201012726 六、發明說明: 【發明所靥之技術領域】 該發明係關於搬運FPD等之大型被搬運體之搬運裝置 ,及具備有該搬運裝置的處理裝置,該處理裝置係用以對 被搬運體執行處理。 【先前技術】 φ 液晶顯示(LCD )所代表之平面顯示器(FPD )之製 造過程中,使用多數具有在真空下對FPD用基板施予蝕刻 、去灰、成膜等之特定處理的處理腔室,所謂的多室型之 處理裝置。 如此之處理裝置具有設置搬運FPD用基板(被搬運體 )之搬運裝置的搬運室,和被設置在其周圍之多數處理腔 室。FPD用基板使用搬運裝置而從搬運室被搬入至各處理 腔室’並且處理完之基板從處理腔室被搬出至搬運室。然 φ 後’在搬運室連接有裝載鎖定室,於大氣側之基板之搬入 搬出之時’可在將處理腔室及搬運室維持真空狀態之狀態 下’直接處理多數基板。如此之多室型之處理裝置例如記 載於專利文獻1或專利文獻2。再者,在專利文獻2記載 著搬運裝置’該搬運裝置係在滑動臂上又具備有滑動之擷 取器(Pick)的搬運裝置。 在如此之處理裝置中,將FPD用基板搬入至處理腔室 之時’使FPD用基板載置於搬運裝置之例如滑動臂上之擷 取器’使滑動臂及擷取器在處理腔室內之載置台上方進出 201012726 。接著’使升降銷從載置台突出而從擷取器使FPD用基板 移載至升降銷,並使擷取器及滑動臂從處理腔室退避至搬 運室內。接著,使升降銷下降,將FPD用基板載置於載置 台。 相反的,於從處理腔室搬出FPD用基板之時,藉由升 降銷使載置台上之FPD用基板上升,使滑動臂及擷取器從 搬運室進出至處理腔室內。接著,使升降銷下降,使FPD 用基板從升降銷移載於擷取器。接著,使擷取器及滑動臂 退避至搬運室內。 〔專利文獻1〕日本特開9-223727號公報 〔專利文獻2〕日本特開2007-73540號公報 【發明內容】 (發明所欲解決之課題) 近年來,日漸朝向FPD用基板之大型化,隨此也朝向 處理裝置中之各腔室之大型化,有搬運裝置的基板搬運行 程(腔室間搬運距離)也變長之傾向。在現在,基板搬運 行程雖然已到達5m,但是日後則會超出5m。 當基板搬運行程變長時,其部份不得不增長滑動臂及 擷取器之進出退避行程。僅進出退避行程變長之部分,使 得搬運裝置不得不大型化。 即使搬運裝置大型化’也經常要求維持提高搬運精度 及搬運速度。在搬運裝置之滑動臂或載置該滑動臂之基座 ,在進出退避動作中或升降動作中,或是旋轉動作中施加 -6 - 201012726 力矩。當滑動臂或基座大型化時,力矩也變大。因此,滑 動臂或基座本身彎曲、扭轉、變形,而對搬運精度產生影 響。爲了抑制該些彎曲、扭轉、變形,當使進出退避速度 、升降速度’或旋轉速度變慢時,此時則對搬運速度產生 影響。 如此一來’在現狀之搬運裝置中,難以使FPD用基板 即是被搬運體之大型化,和維持提高搬運精度及搬運速度 ^ 並存。 該發明之目的係提供能夠使被搬運體之大型化,和維 持提高搬運精度及搬運速度並存之搬運裝置,及使用其搬 運裝置之處理裝置。 (用以解決課題之手段) 爲了解決上述課題,該發明之第1態樣所涉及之搬運 裝置具備:具有滑動部,在上下至少被配置成兩段的下部 • 滑座和上部滑座;使上述下部滑座之滑動部滑動,相對於 上述下部滑座進出退避而搬運被搬運體的下部擷取器;被 配設在上述下部擷取器和上述上部滑座之間,使上述上部 滑座之滑動部滑動,相對於上述上部滑座進出退避而搬運 被搬運體的上部擷取器;和互相連結上述下部滑座和上述 上部滑座的多數框架。 該發明之第2態樣所涉及之處理裝置爲對被處理體施 予處理的處理裝置,將上述第1態樣所涉及之搬運裝置使 用於搬運被處理體之搬運裝置。 201012726 〔發明效果〕 若藉由該發明,可以提供能夠使被搬運體之大型化, 和維持提高搬運精度及搬運速度並存之搬運裝置,及使用 其搬運裝置之處理裝置。 【實施方式】 以下參照圖面說明該發明之一實施型態。在整個參照 圖面全部,針對相同部份賦予相同參照符號。 在本說明中,參照以將該發明之一實施型態所涉及之 搬運裝置使用於具備對FPD用基板G執行電漿蝕刻之電 漿蝕刻裝置的多室型之處理裝置之搬運裝置的例予以說明 〇 並且,就以FPD而言例示有液晶顯示器(LCD )、電 激發光(Electro Luminescence: EL)顯示器、電漿顯示 面板(PDP )等。 第1圖爲槪略表示使用該發明之一實施型態所涉及之 搬運裝置的處理裝置之斜視圖,第2圖爲槪略性表示第i 圖所示之處理裝置之內部的水平剖面圖。 如第1及第2圖所示般,處理裝置1具備有多數處理 室10、連接於該些處理室10之搬運室20、連接於搬運室 20之裝載鎖定室30。在本例中,搬運室20爲矩形,在矩 形之搬運室20之四邊,一個一個連接有三個腔室10,和 一個裝載鎖室30。 -8 - 201012726 在各處理腔室10和搬運室20之間,搬運室20和裝 載鎖定室30之間,及連通裝載鎖定室30和外側之大氣環 境之開口部,各被插入氣密密封該些之間,且構成可開關 之聞閥2 2。 在裝載鎖定室30之外側,設置有兩個卡匣指示器41 ,在其上方載置各收容EPD用基板G之卡匣40。卡匣40 藉由升降機構42成爲能夠升降。在該些卡匣40例如在其
一方收容未處理之基板G,在另一方收容處理完之基板G 〇 在兩個卡匣指示器41之間配置支撐台44,在支撐台 44上配置有搬運機構43。搬運機構43具備有被設置成上 下兩段之擷取器45、46,以及將該些擷取器45、46 —體 性支撐成能夠進出退避以及旋轉之基座47。搬運機構43 係在卡匣40和裝載鎖定室30之間搬運FPD用基板G。 搬運室20爲真空腔室,能夠保持在特定減壓環境。 在搬運室20中,如第2圖所示般配置有搬運裝置50。搬 運機構50係在裝載鎖定室30和三個處理腔室10之間搬 運FPD用基板G。搬運裝置50之詳細如後述。 搬運室30也爲真空腔室,與搬運室20相同,能夠保 持在特定減壓環境。裝載鎖定室30係在位於大氣壓環境 下的卡匣40和位於減壓環境下之搬運室20之間,執行 FPD用基板G之交接。因此,重複大氣壓和減壓。並且, 在裝載鎖定室30上下兩段設置有基板收容部31(在第2 圖中僅圖示上段),在各基板收容部31內設置有用以支 -9 - 201012726 撐FPD用基板G之緩衝器32,和執行FPD用基板G之定 位的定位器33。 處理腔室10也還是真空腔室。第3圖表示處理腔室 1 0之一例。 第3圖爲表示處理腔室10之一例的剖面圖。第3圖 所示之處理腔室10表示電漿蝕刻裝置之例。 如第3圖所示般,處理腔室1〇係被成形由例如表面 被氧化鋁處理(陽極氧化處理)之氧化鋁所構成之角筒形 狀,在該處理腔室10內的底部設置有載置FPD用基板G 之承受器(基板載置台)1〇1。在承受器1〇1能夠升降地 插通有用以執行FPD用基板G之裝載及卸載之升降銷130 。升降銷130係於搬運FPD用基板G之時,上升至承受 器101上方之搬運位置,除此之外之時,成爲沉沒在承受 器101內之狀態。承受器1〇1係經絕緣構件104而被支撐 在處理腔室10之底部,具有金屬製之基材102和被設置 在基材102之周緣的絕緣構件103。 在承受器101之基材102連接有用以供給高頻電力之 供電線123,在該供電線123連接有整合器124及高頻電 源125。自高頻電源125供給例如13.56MHz之高頻電力 至承受器101。 在承受器101之上方設置有與承受器101平行對向而 當作上部電極發揮功能之噴淋頭111。噴淋頭111被支撐 於處理腔室1〇之上部,在內部具有內部空間112,並且在 與承受器101之對向面形成吐出處理氣體之多數吐出孔 -10- 201012726 113。該噴淋頭111被接地,與承受器101 —起構成一對 平行平板電極。 在噴淋頭111之上面設置有氣體導入口 114。在氣體 導入口 114連接處理器體供給管115,在處理氣體供給管 115經閥116及質量流量控制器117連接有處理器體供給 源118。自處理氣體供給源118供給蝕刻用之處理氣體。 作爲處理氣體可以使用鹵系之氣體、〇2氣體、ΑΓ氣體等 φ ,通常在該領域所使用之氣體。 在處理腔室10之底部形成有排氣管119,在該排氣管 119連接排氣裝置120。排氣裝置120具備有渦輪式分子 泵等之真空泵,依此構成可將處理腔室1〇內抽真空至特 定減壓環境。再者,在處理腔室10之側壁設置有基板搬 入搬出口 121,該基板搬入搬出口 121藉由上述閘閥22成 爲能夠開關。然後,在打開該閘閥22之狀態下,藉由搬 運室20內之搬運裝置50,FPD用基板G被搬入搬出。 φ 處理裝置1之各構成部係藉由第2圖所示之具備微處 理器之製程控制器170被控制。在製程控制部170連接有 由執行操作員用以管理處理裝置1之指令輸入操作的鍵盤 ,或使處理裝置1之運轉狀況可視化而予以顯示之顯示器 "等所構成之使用者介面171。並且,在製程控制器170連 接有用以製程控制器170之控制實現在處理裝置1所實行 之各種處理的控制程式,或按處理條件使處理裝置1之各 構成部實行特定處理之控制程式即是處理方法,又連接有 儲存資料庫等之記憶部172。記憶部172具有記憶媒體, -11- 201012726 處理方法等被記億於其記憶媒體。記憶媒體即使爲硬碟亦 可,即使爲CD-ROM、DVD、快閃記億體等之可搬運性者 亦可。處理方法等依其所需,以來自使用者介面171之指 示等自記億部172讀出,藉由使製程控制器170實行,在 製程控制器17〇之控制下,執行處理裝置1之所欲處理。 以下針對如此所構成之處理裝置1中之處理動作予以 說明。 首先,使搬運機構43之擷取器45、46進退驅動,將 兩片FPD用基板G自收容有未處理之FPD用基板G之一 方之卡匣40搬入至裝載鎖定室30之兩段之基板收容室31 〇 於使擷取器45、46退避之後,關閉裝載鎖定室30之 大氣側之閘閥22。之後,使裝載鎖定室30內排氣,將內 部減壓至特定真空度。於抽真空結束之後,使用定位器33 推壓基板G,執行FPD用基板G之定位。 如上述般執行定位之後,打開搬運室20和裝載鎖定 室30之間的閘閥22,使用搬運室20內之搬運裝置50, 接受被收容於裝載鎖定室30之基板收容部31之FPD用基 板G,搬入至處理腔室10,在承受器101上載置FPD用 基板G。 之後,關閉閘閥22,藉由排氣裝置120將處理腔室 10內抽真空至特定真空度。接著,打開閥116,邊藉由質 量流量控制器117將處理氣體自處理氣體供給源118調整 其流量,邊通過處理氣體供給管115、氣體導入口 114而 -12- 201012726 導入至噴淋頭111之內部空間112,並通過吐出孔113而 對FPD用基板G均勻吐出,一面調節排氣量一面將處理 腔室10內控制成特定壓力。 在該狀態下自處理氣體供給源118將特定處理氣體導 入至腔室10內,並且從高頻電源125施加高頻電力至承 受器101,並且使在當作下部電極之承受器101和當作上 部電極之噴淋頭111之間產生高頻電場,而產生處理氣體 φ 之電漿,藉由該電漿對FPD用基板G施予蝕刻處理。 如此一來,於施予蝕刻處理之後,停止來自高頻電源 125之高頻電力之施加,並停止處理氣體導入。然後,排 出殘留在處理腔室10內,藉由升降銷130將FPD用基板 G上升至搬運位置。在該狀態下,開放閘閥22,使用搬運 裝置50,將FPD用基板G從處理腔室10內搬出至搬運室 20 〇 從處理腔室10被搬出之FPD用基板G被搬運至裝載 φ 鎖定室30,藉由搬運機構43被收容在卡匣40。此時,即 使返回至原來之卡匣40亦可,即使收容在另一方的卡匣 40亦可。 以被收容於卡匣40之FPD用基板G的片數份重複上 述般之一連串動作,完成處理。 接著,針對被配設在搬運室20之搬運裝置50予以詳 細說明。 第4圖爲槪略性表示一實施型態所涉及之搬運裝置的 斜視圖,第5圖A爲從第4圖中之箭號5A所觀看到之前 •13- 201012726 視圖,第5圖B爲自第4圖中之箭號5B側所觀看到之側 面圖。 如第4圖至第5圖B所示般,一實施型態所涉及之搬 運裝置50具備在上下至少配設成兩段之下部滑座51a及 上部滑座51b,和相對於下部滑座51a進出退避之下部擷 取器52a,和相對於上部滑座51b進出退避之上部擷取器 52b,和互相連結下部滑座51a和上部滑座51b之多數框 架,在本例中爲三個框架53a至53c。框架之形狀在本例 中爲矩形。以下,在本說明中,將框架稱爲矩形框架。 下部滑座51a及上部滑座51b爲長條狀,各具有滑動 部 54a 及 54b 。 下部擷取器52a滑動下部滑座51a之滑動部54a,使 無圖示之被搬運體(例如FPD用基板)進出退避,並予以 搬運。同樣,上部擷取器52b滑動上部滑座51b之滑動部 5 4b’使無圖示之被搬運體進出退避,並予以搬運。上述 擷取器52b係配配設置在下部擷取器52a和上部滑座51b 之間。下部擷取器52a及上部擷取器5 2b各具有基部55a 、55b,具備有從基部55a及55b水平延伸成鉤狀之長條 狀的多數支撐構件,在本例中具有5條支撐構件56a、56b 。在第6圖A表示下部擷取器52a對下部滑座51a進出的 狀態,第7圖A表示上部擷取器5 2b對上部滑座51b進出 的狀態。 下部滑座51a、上部滑座51b以及矩形框架53a至 53c互相連結而構成箱形之構造體。矩形框架53a至53c -14- 201012726 在本例中,係藉由組合被固定於下部滑座51a之水平構件 57a,和被固定於上部滑座51b之水平構件5 7b,和互相固 定水平構件57a之兩端部,和水平構件57b支兩端部的垂 直構件57c、57d而構成。當然即使矩形框架53a至53c 以框狀且一體的構件來構成亦可。 再者,在本例中,下部滑座51a和上部滑座51b上下 相對被設置。下部滑座51a及上部滑座51b之與下部擷取 φ 器52a及上部擷取器52b之進出方向相反之端部,係藉由 連結構件53d而被連結,互相被固定。 再者,在本例中,下部滑座51a和下部擷取器52a之 上下關係與上部滑座51b和上部擷取器5 2b之上下關係不 同。具體而言,本例中,下部擷取器5 2a成爲載置於下部 滑座51a之構成,對此上部擷取器52b成爲懸掛於上部滑 座51b之構成。 再者,作爲箱形之構造體之例,以控制產生在下部滑 φ 座51a及上部滑座51b之彎曲、扭轉、變形等之方式,使 用至少三個矩形框架53a至53c而聯結例如下部滑座51a 及上部滑座51b之前端部A、中央部B、後端部C之至少 三點,並予以固定而所構成之箱形剛性構造體爲佳。並且 ,上述上部滑座51b被連結於矩形框架53a至53c之內側 爲佳。 箱形之構造體如第5圖B所示般,被連接於驅動機構 58。驅動機構58係使箱形構造體旋轉(0 )及升降(z) 。依此,搬運裝置50成爲可以旋轉動作及升降動作。驅 -15- 201012726 動機構58係藉由搬運控制部59而被控制。搬運控制部59 係藉由上述製程控制部1 70而被控制。 並且,在搬運裝置50中,於下部擷取器52a之支撐 構件56a及上部擷取器52b之支撐構件56b各形成有滑動 60a及60b。在支撐構件56a上,設置有相對於下部擷取 器52a進出退避之下部滑動擷取器61a。同樣,在支撐構 件5 6b上,也設置有相對於上部擷取器52b進出退避之上 部滑動擷取器61b。下部滑動擷取器61a滑動支撐構件 5 6a之滑動部60a,同樣上部滑動擷取器61b滑動支撐構 件5 6b之滑動部60b。下部滑動擷取器61a及上部滑動擷 取器61b各具有基部62a、62b (尤其參照第5圖A),具 備有從基部62a及62b水平延伸成鉤狀之長條狀的多數支 撐構件,在本例中具有5條支撐構件63a、63b。無圖式之 被搬運體被支撐於支撐構件63a、63b。在第6圖B表示 下部滑動擷取器61a對下部滑座52a進出的狀態,第7圖 B表示上部滑動擷取器61b對上部滑座52b進出的狀態。 如此一來’在搬運裝置50中,成爲下部滑動擷取器 61a被設置在載置於下部滑座51a上之下部擷取器52a之 支撐構件56a上部,上部滑動擷取器61b被設置在懸掛於 上部滑座51b之下的上部擷取器5 2b之支撐構件5 6b之上 部的構成,下部擷取器52a和下部滑動擷取器61a,或是 上部擷取器52b和上部滑動擷取器61b係以兩段滑動進出 。依此’被支撐構件63a或是63b所支撐之被搬運體,例 如FPD用基板G被進出搬運。 201012726 在此,如第8圖A及第8圖B所示般,搬運裝置50 被使用於第1圖等所示之處理裝置1,被搬運體例如FPD 用基板G般爲大型被搬運體之時,搬運行程L變得非常長 。因此,下部滑動擷取器61a,或是上部滑動擷取器61b 滑動而進出至最大限之時,搬運裝置50則成爲非常長懸 臂樑的狀態。在該狀態下,在下部滑座51a或上部滑座 51b施加大力矩,成爲容易產生彎曲、扭轉或變形般之變 φ 形的狀態。尤其,被搬運體具有矩形之平面形狀,爲矩形 之最短邊之長度爲28 00mm以上的大型FPD用基板G之時 ,搬運行程L則到達5m以上。因此,成爲下部滑座51a 及上部滑座51b容易引起變形之狀態。 但是,搬運裝置50係將矩形框架53a至53c連結於 下部滑座51a及上部滑座51b,以下部滑座51a、上部滑 座51b及矩形框架53a至53c構成箱形構造體。因此,即 使在搬運行程L變長之時,亦可以抑制下部滑座51a及上 • 部滑座5lb之變形。 再者,當搬運行程L之長大化或被搬運體朝向大型化 時,下部滑座51a或上部滑座541b本身也不得不大型化 。當下部滑座51a或上部滑座51b大型化時,例如進出退 避動作中,或是升降動作中或旋轉動作中,容易被施加大 力矩,成爲容易變形。再者,也有藉由下部滑座51a或上 部滑座5 1 b之自重而變形之可能性。 即使針對該些事情,若藉由搬運裝置50,下部滑座 51a及上部滑座51b與矩形框架53a至53c構成箱形之構 -17- 201012726 造體。依此,即使下部滑座51a或上部滑座51b大型化, 亦可以抑制其變形。 如此一來,若藉由搬運裝置50,因難以使下部滑座 51a及上部滑座51b變形,故可以抑制隨著搬運行程L之 長大化,或被搬運體之大型化而使得搬運精度惡化之情形 〇 再者,由於下部滑座51a及上部滑座51b難以變形, 故亦可以維持提高進出退避速度或升降速度或旋轉速度等 、搬運速度。 以上,若藉由一實施型態所涉及之搬運裝置50時, 則可以取得能使被搬運體之大型化,和維持提高搬運精度 及搬運速度並存之搬運裝置。 並且,一實施型態所涉及之搬運裝置50具備有多段 滑動式擷取器,且該多段滑動式擷取器擁有滑動之滑動擷 取器。在本例中,例示有在下部擷取器52a及上部擷取器 52b又持有滑動之下部滑動擷取器61a及上部滑動擷取器 61b的兩段滑動式擷取器。 多段滑動式擷取器之時之搬運行程L係例如第8圖A 及第8圖B所示般,爲下層之擷取器52a或是上層之擷取 器5 2b移動之距離Lm,加上下層之滑動擷取器61a或上 層之滑動擷取器61b又滑動之距離Ls。因此,在擷取器進 出之狀態中,從搬運裝置50之前端到擷取器之前端之距 離,即是進出時之擷取器長度大略成爲“Lm+ Ls”。進出時 之擷取器長度“Lm + Ls”爲搬運行程L。 -18- 201012726 相反的,在擷取器退避之狀態,滑動擷取器61a或 61b係與擷取器52a或52b重疊。因此,滑動擷取器61a 或61b滑動之距離Ls係與擷取器52a或52b移動之距離 Lm重疊。因此,退避時之擷取器長度大略成爲“Lm”,比 起進出時之擷取器長度即是搬運行程L,可以縮短距離 “Ls”之部分。 如此一來,若藉由搬運裝置50,作爲多段滑動式擷取 φ 器,於退避時,藉由將滑動擷取器61a或61b重疊於擷取 器52a或52b,亦可以將退避時之擷取器長度較搬運行程 L縮短,亦可以抑制隨著被搬運體之大型化而使搬運裝置 5 〇大型化。 並且,於將擷取器設爲多數滑動式之時,如位於前端 之擷取器,越縮短進出退避之距離越佳。於進出時,在擷 取器上,越往前端移動被施加越大力矩。因此,如前端擷 取器,成爲易變形之狀況。 φ 如此之狀況係如位於前端之擷取器,係可以藉由縮短 進出退避來抑制。 在搬運裝置50中,例如第8圖A及第8圖B所示般 ,下部滑動擷取器61a之進出退避之距離Ls短於下部擷 取器52a之進出退避之距離Lm。同樣,上部滑動擷取器 61b之進出退避之距離Ls也短於上部擷取器5 2b之進出退 避的距離Lm。 並且,爲使搬運行程L長於退避時之擷取器長度,也 考慮使每滑座51a或51b移動。但是,於此時,閘閥開口 -19- 201012726 121之尺寸Sg變大,例如必須要大型之閘閥22。 對此,若藉由搬運裝置50時,滑座51a及51b不從 搬運室20水平方向作移動,使滑座51a及52b以及滑動 擷取器61a及61b在水平方向移動。因此,比起每滑座 51a或51b移動之搬運裝置,閘極開口 121之尺寸Sg小即 可。因此,可以取得不需要大型閘閥22,可以抑制隨著被 搬運體之大型化而所引起搬運裝置本身之製造成本的優點 接著,說明驅動擷取器及滑動擷取器之驅動機構之一 例。 例如,第5圖B所示般,搬運裝置50具備下部驅動 機構70a和上部驅動機構70b。下部驅動機構70a驅動下 部擷取器52a及下部擷取器61a。同樣,上部驅動機構 7 0b驅動上部擷取器5 2b及上部滑動擷取器61b。 第9圖A及第9圖B係槪略性表示驅動機構之一例的 剖面圖。並且’第9圖A係表示擷取器及滑動擷取器退避 之狀態’第9圖B係表示擷取器及滑動擷取器進出之狀態
Q 如第9圖A及第9圖B所示般,在本例所涉及之搬運 裝置50中,下部驅動機構7〇a具備第i主驅動部71a和 第1副驅動部72a,上部驅動機構70b具備第2主驅動部 71b和第2副驅動部72b。第1、第2主驅動部71a、71b 各使下部擷取器52a及上部擷取器52b進出退避,第1、 第2副驅動部72a、72b各使下部滑動擷取器61a及上部 -20- 201012726 滑動擷取器61進出退避。 再者’在本例中,第1副驅動部72a被安裝於基部 5 5a,第1副驅動部72a被構成與下部擷取器52a —起移 動。同樣地,第2副驅動部72a例如被安裝於基部55b, 第2副驅動部72b被構成與上部擷取器5 2b —起移動。 第1、第2副驅動部72a及72b即使構成滑動擷取器 61a及61b與藉由第1、第2主驅動部71a及71b而產生 φ 之擷取器52a及52b之進出退避動作無關係,即使個別使 進出退避動作亦可。 再者’第1、第2副驅動部72a及72b即使構成與藉 由第1、第2主驅動部71a及71b而產生之擷取器52a及 5 2b之進出退避動作連鎖,而使滑動擷取器61a及61b進 出退避動作亦可。當與擷取器52a及5 2b之進出退避連鎖 而使滑動擷取器61a及61b進出退避時,因同時使擷取器 5 2a及5 2b和滑動擷取器61a及61b同時動作,故可以取 φ 得如能夠提高搬運速度之優點。 以下,說明滑動擷取器61a及61b可以與擷取器52a 及5 2b之進出退避動作連鎖而進出退避之驅動機構的一例 〇 第10圖及第11圖係槪略性表示可以使擷取器及滑動 擷取器連鎖驅動之驅動機構之一例的斜視圖。並且,第10 圖係表示擷取器及滑動擷取器退避之狀態,第11圖係表 示擷取器及滑動擷取器進出之狀態。 在以下之說明中,注目於驅動下部擷取器5 2a及下部 -21 - 201012726 滑動擷取器61a的下部驅動機構70a。 並且,上部驅動機構7〇b雖然無特別圖式,但是僅以 下說明之下部驅動機構70a,和例如對第2副驅動部72b 安裝的上部擷取器5 2b及上部滑動擷取器61b之安裝位置 爲相反,可以構成相同。因此,省略其說明。 如第10圖所示般,第1主驅動部71a被設置在下部 滑座51a。第1主驅動部71a具備藉由屬於驅動機構58 ( 參照第5圖B)之馬達80被驅動,旋轉之第1滑輪(驅 動側滑輪)81,和隨著該第1滑輪81之旋轉經第1驅動 力傳達構件82 (例如帶齒皮帶,具體一例爲時序皮帶)旋 轉之第2滑輪(被動側滑輪)83,和連結第1驅動力傳達 構件82和下部擷取器5 2a,並隨著第1驅動力傳達構件 82之移動而移動並使下部擷取器52a進出退避之第1夾鉗 構件84。第1夾鉗構件84在本例中,被連結且固定於下 部擷取器52a之基部55a。 第1副驅動部72a被設置於基盤90。基盤90在本例 中被連結且固定於下部擷取器5 2a之基部55a。第1副驅 動部72a具備旋轉之第3滑輪(驅動側滑輪)91,和隨著 該第3滑輪91之旋轉經第2驅動力傳達構件92(例如帶 齒皮帶’具體一例爲時序皮帶)旋轉之第4滑輪(被動側 滑輪)93,和連結第2驅動力傳達構件92和下部擷取器 61a’並隨著第2驅動力傳達構件92之移動而移動並使下 部擷取器61a進出退避之第2夾鉗構件94。在本例中,第 3滑輪91隨著下部擷取部52a之移動而旋轉,第2夾鉗構 -22- 201012726 件94連結並固定於下部滑動擷取器61a之基部62a。 並且,在本例中,又具備有隨著第1驅動力傳達構件 82之移動而k轉的一對之空轉輪(空轉滑輪)96。一對空 轉輪96邊隨著第1驅動力傳達構件82之移動而旋轉,邊 與第1驅動力傳達構件82之移動,即是下部擷取器5 2a 之移動同時移動(參照第11圖)。在本例中,構成一對 空轉輪96之一個滑輪咬合於第1驅動力傳達構件82,例 0 如帶齒皮帶。一個滑輪咬合於帶齒皮帶之空轉輪96邊隨 著帶齒皮帶之移動而旋轉,邊移動至與帶齒皮帶之進行方 向相反方向。 並且,在本例中,上述第3滑輪91隨著空轉輪96之 旋轉而旋轉。並且,因第1副驅動部72a被設置在安裝於 下部擷取器52a之基盤90,故上述第3滑輪91也隨著空 轉輪96之移動而移動。 並且,在本例中,於一對空轉輪96和第3滑輪之間 φ ,裝設有減速機97。藉由使減速機97裝設於中間,下部 滑動擷取器61a以相對於下部擷取器52a之移動量被減速 之份量來移動。如此之構成在例如使下部滑動擷取器61a 之進出退避之距離短於下部擷取器52a之進出退避的距離 之時則爲有效果。 接著,說明動作。 馬達80朝第11圖所示之箭頭D所示之方向旋轉時, 第1滑輪81朝箭頭E所示之方向旋轉,第1驅動力傳達 構件82朝箭頭F所示之方向移動。 -23- 201012726 當第1驅動力傳達構件82移動時,連結第1驅動力 傳達構件82和下部擷取器52之第1夾鉗構件84移動, 使下部擷取器5 2a朝箭頭G所示之方向進出。在下部滑座 51a之上面兩側,和下部擷取器52a之基部55a之下面之 間’裝設有導引構件85。因此,下部擷取器52a進出之方 向被規定在導引構件85行進之方向。第1副驅動部72a 被設置在連結且固定於下部擷取器52a之基盤90。因此, 第1副驅動部72a也與下部擷取器52a移動。 並且’當第1驅動力傳達構件82移動時,空轉輪96 邊朝箭頭Η所示之方向旋轉,邊朝箭頭I所示之方向移動 〇 藉由空轉輪96移動,且旋轉,隨著空轉輪96之旋轉 直接旋轉或經減速機97而旋轉之第3滑輪91,邊與基盤 90 —起移動’邊朝箭頭J所示之方向旋轉。當第3滑輪 91朝箭頭J所示之方向旋轉時,第2驅動力傳達構件92 則移動至箭頭Κ所示之方向。 當第2驅動力傳達構件92移動時,連結第2驅動力 傳達構件92和下部滑動擷取器61a之第2夾鉗構件94移 動’且使下部滑動擷取器61a朝箭頭L所示之方向進出。 在基盤90之上面兩側,和下部滑動擷取器61a之基部62a 之間’裝設引導構件95a,並且在下部擷取器52a之支撐 構件56a之上面’和下部滑動擷取器61a之支撐構件63a 之間,各裝設薄型引導構件95b…。下部擷取器61a進出 之方向被規定在導引構件95a、95b行進之方向。 201012726 再者,當使馬達80朝與箭頭D所示之方向相反相向 旋轉時,執行與上述動作相反之動作,可以使下部擷取器 52a及下部滑動擷取器61a退避。 如此一來,若藉由第1〇圖及第11圖所示之驅動機構 時,則可以與擷取器及滑動擷取器連鎖驅動。 以上,雖然藉由一實施型態說明該發明,但是該發明 並不限定於上述一實施型態,可作各種變形。再者’在該 發明之實施型態中,上述一實施型態並非唯一之實施型態 〇 例如,在上述一實施型態中,支撐基板之擷取器雖然 使用具有滑動移動之滑動擷取器之搬運機構,但是即使具 有關節之純量型之搬運機構的擷取器等之其他搬運機構亦 可0 再者,在上述實施型態中,雖然針對在真空中執行搬 運之情形予以說明,但是並不限定於此,亦可適用於執行 大氣中搬運之搬運裝置。 並且,在上述實施型態中,雖然將本發明適用於蝕刻 裝置,但是並不限定於蝕刻處理,當然也可以適用於成膜 等之其他處理。 再者,在上述實施型態中,雖然以多室型之裝置爲例 予以說明,但是即使爲處理腔室僅有一台之單室型之裝置 亦可以適用。 並且,在上述實施型態中,雖然表示使用FPD用基板 當作被搬運體之例,但是被搬運體並不限定於FPD用基板 -25- 201012726 ,即使爲半導體晶圓等之其他基板亦可。 【圖式簡單說明】 第1圖係槪略性表示使用本發明之一實施型態所涉及 之搬運裝置之處理裝置的斜視圖。 第2圖係槪略性表示第1圖之處理裝置之內部的水平 剖面圖。 第3圖係表示處理腔室之一例的剖面圖。 第4圖係槪略性表示一實施型態所涉及之搬運裝置的 斜視圖。 第5圖A係表示從第4圖中之箭頭5A側所觀看到之 前視圖,第5圖B爲從第4圖中之箭頭5B側所觀看到之 側面圖。 第6圖A係表示下部擷取器進出之狀態圖,第6圖B 係表示下部擷取器進出之狀態圖。 第7圖A係表示上部擷取器進出之狀態圖,第7圖B 係表示上部擷取器進出之狀態圖。 第8圖係表示第8圖A及第8圖B搬運被搬運體之狀 態圖。 第9圖A及第9圖B係槪略性表示驅動機構之一例的 剖面圖。 第10圖係槪略性表示可以使擷取器及滑動擷取器連 鎖驅動之驅動機構之一例的斜視圖。 第11圖係槪略性表示可以使擷取器及滑動擷取器連 -26- 201012726 鎖驅動之驅動機構之一例的斜視圖。 【主要元件符號說明】 10 :處理腔室 20 :搬運室 30 :裝載鎖定室 50 :搬運裝置 φ 5 1 a :下部滑座 51b :上部滑座 52a :下部擷取器 52b :上部擷取器 53a〜53c:矩形框架 54a、54b :滑動部 55a、55b :基部 56a、56b :支撐構件 φ 5 7a、5 7b :水平構件 57c、57d :垂直構件 5 8 :驅動機構 59 :搬運控制部 60a ' 60b:滑動部 61a:下部滑動擷取器 61b:上部滑動擷取器 6 2 a :基部 62b :基部 -27- 201012726 63a、63b :支撐構件 70a :下部驅動機構 70b :上部驅動機構 71a、71b:主驅動部 72a、72b :副驅動部 8 0 :馬達 81 :第1滑輪 82:第1驅動力傳達構件 83 :第2滑輪 84 :第1夾鉗構件 85 :導引構件 90 :基盤 91 :第3滑輪 92:第2驅動力傳達構件 93 :第4滑輪 94 :第2夾鉗構件 95 :導引構件 96 :空轉輪 9 7 :減速機 G : FPD用基板 -28-