JP3332982B2 - 基板処理システムおよびキャリア搬送装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板処理システムおよ
びキャリア搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工場やＬＣＤ製造工場では、
生産性を上げるために、複数枚の基板（半導体ウエハあ
るいはＬＣＤ基板）をキャリアまたはカセット等と称さ
れる容器に収容した状態で一括して工程間搬送するよう
にしている。

【０００３】例えば、半導体製造工場において、リソグ
ラフィ工程の処理を受けた半導体ウエハは、複数枚例え
ば２５枚ずつキャリアに収容された状態で作業員あるい
は自走式の搬送ロボットにより縦型熱処理装置まで工程
間搬送される。縦型熱処理装置では、半導体ウエハをキ
ャリアからウエハボートに移し替え、ウエハボートに多
数枚たとえば１５０枚ずつ載せて炉に入れ、酸化、拡散
またはＣＶＤ等の熱処理を施す。

【０００４】なお、一般にこのようなシステムは、天井
部から床部に向けて清浄化空気のダウンフローが形成さ
れたクリーンルーム内に配置されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のシステムでは、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
によってキャリアを工程間搬送しており、縦型熱処理装
置においては、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
が、キャリア受け渡し位置まで接近してきてキャリアの
受け渡しを直接行っていた。

【０００６】しかしながら、このような搬送ロボットあ
るいは作業員の動きによって塵芥が発生するとともに、
搬送ロボットの自走あるいは作業員の歩行等によってク
リーンルーム内のダウンフローに乱れが生じ、これによ
って、塵芥が半導体ウエハ等に付着し、歩留まりの低下
を招くという問題があった。また、工程間の間隔が長い
場合等は、これらの搬送に時間を要し、生産性の低下を
招くという問題があった。

【０００７】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、従来に較べて歩留まりの向上と、生産性
の向上を図ることのできる基板処理システムおよびキャ
リア搬送装置を提供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の基板処理
システムは、基板に所定の処理を施す基板処理装置と、
この基板処理装置の上方において前記基板を収容したキ
ャリアを工程間搬送する工程間搬送機構と、筒状の筐体
と、前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持す
るキャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリ
ア保持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間
搬送機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、
前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気
機構とを具備し、前記キャリア保持機構が、略垂直な面
内で回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部
のキャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持ア
ームを有し、このキャリア保持アームを下方から上方に
向けて回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で
昇降するよう構成されているキャリア搬送装置とを具備
したことを特徴とする。

【０００９】請求項２記載のキャリア搬送装置は、基板
に所定の処理を施す基板処理装置と、この基板処理装置
の上方において前記基板を収容したキャリアを工程間搬
送する工程間搬送機構とを具備した基板処理システムに
配置されるキャリア搬送装置であって、筒状の筐体と、
前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持するキ
ャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリア保
持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間搬送
機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、 前記
筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気機構
とを具備し、 前記キャリア保持機構が、略垂直な面内で
回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部のキ
ャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持アーム
を有し、このキャリア保持アームを下方から上方に向け
て回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で昇降
するよう構成されていることを特徴とする。

【００１０】

【００１１】

【００１２】

【作用】上記構成の本発明の基板処理システムおよびキ
ャリア搬送装置によれば、比較的清浄度の高いクリーン
ルームの高所に配設した工程間搬送機構によってキャリ
アを工程間搬送し、このキャリアをキャリア搬送装置に
よって昇降させて縦型熱処理装置等の基板処理装置に渡
し、処理を実行することができる。

【００１３】これによって、自走式の搬送ロボットや作
業員による工程間搬送が不要となり、歩留まりの向上と
生産性の向上を図ることができる。

【００１４】さらに、アームによって、このアームを駆
動する機構の上方にキャリアを持ち上げた状態でキャリ
アを昇降させることにより、アームを駆動する機構から
発生した塵埃がキャリア内の半導体ウエハ等に付着する
ことを防止することができ、また、排気機構によって、
筐体内部の空気を排気することにより、筐体内部を周囲
に較べて若干負圧に保つことができ、筐体内部の駆動機
構等で発生した塵埃が外部に漏洩して半導体ウエハ等に
付着することを防止することができる。これによって歩
留まりの向上を図ることができる。

【００１５】

【実施例】以下、図面を参照して本発明を熱処理システ
ムに適用した実施例について説明する。

【００１６】図１に示すように、この基板処理システム
には、複数台例えば４台の縦型熱処理装置１、２、３、
４が一列に配設されており、その配列方向端部（図中右
側）には、Ｉ／Ｏステーション５およびキャリア搬送装
置６が配設されている。また、これらの装置の前方に
は、これらの装置列に沿ってキャリアＣＲを搬送するキ
ャリアライナ７の搬送路８が設けられている。

【００１７】さらに、キャリア搬送装置６の側方上部に
は、予め配設された軌道に沿って、例えばベルト搬送等
によってキャリアＣＲを工程間搬送する工程間搬送装置
９が配設されている。なお、キャリアＣＲは、半導体ウ
エハＷを複数枚、例えば２５枚ずつ収容可能に構成され
ており、工程間搬送装置９は、このキャリアＣＲが搬送
方向と直角な方向に２つ並んだ状態で搬送することがで
きるよう構成されている。また、これに応じて、後述す
るキャリア搬送装置６およびキャリアライナ７等はキャ
リアＣＲを一度に２個ずつ搬送することができるように
構成されている。

【００１８】次に、図２〜図４を参照して、上記キャリ
ア搬送装置６の構成について説明する。キャリア搬送装
置６には、その外部を覆う筒状の筐体１０が設けられて
おり、この筐体１０内には、図３に示すように、上端部
に設けられた回転軸１１ａ、下端部に設けられた回転軸
１１ｂ、これらの間に巻回されたベルト１２、回転軸１
１ｂを駆動する駆動機構１３等から構成された昇降機構
が設けられている。この昇降機構のベルト１２には、基
台１４が取り付けられており、駆動機構１３によって回
転軸１１ｂを介してベルト１２を移動させ、これによっ
て基台１４を昇降動作させるよう構成されている。ま
た、図４に示すように、ベルト１２の両側には、棒状の
ガイド１２ａが配設されており、基台１４は、図示しな
いベアリングを介してこれらのガイド１２ａによって上
下方向の動きをガイドされるようになっている。

【００１９】なお、筐体１０上部の工程間搬送装置９側
の側壁部と筐体１０下部のＩ／Ｏステーション５側の側
壁部には、後述するキャリア保持アーム１６を出し入れ
するための開口１０ａが設けられている。また、筐体１
０の側壁部には、図２に示すように、内部を目視可能と
するための監視用窓１０ｂが配設されている。

【００２０】さらに、駆動機構１３の下部には、排気機
構収容部１５が設けられており、この排気機構収容部１
５には、モータおよびファン等からなる排気機構（図示
せず）が配設されている。そして、筐体１０の底部から
クリーンルームの床に向けて排気を行い、筐体１０内を
周囲に較べて僅かに負圧に保ち、筐体１０内で発生した
塵埃がクリーンルーム内に飛散しないよう構成されてい
る。

【００２１】基台１４上には、キャリア保持アーム１
６、このキャリア保持アーム１６を回動させるアーム駆
動機構１７、キャリア保持アーム１６の先端部に設けら
れたキャリア把持機構１８等から構成されたキャリア保
持機構が配設されている。

【００２２】キャリア把持機構１８には、図４に示すよ
うに、対向するように配置された、キャリア把持部１９
が設けられており、図中矢印で示すようにこのキャリア
把持部１９を開閉動作させることによって、キャリアＣ
Ｒの上部に設けられたフランジ部（図示せず）を係止
し、一度に２つのキャリアＣＲを把持可能に構成されて
いる。

【００２３】そして、上記キャリア把持機構１８によっ
て２つのキャリアＣＲを把持した後、アーム駆動機構１
７によってキャリア保持アーム１６を略垂直な平面内で
回動させ、アーム駆動機構１７の直上にキャリアＣＲを
持ち上げ、この状態で駆動機構１３により基台１４を昇
降させるよう構成されている。

【００２４】このようにして、キャリア搬送装置６は、
工程間搬送装置９とＩ／Ｏステーション５との間で、一
度に２つずつキャリアＣＲを搬送する。これによって、
工程間搬送装置９によるクリーンルーム内の高所におけ
るキャリアＣＲの工程間搬送が可能となり、従来のよう
に、自走式の搬送ロボットあるいは作業員による工程間
搬送が不要となるので、塵埃の半導体ウエハＷに対する
付着可能性を低減して歩留まりの向上を図ることができ
るとともに、効率的な工程間搬送が可能となることによ
って生産性の向上を図ることができる。

【００２５】次に、Ｉ／Ｏステーション５について説明
する。

【００２６】図５に示すように、Ｉ／Ｏステーション５
には、キャリアＣＲを載置するための２つの載置台３
１、３２が設けられており、これらの載置台３１、３２
は、それぞれターンテーブル３３、３４によって回転自
在に構成されている。また、２つのキャリアＣＲの間隔
を変更する機構として、例えば、載置台３１およびター
ンテーブル３３を図示矢印Ｙ方向に移動するベルト３５
リニアガイド３６等からなるベルト駆動機構が設けられ
ている。さらに、載置台３１、３２の後方には、キャリ
アＣＲに配設された識別標識、例えばバーコードを読み
取るための光学的読取機構３７、３８が設けられてい
る。

【００２７】そして、キャリア搬送装置６によって、工
程間搬送装置９から下ろされてきた２つのキャリアＣＲ
が載置台３１、３２上に載置されると、まず、図示しな
いモータによってベルト３５を駆動し、２つのキャリア
ＣＲの間の間隔を拡げる。

【００２８】このようにして、互いのキャリアＣＲが干
渉しないようにし、次に、ターンテーブル３３、３４を
回転させて、キャリアＣＲに貼着されたバーコードを光
学的読取機構３７、３８によって読み取る。この読み取
り結果は、システム全体の動作を統括的に制御する図示
しないホストコンピュータに送られる。

【００２９】しかる後、ベルト３５を駆動して、２つの
キャリアＣＲの間の間隔をキャリアライナ７が保持可能
な所定間隔に設定し、待機する。

【００３０】次に、キャリアライナ７の構成および動作
についてを説明する。図１に示すように、キャリアライ
ナ７は、各熱処理装置１〜４、およびＩ／Ｏステーショ
ン５の正面部に沿って一直線に延設された搬送路８上を
水平移動できるようになっている。

【００３１】Ｉ／Ｏステーション５でキャリアＣＲを受
け取ると、キャリアライナ７は、システム全体の動作を
統括的に制御するホストコンピュータからの指示に従っ
て、そのキャリアＣＲを所定の熱処理装置１〜４のいず
れかに搬送する。本実施例の熱処理システムでは、各々
が１個のキャリアＣＲを搬送できる一対のキャリアライ
ナ７、７を一体に並設した双頭型のキャリアライナと
し、一度に２個のキャリアＣＲを並べて搬送できるよう
にしている。

【００３２】図６〜図８に、キャリアライナ７の要部の
具体的構成例を示す。図６および図７において、垂直方
向に配設されたシリンダ７２より突出したピストンロッ
ド７４の先端に基板７６が水平に取付され、この基板７
６上に立設された垂直支持板７８に回転軸８０を介して
アーム支持部８２が回転可能に取付されている。

【００３３】アーム支持部８２の上面には第１アーム８
４がスライド部８６を介してアーム長手方向に摺動可能
に取付され、第１アーム８４の上面に第２アーム８８が
スライド部９０を介してアーム長手方向に摺動可能に取
付されている。アーム支持部８２の上面の両端には第１
アーム８４に対するストッパ部材８２ａが固着され、第
１アーム８４の上面の両端には第２アーム８８に対する
ストッパ部材８４ａが固着されている。第２アーム８８
は、スライド部９０に固着されたアーム基板８８ａと、
キャリアＣＲを把持する一対のキャリア把持部８８ｂ
と、キャリア把持部８８ｂを開閉するアーム開閉部８８
ｃとからなる。

【００３４】アーム支持部８２の一側面には３つの固定
プーリ９２、９４、９６が取り付けられ、これらのプー
リのうち最も基端側の固定プーリ９２は回転駆動軸１０
２に結合されている。第２アーム８４の一側面には４つ
の固定プーリ１０４、９８、１００、１０６が取付され
ている。これら７つのプーリ９２→９４→９６→９８→
１０６→１０４→１００→９２の間で１本の無端状駆動
ベルトＢＬが掛け渡され、この駆動ベルトＢＬはクラン
プ部材１０８を介して第２アーム８８のアーム基板８８
ａに固着されている。

【００３５】図６の状態において、駆動モータ（図示せ
ず）が回転駆動軸１０２を介して駆動プーリ９２を時計
方向に回転させると、駆動ベルトＢＬが矢印Ｃ0 方向に
走行することにより、クランプ部材１０８を介して第２
アーム８８が矢印Ｂ0 方向に移動（後退）する。そし
て、第２アーム８８のアーム基板８８ａの基端が第１ア
ーム８４の基端側ストッパ８４ａに当接したところで、
第２アーム８８の移動（後退）が止まり、図７に示すよ
うな状態となる。図７の状態からさらに駆動プーリ９２
を時計方向に回転させると、第２アーム８８と第１アー
ム８４とが一体になって矢印Ｂ0 方向に移動（後退）す
る。両アーム８８、８４の移動（後退）は第１アーム８
４の基端がアーム支持部８２の後端側ストッパ８２ａに
当接するまで可能である。両アーム８４、８８が後退し
た状態から駆動プーリ９２を反時計方向に回転駆動する
と、上記と反対の動作が行われ、最初に第１および第２
アーム８４、８８が矢印Ｂ1 方向に一体に移動（前進）
し、次に第２アーム８８だけが同方向に移動（前進）す
ることになる。

【００３６】このように、キャリアライナ７は、第１お
よび第２アーム８４、８８を２段伸縮できるように構成
されている。これにより、搬送路８が狭くても、アーム
８４、８８を縮めることで、向きを変えずに迅速にキャ
リアＣＲの搬送を行うことができる。また、各部のキャ
リア受け渡し位置が奥まっていても、アーム８４、８８
を伸ばすことで、容易にキャリアＣＲの搬入・搬出を行
うことができる。

【００３７】さらに、このキャリアライナ７において
は、次のような機構により、キャリアＣＲ内のウエハＷ
が傾く方向にキャリアＣＲを傾けることができるように
なっている。基板７６の基端部上にエアシリンダ１１０
が垂直方向に配設され、そのピストンロッド１１２はジ
ョイント１１４を介してアーム支持部８２の基端部下面
に接続している。

【００３８】キャリアＣＲのフランジ部ＦＬが水平にな
っている状態つまりキャリアＣＲ内のウエハＷが垂直状
態になっている状態からピストンロッド１１２を前進さ
せると、回転軸８０を中心としてアーム支持部８２およ
び第１、第２アーム８４、８８が反時計方向に回動する
ことにより、第２アーム８８のキャリア把持部８８ｂの
先端側が下がり、キャリアＣＲが下向きに傾く。このと
き、キャリアＣＲ内のウエハＷはたとえば被処理面が上
向きになるように傾く。ピストンロッド１１２を戻すこ
とで、上記と逆の動作が行われ、キャリアＣＲのフラン
ジ部ＦＬが水平状態になり、内部のウエハＷが垂直状態
に戻る。ピストンロッド１１２をさらに後退させると、
回転軸８０を中心としてアーム支持部８２および第１お
よび第２アーム８４、８８が時計方向に回動し、第２ア
ーム８８のキャリア把持部８８ｂの先端側が上がり、キ
ャリアＣＲが上向きに傾く。このとき、キャリアＣＲ内
のウエハＷは被処理面が下向きになるように傾く。一般
的には、ウエハＷが少し下向きになるような方向に傾け
る方が塵埃の付着を少なくする意味で好ましい。垂直支
持板７８には、アーム支持部８２の底部を所定の回動角
度で受け止めるように、時計回りに対するストッパ１１
６および反時計回りに対するストッパ１１８が取付され
ている。

【００３９】なお、図８に示すように、キャリアＣＲの
フランジ部ＦＬの両端部付近には段部ＣＲａが形成さ
れ、この段部ＣＲａに対応して第２アーム８８のキャリ
ア把持部８８ｂには凹凸部８８ｅが形成されている。キ
ャリアライナ２２がキャリアＣＲを把持するときは、キ
ャリア把持部８８ｂの凹凸部８８ｅがキャリアＣＲの段
部ＣＲａに係合し、これにより、キャリアＣＲを下向き
に傾けてもアームから脱落しないようになっている。

【００４０】このように、本実施例のキャリアライナ７
は、ウエハＷが傾く方向にキャリアＣＲを一定範囲内で
任意の角度に傾けることができる。したがって、次のよ
うなキャリア搬送動作を行うことができる。

【００４１】まず、Ｉ／Ｏステーション５で、第１およ
び第２アーム８４、８８を延ばしてキャリアＣＲを受け
取り、エアシリンダ７２の駆動でキャリアＣＲを所定の
高さまで持ち上げ、エアシリンダ１１０の駆動でたとえ
ば下向きに約５度傾け、アーム８４、８８を縮める。次
いで、その状態つまりアーム８４、８８を縮めかつ下向
きに約 5度傾けた状態で搬送路８上を水平移動して該キ
ャリアＣＲを各熱処理装置１〜４まで搬送し、そこでア
ーム８４、８８を延ばして該キャリウＣＲを各部のキャ
リア受け渡し部ＧＷの上方へ搬入し、エアシリンダ１１
０を作動させてアーム８４、８８およびキャリアＣＲを
水平に戻し、次にエアシリンダ７２を作動させてキャリ
アＣＲをキャリア受け渡し部ＧＷに降ろす。このよう
に、キャリアライナ７がウエハＷを適当な角度で傾けな
がらキャリアＣＲを搬送することで、キャリアＣＲ内で
ウエハＷがガタガタ動くことがなく、キャリアＣＲ内で
の塵埃の発生を防止することができる。

【００４２】なお、搬送路８においてキャリアライナ７
を水平移動させるための駆動機構には、ボールネジ式や
ベルト式等の慣用の駆動機構を用いることができる。ま
た、この搬送路８内には、空気を清浄化してダウンフロ
ーを形成する機構（図示せず）が設けられている。

【００４３】次に、図９を参照して熱処理装置１〜４の
構成を説明する。装置正面のウエハ受け渡し部ＧＷには
キャリア姿勢変換部１９０が設けられている。この姿勢
変換部１９０は、図中矢印で示すように、キャリアＣＲ
に対して、フランジ部ＦＬが上になりウエハＷが垂直状
態で収容されるような第１の姿勢と、フランジ部ＦＬが
側面になりウエハＷがほぼ水平状態で収容されるような
第２の姿勢との間でほぼ９０度回転させるような姿勢変
換を行う。

【００４４】ウエハ受け渡し部ＧＷに近接して、キャリ
ア昇降機１９２が垂設されている。このキャリア昇降機
１９２には、ウエハ受け渡し部ＧＷとトランスファ・ス
テージ１９４およびキャリア保管棚１９６との間でキャ
リアＣＲの搬送を行うキャリア・トランスファ１９８が
取付されている。トランスファ・ステージ１９４の奥に
はキャリアＣＲとウエハボート２００との間でウエハＷ
の移載を行うウエハトランスファ２０２が設けられてい
る。ウエハボート２００はボート昇降機２０４によって
加熱炉２０６に出し入れされるようになっている。

【００４５】キャリア保管棚１９６は、未処理ウエハま
たは処理済ウエハをキャリアＣＲに収納した状態で当該
処理装置内に一時的に保管するためのものである。この
キャリア保管棚１９６に保管されているウエハＷに対
し、慣用のエア供給機構により清浄な空気を層流で供給
するようにしてもよい。

【００４６】以上説明したように、本実施例によれば、
自走式の搬送ロボットあるいは作業員等による工程間搬
送を行わずに効率的な工程間搬送が可能となり、また、
塵埃の半導体ウエハＷに対する付着可能性を低減するこ
とができる。これによって歩留まりの向上と生産性の向
上を図ることができる。

【００４７】なお、上述した実施例では、本発明を縦型
熱処理装置を有するシステムに適用した場合について説
明したが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、半導体ウエハまたはＬＣＤ基板等をキャリアに収
容した状態で搬送する任意の基板処理システムに適用可
能である。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板処理
システムおよびキャリア搬送装置によれば、従来に較べ
て歩留まりの向上と、生産性の向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の基板処理システムの構成を
示す図。

【図２】本発明の一実施例のキャリア搬送装置の構成を
示す図。

【図３】図２のキャリア搬送装置の構成を示す図。

【図４】図２のキャリア搬送装置の構成を示す図。

【図５】図１のＩ／Ｏステーションの構成を示す図。

【図６】図１のキャリアライナの構成を示す図。

【図７】図１のキャリアライナの構成を示す図。

【図８】図１のキャリアライナの構成を示す図。

【図９】縦型熱処理装置の構成を示す図。

【符号の説明】

１，２，３，４ 縦型熱処理装置 ５ Ｉ／Ｏステーション ６ キャリア搬送装置 ７ キャリアライナ ８ 搬送路 ９ 工程間搬送装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−154751（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−261041（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−234143（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−186652（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−67211（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−21740（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
   と、 この基板処理装置の上方において前記基板を収容したキ
   ャリアを工程間搬送する工程間搬送機構と、筒状の筐体と、前記筐体内に設けられ、前記キャリアを
   複数保持するキャリア保持機構と、前記筐体内において
   前記キャリア保持機構を昇降させ、前記基板処理装置と
   前記工程間搬送機構との間で前記キャリアを搬送する昇
   降機構と、前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排
   気する排気機構とを具備し、前記キャリア保持機構が、
   略垂直な面内で回動することにより、前記筐体の両側側
   方に先端部のキャリア把持機構を突出可能とされたキャ
   リア保持アームを有し、このキャリア保持アームを下方
   から上方に向けて回動させて前記キャリアを持ち上げ、
   この状態で昇降するよう構成されているキャリア搬送装
   置と を具備したことを特徴とする基板処理システム。
2. 【請求項２】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
   と、この基板処理装置の上方において前記基板を収容し
   たキャリアを工程間搬送する工程間搬送機構とを具備し
   た基板処理システムに配置されるキャリア搬送装置であ
   って、 筒状の筐体と、 前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持するキ
   ャリア保持機構と、 前記筐体内において前記キャリア保持機構を昇降させ、
   前記基板処理装置と前記工程間搬送機構との間で前記キ
   ャリアを搬送する昇降機構と、 前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気
   機構とを具備し、 前記キャリア保持機構が、略垂直な面内で回動すること
   により、前記筐体の両側側方に先端部のキャリア把持機
   構を突出可能とされたキャリア保持アームを有し、この
   キャリア保持アームを下方から上方に向けて回動させて
   前記キャリアを持ち上げ、この状態で昇降するよう構成
   されていることを特徴とするキャリア搬送装置。