JP5276557B2 - 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5276557B2 JP5276557B2 JP2009217353A JP2009217353A JP5276557B2 JP 5276557 B2 JP5276557 B2 JP 5276557B2 JP 2009217353 A JP2009217353 A JP 2009217353A JP 2009217353 A JP2009217353 A JP 2009217353A JP 5276557 B2 JP5276557 B2 JP 5276557B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording layer
- recording
- optical information
- layer
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
例えばAlの場合、
4/3Al+O2=2/3Al2O3
の反応における値であり、Znの場合、
2Zn+O2=2ZnO
で表される反応における値である。
(A)X金属(好ましくは、Sn、Zn、Bi、Ge、Co、W、CuおよびAlよりなる群から選択される1種以上)の酸化物(具体的には、例えばX金属の酸化物を50モル%以上含む)と、Pd(例えば酸化Pdおよび/または金属Pd)とを含み、かつ、スパッタリングターゲットに含まれるX金属原子とPd原子の合計に対するPd原子の比率が4〜85原子%である点に特徴を有するスパッタリングターゲットや、
(B)X金属(好ましくは、Sn、Zn、Bi、Ge、Co、W、CuおよびAlよりなる群から選択される1種以上)原子とPd原子の合計に対するPd原子の比率で4〜85原子%のPd(例えば金属Pd)を含む、X金属を基とする合金からなる点に特徴を有するスパッタリングターゲットを用いることが挙げられる。また、
(C)X金属ターゲット(純X金属ターゲット)と金属Pdターゲット(純Pd金属ターゲット)を用い、これらを同時放電させて多元スパッタリングを行うことが挙げられる。
ディスク基板として、ポリカーボネート基板(厚さ:1.1mm、直径:120mm、トラックピッチ:0.32μm、溝深さ:25nm)を用い、該基板上に、DCマグネトロンスパッタリング法により、X金属の酸化物と酸化Pd(一酸化Pdおよび二酸化Pdの合計に占める、一酸化Pd、二酸化Pdの各モル比は表1に示す通りである)の含有量が種々の記録層を形成した。記録層の膜厚は40nmとした。スパッタリングは、純X金属(Sn,Zn,Bi,In,Ge,Co,W,Cu)ターゲット、純Pd金属ターゲットの複数のターゲットの同時放電による多元スパッタリングを行った。上記記録層形成のためのスパッタリング条件は、Ar流量:10sccmまたは15sccm、かつ酸素流量:15sccmまたは24sccmとした。また、ガス圧:0.3〜0.6Pa、DCスパッタリングパワー:100〜200W、基板温度:室温とした。
作製した光ディスクについて下記の通り評価した。即ち、光ディスク評価装置(パルステック工業社製「ODU−1000」)を用い、記録レーザー中心波長は405nmとし、NA(開口数):0.85のレンズを用いた。下記に示す反射率は、上記装置を用い、レーザーをトラック上に照射し、光ディスクにおける未記録部分のレーザー光の戻り光強度から求めた。
変調度(反射率の変化率)=(未記録部分の反射率−記録部分の反射率)/(未記録部分の反射率) …(1)
Claims (6)
- レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、
酸素1molに対する酸化物の標準生成自由エネルギーの絶対値がPdよりも大きい金属(以下、X金属という)の酸化物と、酸化Pdとを含み、該酸化Pdが一酸化Pdと二酸化Pdを含むものであり、かつ、記録層に含まれるX金属原子とPd原子の合計に対するPd原子の比率が4〜85原子%であることを特徴とする光情報記録媒体用記録層。
[但し、下記組成(モル比)のIn−Sn−Pd−O膜の単層の記録層と、酸化In、酸化Pdおよび金属Pdからなる記録層と、酸化Inおよび酸化Pdからなる記録層とを除く。
In 2 O 3 :SnO 2 =9:1、
(In 2 O 3 +SnO 2 ):Pd=8:2] - 前記X金属が、Sn、Zn、Bi、Ge、Co、W、CuおよびAlよりなる群から選択される1種以上である請求項1に記載の光情報記録媒体用記録層。
- 前記一酸化Pdと二酸化Pdの合計に対する二酸化Pdの比率が、5〜70モル%である請求項1または2に記載の光情報記録媒体用記録層。
- 膜厚が5〜100nmである請求項1〜3のいずれかに記載の光情報記録媒体用記録層。
- レーザー光の照射された部分に気泡が生成し、体積変化することにより記録が行われる請求項1〜4のいずれかに記載の光情報記録媒体用記録層。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の光情報記録媒体用記録層を備えていることを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217353A JP5276557B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 |
EP10817266.9A EP2479751B1 (en) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
PCT/JP2010/066099 WO2011034153A1 (ja) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット |
CN2010800406833A CN102640219A (zh) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | 光信息记录介质用记录层、光信息记录介质及溅射靶 |
KR1020127006899A KR20120057629A (ko) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | 광 정보 기록 매체용 기록층, 광 정보 기록 매체 및 스퍼터링 타깃 |
US13/496,661 US8597757B2 (en) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
CN201610230364.8A CN105931654B (zh) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | 光信息记录介质用记录层、光信息记录介质及溅射靶 |
TW099131634A TWI457922B (zh) | 2009-09-18 | 2010-09-17 | A recording layer for optical information recording media, an optical information recording medium, and a sputtering target |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217353A JP5276557B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011062981A JP2011062981A (ja) | 2011-03-31 |
JP5276557B2 true JP5276557B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=43949738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009217353A Expired - Fee Related JP5276557B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5276557B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5935234B2 (ja) * | 2011-02-03 | 2016-06-15 | ソニー株式会社 | 光情報記録媒体 |
TWI521505B (zh) | 2012-06-04 | 2016-02-11 | Sony Corp | Information media |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4548651B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-09-22 | 出光興産株式会社 | スパッタリングターゲット及び透明導電膜及び透明導電ガラス基板 |
JP2007230207A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-09-13 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体、並びにスパッタリング・ターゲット |
JP2010218636A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Sony Corp | 光記録媒体の製造方法、光記録媒体 |
-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009217353A patent/JP5276557B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011062981A (ja) | 2011-03-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4969625B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
WO2011034153A1 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット | |
JP5346915B2 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、及び光情報記録媒体 | |
JP5399836B2 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット | |
JP5662874B2 (ja) | 光情報記録媒体用記録膜および光情報記録媒体、並びに上記記録膜の形成に用いられるスパッタリングターゲット | |
JP5276557B2 (ja) | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 | |
WO2010055865A1 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット | |
JP5399184B2 (ja) | 光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット | |
JP6781679B2 (ja) | 記録層、光情報記録媒体及びスパッタリングターゲット | |
JP7130447B2 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体、及びスパッタリングターゲット | |
WO2021117470A1 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体、及びスパッタリングターゲット | |
JP2012020530A (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体、およびスパッタリングターゲット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5276557 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |