TW200948920A - Radiation settability composition for adhesive, polarizing film and manufacturing method thereof - Google Patents

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200948920 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於接著劑用輻射線硬化性組成物、使用該 接著劑用輻射線硬化性組成物所形成之偏光板、及偏光板 ' 之製造方法。 【先前技術】 φ 近年，作爲顯示文字、畫像等的顯示裝置，廣泛利用 液晶顯示裝置。此般液晶顯示裝置，通常包含2片之偏光 板與於其間配置的由玻璃基板、透明電極、彩色濾光器、 配光膜 '液晶等所成的液晶晶胞。 通常，液晶顯示裝置所用之偏光板爲於延伸配向之聚 乙烯醇（以下，亦稱PVA)系薄片吸附有碘或二色性染料 的偏光膜（偏光子）的單面或兩面上，將三乙醯纖維素（ 以下’亦稱TAC)系薄膜等保護薄膜介由接著劑層貼合而 φ 成者。 作爲此般偏光板，提案有其特徵在於於聚乙烯醇系偏 光薄膜之至少單面上，介由聚乙烯醇系接著劑層貼合有保 護薄膜的偏光板中，接著劑層係由含水溶性環氧化合物的 聚乙烯醇系接著劑所形成，且接著劑中水溶性環氧化合物 與聚乙烯醇系樹脂之比爲（5〜50) /1〇〇(固形分重量比 )的偏光板（專利文獻1)。又，於此文獻中亦記載上述 保護薄膜爲表面經鹼化處理的三乙醯纖維素者。 根據使用水系接著劑及TAC系保護薄膜的專利文獻1 200948920

所記載之技術，將上述接著劑的水分介著透濕性高之TAC 系保護薄膜使其蒸散，可使接著劑硬化。因此，可以比較

簡易之製造步驟得到偏光板。又，因水系接著劑與TAC 系保護薄膜的接著性高，可得到具優異接著強度的偏光板 〇 然而，除了 TAC系保護薄膜的高透濕性外，有耐濕 熱性低的問題。亦即，在車載時等高溫高濕環境下，有產 生變形等難以維持高偏光性能的問題。 © 於此，提案取代TAC系保護薄膜，使用具低透濕性 的環烯烴系樹脂薄膜（以下，亦稱COP系樹脂薄膜）的 方法。 例如，提案其特徵在於在由聚乙烯醇系樹脂所成的偏 光薄膜的一面上，介著由含聚酯系離子聚合物型胺基甲酸 乙酯樹脂與具有環氧丙基氧基的化合物之水性組成物形成 的第一接著劑層層合環烯烴系樹脂薄膜，於另一面，介著 與前述第一接著劑層不同的水性組成之第二接著劑層層合 〇 乙酸纖維素系薄膜的偏光板（專利文獻2)。 又’在使偏光子與偏光子保護薄膜接著層合的偏光板 之製造方法中，提案其特徵在於使用至少由含水性乳劑、 聚乙烯醇與聚異氰酸酯化合物而成、且調整至B型黏度計 測定之黏度（20 °C)成爲〇.〇3〜IPa. s的水性胺基甲酸乙 酯系接著劑，使上述偏光子與保護薄膜進行濕層合的偏光 板之製造方法（專利文獻3)。又，於此文獻中，亦記載 上述保護薄膜係由熱可塑性飽和環烯烴系樹脂所成。 -6- 200948920 [專利文獻1]特開平09 — 258023號公報 [專利文獻2]特開2005 — 208456號公報 [專利文獻3]特開2004— 37841號公報 ' 【發明內容】 ' [發明所欲解決的課題] 根據專利文獻2記載之技術，因介著透濕性高的乙酸 ❹ 纖維素系薄膜可使水系接著劑的水分蒸散，與專利文獻1 之技術同樣地，可以比較簡易之步驟得到偏光板。 然而，因於單側具有透濕性高的乙酸纖維素系薄膜， 故有耐濕熱性尙嫌不足之問題、或水系接著劑的第1接著 劑層與環烯烴系樹脂薄膜間接著性不足之問題。 根據專利文獻3記載之技術，因偏光子兩面之保護薄 膜係由熱可塑性飽和降冰片烯系樹脂所成，可得到耐濕熱 性良好的偏光板。 Φ 然而，因使用透濕性低之保護薄膜，故使水系接著劑 的水性胺基甲酸乙酯系接著劑的水分蒸散並硬化需長時間 ，與使用TAC系薄膜之情況相比，有製造步驟變煩雜之 問題。又，因爲由熱可塑性飽和降冰片烯系樹脂所成的保 " 護薄膜爲疏水性，有與水系接著劑的接著性不足之問題。 此點，若可以簡易製造步驟形成接著劑層、進而該接 著劑層對COP系樹脂薄膜亦展現優異接著性，例如使用 透濕性低之COP系樹脂薄膜作爲偏光膜兩面的保護層等 ，可得到耐濕熱性優異之偏光板，故佳。 200948920 又，另外，若可對接著劑層本身賦予耐濕熱性，則進 而於嚴苛使用條件亦可忍受。亦即，偏光板通常係將偏光 板用的層合薄片裁斷爲所期望之大小而得，認爲在高溫且 高濕度的環境下在切斷端部，接著劑層會吸濕、變形，使 偏光性能降低。接著劑層本身若耐濕熱性優，則可實現具 更優異耐濕熱性之偏光板。又，此時，就算對於使用透濕 性高的TAC系保護薄膜而成的偏光板亦可實現耐濕熱性 之提升。 進而，於接著劑層的形成用組成物，由塗佈性、操作 性等之觀點，期望黏度爲低。 本發明爲鑑於上述背景所成者，以提供可使具有優異 塗佈性（具體上爲在液狀之低黏度）且耐濕熱性、接著強 度（剝離強度）等優異之偏光板以簡易製造步驟且短時間 製造的接著劑用輻射線硬化性組成物、使用該組成物而成 的偏光板、及偏光板之製造方法爲目的。 [解決課題之手段] 本發明者爲解決以上問題努力硏究之結果，發現經由 含特定成分之輻射線硬化性組成物可達成本發明之上述目 的，完成本發明。 亦即，本發明係提供以下[1]〜[10]者。 [1 ] 一種接著劑用輻射線硬化性組成物，其係含有（ A)具有氧雜環丁基之化合物、（B)具有環氧乙基之芳香 族化合物、（C)由（C1)具有環氧乙基之脂肪族化合物 -8- 200948920 及（C2)具有環氧乙基之脂環式化合物所成群選出之 1種化合物、（D )以膠體滲透層析法測定的聚苯乙 算之數平均分子量爲500以上且含有2個以上羥基之 物、及（E)光酸產生劑。 [2] 如前述[1 ]記載之接著劑用輻射線硬化性組 — ，進而，含有（F) 25°C之黏度爲10mPa · s以下且含 羥基之化合物。 Φ [3] 如前述[1]或[2]記載之接著劑用輻射線硬化 成物，上述成分（B)係爲由雙酚A型環氧樹脂、雙 型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、含萘骨架之環氧 、含蒽骨架之環氧樹脂、及含芴骨架之環氧樹脂所成 出之至少1種。 [4] 如前述[1]〜[3]中任一項記載之接著劑用輻 硬化性組成物，其中上述成分（C)係含（C1)具有 乙基之脂肪族化合物。 Φ [5] 如前述[1]〜[4]中任一項記載之接著劑用輻 硬化性組成物，其中上述成分（D)係含聚碳酸酯二淫 [6] 如前述[2]〜[5]中任一項記載之接著劑用輻 硬化性組成物，其中上述成分（F)的分子量爲60 -〇 [7] 如前述[1]〜[6]中任一項記載之接著劑用輻 硬化性組成物，其中上述成分（F)係含由具有醚構 化合物、具有羰基構造之化合物、及具有酯構造之化 所成群選出之至少1種。 至少 烯換 化合 成物 1個 性組 酚F 樹脂 群選 射線 環氧 射線 ε ° 射線 ^ 200 射線 造之 合物 200948920 [8] —種偏光板’其係於聚乙烯醇系偏光膜之至少單 面’介著接著劑層層合保護薄膜而成之偏光板，其特徵係 上述接著劑層係由前述[1 ]〜[7 ]中任一項記載之接著劑用 輻射線硬化性組成物之硬化物所成。 [9] 如前述[8]記載之偏光板，其中上述保護薄膜係 由環烯烴系樹脂薄膜所成。 ' [10] —種偏光板之製造方法，其係前述[8]或[9]記 載之偏光板之製造方法，其特徵係包含於偏光膜之至少單 0 面，介由接著劑用輻射線硬化性組成物層合保護薄膜的步 驟、與使該接著劑用輻射線硬化性組成物進行光照射後硬 化而得到偏光板之硬化步驟。 發明效果 根據本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物，因含有 特定成分，在液狀具低黏度且可邊維持良好的塗佈性，同 時可形成具優異接著強度（剝離強度）及耐濕熱性的偏光 〇 板。 本發明的偏光板因爲接著劑層係由具特定成分的非水 系之接著劑用輻射線硬化性組成物的硬化物所形成，作爲 保護薄膜就算使用低透濕性環烯烴系樹脂薄膜，不需如同 ’ 使用水系接著劑時般使接著劑硬化用的水分蒸散，以短時 間可得優異接著性。又，於偏光膜兩面上，作爲保護薄膜 可使用環烯烴系樹脂薄膜。此時，特別是可得優異耐濕熱 性，即使高溫高濕的環境下亦可維持高偏光性能。 -10- 200948920 根據本發明的偏光板之製造方法，經由於偏光膜之單 面或兩面上，透過接著劑用輻射線硬化性組成物層合保護 薄膜’使該接著劑用輻射線硬化性組成物進行輻射線照射 後使其硬化的簡易操作，可製造偏光板。又，即使作爲保 護薄膜使用非透濕性的環烯烴系樹脂薄膜時，不會如同使 ' 用水系接著劑情形般製造步驟煩雜化及長時間化，而且可 得各層間接著性優異之層合薄膜的偏光板。 [實施發明之最佳形態] 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物係包含成分（ Α)〜（Ε)、及（F)等任意成分。 以下，分別說明各成分。 [成分（Α)] 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物的成分（ φ Α)係具有氧雜環丁基的化合物。藉由使用成分（Α) ’ 維持接著劑用組成物黏度爲低的同時可得到具高接著強度 之偏光板。 作爲成分（Α)，可舉例如下述式（1)所表示之具1 個以上氧雜環丁基的化合物。 [化1] -C- Η2< >Η2 ⑴ -11 - 200948920 此般化合物中’於分子中具1個氧雜環丁基之化合物 方面，可舉如下述式（2)所表示之化合物。 [化2]

(式（2)中，Z爲氧原子或硫原子。R1爲氫原子； 氟原子；甲基、乙基等碳原子數1〜6個之烷基；三氟甲 基、全氟乙基等碳原子數1〜6個之氟烷基；苯基、萘基 等碳原子數6〜18之芳基；呋喃基或噻吩基。R2爲氫原子 :甲基、乙基等碳原子數1〜6個之烷基；1_丙烯基、2 —丙烯基、2—甲基一1—丙烯基等碳原子數2〜6個之烯 基：苯基、萘基等碳原子數6〜18之芳基；苄基、氟苄基 等取代或非取代之碳原子數7〜18之芳烷基；苯氧基甲基 、苯氧基乙基等芳氧基烷基等之具其他之芳香環的基；乙 基羰基、丙基羰基等碳原子數2〜6個之烷基羰基；乙氧 基羰基、丙氧基羰基等碳原子數2〜6個之烷氧基羰基； 乙基胺甲醯基、丙基胺甲醯基等碳原子數2〜6個之N-烷基胺甲醯基等）。 分子中具1個氧雜環丁基之化合物的具體例方面，如 3 —乙基一 3—羥基甲基氧雜環丁烷、3 —乙基—3 -苯氧基 甲基氧雜環丁烷、3 —乙基_3_ (2-乙基環己基甲基） 氧雜環丁烷、3 — （甲基）烯丙基氧基甲基一 3—乙基氧雜 -12- 200948920 環丁院、（3 —乙基—3 —氧雜環丁基甲氧基）甲基苯、4 _氟一 [1_ (3 —乙基一3 —氧雜環丁基甲氧基）甲基]苯、 4 —甲氧基一[1一 （3 —乙基一 3—氧雜環丁基甲氧基）甲 基]苯、[1— (3 —乙基一 3 —氧雜環丁基甲氧基）乙基]苯 ' 基醚、異丁氧基甲基（3 —乙基一 3_氧雜環丁基甲基）醚 、異冰片基氧基乙基（3 —乙基一 3 —氧雜環丁基甲基）醚 、異冰片基（3 —乙基一 3 —氧雜環丁基甲基）醚、2 —乙 0 基己基（3 —乙基一 3—氧雜環丁基甲基）醚、乙基二乙二 醇（3 —乙基一 3—氧雜環丁基甲基）醚、二環戊二烯（3 一乙基一3—氧雜環丁基甲基）醚等。 分子中具1個氧雜環丁基之化合物之市售品方面，可 舉例如 OXT — 101、OXT— 211、OXT— 212 (以上，東亞 合成公司製）等。 分子中具2個之氧雜環丁基的化合物方面，可舉例如 下述式（3)所示之化合物。 [化3]

(式（3)中’ Z爲氧原子或硫原子，R1與上述式（2 )之定義相同。R3表示乙烯基、丙烯基、丁烯基等線狀或 分枝狀的、碳原子數1〜20之烷撐基；聚（乙烯基氧基） 基、聚（丙烯基氧基）基等線狀或分枝狀的、碳原子數】 -13- 200948920 〜120之聚（烷撐基氧基）基；亞丙烯基、甲基亞丙烯基 、伸丁烯基等線狀或分枝狀的不飽和烴基；羰基；含羰基 之烷撐基；於分子鏈的中途’含羧基之烷撐基；於分子鏈 的中途，含胺甲醯基之烷撐基。又，R3可爲含雜原子之多 價之基）。 分子中具2個以上氧雜環丁基之化合物的具體例方面 ，可舉例如3,7—雙（3—氧雜環丁基）一 5—氧代一壬烷 、3,3’_ (1，3— （2 —亞甲基）丙烷二基雙（氧基亞甲基 ))雙一（3—乙基氧雜環丁烷）、1,4 —雙[(3 —乙基-3 _氧雜環丁基甲氧基）甲基]苯、雙（3 -乙基一 3 -氧雜 環丁基甲基）醚等。 分子中具2個以上氧雜環丁基之化合物之市售品方面 ，可舉例如OXT— 121、OXT — 221 (以上，東亞合成公司 製）等。 此等之化合物可單獨或2種以上組合使用。 此等中，成分（A)方面，由組成物黏度與接著強度 觀點來看’以具有1個氧雜環丁基之化合物較宜使用。進 而’由3-乙基—3-羥基甲基氧雜環丁烷係於構造中已具 有羥基而亦可作爲鏈移動劑之觀點來看爲佳。 $分（A)的黏度由接著劑用輻射線硬化性組成物之 低黏度化觀點來看，較佳爲25。(：之黏度爲30mPa. s以下 。又’本發明之黏度爲25 °C的以E型黏度計之測定値。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，（A )具 有氧雜環丁基之化合物的搭配比例，以接著劑用輻射線硬 -14- 200948920 化性組成物的全量爲1 00質量％，較佳爲5〜3 0質量％、 更佳爲8〜25質量％、特別佳爲1 0〜20質量％。上述搭配 比例未達5質量％時，接著劑層本身之黏度變大而塗佈性 降低。另外，上述搭配比例超過30質量％時，有接著性降 低之虞。 [成分（Β )] 0 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物之成分（ Β)爲具有環氧乙基之芳香族化合物。 成分（Β)的化合物方面，可例舉如於主鏈具有芳香 環構造且有2個以上環氧基之化合物。 此般化合物之芳香環構造之例方面，可舉例如雙酚A 型構造、雙酚F型構造、酚醛清漆型構造、萘骨架、蒽骨 架構造、芴骨架等。 藉由使用成分（B)，可賦予接著劑層高耐濕熱性， © 其結果，可提升偏光板之耐濕熱性。 此等之市售品方面，可舉例如JER806、JER828 (以 上，日本環氧樹脂公司製）；YD-127、YD-128、YDF-170 、YDF-175S、YDPN-63 8、YDCN-701 (以上，東都化成公 司製）；EPICLON830 、 EPICLON850 、 EPICLON830 、 EPICLON835、EPICLON HP — 4032D (以上，大日本油墨 化學公司製）等。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，（B)具 有環氧乙基之芳香族化合物的搭配比例，以接著劑用輻射 -15- 200948920 線硬化性組成物的全量爲1 00質量％，較佳爲5〜3 0質量 %、更佳爲8〜25質量％、特別佳爲1 0〜20質量％。上述 搭配比例未達5質量％時，接著劑層之耐濕熱性降低、與 保護薄膜之接著性降低。另外，上述搭配比例超過3 0質 量％，則伴隨黏度增加。 [成分（C)] 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物的成分（ © C)爲由（C1)具有環氧乙基之脂肪族化合物、及（C2) 具有環氧乙基之脂環式化合物所成群選出之至少1種的化 合物。成分（C)爲具有成分（Β)以外的環氧乙基之化合 物，具體上爲具有環氧乙基且不具有芳香環構造之化合物 〇 (C1)具有環氧乙基之脂肪族化合物的具體例方面’ 可舉例如1,4 — 丁二醇二環氧丙基醚、1,6_己二醇二環氧 丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙 ® 基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、聚丙 二醇二環氧丙基醚類；藉由於乙二醇、丙二醇、甘油等脂 肪族多元醇加成1種或2種以上之環氧化物所得的聚醚多 元醇之聚環氧丙基醚類；脂肪族長鏈二元酸之二環氧丙基 酯類；脂肪族高級醇之單環氧丙基醚類；高級脂肪酸之環 氧丙基酯類；環氧化大豆油；環氧硬酯酸丁醋；環氧硬酯 酸辛酯；環氧化亞麻仁油；環氧化聚丁二稀等。 其中，新戊二醇二環氧丙基酸由接著強度與黏度之均 -16- 200948920 衡性優異的觀點來看，適宜使用。 成分（C1 )的市售品方面，可舉例如SR — NPG、SR 一 1 6H、SR _ PG、SR — TPG (以上，阪本藥品工業公司製 );PG— 202、PG-207C以上，東都化成製）等。 ' (C2)具有環氧乙基之脂環式化合物的具體例方面， 如3，4 —環氧環己基甲基一 3’，4’一環氧環己烷羧酸酯、2_ (3,4_環氧環己基一 5,5—螺_3,4—環氧）環己烷—m — φ 二噁烷、雙（3,4 —環氧環己基甲基）己二酸、雙（3,4 — 環氧_6_甲基環己基甲基）己二酸、3,4_環氧_6—甲 基環己基一 3’，4’一環氧_6’一甲基環己烷羧酸酯、ε —己 內酯改性3,4—環氧環己基甲基一 3’，4’一環氧環己烷羧酸 酯、三甲基己內酯改性3,4—環氧環己基甲基一3’，4’一環 氧環己烷羧酸酯、/3_甲基一 5 —戊內酯改性3,4 一環氧 環己基甲基一 3’，4’ 一環氧環己烷羧酸酯、亞甲基雙（3,4 一環氧環己烷）、乙二醇之二（3,4 —環氧環己基甲基） φ 醚、乙烯基雙（3,4—環氧環己烷羧酸酯）、環氧環六氫 苯二甲酸二辛酯、環氧環六氫苯二甲酸二一2_乙基己酯 等。 成分（C2 )的市售品方面，可舉例如CELLOXIDE2021 、CELLOXIDE202 1P ' CELLOXIDE208 1 ' CELLOXIDE2083 、CELLOXIDE2085、EPOLEADGT - 300、EPOLEADGT - 301 、EPOLEADGT — 302、EPOLEADGT - 400、EPOLEAD401 、EPOLEAD403 (以上，DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.製）等。 -17- 200948920 成分（C)以至少含（Cl)具有環氧乙基之脂肪族化 合物爲佳。又，亦可倂用（C1)具有環氧乙基之脂肪族化 合物與（C2)具有環氧乙基之脂環式化合物。

本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，成分（C )的搭配比例，以接著劑用輻射線硬化性組成物的全量爲 100質量％，較佳爲20〜80質量％、更佳爲25〜60質量％ 、特別佳爲30〜50質量％。上述搭配比例未達20質量％ 時，接著劑層之機械強度及耐熱性有變不足之傾向。另外 ，上述搭配比例超過80質量％，則由接著劑用輻射線硬化 性組成物硬化而成之接著劑層之曲度等變形有變大之傾向 〇 又，成分（C)中成分（C1)的比例，較佳爲50質量 %以上’更佳爲7 5質量％以上，特別佳爲1 0 〇質量％。藉 由使成分（C1)的比例在上述範圍内，可得到耐濕熱性或 與保護薄膜之接著性更優異之偏光板。 [成分（D )] 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物的成分（ D)係以膠體滲透層析法測定的聚苯乙烯換算之數平均分 子量爲5 00以上且含有2個以上羥基之化合物。 成分（D)的數平均分子量爲500以上，較佳爲1，000 以上，更佳爲1,500以上。數平均分子量之上限雖未特別 限定，因數平均分子量過大則組成物的黏度變過高，有塗 佈性劣化之可能性，故較佳爲20,000、更佳爲1〇,〇〇〇。藉 200948920 由使上述分子量在上述範圍内，可得到具優異接著強度之 偏光板。 又，成分（D)的數平均分子量係使用 HPC — 8220GPC (東曹製）、管柱方面使用TFKgel G40 0 0HXL、 G3000HXL、G2000HXL各2支，以四氫呋喃爲展開溶劑 ' ，流量lcc/分、在40°C測定之聚苯乙烯換算數平均分子 量。 φ •成分（D)方面，可例舉如於1分子中有2個羥基之 二醇化合物、1分子中有3個以上羥基之多元醇化合物。 由接著強度觀點來看，成分（D)以含有二醇化合物爲佳 〇 作爲成分（D)可用之二醇化合物方面，可舉例如聚 碳酸酯二醇、聚己內酯二醇、聚醚二醇、聚酯二醇等。 聚碳酸酯二醇方面，雖可舉例如聚四氫呋喃之聚碳酸 酯、1,6 —己二醇之聚碳酸酯等，其中，使用下述式（11 φ )所表示之聚碳酸酯二醇，則可得到具特別優異接著強度 之偏光板。 HO-(R9—O-CO—〇)r—(R10—0-C0-0)s —R11 —OH ( 11 ) (式中’ R9及R1G分別獨立表示碳數2〜12之2價之 烴基’ R11表示與R9及R1()之任一相同構造。r爲2〜150 、3爲0〜150且r+s爲2〜200)。 上述式（11)所表示之聚碳酸酯二醇的製造方法雖未 特別限定，可舉例如二醇化合物與碳酸酯化合物的酯交換 反應、二醇化合物與光氣之聚縮合反應等既知之方法。此 -19- 200948920 聚碳酸酯二醇的製造所使用之二醇化合物方面，可例舉如 1，4 一丁 二醇、1，6_ 己二醇、3_ 甲基一 1，5 —戊二醇、1，9 —壬二醇、2—甲基一1,8 —辛二醇等。又，由偏光板接著 性觀點來看，以含1，6 —己二醇、3—甲基_1，5 —戊二醇 等碳數6之脂肪族烴基之聚碳酸酯二醇更佳。 聚碳酸酯二醇方面，適用之化合物之市售品方面，可 舉例如DN— 980、981、982、983 (以上，日本聚胺基甲 酸乙酯公司製）、PC— 8000(PPG公司製）、PC— THF - © CD ( BASF 公司製）、Kuraray polyolC — 590、C — 1090、 C — 2050、C 一 2090、C — 3090、C-2065N、C - 201 5N ( 以上，Kuraray 公司製）、PL A C C E L C D C D 2 1 0 P L、 PLACCEL CD CD220PL (以上，DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES，LTD.製）等。 聚己內酯二醇方面，可舉例如ε -己內酯與二醇反應 所得之聚己內酯二醇等。此處可用之二醇方面，可舉例如 乙二醇、聚乙二醇等。此等之市售品方面，可舉例如 © PLACCEL 205 、 205H 、 205AL 、 212 、 212AL 、 220 、 220AL (以上，DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.製 )等。 聚醚二醇方面，以脂肪族聚醚二醇爲佳，可舉例如聚 乙二醇、聚丙二醇等。此等之聚醚二醇之市售品方面，可 舉例如 PEG # 600、#1〇〇〇、# 1500、# 1540、#4000 ( 以上，LION 公司製）、EXCENOL720、1 020、2020、 3020、510、PREMINOLPPG4000 (以上 > 旭硝子公司製） -20- 200948920 等。 聚酯二醇方面，以脂肪族二醇化合物與脂肪族二羧酸 化合物的共聚物爲佳。脂肪族二醇化合物方面，可例舉如 1，4 一丁二醇、〗，6 —己二醇、1,8 —辛二醇、1,9 —壬二醇 、2 —甲基一 1,8 —辛二醇、3—甲基一1,5 —戊二醇等，脂 ' 肪族二羧酸方面，可例舉如丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己 二酸、癸二酸等。脂肪族二醇可使用1種或2種以上，又 φ ，脂肪族二羧酸亦可使用1種或2種類以上。此等之聚酯 二醇之市售品方面，可舉例如Kuraray polyolN-2010、Ο -2010 > P-510、P-1010 ' P—1050、P-2010、P-2050 、P— 3010、P-3050 (以上，Kuraray 公司製）等。 此等中成分（D)方面可使用之二醇方面，以聚碳酸 酯二醇爲佳，以上述式（11)所表示之聚碳酸酯二醇更佳 〇 成分（D)方面可使用之在1分子中有3個以上羥基 〇 之多元醇方面，可舉例如將三羥甲基丙烷、甘油、季戊四 醇、山梨糖醇、蔗糖、Quodorole等3元以上之多元醇以 環氧乙烷（E0)、環氧丙烷（P0)等環狀醚化合物進行 改性而得到之聚醚多元醇。此般化合物的具體例方面，如 EO改性三羥甲基丙烷、PO改性三羥甲基丙烷、四氫呋喃 改性三羥甲基丙烷、E 0改性甘油、Ρ Ο改性甘油、四氫呋 喃改性甘油等，但以E0改性三羥甲基丙烷、P0改性三羥 甲基丙烷、P0改性甘油、P0改性山梨糖醇爲佳。 上述多元醇之市售品方面，可舉例如sanixGP— 600、 -21 - 200948920 sanixGP — 1000、sanixSP — 750、sanixTP — 700 (以上，三 洋化成公司製）等。 又，成分（D)方面可使用之多元醇方面，亦可例舉 如含有羥基不飽和化合物的聚合物。上述含有羥基之不飽 和化合物方面，如含有羥基之（甲基）丙烯酸酯，具體上 可例舉如2—羥基乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丙基（ 甲基）丙烯酸酯等。進而如藉由烷基環氧丙基醚、烯丙基 環氧丙基醚、環氧丙基（甲基）丙烯酸酯等含有環氧丙基 之化合物與（甲基）丙烯酸之加成反應而得到之化合物。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，成分（D )的搭配比例，以接著劑用輻射線硬化性組成物爲1 00質 量％，較佳爲3〜30質量％、更佳爲3〜20質量％、特別佳 爲3〜1 5質量％。上述搭配比例未達3質量％，則接著劑 層與保護薄膜之接著強度降低。另外，上述搭配比例超過 3 0質量％，則接著劑用輻射線硬化性組成物的黏度變過高 而塗佈性變差、接著劑層與保護薄膜之接著強度變差。 又’成分（D)中二醇之比例，較佳爲50質量％以上 ，更佳爲75質量％以上，特別佳爲1〇〇質量％。藉由二醇 之比例在上述範圍内，可進而得到耐濕熱性或與保護薄膜 之接著性優異的偏光板。 [成分（E)] 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物的成分（ E )爲光酸產生劑。 -22- 200948920 光酸產生劑爲藉由接受光而放出路易士酸之光陽離子 聚合起始劑。 上述光酸產生劑之例方面，可例舉如，具下述一般式 (12)所表示之構造的鑰鹽。此鎗鹽於未達4 00nm具有實 質的光吸收波長。 [R^aR^bR^cR^dZl^tMXu + t]1' ( 12) (式中，陽離子爲鑰離子’ z爲S、Se、Te、P、As、 〇 Sb、Bi、Ο、I、Br、Cl 或 ΝξΝ，R12、R13、R14 及 R15 爲 互爲相同或相異之有機基。a、b、c及d分別爲0〜3之整 數，（a+b+c+d)相等於Z之價數+ t。Μ爲構成鹵化 物錯合物[MXu + t]中心原子之金屬或類金屬，例如Β、Ρ、 As 、 Sb 、 Fe 、 Sn 、 Bi 、 Al 、 Ca 、 In 、 Ti 、 Zn 、 Sc 、 V 、 Cr 、Mn、Co等。X爲例如F、Cl、Br等鹵素原子，t爲鹵化 物錯合物離子之淨電荷，u爲M之原子價）。 前述式（12)中，鑰離子的具體例方面，如二苯基碘 ® 鑰、4一甲氧基二苯基碘鑰、雙（4 一甲基苯基）碘鎗等二 芳基碘鑰、或三苯基銃、二苯基_4-硫代苯氧基苯基銃 等三芳基銃、或雙[4 _(二苯基銃基）—苯基]硫化物、雙 [4一（二（4— (2-羥基乙基）苯基）锍基）—苯基]硫化 物等。 前述式（12)中，陰離子[MXu + t]的具體例方面，如四 氟硼酸鹽（BF4·)、六氟磷酸鹽（PF6·)、六氟銻酸鹽（ SbF〆）、六氟砷酸鹽（AsF6·)、六氯銻酸鹽（SbCl6·)等 -23- 200948920 又’可使用具一般式[MXu(OH)·]所表示之陰離子的鎗 鹽。進而，亦可使用具有過氯酸離子（C104_ )、三氟甲 烷磺酸離子（cf3so3_)、氟磺酸離子（fso3·)、甲苯磺 酸離子、三硝基苯磺酸陰離子、三硝基甲苯磺酸陰離子等 其他陰離子之鎗鹽。 成分（E)方面可使用之鎗鹽之例方面，可舉例如特

開昭5 0 - 1 5 1 996號公報、特開昭50 — 1 58680號公報等記 載之芳香族鹵鎗鹽、特開昭5 0 — 1 5 1 997號公報、特開昭 U 52-30899號公報、特開昭56— 55420號公報、特開昭55 —125105號公報等記載之VIA族芳香族鑰鹽、特開昭50 —1 5 8698號公報等記載之VA族芳香族鎗鹽、特開昭56 一 8428號公報、特開昭56 - 149402號公報、特開昭57-192429號公報等記載之oxosulfoxonium salts、特開昭49 -1 7040號公報等記載之芳香族重氮鹽、美國專利第 4，1 39,655號說明書記載之thiopyrylium鹽等。又，亦可 例舉鐵/ Allene錯合物、鋁錯合物/光分解矽化合物系起 © 始劑等。作爲成分（E)適宜使用之光酸產生劑爲二芳基 碘鎗鹽、三芳基銃鹽等芳香族鎗鹽等，更佳爲三芳基锍鹽 〇 (E )光酸產生劑之市售品之例方面，可舉例如UVI —6950、UVI— 6970、UVI— 6974 (以上，Union Carbide 公司製）、ADEKAOPTOMERSP — 150、SP- 151、SP - 170 、SP— 172(以上，旭電化工業公司製）、Irgacure 261( 以上，CIBASPECIALTY CHEMICALS 公司製）、CI - -24- 200948920 2481、CI—2624、CI— 2639 (以上，日本曹達公司製）、 CD — 1010、CD — 1011、CD — 1012(以上，Sartomer 公司 製）、DTS- 102、DTS— 103、NAT- 103、MPI- 103 (以 上，綠化學公司製）、PCI — 061T、PCI — 062T、PCI-020T (以上，日本化藥公司製）、CPI — 100P、CPI — 110A、CPI—101A(以上，SAN-APRO 公司製）等。此等 中，UVI— 6970、UVI- 6974、ADEKAOPTOMERSP - 170 ❹ 、SP — 172、CD — 1012、MPI - 103、CPI - 110A、CPI - 101A、CPI — 10 0P因含此等而成之組成物可展現高光硬化 感度，故特別佳。上述的光酸產生劑可一種單獨或二種以 上組合使用。 又，爲促進光酸產生劑的酸之產生，可倂用增感劑。 增感劑之例方面，可舉例如二羥基苯、三羥基苯、羥基乙 醯苯、二羥基二苯基甲烷等。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，（E )光 © 酸產生劑之搭配比例，以接著劑用輻射線硬化性組成物的 全量爲100質量％，較佳爲0.1〜10質量％、更佳爲0.2〜 8質量％。上述搭配比例未達0 · 1質量％則接著劑用輻射線 硬化性組成物的輻射線硬化性降低，無法形成具足夠機械 強度之接著劑層，故不佳。另外，上述搭配比例超過1 〇 質量％則光酸產生劑有對接著劑層之長期特性產生負面影 響的可能性，故不佳。 [成分（F )] -25- 200948920 構成本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物的成分（ F)爲25°C之黏度爲10mPa. s以下且含1個經基之化合 物。藉由使用成分（F)，可不使偏光板接著強度降低、 使偏光板製造時之塗佈性或操作性良好、生產性提升。 成分（F)方面可使用之化合物，由塗佈性觀點來看 ，25°C之黏度爲l〇mPa · s以下爲必要，較佳爲5mPa · s 以下，更佳爲2.5mPa· s以下。 又，成分（F)方面可使用之化合物以分子量60〜 ◎ 200爲佳，60〜100更佳。該分子量未達60，則每單位質 量之莫爾數變過多，有環氧硬化無法充分進行之情形。該 分子量超過200，則成分（F)本身黏度變高，使組成物 的黏度降低之效果變小。 成分（F)以含選自具有醚構造之化合物、具有羰基 構造之化合物、具有酯構造之化合物之至少1種爲佳。藉 由含此般化合物，可獲得低黏度與高接著性兼備之偏光板 。 0 成分（F)的具體例方面，可例舉甲醇（25 °c (以下 ，相同）之黏度：〇.6mPa. s、分子量：32)、乙醇（黏 度：l.lmPa. s、分子量：46) 、η —丙醇（黏度：2.3mPa • s、分子量：60) 、i —丙醇（黏度：1.8mPa· s、分子量 ：60 ) 、n — 丁醇（黏度：3.0mPa.s、分子量：74) 、1 —戊醇（黏度：4.1mPa .s、分子量：88)、丙二醇單甲 基魅（黏度：1.9mPa. s、分子量：90)、丙—醇單乙基 醚（黏度：2.7mPa· s、分子量：104)、乳酸乙酯（黏度 -26- 200948920 :2.6mPa .s、分子量：115)、甲氧基丁醇（黏度： 3.7mPa .s、分子量：140)、二乙二醇乙基醚（黏度： 4.5mPa. s、分子量：134)等。其中，因丙二醇單甲基醚 可維持高接著強度同時能得到優異低黏度化效果，特別適 宜使用。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物中，成分（F )的搭配比例，以接著劑用輻射線硬化性組成物的全量爲 〇 1 〇〇質量％，較佳爲1〜20質量％、更佳爲3〜1 5質量％。 上述搭配比例未達1質量％則接著劑用輻射線硬化性組成 物的黏度變高，偏光板製造時之塗佈性、操作性等降低， 故不佳。另外，上述搭配比例超過20質量％則偏光板接著 強度降低，故不佳。 又，本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物，在不損 本發明的目的、效果範圍內，可添加各種添加劑作爲其他 任意成分。該添加劑方面，可例舉上述成分以外的環氧樹 ® 脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺基甲酸乙酯、纖維素樹 脂、氟系寡聚物、矽酮系寡聚物、聚硫化物系寡聚物等聚 合物或寡聚物：吩噻嗪、2，6—二—t 一 丁基一 4 —甲基酚等 聚合防止劑；聚合起始助劑；塗平劑；潤濕性改良劑；界 面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑；矽烷偶合劑；無機充 塡劑；顏料；染料等。 本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物可藉由將上述 成分（A)〜（E)、及因應必要之上述任意成分均一混合 而調製。 -27- 200948920 如此所得到之接著劑用輻射線硬化性組成物的黏度（ 2 5°C )，較佳爲1 OOmPa . s以下，更佳爲80mPa s以下 ’又更佳爲60mPa · s以下，特別佳爲50mPa . s以下。接 著劑用輻射線硬化性組成物的黏度（2 5。(：）的下限値並未 特別限定，通常爲5mPa · s以上，較佳爲i〇mPa · s以上 。藉由使接著劑用輻射線硬化性組成物的黏度在上述範圍 内’於偏光板的製造時可得到良好的塗佈性、操作性。 又’接著劑用輻射線硬化性組成物中，因應必要可添 加有機溶劑等溶劑，但可以省略乾燥步驟，又，由作業環 境維持、環境負荷等面以不含溶劑爲佳。 又，亦可使用令接著劑用輻射線硬化性組成物以過濾 器等過濾者。 接著，邊參考圖面，邊說明有關本發明的偏光板及其 製造方法。 圖1爲本發明的偏光板之一例的模式剖面圖。圖2爲 本發明的偏光板之製造方法之一例的流程圖。 〇 圖1中，偏光板1係由聚乙烯醇系偏光膜2、與形成 於此偏光膜2兩面（下面及上面）的接著劑層3，4、與層 合於此等接著劑層3, 4之個別的單面（具體上爲接著劑 層3之下面及接著劑層4之上面）所形成的保護薄膜5，6 所成。 [偏光膜] 偏光膜方面，可使用聚乙烯醇系偏光膜（以下’亦稱 -28- 200948920 PVA系偏光膜）》PVA系偏光膜爲一般用爲偏光膜者，於 聚乙烯醇系薄膜吸附碘或二色染料後延伸配向者。 偏光膜厚度雖未特別限定，可定爲例如成爲10〜40/zm [接著劑層] 接著劑層爲使上述的接著劑用輻射線硬化性組成物進 © 行輻射線硬化所成之硬化物層。 藉由使用上述的接著劑用輻射線硬化性組成物形成接 著劑層，即使保護薄膜爲COP系、TAC系任一者，皆可 爲保護薄膜與接著劑層之接著強度優異者。 接著劑層之厚度雖未特別限定，可定例如成爲0.01〜 5.0 // m 〇 [保護薄膜] ® 保護薄膜方面，可使用例如由三乙醯纖維素般乙酸酯 系樹脂、聚乙烯基對苯二甲酸乙二酯樹脂等聚酯系樹脂、 聚醚碾系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞 胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、COP系樹脂、丙烯系樹脂等之 光學透明之樹脂所成之薄膜。其中，以降冰片烯系樹脂薄 膜等COP系薄膜、三乙醯纖維素系樹脂薄膜（TAC系薄 膜）爲佳。 偏光板構成方面，如以下（1)〜（3)。 (1 ) TAC系薄膜/接著劑層/ PVA系偏光膜/接著 -29- 200948920 劑層/ TAC系薄膜 (2) TAC系薄膜/接著劑層/PVa系偏光膜/接著 劑層/ COP系薄膜 (3) COP系薄膜/接著劑層/pvA系偏光膜/接著 劑層/ COP系薄膜 · 本發明中，以至少1個之保護薄膜爲COP系薄膜爲 · 佳。亦即’偏光板之構成方面以上述（2) 、（3)爲佳， 上述（3)更佳。根據上述（2) 、（3)的構成，以透濕 © 性低之COP系薄膜作爲保護薄膜，故可得耐濕熱性優異 之偏光板。 本發明中，上下之保護薄膜中，必須一面之保護薄膜 爲防紫外線之保護薄膜，另一面之保護薄膜爲紫外線透過 性之保護薄膜。 上述防紫外線之保護薄膜爲偏光板配置於液晶晶胞之 兩面時’扮演保護液晶晶胞免於外部紫外線照射之角色。 防紫外線之保護薄膜中可適當搭配紫外線吸收劑。防紫外 〇 線之保護薄膜之波長3 8 Onm的光透過率爲例如10%以下。 上述紫外線透過性保護薄膜爲藉由從該保護薄膜側進 行輻射線照射（光照射），使接著劑用輻射線硬化性組成 物硬化用者。紫外線透過性之保護薄膜不含紫外線吸收劑 ’或即使含有也係爲透過該保護薄膜照射光後可使接著劑 用輻射線硬化性組成物硬化之程度。紫外線透過性之保護 薄膜之波長380nm的光透過率爲例如60%以上。 保護薄膜可設置相位差。 -30- 200948920 保護薄膜之厚度雖未特別限定，可定例如成爲10〜 2 0 0 m。 (環烯烴系樹脂薄膜） 又，上述的環烯烴系樹脂薄膜方面，以使含至少1種 環烯烴系化合物之單體組成物聚合、且因應需要進而氫化 而得到之樹脂所成的薄膜爲佳。 0 上述環烯烴系化合物方面，可例舉如下述一般式（1 3 )所表示之化合物。 [化 11] R16

(式（13)中，R16〜R19各自獨立，表示氫原子；鹵 素原子；可具有含氧、氮、硫或矽之連結基的取代或非取 代之碳原子數1〜15之烴基或其他1價之有機基。或Ri6 與R17或R18與R19可相互鍵結，形成烷叉基，1^6與 、R18與R19或R17與R18可相互鍵結，形成碳環或雜環（ 此等之碳環或雜環可爲單環構造，或其他環縮合而形成多 環構造）。形成之碳環或雜環可爲芳香環或非芳香環。又 ，x爲0或1〜3之整數、y爲〇或1，但X爲〇時y亦爲 0 ) ° -31 - 200948920 —般式（1 3 )所表示之環烯烴系化合物的具體例方面 可舉例如’以下所示化合物，但不限於此等之例示物。 雙環[2.2.1]庚—2—烯（降冰片烯）、 5 —甲基一雙環[221]庚_2 —烯、 5 一乙基—雙環U.2.1]庚一2 —烯、 5—苯基—雙環[2.2.1]庚—2 —烯、 5— (4 -聯苯基）_雙環[221]庚_ 2_烯、 5 —甲氧基羰基—雙環[221]庚—2_烯、 5—甲基一5 —甲氧基羰基—雙環[221]庚一 2一烯、 5—乙烯基—雙環[221]庚_2_烯、 5 一亞乙基一雙環U.2.1]庚—2 一烯、 5.5 —二甲基一雙環[221]庚—2 —烯、 5.6 —二甲基一雙環[221]庚—2 —烯、 5—羥基一雙環[2.2·〗]庚一 2—烯、 5—羥基乙基一雙環仏^]庚一 2 一烯、 三環[4.3.0.12,5]癸一 3_ 稀、 三環[4.4.0.12’5]十一 —烯、 四環[4_4.0.12,5·；!?，！”十二—3—嫌、 六環ΚΟ.Ρ'广丨9,丨2 〇8 13]十七—烯、 8—甲基一四環[4.4.0.12,5.17>10]十二—3—烯、 8—乙基一四環[4·4·〇.ΐ2,5ι7,ι〇]十二—3一 烯、 8—環己基一四環[4.4.〇.12,517，1{)]十二—3一烯、 8 —甲氧基羰基一四環[4 4 〇 l2,5 l7，10]十二一 3_烯、 8 一甲基_ 8 —甲氧基羰基—四環[4.4.0.12,5」7，10]十二 -32- 200948920 -3 -烯、 8 — 乙嫌基一四環[4.4·0.12’5.17，1()]十二—3 —嫌、 8—亞乙基—四環[4.4_0_12,5.17，1()]十二—3—烯、 又’此等環烯烴系化合物可一種單獨使用，或二種以 上倂用。 上述環烯烴系樹脂中，上述環烯烴系化合物與可共聚 合之其他單體可含於單體組成物中而聚合。 ❹ 上述可共聚合之其他單體方面，例如，環丁烯、環戊 烯、環庚烯、環辛烯、環十二烯等之環狀烯烴或1,4 _環 辛二烯、二環戊二烯、環十二烷三烯等之非共軛環狀多烯 〇 此等之可共聚合之其他單體可1種單獨使用或2種以 上倂用。 含上述環烯烴系化合物之單體組成物的聚合方法方面 ’可使用如特開2006 - 201 736號公報、特開2005 -® 1 64632號公報等記載之複分解（metathesis )開環聚合或 加成聚合之公知方法。 又’關於所得（共）聚合物之氫化方法，亦可使用上 述文獻記載之公知方法。 氫化聚合物之氫化率，以500MHz、4—NMR測定之 値方面’較佳爲50%以上，更佳爲70%以上，又更佳爲 90%以上’特別佳爲99%以上。氫化率愈高，對熱或光之 安定性愈優異，可得長期安定之特性。 環烯烴系樹脂之以膠體滲透層析法（GPC )測定的聚 -33- 200948920 苯乙烯換算之數平均分子量（Μη)，較佳爲5,000〜100 萬、又更佳爲1萬〜50萬、特別佳爲1.5萬〜25萬。 環烯烴系樹脂之重量平均分子量（Mw)，較佳爲1 萬〜200萬、更佳爲2萬〜100萬、特別佳爲3萬〜50萬 〇 環烯烴系樹脂的玻璃轉化溫度（Tg)，較佳爲120°C 以上，更佳爲130°C以上，特別佳爲150°C以上。 環烯烴系樹脂的飽和吸水率，較佳爲1質量％以下， © 更佳爲〇. 1〜〇 · 8質量％。飽和吸水率超過1質量％，則由 該樹脂所得之保護薄膜有因使用環境而經時吸水（濕）變 形等、耐久性問題之產生。另外，未達0· 1質量％，則於 接著性有問題產生。又，前述飽和吸水率係依據ASTM D 5 7 0 ’在2 3 °C的水中浸漬1週後，測定增加質量而得之 値。

本發明中，在不損及本發明的效果範圍內，可進而添 加抗氧化劑、紫外線吸收劑等添加劑。 G 抗氧化劑方面，可例舉如2,6—二一t — 丁基一 4_甲 基酚、2,2’ 一 二氧基—3,3’ 一二—t — 丁基—5,5，—二甲基 二苯基甲烷、肆[亞甲基—3 - ( 3,5 —二一t一丁基—4—羥 基苯基）丙酸酯]甲烷等。 紫外線吸收劑方面，可例舉如2,4 -二羥基二苯甲酮 、2—羥基一4 —甲氧基二苯甲酮等。 (環烯烴系樹脂薄膜的製造方法） -34- 200948920 環烯烴系樹脂薄膜的製造方法方面，可使用特開20 0 6 一 20 1736號公報、特開2005 - 164632號公報等記載之公 知方法。亦即，環烯烴系樹脂薄膜可藉由使前述環烯烴系 樹脂直接溶融成形、或溶於溶劑進行溶解鑄造（鑄模成形 )方法而成形。 ' 接著，說明關於偏光板之製造方法。 本發明的偏光板之製造方法係於偏光膜之至少單面（ 〇 具體上爲單面或兩面）使保護薄膜介著液狀之接著劑用輻 射線硬化性組成物層合後，使此液狀之接著劑用輻射線硬 化性組成物進行輻射線（例如，紫外線）照射後硬化者。 圖2中，偏光板1的製造方法係包含準備聚乙烯醇系 偏光膜2之步驟（a)、與於保護薄膜5，6各自單面塗佈 接著劑用輻射線硬化性組成物後，得到保護薄膜5，6與 接著劑用輻射線硬化性組成物層3，，4’之層合體5，，6,之 步驟（b)、與於聚乙烯醇系偏光膜2之上面及下面，分 © 別使層合體5’’ 6 ’以組成物層3’，4’面對偏光膜2之面的 方式進行層合之步驟（c)、與經光照射使組成物層3，， 4’硬化而形成接著劑層3，4之步驟（d)。 以下，分別說明各步驟。 [步驟（a)] 步驟（a)爲準備聚乙烯醇系偏光板2之步驟（圖2 中（a )作參考）。 -35- 200948920 [步驟（b)] 步驟（b)爲於保護薄膜5(6)的單面，塗佈接著劑 用輻射線硬化性組成物，而得到具有組成物層3 ’，4 ’之保 護薄膜5’，6’的步驟（圖2中（b)作參考）。 具體上爲於保護薄膜5，6各自單面上，塗佈接著劑 ^ 用輻射線硬化性組成物，並因應需要進行乾燥等，形成由 接著劑用輻射線硬化性組成物所成之層3 ’，4 ’。 接著劑用輻射線硬化性組成物的塗佈方法方面，雖未 0 特別限定，可例舉如模塗法、輥塗法、凹版塗佈法、旋轉 塗佈法等。 [步驟（c )] 步驟（C)爲於聚乙烯醇系偏光膜2之上面及下面， 各自層合保護薄膜5，6與接著劑用輻射線硬化性組成物 餍3’，4 ’之層合體5’，6’的步驟（圖2中（c)作參考） 。層合體5’爲以組成物層3’面對偏光膜2下面之方式層合 © 。層合體6 ’爲以組成物層4’面對偏光膜2之上面之方式層 合。 [步驟（d)] 步驟（d)爲藉由照射輻射線7，使組成物層3’，4’硬 化，形成接著劑層3’ 4之步驟（圖2中（d) ，（F)作 參考）。 具體上爲從保護薄膜6上面照射輻射線7。藉由此， -36- 200948920 使接著劑用輻射線硬化性組成物層3 ’，4 ’硬化成爲接著劑 層3, 4，完成偏光膜2與保護薄膜5，6透過接著劑層3 ，4而接著而成的偏光板1(圖1、圖2中（F)作參考） 〇 輻射線之照射量雖並未特別限定，但以波長200〜 450nm、照度 1〜500mW/ cm2之光以照射量成爲10〜 1 0,000mJ/cm2之方式照射後曝光爲佳。 ❹ 照射之輻射線種類方面，雖可使用可見光、紫外線、 紅外線、X線、α線、β線、γ線等，特別以紫外線爲佳。 光的照射裝置方面，以使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金 鹵燈、準分子燈等爲佳。 又，本發明中，輻射線係從紫外線透過性之保護薄膜 側進行照射。圖2中，表示保護薄膜6爲紫外線透過性之 保護薄膜之情況。 所得偏光板，通常施以裁斷等加工後使用。 【實施方式】 [實施例] 以下，以實施例進一步具體說明本發明。 [1 ·接著劑用輻射線硬化性組成物的調製] 於附攪拌裝置之容器，以如表1之搭配比例加入成分 (Α)〜（Ε)及其他任意成分，進行4小時攪拌、均一混 合。停止攪拌並靜置2 4小時後，得到實施例1、2中使用 -37- 200948920 的輻射線硬化性組成物。同樣地，得到參考例1、2中使 用的輻射線硬化性組成物。 又，表1中各成分的化合物名如下： (A )成分： OXT -10 1： 3 -乙基—3—羥基甲基氧雜環丁烷（東 亞合成公司製） (B )成分： JER806:雙酚F型環氧樹脂（日本環氧樹脂公司製） JER828:雙酚A型環氧樹脂（日本環氧樹脂公司製） HP- 403 2D ： 1，5 —二羥基萘衍生物環氧樹脂（大曰本 油墨化學公司製） (C)成分： SR—NPG:新戊二醇二環氧丙基醚（阪本藥品工業公 司製） CELLOXIDE2021P : 3,4一 環氧環己烯基甲基—3’，4’~ 環氧環己烯羧酸酯（Daicel公司製） (D )成分：

Kuraray polyol C — 2090:聚（（3 —甲基—1,5 —戊二 醇；1,6 -己二醇）碳酸酯）（Kuraray公司製；數平均分 子量2，0 0 0 ) (F )成分： 甲基丙二醇（MFG ):丙二醇單甲基醚（日本乳化劑 公司製） (E )成分： -38- 200948920 CPI — 10 0P:二苯基[4-(苯基硫基）苯基]锍六氟磷 酸鹽（SAN-APRO公司製） 其他成分：

SanixGP- 400 ：聚氧基丙烯基甘油醚（三洋化成工業 公司製；數平均分子量420 ) [2.接著用基材的製造或準備] φ [PVA薄膜（偏光膜）] 使硼酸20質量份、碘0.2質量份、碘化鉀0.5質量份 溶於水480質量份後調製染色液。於此染色液中使PVA .薄膜（維尼隆（Vinylon)薄膜#40、Aicello公司製）浸 漬3 0秒後，使薄膜向單方向延伸2倍，並使其乾燥，以 製作膜厚30/z m之PVA薄膜。 [保護薄膜] e 保護薄膜方面，係使用以下者。 ARTONR5000 : JSR 公司製 ARTONR5000U : JSR公司製（含紫外線吸收劑薄膜） 又，保護薄膜爲使用電暈表面處理裝置（春日電機公 司製之「AGF - 012」），並以320W ·分/ m2之放電量於 薄膜表面進行電暈放電處理，於表面處理後1小時以内實 施接著。 [3.偏光板的製造] -39- 200948920 [實施例1、2、參考例1、2] 使所得之輻射線硬化性組成物以Wire Bar Coater # 3於ARTONR5 000 (保護薄膜）上進行塗佈，並於其上， 將PVA薄膜以不生氣泡等缺陷之方式進行貼合。接著， 於ARTONR5000U (保護薄膜）上，將上述輻射線硬化性 組成物使用Wire Bar Coater #3進行塗佈，於上述貼合 之PVA薄膜上，以不生氣泡等缺陷之方式進行貼合。以 上之作業係在29°C、50%RH之環境下進行。接著，於玻 璃板上，以ARTONR5 000在上之方式使四角以膠帶固定， 以金鹵燈（照度220mW/ cm2、照射光量300mJ/ cm2 )從 ARTONR5000側進行光照射。光照射後，在23〇C、50%RH 靜置24小時，得到評估用的偏光板。 [4.評估] 將所得輻射線硬化性組成物的黏度、耐濕熱性、及偏 光板之剝離強度（接著性）藉由下述方法評估。 結果如表1。 (黏度） 使輻射線硬化性組成物的2 5 °C之黏度以E型黏度計 (東機產業公司製、RE-11 0H)進行測定。 (耐濕熱性） 使所得之1 00mm方形的偏光板於85°C 85°/〇RH之恆溫 200948920 槽靜置72小時。將偏光板由恆溫槽取出冷卻至室溫後， 與未進行濕熱處理的偏光板比較，以目視觀察縮小及褪色 之有無以進行評估。無變化者爲「〇」、有縮小或褪色者 爲「X」° ' (偏光板之剝離強度） 製作的偏光板之剝離強度係以JIS K 6 8 5 4 - 4接著劑 © -剝離接著強度試驗法 第4部：浮動輥法爲準進行測定 。使製作之偏光板於金屬板（不鏽鋼製，尺寸：長度 200mm、寬25mm、厚度1 · 5 mm )上以雙面黏著膠帶（s T —416P、住友3M公司製）固定。偏光板中，於PVA薄膜 與保護薄膜之ARTONR5000及ARTONR5000U間，長邊方 向端使用美工刀進行剝離。依據JIS法，於浮動輥設置樣 本，使剝離之薄膜樣本端固定於拉伸試驗機的固定具上， 以拉伸試驗機，使浮動輥以3 00mm/分之速度上昇，測定 Ο 薄膜剝離時之平均剝離力（gf/25rnm)。 -41 - 200948920 [表l]

單位：質量份 實施例1 實施例2 參考例1 參考例2 (A) OXT-101 14.3 14.3 — — (B) JER806 7.1 — — — JER828 7.1 — — — HP-4032D — 14.2 — — (C) SR-NPG 45.8 45.8 34.6 38.0 CELLOXIDE 202 IP — — 33.4 36.6 (D) KURARAY POLYOL C-2090 9.2 9.2 6.3 5.6 (E) CPI-100P 7.3 7.3 4.6 5.0 (F) 丙二醇單甲基醚 9.2 9.2 9.6 10.6 其他 SANIX GP-400 — — 11.5 4.2 合計（質量份） 100 100 100 100 [評估] 黏度（mPa . s) 44 47 48 38 彔！灕強度（g/25mm) 260 320 360 200 耐濕熱性（85°C/85%) 〇 〇 X X 由表1，可知本發明的接著劑用輻射線硬化性組成物 ’在液狀之黏度低，其硬化物（接著層）本身有優異耐濕 熱性，且可得到COP系之保護薄膜與接著劑層之接著性 優異的偏光板（實施例1、2)。另外，在不含成分（A) 及（B)的參考例1、2，與保護薄膜之接著性差，又，硬 化物（接著劑層）的耐濕熱性差。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]本發明的偏光板之一例的模式剖面圖。 [圖2]本發明的偏光板之製造方法之一例的流程圖。 -42- 200948920 【主要元件符號說明】 1 :偏光板 2:聚乙烯醇系偏光膜 3 :接著劑層 3 ’ ：接著劑用輻射線硬化性組成物所成之層 4 :接著劑層 4 ’ ：接著劑用輻射線硬化性組成物所成之層 © 5 :保護薄膜 5 ’ ：保護薄膜5與接著劑用輻射線硬化性組成物所成 層3’之層合體 6 :保護薄膜 6 ’ ：保護薄膜6與接著劑用輻射線硬化性組成物所成 層4’之層合體 7 :輻射線（紫外線） ❿ -43-

Claims (1)

1. 200948920 七、申請專利範圍： 1.一種接著劑用輻射線硬化性組成物，其特徵係包含 (A) 具有氧雜環丁基之化合物、 (B) 具有環氧乙基之芳香族化合物、 (C) 由（C1)具有環氧乙基之脂肪族化合物、及（ C2)具有環氧乙基之脂環式化合物所成群選出之至少1種 的化合物、 © (D) 以膠體滲透層析法測定的聚苯乙烯換算之數平 均分子量爲5 00以上且含有2個以上羥基之化合物、 (E )光酸產生劑。 2 .如申請專利範圍第1項之接著劑用輻射線硬化性組 成物，其中，更含有（F) 25°C之黏度爲10mPa · s以下且 含1個羥基之化合物。 3 ·如申請專利範圍第1項之接著劑用輻射線硬化性組 成物’其中，上述成分（B)係含有選自由雙酚A型環氧 〇 樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、含萘骨 架之環氧樹脂、含蒽骨架之環氧樹脂、及含芴骨架之環氧 樹脂所成群之至少1種。 4.如申請專利範圍第1項之接著劑用輻射線硬化性組 成物’其中，上述成分（C)係含有具有環氧乙基之脂肪 族化合物。 5 .如申請專利範圍第1項之接著劑用輻射線硬化性組 成物，其中，上述成分（D)係含有聚碳酸醋二醇。 -44- v 200948920 6.如申請專利範圍第2項之接著劑用輻射線硬化性組 成物，其中，上述成分（F)的分子量係60〜200。 7 ·如申請專利範圍第2項之接著劑用輻射線硬化性組 成物’其中’上述成分（F)係含有選自具有醚構造之化 合物、具有羰基構造之化合物 '及具有酯構造之化合物所 成群之至少1種。 8. —種偏光板’其係於聚乙烯醇系偏光膜之至少單面 ® ’介著接著劑層層合保護薄膜而成之偏光板，其特徵係上 述接著劑層係由申請專利範圍第1〜7項中任一項之接著 劑用輻射線硬化性組成物之硬化物所成。 9. 如申請專利範圍第8項之偏光板，其中，上述保護 薄膜係由環烯烴系樹脂薄膜所成。 10. —種偏光板之製造方法，其係申請專利範圍第8 或9項之偏光板之製造方法，其特徵係包含於偏光膜之至 少單面，介由接著劑用輻射線硬化性組成物層合保護薄膜 ® 的步驟、與使該接著劑用輻射線硬化性組成物進行光照射 使其硬化而得到偏光板之硬化步驟。 -45-