TW201000315A - Mold release film - Google Patents

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TW201000315A
TW201000315A TW98107149A TW98107149A TW201000315A TW 201000315 A TW201000315 A TW 201000315A TW 98107149 A TW98107149 A TW 98107149A TW 98107149 A TW98107149 A TW 98107149A TW 201000315 A TW201000315 A TW 201000315A
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TW98107149A
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Keiichi Hayashizaki
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Mitsubishi Plastics Inc
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201000315 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於脫模薄膜者。 【先前技術】 以聚酯薄膜爲基材之脫模薄膜由於其優異特性,已使 用於液晶偏光板、相位差板構成構件用、PDP構成構件製 造用、有機EL構成構件製造用等、各種顯示器構成構件製 造用等、各種光學用途等。其中尤其關於液晶偏光板用脫 模薄膜已見到隨著近幾年來LCD市場之顯著成長而生產量 急速增加。又,伴隨著LCD之低價格化,爲實現構件之低 價格,而達成製造良率之提高以及製造高速化成爲相當大 的問題。 製造高速化之要求係以對液晶面板貼附偏光板之貼附 步驟爲對象。爲了縮短LCD偏光板貼附於液晶面板時之黏 性時間(tack time),而要求有脫模薄膜之剝離速度之高 速化,自以往之數米/分鐘至20米/分鐘以上之剝離速度已 實用化,若20米/分鐘以上之高剝離速度時之剝離力高, 則自LCD偏光板剝離脫模薄膜時,於偏向板固定側之吸引 力失效,將發生偏向板位置偏移之缺陷,一旦發生此缺陷 ,則自動化生產線停止,迫使生產性降低,雖亦考慮增強 固定側之吸引力,但由於對偏向板殘留痕跡故有其限制。 於如此剝離時要求輕剝離化之另一方面,在剝離前之 步驟中必須與具有充分保持力之黏著層密著。尤其於偏光 -5- 201000315 板之切斷、衝孔加工之際,或隨著儲存時之濕溫度變化使 材料之伸縮性產生差異等所引起之捲曲,有容易產生浮起 ,若引起此情況則生產性變低。 以往的薄膜中,以如此高速剝離時之輕剝離及與保持 力密切有關之低速下之剝離比較重之兩者兼具亦尙不充分 ’又若以此爲標的而變更脫模層之設計時,因聚合物中未 固定之成分之移行性、脫模面隨著碰觸到大氣而有重剝離 化之大氣暴露性惡化等,有關其性能亦未必充分。 專利文獻1 :特開2001-290141號公報 專利文獻2:特開200 1 -47580號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] 本發明係鑑於上述情事而完成可,其解決課題係提供 一種以相當於實際剝離時之高速的剝離較輕、與儲存時之 保持力密切有關之低速時之剝離比較重、於大氣暴露下之 影響亦小、進而非移行性亦優異之脫模薄膜。 [用以解決問題之手段] 本發明人見於上述情事進行刻意檢討之結果,發現藉 由採用特定構成,可容易地解決上述課題,因而完成本發 明。本發明係由相關聯之一群發明所構成,各發明主旨如 下。 本發明之第一主旨係取決於一種脫模薄膜,其爲在聚 -6- 201000315 酯薄膜之至少一面上塗佈以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成 之脫模薄膜,其特徵爲上述塗料中之硬化型聚矽氧之含有 乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲 準在3%以上,且塗料中之SiH/Vi比爲2.5~7。 本發明之第二主旨係取決於一種脫模薄膜,其爲在聚 酯薄膜之至少一面上塗佈以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成 之脫模薄膜,其特徵爲上述塗料含有溶劑型聚矽氧及無溶 劑型聚矽氧作爲主要成分,該溶劑型聚矽氧爲含有乙烯基 之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 % 以上,且無溶劑型聚矽氧係具有1 000 mPa · s以下之黏度且 含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單 位爲準在3%以上,且塗料中之SiH/Vi比爲2.5~7。 本發明之第三主旨係取決於一種脫模薄膜,其爲在聚 酯薄膜之至少一面上塗佈以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成 之脫模薄膜,其特徵爲上述塗料含有溶劑型聚矽氧、無溶 劑型聚矽氧及反應性再剝離調整劑作爲主要成分,該溶劑 型聚矽氧爲含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例 以矽氧烷單位爲準在3%以上;且無溶劑型聚矽氧具有1000 mPa _s以下之黏度且含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之 含有比例以矽氧烷單位爲準在3%以上,且塗料中之SiH/Vi 比爲2 · 5〜7。 [發明效果] 本發明提供一種剝離力於剝離時之剝離輕、於儲存時 201000315 之保持力優異且耐大氣暴露性或非移行性優異之脫模薄膜 ,故其工業價値極高。 【實施方式】 以下更詳細說明本發明。 本發明中,聚酯薄膜中使用之聚酯可爲均聚合聚醋亦 可爲共聚合聚酯。由均聚合聚酯構成之情況’較好爲由芳 香族二羧酸與脂肪族二醇經聚縮合所得者。作爲芳香族二 羧酸,舉例有對苯二甲酸、2,6 -萘二甲酸等,作爲脂肪族 二醇,舉例有乙二醇、二乙二醇、1,4 -環己烷二甲醇等。 代表性聚酯例示有聚對苯二甲酸乙二酯(PET )、聚2,6-萘二甲酸乙二酯(PEN)等。 另一方面,於共聚合聚酯時較好爲含有30莫耳%以下 之第三成分之共聚物。作爲共聚合聚酯之二羧酸成分舉例 有間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、2,6-萘二羧酸 、己二酸、癸二酸、氧基羧酸(例如對-羥基苯甲酸等) 等之一種或兩種以上’作爲二醇成分舉例有乙二醇、二乙 二醇、丙二醇、丁二醇、1,4_環己烷二甲醇、新戊二醇等 之一種或兩種以上。 任一本發明中之聚酯均意指通常8 0莫耳%以上,較好 90莫耳%以上爲對苯二甲酸乙二酯單位之聚對苯二甲酸乙 二酯、爲2,6-萘二甲酸乙二酯單位之聚2,6 -萘二甲酸乙二 酯等之聚酯。 本發明之聚酯層中較好添加以賦予易滑性爲主要目的 -8- 201000315 之粒子。所添加之粒子種類,只要可賦予易滑性之粒子即 可而無特別限制,作爲具體例,舉例有例如二氧化矽、碳 酸鈣' 碳酸鎂、碳酸鋇、硫酸鈣、磷酸鈣、磷酸鎂、高嶺 土、氧化鋁、氧化鈦等之粒子。又,亦可使用特公昭59-52 16號公報、特開昭5 9-2 1 7 75 5號公報等所記載之耐熱性 有機粒子。此其他耐熱性有機粒子之例舉例有熱硬化性尿 素樹脂、熱硬化性酚樹脂、熱硬化性環氧樹脂、苯胍胺樹 脂等。再者於聚酯製造步驟中,亦可使用觸媒等之金屬化 合物之一部分經沉澱、微分散之析出粒子。 另一方面,有關使用之粒子形狀亦無特別限制,可使 用球狀、塊狀、棒狀、扁平狀等之任何一種。又,其硬度 、比重、顏色等亦無特別限制。該等一連串粒子依據需要 亦可倂用兩種以上。 又,本發明中聚酯薄膜中所含有之粒子平均粒徑較好 滿足0.1〜5微米,更好爲0.5~3微米之範圍,最好爲0.5~2微 米之範圍。平均粒徑小於0.1微米時,粒子易凝集,分散 性變得不充分,另一方面,超過5微米時,薄膜表面粗度 變粗,於後續步驟中設置脫模層時有發生缺陷之情況。 再者聚酯中之粒子含有量較好滿足〇.〇1〜5重量%,更 好在0.01〜3重量%之範圍。粒子含有量小於0.01重量%時, 有薄膜之易滑性變不充分之情況,另一方面,若超過5重 量%添加時,有薄膜表面之平滑性變不充分之情況。 又,本發明中聚酯薄膜中除上述粒子以外,在不損及 本發明主旨之範圍內,可添加以往已知之抗氧化劑、熱安 -9- 201000315 定劑、潤滑劑、染料、顔料等。 構成本發明之脫模薄膜之聚酯薄膜厚度就成本而言爲 較薄較佳,但另一方面,有必要確保薄膜平面性。構成脫 模薄膜之聚酯薄膜厚度太薄時,大多有因加工時之熱處理 引起之皺折等導致損及薄膜平面性之情況。又於偏光板加 工後施加力之情況,薄的薄膜有對黏著劑之保護機能不充 分之虞。 由此等觀點觀之,構成本發明中之脫模薄膜之聚酯薄 膜厚度較好爲12〜125微米,更好爲25〜75微米之範圍。 接著就本發明之聚酯薄膜製造例加以具體說明,但非 限定於以下製造例者。亦即,以使用先前所述之聚酯原料 ,自模嘴押出之熔融薄片於冷卻輥上冷卻固化獲得未延伸 薄片之方法較佳。此情況,爲了提高薄片之平面性而有必 要提高薄片與旋轉冷卻滾筒之密著性,而較好採用靜電施 加密著法及/或液體塗佈密著法。接著使所得未延伸薄片 於雙軸方向延伸。此時,首先,使前述未延伸薄面於一方 向藉由輥或張布機方式之延伸機予以延伸。延伸溫度通常 爲70〜120°C,更好爲80〜llOt:,延伸倍率通常爲2.5~7倍 ,更好爲3.0〜6倍。接著,與第一次延伸方向正交之延伸 溫度通常爲130~170°C,延伸倍率通常爲3.0〜7倍,較好爲 3.5〜6倍。接著,繼續於180〜270 °C之溫度於拉緊下或30% 以內之鬆弛下進行熱處理,獲得雙軸定向薄膜。 上述延伸亦可採用於一方向延伸以兩階段以上進行之 方法。此情況下,最終之二方向之延伸倍率以分別成爲上 -10- 201000315 述範圍之方式進行較佳。又,亦可同時進行雙軸延伸。至 於同時雙軸延伸法,爲使上述未延伸薄片,以通常70〜120 °C ’更好爲80〜1 10°C之溫度受控制狀態,於機械方向及寬 度方向同時延伸定向之方法,延伸倍率以面積倍率計爲 4〜50倍,較好爲7〜35倍,更好爲1〇〜25倍。接著,繼續於 17 0〜2 5 0 °C之溫度於拉緊下或30%以內之鬆弛下進行熱處理 ,獲得延伸定向薄膜。 有關使用上述延伸方式之同時雙軸延伸裝置,可採用 螺旋方式、導電架方式、線性驅動式等之以往已知之延伸 方式。「螺旋方式」爲於螺旋之溝槽中裝載夾具並擴大夾 具間隔之方式。「導電架方式」爲使用導電架擴大夾具間 隔之方式。「線性馬達驅動方式」具有應用線性馬達原理 ,以可個別控制夾具之方式任意調整夾具間隔之優點。 再者有關同時雙軸延伸亦可分割成兩階段以上進行, 此情況,延伸處所可在一個張布機內進行,亦可倂用複數 個張布機。 若藉由同時雙軸延伸使構成脫模薄膜之聚酯延伸,於 以往以逐次雙軸延伸使面積倍率變大之情況中,有產生延 伸時斷裂等之缺陷之情況,但本發明中由於於同時雙軸延 伸時之延伸追隨性良好,故於薄膜長度方向及寬度方向, 變得可以比逐次雙軸延伸增大更大的面積倍率,進而可製 造薄膜厚度偏差較小的聚酯薄膜故而較佳。 又,上述聚酯薄膜之延伸步驟中可對薄膜表面進行處 理,施加所謂之塗佈延伸法(線上塗佈)。此不限定於以 -11 - 201000315 下者,例如於逐次雙軸延伸中特別是可於第一段延伸結束 後,於第二段延伸前施以塗佈處理。 本發明之脫模薄膜可在聚酯薄膜之至少單面上塗佈以 硬化型聚矽氧爲主之塗料而獲得。本發明中之脫模層係以 具有脫模性之硬化型聚矽氧樹脂所形成。硬化型聚矽氧樹 脂爲於硬化課程中包含使乙烯基與矽-氫鍵之基之加成反 應者(所謂加成型聚矽氧)。 <第一主旨之發明> 此發明之特徵爲上述塗料中之硬化型聚矽氧之含有乙 烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準 在3%以上,且塗料中之3丨11/¥丨比爲2.5〜7。 所謂含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以 矽氧烷單位爲準爲3 %以上之聚矽氧爲於加成型聚矽氧中多 數情況成爲主成分之含有乙烯基之聚矽氧烷中,以形成其 骨架之矽氧烷單位(含有一個Si原子之單位’通常以下式 表示)作爲一單位所計算之含有乙烯基者在3 %以上者。 [化1]
RnSi〇4.n 2 ( η爲〇〜3之整數’ R各獨立爲任意之基) 硬化處理中之能源爲一般熱處理者’但亦可倂用紫外 線照射、電子束照射。 本發明中使用之聚矽氧化合物之分子量並無特別限制 -12 - 201000315 ,若考慮以溶劑稀釋而塗佈’則至少之一成分中宜含有熟 悉本技藝者之間稱爲「橡膠」之黏度約百萬mPa. s以上者 。實際塗料宜含有成爲30 %甲苯溶液時之黏度在約10〇〇 mPa. s以上,較好在5000 mPa· s以上者作爲至少一成分 。黏度低時,用以均勻塗佈之溶劑選擇有困難,彈性等塗 佈面狀變差而有不適合作爲光學用薄膜等之不良影響之顧 慮(記載於「聚矽氧手冊j P .523,日刊工業新聞社,伊 藤邦雄編輯(1 990 ))。 本發明中使用之加成型聚矽氧中,與其交聯反應有關 之矽氧烷之乙烯基及^SiH基與乙烯基之含有比例( SiH/Vi比)具有重要性。通常使ξ SiH基一方之量過剩而 使用,其比例大多數設定在1_2〜2.0左右(小川匡彥, Convertech ρ·49 ( 1 996))。本發明中使用之含有乙烯基之 聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以 上之聚矽氧由於官能基之絕對數較多,即使以同樣的過剩 率成爲過剩之三SiH基之絕對數亦多,因此通常大多使過 剩率適度。然而本發明者發現於此種聚矽氧以薄膜塗佈於 聚酯薄膜上時,以往謂之較佳領域者偏移較大。亦即,本 發明中’8丨11/乂丨比爲2.5〜7,更好爲3.0〜5.0。 本發明中之稀釋溶劑可例示爲甲苯等芳香族烴類、己 垸、庚烷、異辛烷等脂肪族烴類、乙酸乙酯、乙酸丁酯等 酯類、乙基甲基酮(MEK)、異丁基甲基酮等酮類、乙醇 、2 -丙醇等醇類、二異丙基醚、二丁基醚等醚類,考慮溶 解性、塗佈性或沸點等可單獨使用或複數種混合使用。 -13- 201000315 又,在不損及本發明主旨之範圍內亦可倂用反應調整 劑、密著強化劑、剝離控制劑等助劑以調整脫模層之特性 0 脫模層之塗佈量(乾燥後)由於聚酯薄膜爲平坦,故 在紙類上塗佈得較薄而宜爲0.01〜1 g/m2,較好爲0.04〜0.5 g/m2,更好爲0.06〜0.3 g/m2之範圍。脫模層之塗佈量過少 時,會有缺乏剝離力安定性之問題。另一方面,當塗佈量 過多時,移行性增大,會有結塊之顧慮。 本發明中,在聚酯薄膜上設置脫模層之方法可使用多 輥塗佈、逆凹版塗佈、直接凹版塗佈、棒塗佈、模嘴塗佈 等以往已知之塗佈方法。關於塗佈方式敘述於稹書店原 崎勇次著1979年發行之「塗佈方式」中。 又,本發明中構成脫模薄膜之聚酯薄膜亦可預先經電 暈處理、電漿處理等表面處理。再者本發明中構成脫模薄 膜之聚酯薄膜亦可預先設置接著層、抗靜電層等塗佈層。 <第二主旨之發明> 本發明之特徵爲上述塗料含有溶劑型聚矽氧及無溶劑 型聚矽氧作爲主要成分,該溶劑型聚矽氧爲含有乙烯基之 聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以 上,且無溶劑型聚矽氧係具有1 000 mPa · S以下之黏度且含 有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位 爲準在3%以上,且塗料中之SiH/Vi比爲2.5~7。 所謂無溶劑型聚矽氧爲未稀釋於溶劑中亦可塗佈之黏 -14- 201000315 度之聚矽氧’分子比上述溶劑型小,且聚矽氧烷鏈較短。 例如,上述橡膠,相對於以矽氧烷聚合度計爲數千至數萬 ,無溶劑型通常爲數十至數百。成爲加成型聚矽氧之交聯 反應點之乙烯基較多時,會導入鏈之末端與內側,但由於 末端之乙烯基在反應時之立體障礙少,因此相較於內側之 乙烯基非常早反應。因此,無溶劑型聚矽氧由於相較於溶 劑型帶有非常多的反應性高的末端乙烯基,因此作爲塗料 時有硬化速度加速之優點。另一方面,塗佈於聚酯基材上 時之塗佈性方面差。由於爲低黏度而易於彈開(不沾), 尤其於聚酯脫模薄膜中一般進行之薄膜塗佈極難以獲得良 好之面狀。 於第二主旨之發明中爲了產生此種無溶劑型聚矽氧之 優點、補償缺點而與高黏度溶劑型聚矽氧混用使用。混用 之比率以固體成分重量計(溶劑型/無溶劑型)之値爲 10/90〜95/5,較好爲40/60-90/10。有關溶劑型聚矽氧及塗 料中之SiH/Vi比(2·5〜7 )之意義、其他(稀釋溶劑等)方 面均與上述相同。 <第三主旨之發明> 本發明之特徵爲上述塗料含有溶劑型聚矽氧、無溶劑 型聚矽氧及反應性再剝離調整劑作爲主要成分,該溶劑型 聚砂氧爲含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以 砍氧烷單位爲準在3 %以上;且無溶劑型聚矽氧具有1〇〇〇 mPa*s以下之黏度且含有乙稀基之聚砂氧院鏈中乙稀基之 -15- 201000315 含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以上,且塗料中之S i Η/V i 比爲2.5〜7。 所謂反應性再剝離調整劑爲塗料乾燥時被引入與脫模 塗料之矽氧烷聚合物反應中之類型之再剝離化調整劑。化 學構造只要不脫離本發明之主旨範圍則無特別限制’但較 佳之例舉例爲具有作爲反應基之乙烯基之通常稱爲 脂、MDQ樹脂者。混用之比率可任意的調整以獲得期望之 剝離,但就固成分重量以{再剝離調整劑/(無溶劑型、溶 劑型矽氧烷之和)}之値計爲1/99〜5 0/5 0 ’較好爲 2/98〜3 0/70。過多時,反應性與移行性同時增大’又通常 該剝離調整劑由於大多爲低黏度,因此難以獲得良好之面 狀。 溶劑型矽氧烷、無溶劑型矽氧烷、混用二者之意義與 混用比例(1/99~5 0/5 0 )、以及塗料中SiH/Vi比(2.5〜7 ) 之意義、其他方面(稀釋溶劑等)均與上述相同。 實施例 以下,藉由實施例更詳細說明本發明,但只要不超過 本發明之主旨,則不限於以下實施例者。又’本發明所用 之測定法如下。 (1 )剝離力A (剝離速度0 _ 3 m / m i η )之測定: 於試料薄膜之脫模面上貼附黏著膠帶(日東電工(股 )製造之「No. 31Β」)後,切割成50mmx300mm之大小, -16- 201000315 且測定在室溫下放置1小時後之剝離力。剝離力係使用 INTESC◦(股)製造之「Intesco型號2001型」,在拉伸速 度0.3 ( m/min)之條件下進行180°之剝離。 (2 )剝離力B (剝離速度30m/min)之測定: 於試料薄膜之脫模面上貼附黏著膠帶(日東電工(股 )製造之「No. 31B」)後,切割成50mmx300mm之大小, 測定在室溫下放置1小時後之剝離力,剝離力係使用 TESTER產業(股)製造之高速剝離試驗機「TE-702型」 ,將試料薄膜之脫模面朝上加以固定,且以剝離方法在剝 離速度30 ( m/min )下對貼合No 31B黏著膠帶側進行180° 剝離。 (3 )剝離力C (暴露於大氣後之剝離力)之測定: 將試料薄膜切割成A4大小,在調節成室溫23 °C濕度 i 50%RH之實驗室(非潔淨環境)內垂吊於細線經過24小時 。於脫模面上貼附黏著膠帶(使用日東電工(股)製造之 「No. 5 02」淡色剝離紙側)後,切割成50mmx300mm之大 小,且測定在室溫下放置1小時後之剝離力。剝離力係使 用INTESCO (股)製造之「Intesco型號2001型」,在拉伸 速度0.3 (m/min)之條件下進行180°之剝離。 (4 )剝離力D (未暴露大氣之剝離力)之測定: 剝離力C之測定中,取代垂吊在實驗室內而將試料薄 -17- 201000315 膜放入聚乙烯製之袋中使之不接觸外氣,同樣在實驗室內 放置24小時以外’其餘同樣地測定剝離力。 (5 )脫模薄膜之移行性評價接著率: 將試料薄膜切成A4大小,於脫模面上重疊厚度75 之二軸延伸PET薄膜(三菱化學聚酯薄膜股份有限公司製 造:DIAFOIL T 1 00-75 ),且在溫度6 0 °C、壓力1 Μ P a之條 件下壓製2小時。將按壓於該脫模面上之厚度75 // m薄膜作 爲移行性評估薄膜。未處理之PET薄膜上亦同樣抵壓厚度 75//Π1之二軸延伸PET薄膜(同)作爲基準薄膜。於各薄 膜之按壓面上貼附黏著膠帶(日東電工(股)製造之「 No. 31B」)後,切割成50mmx300mm之大小,且測定在室 溫下放置1小時後之剝離力。剝離力係使用INTE SCO (股 )製造之「Intesco型號2001型」,在拉伸速度0.3 (m/min )之條件下進行180°之剝離。 移行性評價接著率(%) =(移行性評價薄膜之剝離力/基 準薄膜之剝離力)x 100 由於移行性較大之薄膜在其按壓薄膜上附著較多的聚 矽氧’因此黏著膠帶之剝離力變小,使得移行性評價接著 率(% )亦下降。以90%以上較佳’更好爲95 %以上。 (6)塗料中矽氧烷之乙烯基含量、sSiH及乙烯基之含量 -18- 201000315 比(SiH/Vi比): 有關塗料中矽氧烷之乙烯基含量、HSiH及乙烯基之 含量比(SiH/Vi比)係由塗料單體或混合物之NMR分析算 出。 <第一主旨之發明實施例及比較例> 實施例1 A : 以塗佈量(乾燥後)成爲約0.12 ( g/m2 )之方式將由 下列組成構成之脫模劑塗佈在厚度3 8 /z m之二軸延伸PET 薄膜(三菱化學聚酯薄膜股份有限公司製造:DIAFOIL T 1 00-3 8 )上,在1 50°C下熱處理1〇秒鐘,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1:1 ) 稀釋下列三成分(i )〜(iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)於30 %甲苯溶液之黏度爲15000 mPa. s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約5 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS- 83 0,不揮發份30% )…1〇〇 重量份 (Π)以(CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3 表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 2重量份
(iii )含鉑觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T -19- 201000315 )…1重量份 實施例2A : 於實施例1 A中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組 成以外,餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1 : 1 : 1 ) 稀釋下列三成分(i )〜(iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i )以30%甲苯溶液之黏度爲1 5 000 mPa · s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約5 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:K S - 8 3 0,不揮發份3 0 % )…1 0 0 重量份 (ii)以(CH3)3SiO(-SiH(CH3)-〇)m-Si(CH3)3表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 1重量份
(iii )含鉑觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 實施例3 A : 實施例1 A中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外’餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 -20- 201000315 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1:1 ) 稀釋下列三成分(i )〜(iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i) 以30 %甲苯溶液之黏度爲8000 mPa. s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約8 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS-3 60 1,不揮發份30% )…100 重量份 (ii) 以(CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3 表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 3重量份 (iii )含鈾觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 比較例1 A : 實施例1 A中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外,餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1 : 1 : 1 ) 稀釋下列二成分(i )及(ii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲8000 mPa· s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約8 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 -21 - 201000315 (信越化學(股)製造:KS-3 60 1,不揮發份3〇%)…ι〇〇 重量份 (ii )含鈾觸媒(信越化學(股)製造:cat PL_50T )…1重量份 比較例2 A : 實施例1 A中’除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外,餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1 :1 ) 稀釋下列三成分(i ) ~ ( iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲15000 mPa. s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約1 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS-3 703,不揮發份30% )…100 重量份 (ii ) (CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3 ( Gelest 公 司製造::^^3-991,黏度約20111?&.3)",0.36重量份 (iii)含鈷觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 比較例3 A : 實施例1 A中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 -22- 201000315 以外,餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲i : 1 : 1 ) 稀釋下列三成分(i )〜(iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲15000 mP a· s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約0.8 %乙烯基之溶劑型聚矽 氧(信越化學(股)製造:KS-774,不揮發份30%)…90 重量份 (i i )溶劑型剝離調整劑(信越化學(股)製造:乂-9 2 - 1 8 3,不揮發份3 0 % )…1 〇重量份 (iii )含鉑觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 比較例4 A : 實施例1 A中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外,餘如實施例1 A同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1:1 ) 稀釋下列三成分(i ) ~ ( iii ),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i )以30%甲苯溶液之黏度爲15〇〇〇 mPa . s,主要聚 -23- 201000315 合物中以矽氧烷單位爲準含有約0·4 %乙嫌基之溶劑型聚砂 氧(信越化學(股)製造:KS_847H ’不揮發份30%)… 8 5重量份 (i i )溶劑型剝離調整劑(信越化學(股)製造:K s · 3 8 00,不揮發份30% )…1 5重量份 (iii)含鈾觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 由上述實施例及比較例所得各薄膜之特性彙整列於下 表1。 -24- 201000315 【s
移行性評價 接著率% 〇\ οο On 〇\ Ο CTn ON Q\ 塗料之 SiH/Vi 比 卜 — οο rn rn Η m \D m r—H Q U ο 寸 Ο S <N o (N 00 <r! m s „ I _ 1 1 s - <Ν (Ν m (Ν (Ν CN (N (N 暴露大氣之 剝離力(C) [mN/cm] m m 沄 cn m CN m 00 CQ τ—^ 寸 ο 寸 Ο 卜 寸 Ο m m 〇 卜 (N 〇 (N 〇 O <N o •R _ _g 1 ^ § 1 ^ S ο 'O CN r—H g p滕| | 泰:g 2旦 in (Ν 00 CN ro CN 00 (N 實施例ΙΑ 實施例2Α 實施例3Α 比較節A 比較例2A 比較例3A 比較例4A -25- 201000315 實施例1A至實施例3A之薄膜在以與儲存時之保持力 密切有關之低速下之剝離比較重而相當於實際剝離時之高 速之剝離較輕,暴露大氣之影響亦小,而且非移行性亦優 異。另一方面,SiH/Vi比爲較小之比較例1Α在高速下剝離 時的輕剝離與於低速下之剝離較重無法充分兼具,大氣暴 露性亦大爲降低。乙烯基含量較少之比較例2 A即使於 SiH/Vi比較大,於低速與高速之剝離力之差異仍變大。另 外,以剝離調整劑調整低速下之剝離之比較例3A及4A在 高速下之剝離過重,其他特性亦變差。 <第二主旨之發明實施例> 實施例1 B : 以塗佈量(乾燥後)成爲約〇 · 1 2 ( g/m2 )之方式將由 下列組成構成之脫模劑塗佈在厚度3 8 /z m之二軸延伸PET 薄膜(三菱化學聚酯薄膜股份有限公司製造:DIAFOIL T 1 00-3 8 )上,且在150°C下熱處理1〇秒鐘,獲得脫模薄膜 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1 : 1 : 1 ) 稀釋下列四成分(i) ~(iv),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲8000 mPa· s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約8 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 -26- 201000315 (信越化學(股)製造:K S - 3 6 0 1,不揮發份3 0 % )…6 7 重量份 (ii )黏度300 mPa · s,主要聚合物中以矽氧烷單位 爲準含有約5 %乙烯基之無溶劑型聚矽氧(信越化學(股) 製造:KNS-3002,不揮發份1〇〇%)…1〇重量份 (iii) 以(CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3 表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 2.4重量份 (iv) 含鉬觸媒(信越化學(股)製造·· cat Pl-50T )…1重量份 實施例2 B : 實施例1 B中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外,餘如實施例1 B同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1:1 ) 稀釋下列四成分(i)〜(iv),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲15000 mPa· s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約5%乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS-8 3 0,不揮發份30% )…67重 量份 (u )黏度3 00 mPa · s,主要聚合物中以矽氧烷單位 -27- 201000315 爲準含有約5%乙烯基之無溶劑型聚矽氧(信越化學(股) 製造:KNS-3 002,不揮發份1〇0%)…10重量份 (iii)以(CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3表示之聚 石夕氣(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 1 . 4重量份 (1V)含鈾觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T ).· · 1重量份 以上述實施例所得各薄膜之特性彙整列於下表2。 -28- 201000315 【(Ns
移行性評價 接著率% r-H o 塗料之 SiH/Vi 比 rn C/D r-H rn Jii g -£ β I 1賴1 芝 I 暴露大氣之 剝離力(c) [mN/cm] 00 A/B 0.46 0.45 剝離力B (剝離速度 30m/min) [mN/cm] σ\ 剝離力A (剝離速度 0.3m/min) [mN/cm] CN 實施例IB 實施例2B -29- 201000315 實施例1B及實施例2B之薄膜於儲存時之保持力密切有 關之低速下之剝離較重而相當於實際剝離時之高速下剝離 較輕,暴露大氣之影響亦小,而且非移行性亦優異。 <第三主旨之發明實施例> 實施例1 c : 以塗佈量(乾燥後)成爲約0.12 ( g/m2 )之方式將由 下列組成構成之脫模劑塗佈在厚度3 8 /z m之二軸延伸PET 薄膜(三菱化學聚酯薄膜股份有限公司製造:diafoil τ 1 0 〇 - 3 8 )上,且在1 5 0 °C下熱處理1 0秒鐘,獲得脫模薄膜 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1 : 1 : 1 ) 稀釋下列四成分(i)~(iv),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i )以3 0 %甲苯溶液之黏度爲8 0 0 0 m P a · s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約8%乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS-3 60 1,不揮發份30% )…70 重量份 (ii )黏度300 mPa · s,主要聚合物中以矽氧烷單位 爲準含有約5%乙烯基之無溶劑型聚矽氧(信越化學(股) 製造·· KNS-3 002,不揮發份100%) .”4.5重量份 •溶劑型反應性剝離調整劑(信越化學(股)製造: -30- 201000315 KS-3 8 00,不揮發份30%)…15重量份 C iii)以(CH3)3SiO(-SiH(CH3)-〇)m-Si(CH3)3 表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa· s)… 2.4重量份 (iv)含鈷觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 實施例2C : 實施例1 C中,除將脫模劑組成改變成下列脫模劑組成 以外’餘如實施例1 C同樣製造,獲得脫模薄膜。 《脫模劑組成》 以甲苯/MEK/異辛烷之混合溶劑(混合比率爲1:1:1 ) 稀釋下列四成分(i)〜(iv),製備固體成分濃度2重量% 之塗佈液體。 (i)以30 %甲苯溶液之黏度爲8000 mPa· s,主要聚 合物中以矽氧烷單位爲準含有約8 %乙烯基之溶劑型聚矽氧 (信越化學(股)製造:KS-3 60 1,不揮發份30% ) ··· 70 重量份 •黏度300 mPa· s,主要聚合物中以矽氧烷單位爲準 含有約5%乙烯基之無溶劑型聚矽氧(信越化學(股)製造 :KNS-3002,不揮發份100%) ”·7·5重量份 (ii )溶劑型反應性剝離調整劑(信越化學(股)製 造:KS-3 800,不揮發份30%),··5重量份 -31 - 201000315 (iii)以(CH3)3Si0(-SiH(CH3)-0)m-Si(CH3)3 表示之聚 矽氧(Gelest公司製造:HMS-991,黏度約20 mPa. s)… 2.4重量份
(iv )含鉛觸媒(信越化學(股)製造:cat PL-50T )…1重量份 以上述實施例及比較例所得各薄膜之特性彙整列於下 表3。 -32- 201000315 【ε®
移行性評價 接著率% 00 〇\ 塗料之 SiH/Vi 比 m Q U 〇 o 嫉g π I | ^ 1 is- o 暴露大氣之 剝離力(c) [mN/cm] o § 卜 o o -R )¾ g I m m g ? 00 On <d姻百頁 ^ m b η 藏寒2旦 實施例ic 實施例2C -33- 201000315 實施例1C及實施例2C之薄膜於儲存時之保持力密切有 關之低速下之剝離較重而相當於實際剝離時之高速下之剝 離較輕,暴露大氣之影響亦小’而且非移行性亦優異。 -34-

Claims (1)

  1. 201000315 七、申請專利範圍: 1· 一種脫模薄膜,其爲在聚酯薄膜之至少一面上塗佈 以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成之脫模薄膜,其特徵爲上 述塗料中之硬化型聚矽氧之含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙 烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以上,且塗料中之 SiH/Vi比爲 2.5〜7 。 2. —種脫模薄膜,其爲在聚酯薄膜之至少一面上塗佈 以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成之脫模薄膜,其特徵爲上 述塗料含有溶劑型聚矽氧及無溶劑型聚矽氧作爲主要成分 ,該溶劑型聚矽氧爲含有乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之 含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以上,且無溶劑型聚矽氧 係具有1000 mPa.s以下之黏度且含有乙烯基之聚矽氧烷鏈 中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以上,且塗料 中之SiH/Vi比爲2.5~7。 3. —種脫模薄膜,其爲在聚酯薄膜之至少一面上塗佈 以硬化型聚矽氧爲主之塗料而成之脫模薄膜,其特徵爲上 述塗料含有溶劑型聚矽氧、無溶劑型聚矽氧及反應性再剝 離調整劑作爲主要成分,該溶劑型聚矽氧爲含有乙烯基之 聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲準在3 %以 上;且無溶劑型聚矽氧具有1000 mPa*s以下之黏度且含有 乙烯基之聚矽氧烷鏈中乙烯基之含有比例以矽氧烷單位爲 準在3%以上,且塗料中之SiH/Vi比爲2.5~7。 -35- 201000315 無 明 說 單 無簡 .•號 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本定一二 指c C ' 四 201000315 五 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:無
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