JP3332982B2 - 基板処理システムおよびキャリア搬送装置 - Google Patents
基板処理システムおよびキャリア搬送装置Info
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- JP3332982B2 JP3332982B2 JP5984793A JP5984793A JP3332982B2 JP 3332982 B2 JP3332982 B2 JP 3332982B2 JP 5984793 A JP5984793 A JP 5984793A JP 5984793 A JP5984793 A JP 5984793A JP 3332982 B2 JP3332982 B2 JP 3332982B2
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- carrier
- housing
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板処理システムおよ
びキャリア搬送装置に関する。
びキャリア搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工場やLCD製造工場では、
生産性を上げるために、複数枚の基板(半導体ウエハあ
るいはLCD基板)をキャリアまたはカセット等と称さ
れる容器に収容した状態で一括して工程間搬送するよう
にしている。
生産性を上げるために、複数枚の基板(半導体ウエハあ
るいはLCD基板)をキャリアまたはカセット等と称さ
れる容器に収容した状態で一括して工程間搬送するよう
にしている。
【0003】例えば、半導体製造工場において、リソグ
ラフィ工程の処理を受けた半導体ウエハは、複数枚例え
ば25枚ずつキャリアに収容された状態で作業員あるい
は自走式の搬送ロボットにより縦型熱処理装置まで工程
間搬送される。縦型熱処理装置では、半導体ウエハをキ
ャリアからウエハボートに移し替え、ウエハボートに多
数枚たとえば150枚ずつ載せて炉に入れ、酸化、拡散
またはCVD等の熱処理を施す。
ラフィ工程の処理を受けた半導体ウエハは、複数枚例え
ば25枚ずつキャリアに収容された状態で作業員あるい
は自走式の搬送ロボットにより縦型熱処理装置まで工程
間搬送される。縦型熱処理装置では、半導体ウエハをキ
ャリアからウエハボートに移し替え、ウエハボートに多
数枚たとえば150枚ずつ載せて炉に入れ、酸化、拡散
またはCVD等の熱処理を施す。
【0004】なお、一般にこのようなシステムは、天井
部から床部に向けて清浄化空気のダウンフローが形成さ
れたクリーンルーム内に配置されている。
部から床部に向けて清浄化空気のダウンフローが形成さ
れたクリーンルーム内に配置されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のシステムでは、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
によってキャリアを工程間搬送しており、縦型熱処理装
置においては、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
が、キャリア受け渡し位置まで接近してきてキャリアの
受け渡しを直接行っていた。
のシステムでは、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
によってキャリアを工程間搬送しており、縦型熱処理装
置においては、自走式の搬送ロボットあるいは作業員
が、キャリア受け渡し位置まで接近してきてキャリアの
受け渡しを直接行っていた。
【0006】しかしながら、このような搬送ロボットあ
るいは作業員の動きによって塵芥が発生するとともに、
搬送ロボットの自走あるいは作業員の歩行等によってク
リーンルーム内のダウンフローに乱れが生じ、これによ
って、塵芥が半導体ウエハ等に付着し、歩留まりの低下
を招くという問題があった。また、工程間の間隔が長い
場合等は、これらの搬送に時間を要し、生産性の低下を
招くという問題があった。
るいは作業員の動きによって塵芥が発生するとともに、
搬送ロボットの自走あるいは作業員の歩行等によってク
リーンルーム内のダウンフローに乱れが生じ、これによ
って、塵芥が半導体ウエハ等に付着し、歩留まりの低下
を招くという問題があった。また、工程間の間隔が長い
場合等は、これらの搬送に時間を要し、生産性の低下を
招くという問題があった。
【0007】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、従来に較べて歩留まりの向上と、生産性
の向上を図ることのできる基板処理システムおよびキャ
リア搬送装置を提供しようとするものである。
されたもので、従来に較べて歩留まりの向上と、生産性
の向上を図ることのできる基板処理システムおよびキャ
リア搬送装置を提供しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の基板処理
システムは、基板に所定の処理を施す基板処理装置と、
この基板処理装置の上方において前記基板を収容したキ
ャリアを工程間搬送する工程間搬送機構と、筒状の筐体
と、前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持す
るキャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリ
ア保持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間
搬送機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、
前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気
機構とを具備し、前記キャリア保持機構が、略垂直な面
内で回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部
のキャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持ア
ームを有し、このキャリア保持アームを下方から上方に
向けて回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で
昇降するよう構成されているキャリア搬送装置とを具備
したことを特徴とする。
システムは、基板に所定の処理を施す基板処理装置と、
この基板処理装置の上方において前記基板を収容したキ
ャリアを工程間搬送する工程間搬送機構と、筒状の筐体
と、前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持す
るキャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリ
ア保持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間
搬送機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、
前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気
機構とを具備し、前記キャリア保持機構が、略垂直な面
内で回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部
のキャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持ア
ームを有し、このキャリア保持アームを下方から上方に
向けて回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で
昇降するよう構成されているキャリア搬送装置とを具備
したことを特徴とする。
【0009】請求項2記載のキャリア搬送装置は、基板
に所定の処理を施す基板処理装置と、この基板処理装置
の上方において前記基板を収容したキャリアを工程間搬
送する工程間搬送機構とを具備した基板処理システムに
配置されるキャリア搬送装置であって、筒状の筐体と、
前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持するキ
ャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリア保
持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間搬送
機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、 前記
筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気機構
とを具備し、 前記キャリア保持機構が、略垂直な面内で
回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部のキ
ャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持アーム
を有し、このキャリア保持アームを下方から上方に向け
て回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で昇降
するよう構成されていることを特徴とする。
に所定の処理を施す基板処理装置と、この基板処理装置
の上方において前記基板を収容したキャリアを工程間搬
送する工程間搬送機構とを具備した基板処理システムに
配置されるキャリア搬送装置であって、筒状の筐体と、
前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持するキ
ャリア保持機構と、前記筐体内において前記キャリア保
持機構を昇降させ、前記基板処理装置と前記工程間搬送
機構との間で前記キャリアを搬送する昇降機構と、 前記
筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気機構
とを具備し、 前記キャリア保持機構が、略垂直な面内で
回動することにより、前記筐体の両側側方に先端部のキ
ャリア把持機構を突出可能とされたキャリア保持アーム
を有し、このキャリア保持アームを下方から上方に向け
て回動させて前記キャリアを持ち上げ、この状態で昇降
するよう構成されていることを特徴とする。
【0010】
【0011】
【0012】
【作用】上記構成の本発明の基板処理システムおよびキ
ャリア搬送装置によれば、比較的清浄度の高いクリーン
ルームの高所に配設した工程間搬送機構によってキャリ
アを工程間搬送し、このキャリアをキャリア搬送装置に
よって昇降させて縦型熱処理装置等の基板処理装置に渡
し、処理を実行することができる。
ャリア搬送装置によれば、比較的清浄度の高いクリーン
ルームの高所に配設した工程間搬送機構によってキャリ
アを工程間搬送し、このキャリアをキャリア搬送装置に
よって昇降させて縦型熱処理装置等の基板処理装置に渡
し、処理を実行することができる。
【0013】これによって、自走式の搬送ロボットや作
業員による工程間搬送が不要となり、歩留まりの向上と
生産性の向上を図ることができる。
業員による工程間搬送が不要となり、歩留まりの向上と
生産性の向上を図ることができる。
【0014】さらに、アームによって、このアームを駆
動する機構の上方にキャリアを持ち上げた状態でキャリ
アを昇降させることにより、アームを駆動する機構から
発生した塵埃がキャリア内の半導体ウエハ等に付着する
ことを防止することができ、また、排気機構によって、
筐体内部の空気を排気することにより、筐体内部を周囲
に較べて若干負圧に保つことができ、筐体内部の駆動機
構等で発生した塵埃が外部に漏洩して半導体ウエハ等に
付着することを防止することができる。これによって歩
留まりの向上を図ることができる。
動する機構の上方にキャリアを持ち上げた状態でキャリ
アを昇降させることにより、アームを駆動する機構から
発生した塵埃がキャリア内の半導体ウエハ等に付着する
ことを防止することができ、また、排気機構によって、
筐体内部の空気を排気することにより、筐体内部を周囲
に較べて若干負圧に保つことができ、筐体内部の駆動機
構等で発生した塵埃が外部に漏洩して半導体ウエハ等に
付着することを防止することができる。これによって歩
留まりの向上を図ることができる。
【0015】
【実施例】以下、図面を参照して本発明を熱処理システ
ムに適用した実施例について説明する。
ムに適用した実施例について説明する。
【0016】図1に示すように、この基板処理システム
には、複数台例えば4台の縦型熱処理装置1、2、3、
4が一列に配設されており、その配列方向端部(図中右
側)には、I/Oステーション5およびキャリア搬送装
置6が配設されている。また、これらの装置の前方に
は、これらの装置列に沿ってキャリアCRを搬送するキ
ャリアライナ7の搬送路8が設けられている。
には、複数台例えば4台の縦型熱処理装置1、2、3、
4が一列に配設されており、その配列方向端部(図中右
側)には、I/Oステーション5およびキャリア搬送装
置6が配設されている。また、これらの装置の前方に
は、これらの装置列に沿ってキャリアCRを搬送するキ
ャリアライナ7の搬送路8が設けられている。
【0017】さらに、キャリア搬送装置6の側方上部に
は、予め配設された軌道に沿って、例えばベルト搬送等
によってキャリアCRを工程間搬送する工程間搬送装置
9が配設されている。なお、キャリアCRは、半導体ウ
エハWを複数枚、例えば25枚ずつ収容可能に構成され
ており、工程間搬送装置9は、このキャリアCRが搬送
方向と直角な方向に2つ並んだ状態で搬送することがで
きるよう構成されている。また、これに応じて、後述す
るキャリア搬送装置6およびキャリアライナ7等はキャ
リアCRを一度に2個ずつ搬送することができるように
構成されている。
は、予め配設された軌道に沿って、例えばベルト搬送等
によってキャリアCRを工程間搬送する工程間搬送装置
9が配設されている。なお、キャリアCRは、半導体ウ
エハWを複数枚、例えば25枚ずつ収容可能に構成され
ており、工程間搬送装置9は、このキャリアCRが搬送
方向と直角な方向に2つ並んだ状態で搬送することがで
きるよう構成されている。また、これに応じて、後述す
るキャリア搬送装置6およびキャリアライナ7等はキャ
リアCRを一度に2個ずつ搬送することができるように
構成されている。
【0018】次に、図2〜図4を参照して、上記キャリ
ア搬送装置6の構成について説明する。キャリア搬送装
置6には、その外部を覆う筒状の筐体10が設けられて
おり、この筐体10内には、図3に示すように、上端部
に設けられた回転軸11a、下端部に設けられた回転軸
11b、これらの間に巻回されたベルト12、回転軸1
1bを駆動する駆動機構13等から構成された昇降機構
が設けられている。この昇降機構のベルト12には、基
台14が取り付けられており、駆動機構13によって回
転軸11bを介してベルト12を移動させ、これによっ
て基台14を昇降動作させるよう構成されている。ま
た、図4に示すように、ベルト12の両側には、棒状の
ガイド12aが配設されており、基台14は、図示しな
いベアリングを介してこれらのガイド12aによって上
下方向の動きをガイドされるようになっている。
ア搬送装置6の構成について説明する。キャリア搬送装
置6には、その外部を覆う筒状の筐体10が設けられて
おり、この筐体10内には、図3に示すように、上端部
に設けられた回転軸11a、下端部に設けられた回転軸
11b、これらの間に巻回されたベルト12、回転軸1
1bを駆動する駆動機構13等から構成された昇降機構
が設けられている。この昇降機構のベルト12には、基
台14が取り付けられており、駆動機構13によって回
転軸11bを介してベルト12を移動させ、これによっ
て基台14を昇降動作させるよう構成されている。ま
た、図4に示すように、ベルト12の両側には、棒状の
ガイド12aが配設されており、基台14は、図示しな
いベアリングを介してこれらのガイド12aによって上
下方向の動きをガイドされるようになっている。
【0019】なお、筐体10上部の工程間搬送装置9側
の側壁部と筐体10下部のI/Oステーション5側の側
壁部には、後述するキャリア保持アーム16を出し入れ
するための開口10aが設けられている。また、筐体1
0の側壁部には、図2に示すように、内部を目視可能と
するための監視用窓10bが配設されている。
の側壁部と筐体10下部のI/Oステーション5側の側
壁部には、後述するキャリア保持アーム16を出し入れ
するための開口10aが設けられている。また、筐体1
0の側壁部には、図2に示すように、内部を目視可能と
するための監視用窓10bが配設されている。
【0020】さらに、駆動機構13の下部には、排気機
構収容部15が設けられており、この排気機構収容部1
5には、モータおよびファン等からなる排気機構(図示
せず)が配設されている。そして、筐体10の底部から
クリーンルームの床に向けて排気を行い、筐体10内を
周囲に較べて僅かに負圧に保ち、筐体10内で発生した
塵埃がクリーンルーム内に飛散しないよう構成されてい
る。
構収容部15が設けられており、この排気機構収容部1
5には、モータおよびファン等からなる排気機構(図示
せず)が配設されている。そして、筐体10の底部から
クリーンルームの床に向けて排気を行い、筐体10内を
周囲に較べて僅かに負圧に保ち、筐体10内で発生した
塵埃がクリーンルーム内に飛散しないよう構成されてい
る。
【0021】基台14上には、キャリア保持アーム1
6、このキャリア保持アーム16を回動させるアーム駆
動機構17、キャリア保持アーム16の先端部に設けら
れたキャリア把持機構18等から構成されたキャリア保
持機構が配設されている。
6、このキャリア保持アーム16を回動させるアーム駆
動機構17、キャリア保持アーム16の先端部に設けら
れたキャリア把持機構18等から構成されたキャリア保
持機構が配設されている。
【0022】キャリア把持機構18には、図4に示すよ
うに、対向するように配置された、キャリア把持部19
が設けられており、図中矢印で示すようにこのキャリア
把持部19を開閉動作させることによって、キャリアC
Rの上部に設けられたフランジ部(図示せず)を係止
し、一度に2つのキャリアCRを把持可能に構成されて
いる。
うに、対向するように配置された、キャリア把持部19
が設けられており、図中矢印で示すようにこのキャリア
把持部19を開閉動作させることによって、キャリアC
Rの上部に設けられたフランジ部(図示せず)を係止
し、一度に2つのキャリアCRを把持可能に構成されて
いる。
【0023】そして、上記キャリア把持機構18によっ
て2つのキャリアCRを把持した後、アーム駆動機構1
7によってキャリア保持アーム16を略垂直な平面内で
回動させ、アーム駆動機構17の直上にキャリアCRを
持ち上げ、この状態で駆動機構13により基台14を昇
降させるよう構成されている。
て2つのキャリアCRを把持した後、アーム駆動機構1
7によってキャリア保持アーム16を略垂直な平面内で
回動させ、アーム駆動機構17の直上にキャリアCRを
持ち上げ、この状態で駆動機構13により基台14を昇
降させるよう構成されている。
【0024】このようにして、キャリア搬送装置6は、
工程間搬送装置9とI/Oステーション5との間で、一
度に2つずつキャリアCRを搬送する。これによって、
工程間搬送装置9によるクリーンルーム内の高所におけ
るキャリアCRの工程間搬送が可能となり、従来のよう
に、自走式の搬送ロボットあるいは作業員による工程間
搬送が不要となるので、塵埃の半導体ウエハWに対する
付着可能性を低減して歩留まりの向上を図ることができ
るとともに、効率的な工程間搬送が可能となることによ
って生産性の向上を図ることができる。
工程間搬送装置9とI/Oステーション5との間で、一
度に2つずつキャリアCRを搬送する。これによって、
工程間搬送装置9によるクリーンルーム内の高所におけ
るキャリアCRの工程間搬送が可能となり、従来のよう
に、自走式の搬送ロボットあるいは作業員による工程間
搬送が不要となるので、塵埃の半導体ウエハWに対する
付着可能性を低減して歩留まりの向上を図ることができ
るとともに、効率的な工程間搬送が可能となることによ
って生産性の向上を図ることができる。
【0025】次に、I/Oステーション5について説明
する。
する。
【0026】図5に示すように、I/Oステーション5
には、キャリアCRを載置するための2つの載置台3
1、32が設けられており、これらの載置台31、32
は、それぞれターンテーブル33、34によって回転自
在に構成されている。また、2つのキャリアCRの間隔
を変更する機構として、例えば、載置台31およびター
ンテーブル33を図示矢印Y方向に移動するベルト35
リニアガイド36等からなるベルト駆動機構が設けられ
ている。さらに、載置台31、32の後方には、キャリ
アCRに配設された識別標識、例えばバーコードを読み
取るための光学的読取機構37、38が設けられてい
る。
には、キャリアCRを載置するための2つの載置台3
1、32が設けられており、これらの載置台31、32
は、それぞれターンテーブル33、34によって回転自
在に構成されている。また、2つのキャリアCRの間隔
を変更する機構として、例えば、載置台31およびター
ンテーブル33を図示矢印Y方向に移動するベルト35
リニアガイド36等からなるベルト駆動機構が設けられ
ている。さらに、載置台31、32の後方には、キャリ
アCRに配設された識別標識、例えばバーコードを読み
取るための光学的読取機構37、38が設けられてい
る。
【0027】そして、キャリア搬送装置6によって、工
程間搬送装置9から下ろされてきた2つのキャリアCR
が載置台31、32上に載置されると、まず、図示しな
いモータによってベルト35を駆動し、2つのキャリア
CRの間の間隔を拡げる。
程間搬送装置9から下ろされてきた2つのキャリアCR
が載置台31、32上に載置されると、まず、図示しな
いモータによってベルト35を駆動し、2つのキャリア
CRの間の間隔を拡げる。
【0028】このようにして、互いのキャリアCRが干
渉しないようにし、次に、ターンテーブル33、34を
回転させて、キャリアCRに貼着されたバーコードを光
学的読取機構37、38によって読み取る。この読み取
り結果は、システム全体の動作を統括的に制御する図示
しないホストコンピュータに送られる。
渉しないようにし、次に、ターンテーブル33、34を
回転させて、キャリアCRに貼着されたバーコードを光
学的読取機構37、38によって読み取る。この読み取
り結果は、システム全体の動作を統括的に制御する図示
しないホストコンピュータに送られる。
【0029】しかる後、ベルト35を駆動して、2つの
キャリアCRの間の間隔をキャリアライナ7が保持可能
な所定間隔に設定し、待機する。
キャリアCRの間の間隔をキャリアライナ7が保持可能
な所定間隔に設定し、待機する。
【0030】次に、キャリアライナ7の構成および動作
についてを説明する。図1に示すように、キャリアライ
ナ7は、各熱処理装置1〜4、およびI/Oステーショ
ン5の正面部に沿って一直線に延設された搬送路8上を
水平移動できるようになっている。
についてを説明する。図1に示すように、キャリアライ
ナ7は、各熱処理装置1〜4、およびI/Oステーショ
ン5の正面部に沿って一直線に延設された搬送路8上を
水平移動できるようになっている。
【0031】I/Oステーション5でキャリアCRを受
け取ると、キャリアライナ7は、システム全体の動作を
統括的に制御するホストコンピュータからの指示に従っ
て、そのキャリアCRを所定の熱処理装置1〜4のいず
れかに搬送する。本実施例の熱処理システムでは、各々
が1個のキャリアCRを搬送できる一対のキャリアライ
ナ7、7を一体に並設した双頭型のキャリアライナと
し、一度に2個のキャリアCRを並べて搬送できるよう
にしている。
け取ると、キャリアライナ7は、システム全体の動作を
統括的に制御するホストコンピュータからの指示に従っ
て、そのキャリアCRを所定の熱処理装置1〜4のいず
れかに搬送する。本実施例の熱処理システムでは、各々
が1個のキャリアCRを搬送できる一対のキャリアライ
ナ7、7を一体に並設した双頭型のキャリアライナと
し、一度に2個のキャリアCRを並べて搬送できるよう
にしている。
【0032】図6〜図8に、キャリアライナ7の要部の
具体的構成例を示す。図6および図7において、垂直方
向に配設されたシリンダ72より突出したピストンロッ
ド74の先端に基板76が水平に取付され、この基板7
6上に立設された垂直支持板78に回転軸80を介して
アーム支持部82が回転可能に取付されている。
具体的構成例を示す。図6および図7において、垂直方
向に配設されたシリンダ72より突出したピストンロッ
ド74の先端に基板76が水平に取付され、この基板7
6上に立設された垂直支持板78に回転軸80を介して
アーム支持部82が回転可能に取付されている。
【0033】アーム支持部82の上面には第1アーム8
4がスライド部86を介してアーム長手方向に摺動可能
に取付され、第1アーム84の上面に第2アーム88が
スライド部90を介してアーム長手方向に摺動可能に取
付されている。アーム支持部82の上面の両端には第1
アーム84に対するストッパ部材82aが固着され、第
1アーム84の上面の両端には第2アーム88に対する
ストッパ部材84aが固着されている。第2アーム88
は、スライド部90に固着されたアーム基板88aと、
キャリアCRを把持する一対のキャリア把持部88b
と、キャリア把持部88bを開閉するアーム開閉部88
cとからなる。
4がスライド部86を介してアーム長手方向に摺動可能
に取付され、第1アーム84の上面に第2アーム88が
スライド部90を介してアーム長手方向に摺動可能に取
付されている。アーム支持部82の上面の両端には第1
アーム84に対するストッパ部材82aが固着され、第
1アーム84の上面の両端には第2アーム88に対する
ストッパ部材84aが固着されている。第2アーム88
は、スライド部90に固着されたアーム基板88aと、
キャリアCRを把持する一対のキャリア把持部88b
と、キャリア把持部88bを開閉するアーム開閉部88
cとからなる。
【0034】アーム支持部82の一側面には3つの固定
プーリ92、94、96が取り付けられ、これらのプー
リのうち最も基端側の固定プーリ92は回転駆動軸10
2に結合されている。第2アーム84の一側面には4つ
の固定プーリ104、98、100、106が取付され
ている。これら7つのプーリ92→94→96→98→
106→104→100→92の間で1本の無端状駆動
ベルトBLが掛け渡され、この駆動ベルトBLはクラン
プ部材108を介して第2アーム88のアーム基板88
aに固着されている。
プーリ92、94、96が取り付けられ、これらのプー
リのうち最も基端側の固定プーリ92は回転駆動軸10
2に結合されている。第2アーム84の一側面には4つ
の固定プーリ104、98、100、106が取付され
ている。これら7つのプーリ92→94→96→98→
106→104→100→92の間で1本の無端状駆動
ベルトBLが掛け渡され、この駆動ベルトBLはクラン
プ部材108を介して第2アーム88のアーム基板88
aに固着されている。
【0035】図6の状態において、駆動モータ(図示せ
ず)が回転駆動軸102を介して駆動プーリ92を時計
方向に回転させると、駆動ベルトBLが矢印C0 方向に
走行することにより、クランプ部材108を介して第2
アーム88が矢印B0 方向に移動(後退)する。そし
て、第2アーム88のアーム基板88aの基端が第1ア
ーム84の基端側ストッパ84aに当接したところで、
第2アーム88の移動(後退)が止まり、図7に示すよ
うな状態となる。図7の状態からさらに駆動プーリ92
を時計方向に回転させると、第2アーム88と第1アー
ム84とが一体になって矢印B0 方向に移動(後退)す
る。両アーム88、84の移動(後退)は第1アーム8
4の基端がアーム支持部82の後端側ストッパ82aに
当接するまで可能である。両アーム84、88が後退し
た状態から駆動プーリ92を反時計方向に回転駆動する
と、上記と反対の動作が行われ、最初に第1および第2
アーム84、88が矢印B1 方向に一体に移動(前進)
し、次に第2アーム88だけが同方向に移動(前進)す
ることになる。
ず)が回転駆動軸102を介して駆動プーリ92を時計
方向に回転させると、駆動ベルトBLが矢印C0 方向に
走行することにより、クランプ部材108を介して第2
アーム88が矢印B0 方向に移動(後退)する。そし
て、第2アーム88のアーム基板88aの基端が第1ア
ーム84の基端側ストッパ84aに当接したところで、
第2アーム88の移動(後退)が止まり、図7に示すよ
うな状態となる。図7の状態からさらに駆動プーリ92
を時計方向に回転させると、第2アーム88と第1アー
ム84とが一体になって矢印B0 方向に移動(後退)す
る。両アーム88、84の移動(後退)は第1アーム8
4の基端がアーム支持部82の後端側ストッパ82aに
当接するまで可能である。両アーム84、88が後退し
た状態から駆動プーリ92を反時計方向に回転駆動する
と、上記と反対の動作が行われ、最初に第1および第2
アーム84、88が矢印B1 方向に一体に移動(前進)
し、次に第2アーム88だけが同方向に移動(前進)す
ることになる。
【0036】このように、キャリアライナ7は、第1お
よび第2アーム84、88を2段伸縮できるように構成
されている。これにより、搬送路8が狭くても、アーム
84、88を縮めることで、向きを変えずに迅速にキャ
リアCRの搬送を行うことができる。また、各部のキャ
リア受け渡し位置が奥まっていても、アーム84、88
を伸ばすことで、容易にキャリアCRの搬入・搬出を行
うことができる。
よび第2アーム84、88を2段伸縮できるように構成
されている。これにより、搬送路8が狭くても、アーム
84、88を縮めることで、向きを変えずに迅速にキャ
リアCRの搬送を行うことができる。また、各部のキャ
リア受け渡し位置が奥まっていても、アーム84、88
を伸ばすことで、容易にキャリアCRの搬入・搬出を行
うことができる。
【0037】さらに、このキャリアライナ7において
は、次のような機構により、キャリアCR内のウエハW
が傾く方向にキャリアCRを傾けることができるように
なっている。基板76の基端部上にエアシリンダ110
が垂直方向に配設され、そのピストンロッド112はジ
ョイント114を介してアーム支持部82の基端部下面
に接続している。
は、次のような機構により、キャリアCR内のウエハW
が傾く方向にキャリアCRを傾けることができるように
なっている。基板76の基端部上にエアシリンダ110
が垂直方向に配設され、そのピストンロッド112はジ
ョイント114を介してアーム支持部82の基端部下面
に接続している。
【0038】キャリアCRのフランジ部FLが水平にな
っている状態つまりキャリアCR内のウエハWが垂直状
態になっている状態からピストンロッド112を前進さ
せると、回転軸80を中心としてアーム支持部82およ
び第1、第2アーム84、88が反時計方向に回動する
ことにより、第2アーム88のキャリア把持部88bの
先端側が下がり、キャリアCRが下向きに傾く。このと
き、キャリアCR内のウエハWはたとえば被処理面が上
向きになるように傾く。ピストンロッド112を戻すこ
とで、上記と逆の動作が行われ、キャリアCRのフラン
ジ部FLが水平状態になり、内部のウエハWが垂直状態
に戻る。ピストンロッド112をさらに後退させると、
回転軸80を中心としてアーム支持部82および第1お
よび第2アーム84、88が時計方向に回動し、第2ア
ーム88のキャリア把持部88bの先端側が上がり、キ
ャリアCRが上向きに傾く。このとき、キャリアCR内
のウエハWは被処理面が下向きになるように傾く。一般
的には、ウエハWが少し下向きになるような方向に傾け
る方が塵埃の付着を少なくする意味で好ましい。垂直支
持板78には、アーム支持部82の底部を所定の回動角
度で受け止めるように、時計回りに対するストッパ11
6および反時計回りに対するストッパ118が取付され
ている。
っている状態つまりキャリアCR内のウエハWが垂直状
態になっている状態からピストンロッド112を前進さ
せると、回転軸80を中心としてアーム支持部82およ
び第1、第2アーム84、88が反時計方向に回動する
ことにより、第2アーム88のキャリア把持部88bの
先端側が下がり、キャリアCRが下向きに傾く。このと
き、キャリアCR内のウエハWはたとえば被処理面が上
向きになるように傾く。ピストンロッド112を戻すこ
とで、上記と逆の動作が行われ、キャリアCRのフラン
ジ部FLが水平状態になり、内部のウエハWが垂直状態
に戻る。ピストンロッド112をさらに後退させると、
回転軸80を中心としてアーム支持部82および第1お
よび第2アーム84、88が時計方向に回動し、第2ア
ーム88のキャリア把持部88bの先端側が上がり、キ
ャリアCRが上向きに傾く。このとき、キャリアCR内
のウエハWは被処理面が下向きになるように傾く。一般
的には、ウエハWが少し下向きになるような方向に傾け
る方が塵埃の付着を少なくする意味で好ましい。垂直支
持板78には、アーム支持部82の底部を所定の回動角
度で受け止めるように、時計回りに対するストッパ11
6および反時計回りに対するストッパ118が取付され
ている。
【0039】なお、図8に示すように、キャリアCRの
フランジ部FLの両端部付近には段部CRaが形成さ
れ、この段部CRaに対応して第2アーム88のキャリ
ア把持部88bには凹凸部88eが形成されている。キ
ャリアライナ22がキャリアCRを把持するときは、キ
ャリア把持部88bの凹凸部88eがキャリアCRの段
部CRaに係合し、これにより、キャリアCRを下向き
に傾けてもアームから脱落しないようになっている。
フランジ部FLの両端部付近には段部CRaが形成さ
れ、この段部CRaに対応して第2アーム88のキャリ
ア把持部88bには凹凸部88eが形成されている。キ
ャリアライナ22がキャリアCRを把持するときは、キ
ャリア把持部88bの凹凸部88eがキャリアCRの段
部CRaに係合し、これにより、キャリアCRを下向き
に傾けてもアームから脱落しないようになっている。
【0040】このように、本実施例のキャリアライナ7
は、ウエハWが傾く方向にキャリアCRを一定範囲内で
任意の角度に傾けることができる。したがって、次のよ
うなキャリア搬送動作を行うことができる。
は、ウエハWが傾く方向にキャリアCRを一定範囲内で
任意の角度に傾けることができる。したがって、次のよ
うなキャリア搬送動作を行うことができる。
【0041】まず、I/Oステーション5で、第1およ
び第2アーム84、88を延ばしてキャリアCRを受け
取り、エアシリンダ72の駆動でキャリアCRを所定の
高さまで持ち上げ、エアシリンダ110の駆動でたとえ
ば下向きに約5度傾け、アーム84、88を縮める。次
いで、その状態つまりアーム84、88を縮めかつ下向
きに約 5度傾けた状態で搬送路8上を水平移動して該キ
ャリアCRを各熱処理装置1〜4まで搬送し、そこでア
ーム84、88を延ばして該キャリウCRを各部のキャ
リア受け渡し部GWの上方へ搬入し、エアシリンダ11
0を作動させてアーム84、88およびキャリアCRを
水平に戻し、次にエアシリンダ72を作動させてキャリ
アCRをキャリア受け渡し部GWに降ろす。このよう
に、キャリアライナ7がウエハWを適当な角度で傾けな
がらキャリアCRを搬送することで、キャリアCR内で
ウエハWがガタガタ動くことがなく、キャリアCR内で
の塵埃の発生を防止することができる。
び第2アーム84、88を延ばしてキャリアCRを受け
取り、エアシリンダ72の駆動でキャリアCRを所定の
高さまで持ち上げ、エアシリンダ110の駆動でたとえ
ば下向きに約5度傾け、アーム84、88を縮める。次
いで、その状態つまりアーム84、88を縮めかつ下向
きに約 5度傾けた状態で搬送路8上を水平移動して該キ
ャリアCRを各熱処理装置1〜4まで搬送し、そこでア
ーム84、88を延ばして該キャリウCRを各部のキャ
リア受け渡し部GWの上方へ搬入し、エアシリンダ11
0を作動させてアーム84、88およびキャリアCRを
水平に戻し、次にエアシリンダ72を作動させてキャリ
アCRをキャリア受け渡し部GWに降ろす。このよう
に、キャリアライナ7がウエハWを適当な角度で傾けな
がらキャリアCRを搬送することで、キャリアCR内で
ウエハWがガタガタ動くことがなく、キャリアCR内で
の塵埃の発生を防止することができる。
【0042】なお、搬送路8においてキャリアライナ7
を水平移動させるための駆動機構には、ボールネジ式や
ベルト式等の慣用の駆動機構を用いることができる。ま
た、この搬送路8内には、空気を清浄化してダウンフロ
ーを形成する機構(図示せず)が設けられている。
を水平移動させるための駆動機構には、ボールネジ式や
ベルト式等の慣用の駆動機構を用いることができる。ま
た、この搬送路8内には、空気を清浄化してダウンフロ
ーを形成する機構(図示せず)が設けられている。
【0043】次に、図9を参照して熱処理装置1〜4の
構成を説明する。装置正面のウエハ受け渡し部GWには
キャリア姿勢変換部190が設けられている。この姿勢
変換部190は、図中矢印で示すように、キャリアCR
に対して、フランジ部FLが上になりウエハWが垂直状
態で収容されるような第1の姿勢と、フランジ部FLが
側面になりウエハWがほぼ水平状態で収容されるような
第2の姿勢との間でほぼ90度回転させるような姿勢変
換を行う。
構成を説明する。装置正面のウエハ受け渡し部GWには
キャリア姿勢変換部190が設けられている。この姿勢
変換部190は、図中矢印で示すように、キャリアCR
に対して、フランジ部FLが上になりウエハWが垂直状
態で収容されるような第1の姿勢と、フランジ部FLが
側面になりウエハWがほぼ水平状態で収容されるような
第2の姿勢との間でほぼ90度回転させるような姿勢変
換を行う。
【0044】ウエハ受け渡し部GWに近接して、キャリ
ア昇降機192が垂設されている。このキャリア昇降機
192には、ウエハ受け渡し部GWとトランスファ・ス
テージ194およびキャリア保管棚196との間でキャ
リアCRの搬送を行うキャリア・トランスファ198が
取付されている。トランスファ・ステージ194の奥に
はキャリアCRとウエハボート200との間でウエハW
の移載を行うウエハトランスファ202が設けられてい
る。ウエハボート200はボート昇降機204によって
加熱炉206に出し入れされるようになっている。
ア昇降機192が垂設されている。このキャリア昇降機
192には、ウエハ受け渡し部GWとトランスファ・ス
テージ194およびキャリア保管棚196との間でキャ
リアCRの搬送を行うキャリア・トランスファ198が
取付されている。トランスファ・ステージ194の奥に
はキャリアCRとウエハボート200との間でウエハW
の移載を行うウエハトランスファ202が設けられてい
る。ウエハボート200はボート昇降機204によって
加熱炉206に出し入れされるようになっている。
【0045】キャリア保管棚196は、未処理ウエハま
たは処理済ウエハをキャリアCRに収納した状態で当該
処理装置内に一時的に保管するためのものである。この
キャリア保管棚196に保管されているウエハWに対
し、慣用のエア供給機構により清浄な空気を層流で供給
するようにしてもよい。
たは処理済ウエハをキャリアCRに収納した状態で当該
処理装置内に一時的に保管するためのものである。この
キャリア保管棚196に保管されているウエハWに対
し、慣用のエア供給機構により清浄な空気を層流で供給
するようにしてもよい。
【0046】以上説明したように、本実施例によれば、
自走式の搬送ロボットあるいは作業員等による工程間搬
送を行わずに効率的な工程間搬送が可能となり、また、
塵埃の半導体ウエハWに対する付着可能性を低減するこ
とができる。これによって歩留まりの向上と生産性の向
上を図ることができる。
自走式の搬送ロボットあるいは作業員等による工程間搬
送を行わずに効率的な工程間搬送が可能となり、また、
塵埃の半導体ウエハWに対する付着可能性を低減するこ
とができる。これによって歩留まりの向上と生産性の向
上を図ることができる。
【0047】なお、上述した実施例では、本発明を縦型
熱処理装置を有するシステムに適用した場合について説
明したが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、半導体ウエハまたはLCD基板等をキャリアに収
容した状態で搬送する任意の基板処理システムに適用可
能である。
熱処理装置を有するシステムに適用した場合について説
明したが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、半導体ウエハまたはLCD基板等をキャリアに収
容した状態で搬送する任意の基板処理システムに適用可
能である。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板処理
システムおよびキャリア搬送装置によれば、従来に較べ
て歩留まりの向上と、生産性の向上を図ることができ
る。
システムおよびキャリア搬送装置によれば、従来に較べ
て歩留まりの向上と、生産性の向上を図ることができ
る。
【図1】本発明の一実施例の基板処理システムの構成を
示す図。
示す図。
【図2】本発明の一実施例のキャリア搬送装置の構成を
示す図。
示す図。
【図3】図2のキャリア搬送装置の構成を示す図。
【図4】図2のキャリア搬送装置の構成を示す図。
【図5】図1のI/Oステーションの構成を示す図。
【図6】図1のキャリアライナの構成を示す図。
【図7】図1のキャリアライナの構成を示す図。
【図8】図1のキャリアライナの構成を示す図。
【図9】縦型熱処理装置の構成を示す図。
1,2,3,4 縦型熱処理装置 5 I/Oステーション 6 キャリア搬送装置 7 キャリアライナ 8 搬送路 9 工程間搬送装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−154751(JP,A) 特開 平4−261041(JP,A) 特開 平4−234143(JP,A) 特開 平4−186652(JP,A) 特開 平4−67211(JP,A) 実開 平2−21740(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65G 49/07
Claims (2)
- 【請求項1】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
と、 この基板処理装置の上方において前記基板を収容したキ
ャリアを工程間搬送する工程間搬送機構と、筒状の筐体と、前記筐体内に設けられ、前記キャリアを
複数保持するキャリア保持機構と、前記筐体内において
前記キャリア保持機構を昇降させ、前記基板処理装置と
前記工程間搬送機構との間で前記キャリアを搬送する昇
降機構と、前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排
気する排気機構とを具備し、前記キャリア保持機構が、
略垂直な面内で回動することにより、前記筐体の両側側
方に先端部のキャリア把持機構を突出可能とされたキャ
リア保持アームを有し、このキャリア保持アームを下方
から上方に向けて回動させて前記キャリアを持ち上げ、
この状態で昇降するよう構成されているキャリア搬送装
置と を具備したことを特徴とする基板処理システム。 - 【請求項2】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
と、この基板処理装置の上方において前記基板を収容し
たキャリアを工程間搬送する工程間搬送機構とを具備し
た基板処理システムに配置されるキャリア搬送装置であ
って、 筒状の筐体と、 前記筐体内に設けられ、前記キャリアを複数保持するキ
ャリア保持機構と、 前記筐体内において前記キャリア保持機構を昇降させ、
前記基板処理装置と前記工程間搬送機構との間で前記キ
ャリアを搬送する昇降機構と、 前記筐体の下部から前記筐体内部の空気を排気する排気
機構とを具備し、 前記キャリア保持機構が、略垂直な面内で回動すること
により、前記筐体の両側側方に先端部のキャリア把持機
構を突出可能とされたキャリア保持アームを有し、この
キャリア保持アームを下方から上方に向けて回動させて
前記キャリアを持ち上げ、この状態で昇降するよう構成
されていることを特徴とするキャリア搬送装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5984793A JP3332982B2 (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 基板処理システムおよびキャリア搬送装置 |
US08/212,884 US5527390A (en) | 1993-03-19 | 1994-03-14 | Treatment system including a plurality of treatment apparatus |
US08/620,535 US5853486A (en) | 1993-03-19 | 1996-03-25 | Treatment system and treatment apparatus with multi-stage carrier storage chambers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5984793A JP3332982B2 (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 基板処理システムおよびキャリア搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06275700A JPH06275700A (ja) | 1994-09-30 |
JP3332982B2 true JP3332982B2 (ja) | 2002-10-07 |
Family
ID=13125011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5984793A Expired - Fee Related JP3332982B2 (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 基板処理システムおよびキャリア搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3332982B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0936198A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン |
-
1993
- 1993-03-19 JP JP5984793A patent/JP3332982B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06275700A (ja) | 1994-09-30 |
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---|---|---|---|
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