CN102027541A - 制造光学记录介质的方法以及光学记录介质 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种制造光学记录介质的方法，其能够降低光学记录介质的制造成本。具体而言，提供了一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括基板(1)、形成在基板(1)上的记录层(2)以及形成在记录层(2)上的透光层(3)，记录层包含In和/或Sn、并包含Pd和氧，所述方法包括：在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成所述记录层的步骤。

Description

制造光学记录介质的方法以及光学记录介质
技术领域
本发明涉及制造光学记录介质的方法以及通过该制造方法制造的光学记录介质，且本发明适用于可记录光学记录介质。
背景技术
在现有的使用红色激光的可记录光盘中，已经针对记录层使用了有机染料。
但是，在使用蓝色激光的可记录光盘中，因为并不存在蓝色激光可照射的适当有机染料，故已经考虑使用无机材料。
在使用无机材料的情况下，为了获得充分的反射率，并散发因激光照射而产生的热量，已经提出形成由多层膜构成的记录层(例如，参考专利文献1)。
[专利文献1]：日本未审查的专利公开号2007-157314
发明内容
但是，当形成多层膜的记录层时，需要一定时间来进行多层膜的膜形成，并且需要包括数个膜形成室的高成本膜形成装置。
因此，光盘的制造成本会提高。
为了解决上述问题，本发明提供了一种制造光学记录介质的方法，其能够降低光学记录介质的制造成本，并提供了一种通过该制造方法而制造得到的光学记录介质。
本发明的制造光学记录介质的第一方法是一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的记录层以及形成在所述记录层上的透光层。并且，该制造光学记录介质的方法包括：在允许氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层的步骤。
根据本发明的上述制造光学记录介质的第一方法，可通过在利用溅射法来形成记录层的步骤中除了氧气之外还允许氮气流过，来对包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层中的Pd与氧的键合状态进行控制。因此，能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。具体而言，能够将记录层的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。
本发明的制造光学记录介质的第二方法是一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的两个或更多个记录层、形成在各个所述记录层之间的中间层以及形成在所述两个或更多个记录层上的透光层。并且，至少在形成所述两个或更多个记录层当中最接近所述透光层布置的所述记录层时，在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的所述记录层。
根据本发明的上述制造光学记录介质的第二方法，至少在形成两个或更多记录层当中最接近透光层布置的记录层时，可通过除了氧气之外还允许氮气流过，来对该记录层中的Pd与氧的键合状态进行控制。因此，能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值，具体而言，能够将最接近透光层布置的记录层(在该记录层中优选地将透射率设定的较高，并将反射率设定的较低)中的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。
根据本发明的实施例的一种光学记录介质包括：基板；形成在基板上的记录层，其包含In和/或Sn，并包含Pd和氧，并且其具有的氧含量高于在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份；以及形成在记录层上的透光层。
根据本发明的实施例的上述光学记录介质的结构，包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层具有的氧含量高于在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份。因此，氧原子被键合至Pd原子中的至少一部分，可基于氧含量等对Pd与氧的键合状态进行控制，并且能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。
此外，包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层可仅由一层构成，由此相较于采用无机材料的多层膜作为记录层的情况，能够减少构成记录层的层数。
根据本发明的制造光学记录介质的方法，能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。具体而言，能够将记录层的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。
此外，根据本发明的光学记录介质，可基于氧含量等来控制Pd与氧的键合状态，并能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。
因此，利用本发明，能够通过优化记录层的透射率和反射率来实现具有优良记录特性的光学记录介质。
此外，在本发明中，因为形成了包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层，故能够仅由一层来构成记录层，由此能够通过减少构成记录层的层数来降低光学记录介质的制造成本。
附图说明
图1是本发明的光学记录介质的第一实施例的示意结构视图(剖视图)。
图2是本发明的光学记录介质的第二实施例的示意结构视图(剖视图)。
图3是本发明的光学记录介质的第二实施例的改变示例的示意结构视图(剖视图)。
图4是示出记录层的反射率R和透射率T基于氧的流率而变化的视图。
图5是示出反射率R和透射率T基于氮的流率而变化的视图。
具体实施方式
以下，将对实现本发明的优选实施方式(以下称为实施例)进行详细描述。
此外，将以下述顺序进行描述。
1.发明概述
2.第一实施例
3.第二实施例
4.改变示例
5.实验示例
<1.发明概述>
本发明的制造光学记录介质的方法的特征在于：在制造包括形成在基板上的记录层以及形成在记录层上的透光层的光学记录介质时，形成记录层的步骤。并且，在该形成记录层的步骤中，通过使用溅射法，在允许氧气和氮气流过的情况下使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层。
此外，本发明的制造光学记录介质的另一种方法是制造下述光学记录介质的方法：该光学记录介质包括形成在基板上的两个或更多个记录层、形成在各个记录层之间的中间层、以及形成在所述两个或更多个记录层上的透光层。并且，另一种制造光学记录介质的方法的特征在于，至少在两个或更多个记录层中最接近透光层布置的记录层的形成方法。
至少在形成最接近透光层布置的记录层时，通过使用溅射法，在允许氧气和氮气流过的情况下使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，来形成记录层。由此，形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层。
本发明的光学记录介质是通过上述制造方法制造的光学记录介质，并包括：基板、形成在基板上的记录层、以及形成在记录层上的透光层。记录层包含In和/或Sn，并包含Pd和氧，并且记录层具有的氧含量高于在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份。
在本发明的光学记录介质中，例如可以使用通常用于诸如光盘之类的光学记录介质的基板材料作为本发明的基板的材料。具体而言，可以使用聚碳酸酯树脂等。
在本发明的光学记录介质中，透光层是所谓覆层。
在记录信息和读取信息时，从透光层(覆层)一侧向记录层发射激光。
可以使用通过紫外线照射而固化的UV树脂(紫外线固化树脂)作为用于透光层的材料。
在涂布了UV树脂之后，可通过利用紫外线照射使UV树脂固化来形成透光层。
在本发明的光学记录介质中，记录层包含In和/或Sn，并包含Pd和氧。换言之，认为记录层的结构可以是三种类型，即(1)包含In、Pd和氧的结构，(2)包含Sn、Pd和氧的结构，以及(3)包含In、Sn、Pd和氧的结构。In和/或Sn，Pd和氧各个成份的含量并无特别限定，而可以是任意含量。
可通过改变形成记录层的方法中的材料和条件来控制记录层各个成份的含量。在通过使用溅射法来形成记录层的情况下，可通过改变所使用的靶的成份、施加至各个靶的电量、以及在形成记录层时诸如流过的气体的类型和流率之类的条件，来控制记录层各个成份的含量。
因为在本发明的光学记录介质中的记录层包含In和/或Sn，以及Pd和氧，故能够通过照射激光等，改变被照射部分的反射率。因此，因为被改变了反射率并且该反射率与周围部分不同的部分可被形成为记录标记，故能够在记录层上记录信息。
此外，本发明的光学记录介质中的记录层所具有的氧含量高于在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份。因此，氧原子被键合至记录层中包含的Pd原子中的至少一部分Pd原子。并且，因为可基于氧含量等来对Pd与氧的键合状态进行控制，故能够通过控制Pd和氧的键合状态来将记录层的透射率和反射率控制为预定值。
此时，在记录层中的Pd原子中，单个Pd原子有三种存在状态，即没有键合至氧原子(Pd)，键合至一个氧原子的Pd原子(PdO)，以及键合至两个氧原子的Pd原子(PdO2)。此外，基于氧含量，存在三种状态中的一至三种。
当未键合至氧原子的Pd原子的比率较高时，因为金属特性变的较强，故记录层的透射率降低，并且记录层的反射率提高。同时，当键合至氧原子的Pd原子的比率较高时，因为氧化物特性变的较强，故记录层的透射率提高，并且记录层的反射率降低。
当通过使用溅射法在形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层时使得氧气流过的情况下，可基于氧气的流率来控制要形成的记录层中的氧含量。因此，能够控制记录层中Pd与氧的键合状态。
但是，在仅使用氧气或仅使用氧气与Ar气的情况下，尽管能够通过控制记录层中Pd与氧的键合状态来提高记录层的透射率，但要使记录层的反射率降低至低于特定水平(例如，10％)则较为困难。
此外，像本发明的制造方法那样，通过除了氧气之外还使得氮气流过，通过控制记录层中Pd与氧的键合状态，不仅能够提高记录层的透射率，还能够将记录层的反射率降低至低于特定水平(例如，10％)。在除了氧气之外还允许氮气流过的情况下，发现存在键合至一个氧原子的Pd原子(PdO)的数量变的多于键合至两个氧原子的Pd原子(PdO2)的数量的趋势。
此外，可以将氧气和氮气的流率设定至任意量，但更优选地是将氧气的流率设定在大于等于10sccm至小于等于100sccm的范围内，并将氮气的流率设定在大于等于2sccm至小于等于50sccm的范围内。
在考虑增大光学记录介质的容量的情况下，当形成两个(双)记录层时，容量自然增加一倍。在目前的光盘中，一层结构的记录容量为25GB，而两层结构的记录容量是50GB。
为了实现其中形成有两层或更多记录层的多层光学记录介质，控制最接近光入射侧布置(即，最接近透光层布置)的记录层的反射率和透射率极其重要。通过控制该记录层的反射率和透射率，能够对位于基板一侧的其他记录层执行良好的记录。
并且，在形成两个或更多记录层的情况下，光学记录介质还包括形成在基板与所述包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层之间的其他一个或更多记录层，以及形成在各个记录层之间的中间层。
在本发明的另一制造光学记录介质的方法中，至少在形成两个或更多个记录层当中最接近透光层布置的记录层时，在使得氧气和氮气流过的情况下通过使用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层。
因此，能够将该记录层的透射率和反射率控制为预定值。具体而言，在该最接近透光层布置的记录层中，优选地将透射率设定的较高，并将反射率设定的较低，并能够通过在允许氧气和氮气流过的情况下形成记录层来将透射率控制的较高，并将反射率控制的较低。
此外，在两个或更多个记录层中，除了最接近透光层布置的记录层之外的其他一个或更多个记录层的结构和形成方法并无特别限制。
可以与最接近透层布置的记录层类似地将其他记录层形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层，或者，可以将其他记录层无偏好地形成为由完全不同材料制成并具有完全不同记录方法的记录层。
在与最接近透光层布置的记录层类似地将其他记录层形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层的情况下，能够提高可记录记录介质的记录容量。
此外，在将其他记录层形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层的情况下，可通过允许氧气流过但不允许氮气流过来形成记录层，或可以无偏好地通过允许氧气以及氮气流过来形成记录层。此外，在允许氧气以及氮气流过的情况下，通过在最接近透光层布置的记录层与其他记录层之间改变各种气体的流率，也能够改变各个记录层中的透射率和反射率。
在本发明中，具体而言，包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层适用作其中仅执行一次记录的记录操作的记录层。
此外，该包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层可仅由一层构成，由此相较于采用多层无机材料膜作为记录层的情况，能够减少构成记录层的层数。由此，能够通过降低光学记录介质的材料成本和制造成本来以较低成本构成光学记录介质。
尽管可将本发明的光学记录介质形成为常规光学记录介质所采用的盘状，但也能够将光学记录介质形成为诸如卡状之类的其他形状。
<2.第一实施例>
图1示出了本发明的第一实施例的光学记录介质的示意性结构视图(剖视图)。
在光学记录介质10中，用于记录信息的记录层2形成在基板1上，并且透光层3形成在记录层2上。
光学记录介质10可以形成为类似于现有光盘形状的盘状。此外，对于光学记录介质10，也可以采用诸如卡状的其他形状。
例如可以使用聚碳酸酯树脂作为用于基板1的材料。
例如可以使用通过紫外线照射而固化的UV树脂(紫外线固化树脂)作为用于透光层(所谓覆层)3的材料。
在本发明的光学记录介质10中，具体而言，记录层2包含In和/或Sn，并包含Pd和氧，并且记录层2具有的氧含量比在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份更高。
记录层2的结构可以是上述三种类型中的一种，即(1)包含In、Pd和氧的结构，(2)包含Sn、Pd和氧的结构，以及(3)包含In、Sn、Pd和氧的结构。
例如可通过在允许氧气和氮气流过的情况下，使用In2O3靶和/或SnO2靶，并使用Pd靶，通过溅射法来形成上述记录层2。
此外，因为记录层2具有比在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份更高的氧含量，故氧原子被键合至记录层2中所包含的Pd原子中的至少一些Pd原子。
因为可基于氧含量等来控制Pd与氧的键合状态，故能够通过控制Pd与氧的键合状态来将记录层2的透射率和反射率控制为预定值。
例如可如下所述来制造本实施例的光学记录介质10。
首先，例如制备由聚碳酸酯树脂形成的基板1。在光学记录介质10例如形成为盘状的情况下，制造如下的基板1：在其表面上形成有用于寻轨的槽。
然后，在基板1上，通过在允许氧气和氮气流过的情况下，使用In2O3靶和/或SnO2靶，并使用Pd靶，通过溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层2。
然后，在记录层2上，涂布UV树脂(紫外线固化树脂)。随后，通过利用紫外线照射来固化UV树脂，可以形成透光层3。
以此方式，可以制造图1所示的光学记录介质10。
根据本实施例的光学记录介质10，记录层2具有比在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份更高的氧含量。因此，氧原子被键合至记录层2中包含的Pd原子中的至少一些Pd原子。并且，因为可基于氧含量等来对Pd与氧的键合状态进行控制，故能够通过控制Pd与氧的键合状态来将记录层2的透射率和反射率控制为预定值。
此外，在包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层2中，记录层2可仅由一层构成，并能够相较于采用多层无机材料膜作为记录层的情况减少构成记录层2的层数。由此，能够通过降低光学记录介质10的材料成本和制造成本来以较低成本构成光学记录介质10。
根据本实施例的制造光学记录介质10的上述方法，在允许氧气和氮气流过的情况下通过使用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层2。
由此，通过除了氧气之外还允许氮气流过，能够控制记录层2中Pd与氧的键合状态。由此，能够将记录层2的透射率和反射率控制为预定值。具体而言，能够在记录层2中将透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。
因此，通过本实施例，可通过优化记录层2的透射率和反射率来实现具有优选记录特性的光学记录介质10。
尽管本实施例的上述光学记录介质10由基板1、记录层2和透光层3构成，但在本发明中，在光学记录介质的成本不会大幅增加的范围内，光学记录介质还可包括其他层。
<3.第二实施例>
将在图2中图示本发明的第二实施例的光学记录介质的示意性结构视图(剖视图)。
在光学记录介质20中，两个记录层2和5形成在基板1与透光层3之间。中间层4形成在两个记录层2和5之间。
其他部分的结构与图1所示的第一实施例的光学记录介质10相同。
在两个记录层中，作为最接近光入射侧布置(即，最接近透光层3布置)的上层的记录层5是L1层，而作为下层的记录层2是L0层。
作为用于基板1和透光层3的材料，可以使用与第一实施例的光学记录介质10相同的材料。
作为用于中间层4的材料，使用对用于在记录层2和5上进行记录的激光具有较高透射率的材料。例如，能够使用通过紫外线照射而固化的UV树脂(紫外线固化树脂)。
在本实施例的光学记录介质20中，具体而言，最接近透光层3布置的记录层(L1层)5包含In和/或Sn，并包含Pd和氧，并且具有比在In和/或Sn被完全氧化的情况下化学计量成份更高的氧含量。
因此，记录层(L1层)5的结构可以是上述三种类型中的一种，即(1)包含In、Pd和氧的结构，(2)包含Sn、Pd和氧的结构，以及(3)包含In、Sn、Pd和氧的结构。
例如可通过在允许氧气和氮气流过的情况下使用In2O3靶和/或SnO2靶，和Pd靶，通过溅射法来形成记录层(L1层)5的结构。
此外，因为可基于记录层(L1层)5中的氧含量等来控制Pd与氧的键合状态，故能够通过控制Pd与氧的键合状态来将记录层(L1层)5的透射率和反射率控制为预定值。
此外，作为下层的记录层(L0层)2的结构并无特别限制。
可以与作为上层的记录层(L1层)5类似将记录层(L0层)2形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层，或者，可以无偏好地将记录层2形成为由完全不同材料形成的记录层，并且具有完全不同的记录方法。
与作为上层的记录层(L1层)5类似，在将作为下层的记录层(L0层)2形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层的情况下，能够使可记录记录信息的记录容量增加一倍。
在将作为下层的记录层(L0层)2形成为具有与作为上层的记录层(L1层)5的记录方法完全不同的记录方法的记录层的情况下(例如，再现专用记录层，和可重写记录层)，可在两个记录层2和5中实现不同的功能。
例如可如下所述制造本实施例的光学记录介质20。
首先，例如制备由聚碳酸酯树脂形成的基板1。在光学记录介质10例如形成为盘状的情况下，制造如下的基板1：其中在表面上形成用于寻轨的槽。
然后，在基板1上，通过使用溅射法来形成作为下层的记录层(L0层)2。
然后，在记录层(L0层)2上，涂布UV树脂(紫外线固化树脂)。随后，通过利用紫外线照射来固化UV树脂，可以形成中间层4。
然后，在中间层4上，通过在允许氧气和氮气流过的情况下使用In2O3靶和/或SnO2靶，并使用Pd靶，通过溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的作为上层的记录层(L1层)5。
然后，在记录层(L1层)5上，涂布UV树脂(紫外线固化树脂)。随后，通过利用紫外线照射来固化UV树脂，可以形成透光层3。
以此方式，可以制造图2所示的光学记录介质20。
这里，在作为下层的记录层(L0层)2被形成为包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层的情况下，可无偏好地通过允许氧气流过但不允许氮气流过来形成记录层(L0层)2，或通过允许氧气以及氮气流过来形成记录层(L0层)2。
此外，在通过允许氧气和氮气流过以形成记录层(L0层)2的情况下，通过在记录层(L0层)2与记录层(L1层)5之间改变各种气体的流率，能够改变各个记录层2和5中的透射率和反射率。
根据本实施例的上述光学记录介质20，记录层(L1层)5具有比在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份更高的氧含量。因此，氧原子被键合至记录层(L1层)5中包含的Pd原子中的至少一些Pd原子。并且，因为可基于氧含量等来控制Pd与氧的键合状态，故能够通过控制Pd与氧的键合状态来将记录层(L1层)5的透射率和反射率控制为预定值。
此外，在包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层(L1层)5中，记录层(L1层)5可仅由一层构成，由此相较于采用多层无机材料膜作为记录层的情况，能够减少构成记录层(L1层)5的层数。因此，能够通过降低光学记录介质20的材料成本和制造成本来以较低成本构成光学记录介质20。在作为下层的记录层(L0层)2也包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的情况下，因为能够减少构成两个记录层2和5的层的数量，故能够进一步降低光学记录介质20的材料成本和制造成本。
根据本实施例的制造光学记录介质20的方法，通过在允许氧气和氮气流过的情况下使用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层(L1层)5。
由此，通过除了氧气之外还允许氮气流过，能够控制记录层(L1层)5中Pd与氧的键合状态。因此，能够将记录层(L1层)5的透射率和反射率控制为预定值。具体而言，在记录层(L1层)5中，优选地将透射率设定的较高并将反射率设定的较低的情况下，可以在记录层(L1层)5中将透射率控制的较高并将反射率控制的较低。
因此，通过本实施例，具体而言，能够优化作为L1层的记录层5的透射率和反射率，并能够实现包括两个记录层2和5并具有优选记录特性的光学记录介质20。
尽管本实施例的上述光学记录介质20由基板1、记录层2、中间层4、记录层5以及透光层3这五层构成，但在本发明中，光学记录介质可在不会大幅提高光学记录介质的成本的范围内包括其他层。
<4.改变示例>
尽管在第二实施例中采用了具有两个记录层的结构，但在本发明中也可采用具有三个或更多个记录层的结构。
作为第二实施例的改变示例，图3示出了包括具有三个记录层的结构的光学记录介质的剖视图。
如图3所示，在光学记录介质30中，三个记录层2，5和6形成在基板1与透光层3之间。中间层4分别形成在三个记录层2，5和6各个之间。在三个记录层2，5和6中，作为最接近透光层3布置的最上层的记录层6是L2层，中间的记录层5是L1层，而作为最下层的记录层2是L0层。
在该结构的情况下，与第二实施例中描述的记录层(L1层)5类似，至少可对作为最上层的记录层6(将是L2层)应用本发明的结构和制造方法。
<5.实验性示例>
[实验1.记录层的反射率和透射率基于氧气流率的变化]
实际制造了上述光学记录介质，并研究了记录层的反射率和透射率。
首先，在改变氧气流率的情况下形成了各个记录层，并且研究了记录层的反射率和透射率的变化。
(样本1)
如下所述制造了图1的光学记录介质10。
作为基板1，制备了具有1.1mm厚度的盘状聚碳酸酯树脂。
然后，在该基板1上，通过使用溅射法形成具有40nm膜厚的In-Sn-Pd-O膜作为记录层2。此时，使用In2O3，SnO2和Pd这三个靶作为靶。此外，通过将氩气的流率设定为70sccm并将氧气的流率设定为30sccm，在使得各气体流过的情况下，通过控制各个靶的溅射功率来执行溅射以调整成份。成份被调整为In2O3∶SnO2＝9∶1，(In2O3+SnO2)∶Pd＝8∶2。由此，形成由In-Sn-Pd-O膜构成的单层记录层2。
此外，通过在记录层2上涂布紫外线固化树脂以通过紫外线照射来固化记录层2，来形成具有100μm厚度的透光层3，由此制造呈盘状并具有图1所示剖面结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本1。
(样本2)
通过将氩气的流率设定为60sccm，将氧气的流率设定为40sccm，并类似于样本1来设定其他参数，来制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本2。
(样本3)
通过将氩气的流率设定为50sccm，将氧气的流率设定为50sccm，并类似于样本1来设定其他参数，来制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本3。
(对反射率和透射率的测量)
利用激光来照射制造样本1至制造样本3各个样本，并且测量各个记录层2的反射率和透射率。
作为测量结果，在图4中示出了记录层2的反射率R和透射率T基于在形成记录层2时氧气的流率(30sccm至50sccm)而产生的变化。
由图4可看到，随着氧气(O2)的流率增大，记录层2变为透光，并且透射率T增大。
此外，反射率R是10％或更高，并且可以看到不可能将反射率降低至小于10％。
由此，在In-Sn-Pd-O膜中，可以看到可在形成膜时通过控制氧气的流率来控制透射率T，但难以控制反射率R。
[实验2.记录层的反射率和透射率基于氮气的流率的变化]
然后，通过除了氧气之外还使得氮气流过来形成记录层，并研究记录层的反射率和透射率因氮气流率的变化而产生的变化。
(样本4；示例)
通过将氩气的流率设定为70sccm、将氧气的流率设定为30sccm、并将氮气的流率设定为2sccm，在使得各气体流过的情况下，通过控制各个靶的溅射功率来执行溅射以调整成份。以与样本1类似的方式来设定其他参数，并制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本4。
(样本5；示例)
通过将氮气的流率设定为5sccm，并以与样本4类似的方式来设定其他参数，来制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本5。
(样本6；示例)
通过将氮气的流率设定为10sccm，并以与样本4类似的方式来设定其他参数，来制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本6。
(样本7；示例)
通过将氮气的流率设定为30sccm，并以与样本4类似的方式来设定其他参数，来制造具有图1所示结构的光学记录介质10。这被视为光学记录介质10的样本7。
(对反射率和透射率的测量和评估)
在制造样本4至制造样本7中的各个样本中，以与实验1类似的方式来测量记录层2的反射率和透射率。
作为测量结果，在图5中示出了记录层2的反射率R和透射率T基于在形成记录层2时氮气流率(0sccm至30sccm)而产生的变化。此外，作为未允许氮气流过的情况下(流率为0sccm)的值，图5中也示出了图4所示样本1的测量值。
从图5可以看到，随着氮气(N2)的流率的提高，透射率增大，反射率降低。
换言之，可以看到通过改变氮气的流率，易于控制记录层2的反射率和透射率两者。
这里，在光学记录介质中的实验1中的样本1以及实验2中的样本6中的各个样本中，通过利用XPS，测量Pd、PdO和PdO2这三种状态的比率作为记录层2表面附近的Pd原子的状态。
表1示出了测量结果。
[表1]
从表1可知，在已经使得氧气和氮气流过的样本6中，相较于使得氧气流过的样本1的情况，PdO状态的比率增大而PdO2状态的比率减小。
由此结果，可认为，可以通过使得氮气流过，来对仅基于氧气的流率难以控制的记录层的反射率和透射率进行控制。
尽管在仅形成单层记录层2的情况下使用了上述实验示例中的各个样本，但在形成两个或更多记录层的情况下，也可通过控制氧气的流率和氮气的流率来对记录层的反射率和透射率进行控制。
在形成两个或更多个记录层的情况下，最接近透光层布置的记录层的透射率优选地为大于等于60％。但是，因为当该记录层的透射率过高时记录灵敏度会劣化，故透射率优选为小于等于90％。
从此时制造的样本可知，在未允许氮气流过的情况下(实验1)，通过提高氧气的流率可获得良好的透射率，但反射率较高。当氧气的流率被进一步增大以降低反射率时，因为透射率过高，故记录灵敏度被大大劣化，且抖动情况(jitter)会恶化。
此外，在氧气充足并且还额外使得氮气流过的情况下(实验1)，反射率和透射率两者均易于控制。
在样本7的光学记录介质中(其中氮气的流率被设定为30sccm)，获得65.4％的透射率以及6.8％的反射率，并且可以看到在包括两个记录层的双层盘中布置在光透射层一侧的记录层(L1层)具有良好的特性。
在样本7的上述光学记录介质中，当以相同的方式测量连续五条轨道中第三条轨道的抖动情况时，在底部获得4.6％的抖动。换言之，可以看到光学记录介质具有极佳的记录特性。
以此方式，可以看到，为了制造包括两个或更多个记录层的光学记录介质，除了氧气流过还使得氮气流过来形成记录层极为有效。
此外，从上述结果可知，也改善了抖动情况，并且在制造包括仅一个记录层的光学记录介质的情况下，通过除了氧气之外还允许氮气流过，可以自然有效地形成记录层。
本发明并不限于上述实施例，在不脱离本发明范围的前提下，可以采用各种不同的其他结构。

Claims (5)

1.一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的记录层以及形成在所述记录层上的透光层，所述方法包括：
在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的所述记录层的步骤。
2.一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的两个或更多个记录层、形成在各个所述记录层之间的中间层以及形成在所述两个或更多个记录层上的透光层，其中，
至少在形成所述两个或更多个记录层当中最接近所述透光层布置的所述记录层时，在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的所述记录层。
3.一种光学记录介质，包括：
基板；
形成在所述基板上的记录层，其包含In和/或Sn，并包含Pd和氧，并且其具有的氧含量高于在In和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份；以及
形成在所述记录层上的透光层。
4.根据权利要求3所述的光学记录介质，还包括：
形成在所述基板与所述记录层之间的一个或更多个其他记录层；以及
形成在所述记录层和所述其他记录层中每一者之间的中间层。
5.根据权利要求4所述的光学记录介质，其中，所述其他记录层包含In和/或Sn，并包含Pd和氧。
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