.doc 201044387
Pd與氧之結合狀態，可將記錄層2之透射率及反射率控制 成期望之值。 本實施形態之光記錄媒體1〇，例如可如下製造。 f先，準備例如包含聚碳酸酯之基板丨。使光記錄媒體 1 〇成為例如盤形狀時，製作於表面形成尋軌用溝之基板 1 ° 接著，藉由濺鍍法，使用Iri2〇3靶材及/或§11〇2靶材與pd 靶材，一面使氧氣及氮氣流動’一面於基板丨上形成含有 In及/或Sn與Pd與氧之記錄層2。 接著，於§己錄層2上塗布UV樹脂（紫外線硬化樹脂）。其 後，藉由照射紫外線使1；¥樹脂硬化，可形成光透射層3。 如此，可製造圖1所示之光記錄媒體丨〇。 根據本實施形態之光記錄媒體1〇，記錄層2之氧含量較
In及/或Sn完全氧化時之化學計量組成為多。藉此，記錄層 2中含有之Pd原子中，至少一部份pd原子與氧原子結合。 並且’藉由氧含量等’可控制氧之結合狀態，因此控 制Pd與氧之結合狀態，可將記錄層2之透射率及反射率控 制成期望之值。 另，含有In及/或Sn與Pd與氧之記錄層2 ,可只以丨層構 成記錄層2 ’與於記錄層採用無機材料之多層膜之情形相 比，可降低構成記錄層2之層數。藉此，彳降低光記錄媒 體10之材料成本及製造成本，可低價構成光記錄媒體^。 根據本實施形態之光記錄媒體1〇之前述製造方法，藉由 賤鍍法’-面使減錢氣流動，—面形成含杨及/杨 144640.doc 201044387 與Pd與氧之記錄層2。 如此’藉由使氧氣流動以外亦使氮氣流動，可控制記錄 層2中Pd與氧之結合狀態。藉此，可將記錄層2之透射率及 反射率控制成期望之值。特別可提高記錄層2之透射率， 且降低反射率。 因此’根據本實施形態’可使記錄層2之透射率及反射 率最適化，貫現具有良好記錄特性之光記錄媒體1 0。 〇 上述實施形態之光記錄媒體1〇，雖係由基板1與記錄層2 與光透射層3構成，但本發明中，若在不太增加光記錄媒 體成本之範圍内，亦可具有其他層。 <3.第2實施形態> 將本發明之光記錄媒體之第2實施形態之概要構成圖（剖 面圖）顯示於圖2。 該光記錄媒體20於基板1與光透射層3之間形成2層記錄 層2、5。於2層記錄層2、5間形成中間層4。 〇 其他構成與圖1所示之第1實施形態之光記錄媒體10相 同。 2層記錄層中’最位於光入射層側者，即最位於光透射 層3側之上層記錄層5變成以層，下層記錄層2變成l〇層。 基板1及光透射層3之材料，可使用與第1實施形態之光 記錄層10相同之材料。 作為中間層4之材料，使用對記錄層2、5進行記錄之雷 射光透射率高之材料。例如可使用藉由紫外線照射使W 樹脂（紫外線硬化樹脂）硬化者β 144640.doc -13- 201044387 本實施形態之光記錄媒體20中，特別是最位於光透射層 3側之記錄層（L1層）5含有In及/或Sn與Pd與氧，氧含量較in 及/或Sn完全氧化時之化學計量組成為多。 藉此，記錄層（L1層）5之構成，係前述之（1)含有in與Pd 與氧之構成’（2)含有Sn與Pd與氧之構成，（3)含有In與Sn 與Pd與氧之構成之該3種構成中任一者。 例如藉由濺鍍法，藉由使用In2〇3靶材及/*Sn〇2靶材、 與Pd靶材’使氧氣及氮氣流動，可形成記錄層丨層）5。 另’根據記錄層（L1層）5之氧含量等，可控制pd與氧之 結合狀態’因此控制Pd與氧之結合狀態，可將記錄層（L J 層）5之透射率及反射率控制成期望之值。 再者，下層記錄層（L0層）2之構成無特別限定。 與上層之記錄層（L1層）5相同，可作為含“及/或如與“ 與氧之記錄層，亦可作為完全不同材料或記錄方式之記錄 層，任一者都可。 與上層s己錄層（L1層）5相同’將下層記錄層（]1〇層）2作為 3 In及/或sn與Pd與氧之記錄層時，可使可追加記錄式記 錄之記錄容量增加2倍。 下層5己錄層（L0層）2作為與上層記錄層（1^層）5完全不同 記錄方式之記錄層（例如再生專用記錄層或可改寫之記錄 層）時，可以2層記錄層2、5實現不同功能。 本實施形態之光記錄媒體20例如可如下製造。 百先’準冑包含聚碳酸醋之基板1。使光記錄媒體喊 為例如盤形狀時’製作表面形成尋軌用溝之基板i。 144640.doc -14- 201044387 接著，藉由濺鍍法於基板丨上形成下層記錄層（1〇層）2。 接著，於記錄層（L0層）2上塗布uv樹脂（紫外線硬化樹 脂）。其後，藉由照射紫外線使uv樹脂硬化，可形成中間 ，層4 〇 接著，藉由濺鍍法，使用In2〇3靶材及/或811〇2靶材與pd 靶材，一面使氧氣及氮氣流動，一面於中間層4上形成含 有In及/或Sn與Pd與氧之記錄層（[丨層”。 〇 接著，於記錄層（L1層）5上塗布UV樹脂（紫外線硬化樹 脂）。其後，藉由照射紫外線使1；¥樹脂硬化，可形成光透 射層3。 如此可製造圖2所示之光記錄媒體2〇。 此處’使下層記錄層（L0層）2為含有化及/或如與pd與氧 之記錄料，可使氧氣流動而使氮氣不流動之方式形成， 亦可使氧氣及氮氣流動之方式形成，任一者都可。 再者，使氧氣及氮氣流動而形成L〇層2時，在“層2與 ❹ U層5 ’藉由改變各氣體流量’亦可改變各記錄層2、化 透射率及反射率。 根據上述本實施形態之光記錄媒體2〇，記錄層層）5 之氧含量較In及/或％完全氧化時之化學計量組成為多。藉 此，記錄層（!^層）5中含有之“原子中至少一部份“原^ 與氧原子結合。並且’藉由氧之含量等，可控制pd與氧之 結合狀態，因此控制Pd與氧之結合狀態，可將記錄層（li 層）5之透射率及反射率控制成期望之值。 另，含有In及/或Sn與Pd與氧之記錄層（11層）5，可只以工 144640.doc 201044387 層構成記錄層5 ’與於記錄層採用無機材料之多層膜之情 形相比’可降低構成記錄層5之層數。藉此，可降低光記 錄媒體20之材料成本及製造成本’低價構成光記錄媒體 20 °下層記錄層（LG層）2亦含有化及/或“與㈣氧構成 時’可降低2層記錄層2、5中所構成之層數，因此可進而 降低光記錄媒體20之材料成本及製造成本。 根據本實施形態之光記錄媒體2G之製造方法，藉由_ 法 面使氧氣及氮氣流動，一面形成含有in及/或Sn與 Pd與氧之記錄層（L1層）5。 如此，藉由除使氧氣流動以外亦使氮氣流動，可控制記 錄層⑹層）5中Pd與氧之結合狀態。藉此，可將記錄層㈦ 層）5之透射率及反射率控制成期望之值。特別是以提高透 射率且降低反射率較佳，記錄層（u)5中，可提高透射率 且降低反射率進行控制。 因此，根據本實施形態，可使㈣是^li層之記錄層 5之透射率及反射率最適化，可實現具有2層記錄層2、5, 且具有良好§己錄特性之光記錄媒體2 〇。 上述實施形態之光記錄媒體2〇雖係由基板丨、記錄層2、 中間層4、記錄層5、光透射層3之5層構成，但本發明中， 若在不太增加光記錄媒體成本之範圍内，亦可具有其他 層。 <4.變形例> 第2貫施形態中，構造成為使記錄層具有2層，但本發明 亦可構造成為使記錄層具有3層以上。 144640.doc 201044387 作為第2實施形態之變形例，將使記錄層具有3層構造之 光記錄媒體之剖面圖顯示於圖3。 如圖3所示，該光記錄媒體30於基板1與光透射層3之間 开々成3層記錄層2、5、6。於3層各記錄層2、5、6之間形成 中間層4。3層記錄層2、5、6中’最位於光透射層3側之最 上層之記錄層6變成L2層，正中之記錄層5變成L1層，最下 層之記錄層2變成L0層。 0 該構成之情形，至少對成為L2層之最上層記錄層6，使 用以如第2實施形態之記錄層（L1層）5所說明般之本發明之 構成及製造方法即可。 <5.實驗例> [實驗1 ·記錄層之反射率及透射率隨氧氣流量之變化] 實際製作光記錄媒體，研究記錄層之反射率及透射率。 首先’改變氧氣之流量’形成各個記錄層，研究記錄層 之反射率及透射率之變化。 Q (試料1) 如下製作圖1之光記錄媒體1 〇。 使用盤形狀之厚度1 ·1 mm之聚碳酸酯樹脂作為基板1。 接著，藉由濺鏟法，於該基板1上以膜厚4〇 nm形成 Sn_Pd_〇膜作為記錄層2。此時，使用In2〇3、Sn〇2、⑼之3 執材作為靶材。3 ’使氬氣流量為70 seem，使氧氣流 量為30 sccm 面使各個氣體流動，一面控制各乾材之 濺鍍電力，從而調整組成，進行濺鍍。組成以 In2〇3:Sn〇2=9:1 ’（In2〇3 + Sn〇2):Pd=8:2之方式進行調整。 144640.doc •17- 201044387 如此，形成In-Sn-Pd-Ο膜之單層記錄層2。 再者，於記錄層2上塗布紫外線硬化樹脂，藉由紫外線 照射使之硬化’藉此形成厚度丨00 μιη之光透射層3，為盤 形狀，製作圖1所示剖面構造之光記錄媒體1〇。將其稱為 光記錄媒體10之試料1。 (試料2) 使氬軋之流量為60 seem，使氧氣流量為40 sccm，其他 與試料1相同，製作圖丨所示構造之光記錄媒體丨〇，將其稱 為光記錄媒體1 〇之試料2。 (試料3) 使氬氣之流量為50 seem，使氧氣流量為5〇 sccm，其他 與試料1相同，製作圖丨所示構造之光記錄媒體1〇，將其稱 為光記錄媒體10之試料3。 (反射率及透射率之測定） 對所製作之試料1〜試料3之各試料照射雷射光，測定各 個記錄層2之反射率及透射率。 作為測定結果，將形成記錄層2時，記錄層2之反射率r 及透射率T隨氧氣流量（3〇〜5〇 sccm)2變化顯示於圖4。 根據圖4可知，隨著氧氣（〇2)流量增大，記錄層2變透 明，可提高透射率T。 另方®反射率R為丄〇%以上，可矣〇無法使反射率減 小至小於10%。 可知In-Sn-Pd-0膜藉由如此控制成膜 控制透射率T，但反射料之控制較難。里 144640.doc -18- 201044387 [實驗例2.記錄層之反射率及透射率隨氮氣流量之變化] 接者’除使氧氣流動外亦使氮氣流動而形成記錄層，样 由氮氣之流量變化研究記錄層之反射率及透射率變化。 (試料4 ;實施例） 使氬氣之流量為70 sccm，氧氣流量為3〇 sccm，氮氣流 量為2 seem’ -面使各氣體流動，—面控制各#材之_ 電力，從而調整組成進行濺M。其他與實驗i之試料_ 同，製作圖1所示構造之光記錄媒體1G。將其稱為光記錄 媒體10之試料4。 (試料5 ;實施例） 使氮1氣之》’比ϊ為5 seem，J也士士刺/i上 八他興忒枓4相同’製作圖丄所 示構造之光記錄媒體10。將直穑兔水 ，、袼為先圮錄媒體10之試料 (試料6 ;實施例） ❹ 使氤氣之流量為1〇sccm，其他與試料4相同，製作^ 所示構造之光記錄媒體1〇。將其 肝其％為先記錄媒體1〇之試料 6 〇 (試料7 ;實施例） 使氛氣之流量為30 sccm，其 、他興5式枓4相同，匍柞圖i 所示構造之光記錄媒體10。將其 1作圚 7。 、冉為光記錄媒體10之試料 (反射率及透射率之測定、評估） 與實驗1相同地測 關於所製作之試料4〜試料7之各$料 定記錄層2之反射率及透射率。 144640.doc *19- 201044387 作為測定結果，將形成記錄層2時，記錄層2之反射率反 及透射率T&氮氣流量（〇〜3〇 secm)之變化顯示於圖$。再 者’將圖4所示之試料以测定值作為不使氮氣流動時（流 量0 seem)之值，一併顯示於圖5。 根據圖5，隨著使氮氣（n2)之流量增大，透射率變高， 反射率變低。 间 P可头藉由改變氮氣之流量，同時控制記錄層2之反 射率及透射率變得容易。 此處，關於實驗！之試料1與實驗2之試料6之光記錄媒體 之各試料，藉由使用XPS，測定pd_〇與pd〇2之3種狀態 之比例，作為記錄層2表面附近之Pd原子之狀態。 測定結果顯示於表1。 [表1] 試料 編號 Ar (seem) 〇2 — (seem) n2 (seem) Pd (%) 1 70 30 — 0 6 70 30 10 0
=们，使氧氣及氮氣流動之試料6，比起使氧氣流動 之试料！，Pd〇狀態之比例增加’ Pd〇2狀態之比例減少。 由該結果推測，僅以氧氣之流量較難控制記錄層之反射 率及透射率’ II由使氮氣流動，可控制記錄層之反射率及 透射率。 上述貫驗例之各試料雖係只形成!層記錄層2之情形，但 144640.doc -20- 201044387 形成2層以上記錄層之情形亦相同，藉由控制氧氣流量及 氮氣流量，可控制記錄層之反射率及透射率。 使記錄層成為2層以上時，最位於光透射層側之記錄層 之透射率為60%以上較佳。但若該記錄層之透射率過高， 則記錄感度變差，因此透射率為9〇%以下較佳。並且最位 於光透射層側之記錄層之反射率在4〜8%左右較佳。取
觀察此次所製作之試料，不使氮氣流動時（實驗υ，藉 由增加氧氣流#，可得到透射#良好者，但反射率升高。 若降低反射率，進而使氧氣流量增多時，透射率變得過 高，因此記錄感度大為惡化，抖動亦惡化。 一另-方面’氧氣為充分狀態，進而亦加入使氮氣流動時 (實驗2)，反射率、透射率之控制都容易。 使氮氣流量為30 sccm，關於試料7之光記錄媒體，可得 到透射率65.4%、反射率68%，可知具有作為具有2層記錄 層之Dual光碟之光透射層側之記錄層（Li)之良好特性。 、、該試料7之光記錄媒體中，相同測定連續5執道之第3軌 乙之抖動，在底部得到4·6%。即，可知具有非常良好之記 錄特性。 士此可知使氧氣流動以外亦使氮氣流動，形成記錄 θ '對衣作具有2層以上記錄層之光記錄媒體非常有用。 並且，由上述結果可知，抖動亦上升，製造只有丨層記 錄層之光記錄媒體時當然亦有效。 ° 本發明不限於上述實施形態，在不脫離本發明主旨之範 圍内可獲得其他各種構成。 I44640.doc -21 - 201044387 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之光記錄媒體之第1實施形態之概要構成圖 (剖面圖）。 圖2係本發明之光記錄媒體之第2實施形態之概要構成圖 (剖面圖）。 圖3係本發明之光記錄媒體之第2實施形態之變形例之概 要構成圖（剖面圖）。 圖4係顯示記錄層之反射率汉及透射率了隨氧流量變化之 圖。
圖5係顯示記錄層之反射率R 及透射率τ隨氮流量變化之 圖。 【主要元件符號說明】 1 基板 2 記錄層 3 光透射層 4 中間層 5 ,記錄層 6 記錄層 10 光記錄媒體 20 光記錄媒體 30 光記錄媒體 R 反射率 Τ 透射率 144640.doc

Claims (1)

  1. 201044387 七、申請專利範圍： 1 · -種光記錄《之製造方法’其係製造包含形成於基板 上之記錄層及形成於記錄層上t光透射層之光記錄媒 體， 該方法包含以下步驟：使用In2〇3靶材及/或如〇2靶 材、與Pd&材’藉由滅鍍法’—面使氧氣與氮氣流動， 一面形成含有In及/或Sn與pd與氧之記錄層。 2. 〇 一種光記錄媒體之製造方法，其係製造包含形成於基板 上之2層以上記錄層、形成於各前述記錄層間之中間 層、形成於前述2層以上記錄層上之光透射層之光記錄 媒體，於該方法中： 則述2層以上記錄層中，至少於形成最位於前述光透 射層側之前述記錄層時，使用In2〇3靶材及/或“…靶 材、與Pd靶材，藉由濺鍍法，一面使氧氣與氮氣流動， 一面形成含有In及/或Sn與Pd與氧之前述記錄層。 Q 3 · 一種光記錄媒體，其包含： 基板； S己錄層，其形成於前述基板上，含有化及/或如與…與 氧，且岫述氧之含量較前述“及/或前述Sn完全氧化時之 化學計量組成為多；及 光透射層’其形成於前述記錄層上。 4.如凊求項3之光記錄媒體，其進而包含形成於前述基板 與前述記錄層間之丨層以上其他記錄層，以及分別形成 於七述記錄層與各前述其他記錄層間之中間層。 144640.doc 201044387 5.如請求項4之光記錄媒體，其中前述其他記錄層含有In及/ 或Sn與Pd與氧。 144640.doc
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