TW200829963A - White polyester film for reflecting sheet use in liquid crystalline display - Google Patents

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200829963 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於白色聚酯薄膜，特別是關於適合用作爲 液晶顯示器用反射板之白色聚酯薄膜。更具體而言’係關 於在以側光（side light)(也稱爲「邊光（edge light)」 )照明液晶畫面的情況，或以在反射薄膜之正上方配置螢 光管（稱之爲「直下型」）之構成，可構成能獲得更明亮 的畫面之反射板用基材之顯示器反射板用白色聚酯薄膜。 【先前技術】 近年來，個人電腦、電視、攜帶式電話等之顯示裝置 係·大都使用利用液晶的顯示器。在照明該等之液晶顯示器 時，迄今爲止，由顯示器之背面照射光的背光（backlight )方式、或如在發明專利文獻1所揭示之側光方式等由於 具有體態薄型且能均勻照明之優點而被廣泛之使用。所謂 的「側光方式」係意謂在具有某一厚度之丙酸樹脂板等 之透明基材的單面施加網點印刷或縐紋加工等各種處理， 並以由該丙烯酸樹脂板等之邊緣照射冷陰極管等之照明的 方式，照明光即得以均勻分散，以獲得具有均勻的亮度之 畫面。而且’由於並非在畫面之背面而在邊緣部設置照明 ，因此比背光方式可製成爲較薄型。另外，爲防止照明光 朝畫面背面的逸散，則有必要在畫面之背面設置反射板， 但是由於對於該反射板則要求體態爲薄型，且具有高光反 射性’因此主要是使用一種經將微細氣泡包含在薄膜內部 ，而以該氣泡使得光散射來加以白色化的白色薄膜等。 200829963 在一方面，對於例如液晶電視的大畫面用，則採用直 下型光方式。該方式係在液晶畫面之下部並排配置冷陰極 線管。反射板係使用平面狀、或將冷陰極線管之部分成形 爲半圓凹狀者等。迄今爲止，一向是在使用經添加白色顔 料之薄膜、或將微細氣泡包含在內部之薄膜以單獨、或該 等之薄膜與金屬板、塑膠板等相貼合者。尤其是在使用將 微細氣泡包含在內部的薄膜的情況下，則具有優越的亮度 (brightness )之提高功效或均勻性（發明專利文獻2 )。 該微細氣泡之形成係將高熔點的不相溶性高分子（ immiscible polymer)或硫酸鋇（barium sulfate)等之無機 微粒微細地分散在例如在聚酯之薄膜母材中，然後將其加 以延伸（例如雙軸向延伸）即可達成。延伸時，將在不相 溶性高分子微粒周圍形成空隙（void )(氣泡），由於其 可對光發揮散射作用而加以白色化，以獲得高反射率。 並且，在發明專利文獻2之技術，則以確保波長爲 4 00至7 00 nm的光之反射率，同時提高波長爲短於400 nm 的光之反射率也爲其目的，而採取將螢光增白劑包含在具 有空洞的薄膜之結構。 另外，近年來，對於例如液晶顯示器面板之顯示機器 ，在關於照片影像或動畫的顯示方面，則也要求過去從未 要求的高度顯示能力，隨之而來的是對於背光之高亮度化 或提高白色再現性等高性能化之要求即日益提高。爲因應 該等之要求，使得對於反射板所要求之紫外線吸收性或各 種耐久性的要求，也更加提高。 200829963 例如，特別要求一種即使在長期間使用時，可抑制劣 化、穩定地使用之特性。有鑒於此，例如在發明專利文獻3 ，則揭示一種爲確保穩定性而含有光穩定劑之具有空洞的 聚酯薄膜。 另外，一般而言，雙軸向延伸聚酯薄膜係容易產生靜 電，以致在製膜、加工製程及使用時，則有塵埃附著之問 題。近年來隨著畫面之大型化，該塵埃會對製造損失造成 極大的影響，因此在使用該聚酯薄膜的液晶監視器製程中 ，對於各構件的污垢防止性之要求日益增加。基於此種要 求，在發明專利文獻4則以使薄膜具有抗靜電性以獲得污 垢防止功效。然而，由發明專利文獻4所提供之薄膜，卻 無法適用於要求光穩定性之液晶顯示裝置，因此，正在期 望一種能使光穩定性和污垢防止性兩者並存之光學薄膜。 (發明專利文獻1 )日本發明專利特開昭第6 3 - 6 2 1 0 4 號公報 (發明專利文獻2 )日本發明專利特開平第4 - 2 3 9 5 4 0 號公報 (發明專利文獻3)日本發明專利特開第2002-098808 號公報 (發明專利文獻4)日本發明專利特開平第1 0-278204 號公報 【發明內容】 〔所欲解決之技術問題〕 然而，在先前技術中，由於來自螢光管所發出的紫外 200829963 線而導致構件加速劣化，且在長期間使用時，由於液晶單 元內等的溫度濕度條件之變化大，以致由於各構件的熱膨 脹率之差異，則有可能造成構件之歪曲。此時，若構件彼 此之接觸面積爲大時，則將在產生歪曲時造成構件彼此摩 擦之吱吱響。若該吱吱響反復產生時，則將可能加速構件 之劣化’以致由於摩擦所造成的傷而導致特性惡化。另外 ，在製造組裝步驟時，由於塵埃附著所造成的損失也大。 若將該等問題，單純地欲以賦予光穩定性之光穩定劑、添 加爲製造凸凹所需要的微粒、及添加抗靜電劑之措施來解 決時，則有不僅是因著色或散射而引起光學特性之惡化， 也將在各材料之間發生反應，以致有各材料所應具有之性 能因之而消除之顧慮。 〔解決問題之技術方法〕 爲解決如上所述之問題，本發明具有如下之構成。亦 即： (1 ) 一種液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜，係在具有 微細氣泡之聚酯薄膜含有光穩定劑，且該薄膜之至 少一側之表面的平均反射率爲97%以上。 (2) 如第（1 )項所述之液晶顯示器反射板用白色聚酯 薄膜，其中該聚酯薄膜是具有在具有微細氣泡之聚 酯層（A )之至少一面上加以積層含有光穩定劑之 聚酯層（B )之結構。 (3 ) 如第（1 )或（2 )項中任一項所述之液晶顯示器反 射板用白色聚酯薄膜，其中在該聚酯薄膜之至少一 200829963 面上塗布含有抗靜電劑之層（C)，且層（C)之表 面電阻率値爲1χ1013Ω /□以下。 (4 ) 如第（1 )至（3 )項中任一項所述之液晶顯示器反 射板用白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜表面之中心 面平均粗糙度Ra爲〇·1以上且十處之平均粗糙度 Rz爲1 . 〇以上。 (5 ) 如第（1 )至（4 )項中任一項所述之液晶顯示器反 射板用白色聚酯薄膜，其中包含在該聚酯薄膜之光 穩定劑的含量相對於聚酯薄膜之總重量爲〇.〇2重 量％以上、2 0重量％以下。 (6) 如第（1)至（5)項中任一項所述之液晶顯不器反 射板用白色聚酯薄膜’其中包含在該聚酯薄膜之光 穩定劑爲丙二酸酯系光穩定劑。 (7 ) 如第（1 )至（6 )項中任一項所述之液晶顯示器反 射板用白色聚酯薄膜’其中包含在該聚酯薄膜之光 穩定劑爲2,6-萘二甲酸或其共聚合物。 (8 ) 如第（1 )至（7 )項中任一項所述之液晶顯示器反 射板用白色聚酯薄膜’其中在該聚酯薄膜含有二氧 化鈦微粒，且其含量相對於聚酯薄膜之總重量爲1 重量％以上、4 0重量％以下。 (9) 如第（1 )至（8 )項中任一項所述之液晶顯不器反 射板用白色聚酯薄膜’其中在該聚酯薄膜含有平均 粒徑爲1.0 A m以上之微粒（下稱爲「大粒徑微粒 」），且其含量相對於聚酯薄膜之總重量爲〇·〇ι 200829963 重量％以上、5重量％以下。 (10) 如第（9 )項所述之液晶顯示器反射板用白色聚酯 薄膜，其中該大粒徑微粒爲二氧化矽微粒。 (11) 如第（1 )或（10)項中任一項所述之液晶顯示器 反射板用白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜係因含有 與聚酯不相溶性之熱塑性樹脂而形成微細氣泡。 (12) 如第（1 1 )項所述之液晶顯示器反射板用白色聚酯 薄膜，其中與該聚酯不相溶性之熱塑性樹脂爲聚甲 基戊烯，在聚酯薄膜中之平均粒徑爲大粒徑微粒之 平均粒徑以下，且相對於聚酯薄膜之總重量爲含有 5重量％以上、25重量％以下。 (13 ) 如第（1 )至（12 )項中任一項所述之液晶顯示器 反射板用白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜之比重爲 0.5以上、1.2以下。 (14 ) 如第（1 )至（1 3 )項中任一項所述之液晶顯示器 反射板用白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜係因含有 無機微粒而形成微細氣泡。 (15) 如第（1 4 )項所述之液晶顯示器反射板用白色聚酯 薄膜，其中爲形成該微細氣泡所含有之無機微粒是 硫酸鋇，且該硫酸鋇之平均粒徑爲〇 · 1 # m以上、 5.0 // m以下且爲大粒徑微粒之平均粒徑以下，且相 對於聚酯薄膜之總重量爲含有5至7 0重量％ ° (1 6 )如第（1 )至（1 5 )項中任一項所述之液晶顯示器 反射板用白色聚酯薄膜’其中該聚酯薄膜之比重爲 -10- 200829963 1.2以上、1.4以下。 (1 7 ) —種液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜，係如第（ 2 )至（1 6 )項中任一項所述之聚酯薄膜，且其芯 層部爲該聚酯層（A )，一側或兩側之表層部爲該 聚酯層（B )。 〔發明之功效〕 若根據本發明，即可製得將光穩定性、污垢防止性以 及低摩擦性並存之液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜，藉 此即可提高該聚酯薄膜及供組配於液晶面板的其他之周邊 構件之耐久性，且又可減少因異物附著所引起的製造損失 【實施方式】 〔本發明之最佳實施方式〕 以下，詳細說明本發明。 〔層構成〕 本發明之聚酯薄膜係必須在具有微細氣'泡之聚酯薄膜 含有光穩定劑。 本發明之聚酯薄膜雖然可爲單層、複層中任一者’但 是，從高反射率、製膜性、光學特性和光穩定性的觀點而 言，則較佳爲使用聚酯層（A )和（B )之積層結構’而聚 酯層（A )係含有微細氣泡之層、且在其至少一側之聚酯層 (B)係含有光穩定劑之層。 本發明之聚酯薄膜’較佳爲特別是在具有微細氣泡的 聚酯層（A )之至少一面上加以積層含有光穩定劑的聚酯層 -11- 200829963 (B)之結構（此種積層模式，在下文中則稱爲「模式1」） 〇 另外，在本發明之聚酯薄膜之至少一面上設置含抗靜 電層之層（C)也是較佳的模式之一。 本發明之聚酯薄膜，只要其爲含有該聚酯層（A )和聚 酯層（B )之構成者時，則也可爲由許多之層來構成。例如 ，也可爲聚酯層（A) /聚酯層（B)之兩層構成、聚酯層（ B) /聚酯層（A) /聚酯層（B)之三層構成、或聚酯層（A )/聚酯層（B ) /聚酯層（A ) /聚酯層（B )之四層構成。 又也可進一步爲五層以上之構成。經使其製成多層構成， 即可在積層聚酯薄膜之表面，顯現出各層之特性，控制各 式各樣的特性。 若考慮及製膜上之容易性和功效時，則較佳爲由兩層 構成或由聚酯層（B ) /聚酯層（A ) /聚酯層（B )所構成之 三層構成的模式。尤其是以聚酯層（B )保護聚酯層（A ) 之模式，亦即，較佳爲聚酯層（B ) /聚酯層（A ) /聚酯層 (B)之三層構成。另外，較佳爲芯層部爲聚酯層（A) ’ 一側或兩側之表層部爲聚酯層（B )。 〔聚酯薄膜〕 所謂的用於構成本發明之聚酯是由二醇和二羧酸之，縮 聚合所製得之高分子，其中之「二竣酸」係以對苯二甲酸 、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、萘二甲酸、己二酸、癸二酸 等所代表者；另外，「二醇」係以乙二醇、三亞甲基二醇 、四亞甲基二醇、環己烷二甲醇等所代表者。具體而言’ -12- 200829963 例如’聚對苯二甲酸亞甲酯、聚對苯二甲酸四亞甲酯、聚 對-經基苯甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸-14 —伸環己基二亞 甲酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯等。在本發明中，則較佳 爲聚對苯二甲酸乙二醇酯（在下文中，也簡稱爲rpET」） 、及聚萘二甲酸乙二醇酯。 另外’在該聚酯之中，也可添加入習知的各種添加劑 ’例如抗氧化劑、抗靜電劑等。使用於本發明之聚酯較佳 ^ 爲聚對苯二甲酸乙二醇酯。聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜係 具有優越的耐水性、耐久性和耐化學藥品性等者。 若以聚對苯二甲酸乙二醇酯爲基本構成來使用時，則 從製膜穩定性的觀點來考慮，則較佳爲使用每全部二羧酸 成分含有1莫耳％以上、15莫耳％以下，更佳爲3莫耳％以 上、1 4莫耳％以下，最佳爲5莫耳％以上、1 3莫耳％以下之 共聚合成分的共聚合聚酯。若爲小於〗莫耳％時，則有可能 導致在含有不活性微粒之層，例如含有31重量％以上之硫 φ 酸鋇或二氧化鈦微粒時，峁發生無法製膜的情況。若爲超 過1 5莫耳％時’也有可能導致無法製膜的情況。 該共聚合成分之中，「二竣酸成分」係包括：例如， 間苯二甲酸、2,6·萘二甲酸、4,4、二苯基二甲酸、己二酸 、癸二酸、鄰苯二甲酸、5-磺酸間苯二甲酸鈉等。「二醇 」係包括：例如，乙二醇、1，4-丁二醇、丨，仁環己烷二甲醇 、1，6-己二醇、新戊二醇、聚伸烷基二醇等。尤其是可使用 於聚酯層（A )的聚酯之共聚合成分，爲獲得良好的製膜性 ，較佳爲使用間苯二甲酸、2，6 -萘二甲酸。 -13- 200829963 〔微細氣泡之形成〕 在本發明中，400至700 nm之光波長域的平均反射率 ，在薄膜之至少一面則必須爲97%以上。若爲小於97%時 ，則有可能導致降低反稜柱（antiprism )方式之背光應有 之亮度。在本發明中，所謂的「平均反射率」是在Hitachi High-Technologies Corp.製造之分光光度計（U-3310)安裝 積分球，測定400至700 nm的假設標準白色板（氧化鋁） 爲100%時之反射率，由所獲得之圖表以5 nm波長之間隔 讀取反射率，並加以平均所獲得之値。 欲使反射率達到97%以上時，則重要的是必須使微細 氣泡及不活性無機微粒包含在薄膜內部以使其白色化，藉 此即可提高反射率以發揮光之散射作用。反射率較佳爲 9 8 %以上，更佳爲1 〇 〇 %以上。關於反射率雖然並無特殊的 限制，但是若欲提高反射率時，則必須增加用作爲氣泡形 成核劑之不相溶性的熱塑性樹脂或無機微粒之添加量，但 是在此情況下’由於有可能導致製膜性趨於不穩定的情況 ，因此，$交佳爲1 10%以下。 微細氣泡之形成係在薄膜母材，例如在聚酯中，將與 高熔點的聚酯不相溶性之熱塑性樹脂或無機微粒予以分散 成微細，然後加以延伸（例如雙軸向延伸）即可達成。在 延伸時，即會在該不相溶性之熱塑性樹脂或無機微粒之周 圍將形成空隙（氣泡），由於其將對光發揮散射作用，因 此受到白色化而可獲得高反射率。關於在本發明適合使用 的不相溶性熱塑性樹脂及無機微粒則在後文中敘述。 -14- 200829963 〔大粒徑微粒〕 此外，在本發明中，薄膜表面之中心面平均粗糙度Ra 較佳爲0.1以上，且十處之平均粗糙度Rz爲1.0以上；更 佳的是Ra爲0.1以上、小於1.0且Rz爲1 .0以上、小於 10.0，進一步更佳的是Ra爲0.1以上、小於0.4且Rz爲 1.0以上、小於6.0。Ra及Rz之數値係與構件彼此之摩擦 所引起的薄膜表面之劣化有關係。經在構件表面設置微少 的凹凸，藉此即可減少摩擦，提高穩定性。在Ra爲小於 0.1，且Rz爲小於1.0時，若以長期間使用爲前提而放置在 溫度濕度條件之變化爲大的環境時，則必因各構件之熱膨 脹率差異而造成構件會產生歪曲之問題，此問題反復發生 時，則將會加速構件的劣化。若Ra爲0.4以上、或Rz爲 6.0以上時，則有可能導致因表面之粗糙致使散射功效增強 ，使得光學特性變差的情況。 若欲達成如上所述之Ra、Rz，較佳爲在本發明之聚酯 薄膜中，使其含有大粒徑微粒。另外，若本發明之聚酯薄 膜是具有聚酯層（A )和聚酯層（B )的情況，則較佳爲聚 酯層（A )和/或聚酯層（B )是含有大粒徑微粒。 另外，所謂的「大粒徑微粒」係意謂包含在薄膜的微 粒之中，平均粒徑（平均粒徑係指數量平均微粒直徑。以 下’在本說明書同）爲最大之微粒。 可用作爲大粒徑微粒之微粒，雖然不限其種類，但是 若欲獲得穩定的製膜性、高光學特性時，則「無機微粒」 較佳爲二氧化矽微粒、二氧化鈦微粒、硫酸鋇微粒、氧化 200829963 鋁微粒等；而「有機微粒」則較佳爲丙烯酸系微粒等。另 外，該等也可以單獨或混合兩種以上來使用，其中，從微 粒之分散徑穩定性或製膜穩定性的觀點來考慮，則特佳爲 二氧化矽微粒。 大粒徑微粒之平均粒徑較佳爲1 · 0 /z m以上，更佳爲 Ι.Ο/zm以上、5/zm以下，且進一步更佳爲3/zm以上、5 /2 m以下。 另外，大粒徑微粒的含量，假設聚酯薄膜之總重量爲 100重量％時，則較佳爲0.01重量％以上、5.0重量％以下 ，更佳爲0.01重量％以上、1.0重量％以下，且進一步更佳 爲0.01重量％以上、0.5重量％以下。 另外，若本發明之聚酯薄膜是採用模式1時，則較佳 爲將大粒徑微粒包含在聚酯層（A )和/或聚酯層（B )，更 佳爲將大粒徑微粒包含在聚酯層（B )。 將大粒徑微粒包含在聚酯層（B )時，則大粒徑微粒之 平均粒徑較佳爲以上，更佳爲以上、5/zm以 下，且進一步更佳爲3 // m以上、5 μ m以下。另外，相對 於聚酯層（B )之總重量，其含量較佳爲〇 · 〇 1至5重量％， 更佳爲0.01至1重量％，且進一步更佳爲〇·〇1至0.5重量 %。 若大粒徑微粒之平均粒徑爲小於1 # m時，欲能使Ra 達到0· 1以上，則含量必須予以增加非常的多，以致有可 能產生微粒所造成的光散射’使得光學特性降低的情況。 另外，若平均粒徑爲5 μ m以上時，雖然可獲得表面凸凹， -16- 200829963 但是有可能導致大粒徑微粒所造成的光散射增大 學特性降低的情況。另外，有可能導致製膜性惡 〇 另外，若大粒徑微粒的含量爲0.01重量％以 有可能導致表面凸凹少，Ra和Rz値降低的情況 有可能在構件之間會產生摩擦，結果導致加速構 的情況。若二氧化矽微粒爲5重量％以上時，則由 二氧化矽微粒造成散射而有可能導致光學特性降 〇 〔與聚酯不相溶性之熱塑性樹脂〕 本發明之聚酯薄膜係必須在聚酯薄膜內部具 泡，但是，如前所述經使其含有與聚酯不相溶性 樹脂，藉此即可形成微細氣泡。 適合用作爲「不相溶性熱塑性樹脂」之樹脂 自：例如，聚-3-甲基丁烯-1、聚-4-甲基戊烯-1、 三級-丁烷、1，4-反式-聚-2,3-二甲基丁二烯、聚乙 烷、聚苯乙烯、聚甲基苯乙烯、聚二甲基苯乙烯 乙烯、聚-2-甲基-4-氟苯乙烯、聚乙烯基-三級-丁 維素三醋酸酯、纖維素三丙酸酯、聚氟乙烯、聚 烯等之熔點爲200 °C以上之高分子等。其中，對於 較佳爲聚烯烴、特佳爲聚甲基戊烯。 不相溶性熱塑性樹脂之添加量，假設聚酯薄 總重量爲重量％時，則較佳爲5重量％以上、 以下。 ，使得光 化的情況 下時，則 。因此， 件之劣化 於過量的 低的情況 有微細氣 之熱塑性 係包括選 裝乙儲基-烯基環己 、聚氟苯 基醚、纖 氯三氟乙 聚酯母材 膜全體之 2 5重量％ -17- 200829963 另外，若本發明之聚酯薄膜是採用模式1時，則較佳 爲將不相溶性熱塑性樹脂包含在聚酯層（A )和/或聚酯層 (B )中，更佳爲將不相溶性之熱塑性樹脂包含在聚酯層（ A )中。將不相溶性熱塑性樹脂包含在聚酯層（A )時，則 含量相對於聚酯層（A )之總重量，較佳爲5重量％以上、 25重量％以下，更佳爲10重量％以上、25重量％以下。 若含量比其爲太少時，則將導致白色化之功效將減退 ，不易獲得高反射率，若爲太高時，則有可能導致薄膜本 身之強度等機械特性降得太低之顧慮。 該不相溶性熱塑性樹脂係分散成愈均勻愈佳。因爲均 勻分散使得氣泡可在薄膜內部均勻地形成，使得白色化程 度進而使得反射率趨於均勻。欲使不相溶性熱塑性樹脂均 勻分散時，則有效方法是添加低比重化劑用作爲分散助劑 。所謂的「低比重化劑」係指具有可降低比重之功效的化 合物，而在特定之化合物即可觀察到其功效。例如，對於 聚酯，則爲以聚乙二醇、聚甲氧基乙二醇、聚四亞甲基二 醇' 聚丙二醇等之聚伸烷基二醇，環氧乙烷/環氧丙烷共聚 合物、以及十二基苯磺酸鈉、烷基磺酸鈉鹽、一硬脂酸甘 油酯、對胺基苯磺酸四丁基鱗等所代表者。在本發明中， 特別是聚伸烷基二醇、其中，較佳爲聚乙二醇。另外，聚 對苯二甲酸丁二醇酯與聚四亞甲基二醇之共聚合物等，也 適合使用以提高不相溶性熱塑性樹脂之分散性。其添加量 相對於聚酯薄膜之總重量，較佳爲3重量％以上、2 0重量％ 以下，特佳爲10重量％以上、25重量％以下。另外，若本 200829963 發明之聚酯薄膜是採用模式1，而使不相溶性熱塑性樹脂包 含在聚酯層（A )時，則低比重化劑之添加量相對於聚酯層 (A)之總重量，較佳爲3重量％以上、25重量％以下，特 佳爲1 〇重量％以上、20重量％以下。若低比重化劑之添加 量太少時，則添加之功效將會降低，若太多時，則有可能 導致薄膜母材之固有來特性受損之顧慮。此等低比重化劑 ，可預先添加入薄膜母材高分子中，以作爲母體混合物高 分子（master polymer)(母體混合物切粒（master chip) )來加以調整。 經使用不相溶性熱塑性樹脂使微細氣泡包含在白色聚 酯薄膜，藉此即可使該聚酯薄膜之視比重低於一般的聚酯 薄膜。若再添加低比重化劑時，則可更進一步地降低比重 。亦即，可製得白且輕的薄膜。若欲將該白色聚酯薄膜， 在保持著液晶顯示器反射板用基材應有之機械特性下，使 其製成爲輕量時，則比重較佳爲0.5以上、1.2以下。 欲使比重製成爲0 · 5以上、1 · 2以下時，則如上所述使 用低比重化劑，例如比重爲0 · 8 3之聚甲基戊烯時，則相對 於聚酯薄膜全體較佳爲含有5至2 5重量％以下，且將延伸 倍率設定爲2.5至4.5，藉此即可達成。尤其是若本發明之 聚酯薄膜是採用模式1時，若視比重爲在本發明之範圍時 ，則可在仍保持著薄膜強度下使微細氣泡大量存在，以獲 得高反射率。亦即，用作爲液晶顯示器反射板時，則在關 於畫面之亮度上’可發揮顯著優異的亮度。 此外’本發明之液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜之 -1 9 - 200829963 比重，若使用不相溶性熱塑性樹脂時，則爲0.5以上、1.2 以下，且爲獲得更高反射率則較佳爲0 · 5以上、1 · 〇以下， 更佳爲0.55以上、0.8以下。 用於包含在聚酯薄膜的不相溶性熱塑性樹脂之平均粒 徑’較佳爲大粒徑微粒之平均粒徑以下（若無大粒徑微粒 時’則爲小於1 · 0 μ m )。更佳爲大粒徑微粒之平均粒徑以 下且0.2//m以上、5/zm以下，進一步更佳爲大粒徑微粒 養| 之平均粒徑以下且0.3/zm以上、3//m以下。另外，也有 可能不相溶性熱塑性樹脂爲相當於大粒徑微粒之情況，在 此種情況下，大粒徑微粒之平均粒徑則與不相溶性熱塑性 樹脂之平均粒徑相同。另外，在聚酯薄膜中並未添加大粒 徑微粒時，則不相溶性熱塑性樹脂之平均粒徑並無特殊的 限制，但是較佳爲0.2 // m以上、小於1 # m，更佳爲〇 . 3 # m以上、小於1 // m。 若不相溶性熱塑性樹脂之粒徑爲小於如上所述之範圍 • 時，則由於不會形成以不相溶性熱塑性樹脂爲核的微細氣 泡，因此不佳。相反地，若大於該範圍時，則氣泡尺寸將 增大，以致降低薄膜強度及製膜穩定性，因此不佳。 〔用於形成微細氣泡之無機微粒〕 在本發明中’雖然爲形成微細氣泡而適合使用如上所 述之不相溶性熱塑性樹脂’但是爲形成微細氣泡而使用無 機微粒之方式也是較佳的模式之一。 在使用無機微粒的情況，若欲製得高光學特性、穩定 的製膜性時’則微粒之種類較佳爲二氧化鈦、硫酸鋇、硫 -20- 200829963 酸鈣、硫酸鎂、氧化鋁、氧化鋅、氧化鎂、碳酸鈣、碳酸 鋇、二氧化矽等。另外，該等也可以單獨或混合兩種以上 來使用，但是其中由於能獲得高光學特性和製膜穩定性， 特佳的是硫酸鋇微粒、二氧化鈦微粒。 另外，如前所述之大粒徑微粒，也可在不至於損及光 學特性範圍內’作爲用於形成微細氣泡的無機微粒來使用。 〔硫酸鋇微粒〕 可用於形成微細氣泡之無機微粒，若使用硫酸鋇時， 則相對於聚酯薄膜之總重量，較佳爲含有5重量％以上、70 重量％以下之硫酸鋇微粒，更佳爲1 0重量％以上、5 5重量 %以下，且進一步更佳爲10重量％以上、50重量％以下。 另外，若本發明之聚酯，薄膜是具有聚酯層（A)時，則 相對於聚酯層（A )之總重量，較佳爲含有2 1重量％以上 、70重量％以下之硫酸鋇微粒，更佳爲23重量％以上、55 重量％以下，且進一步更佳爲25重量％以上、50重量％以 下。 另外，若本發明之聚酯薄膜是具有聚酯層（B )時，則 相對於聚酯層（B )之總重量，較佳爲含有〇. 1重量°/。以上 、15重量％以下之硫酸鋇微粒，更佳爲〇·2重量％以上、.14 重量％以下，且進一步更佳爲0.5重量％以上、13重量％以 下。 若含量比該範圍之下限爲少量時，則有可能因硫酸鋇 微粒的散射光不足而導致無法獲得足夠的反射性能的情況 。若比該範圍之上限爲大量時，則有可能導致製膜穩定性 -21 - 200829963 顯著降低之情況。 另外，用於包含在聚酯薄膜的硫酸鋇之平均粒 佳爲大粒徑微粒之平均粒徑以下（若無大粒徑微粒 爲小於1.0 // m )且0 · 1 // m以上、1 0 # m以下，更佳 徑微粒之平均粒徑以下且0.3 /z m以上、8 /z m以下 步更佳爲大粒徑微粒之平均粒徑以下且〇. 5 // m以上 以下。經使用該範圍之平均粒徑的硫酸鋇，藉此即 良好的分散性和製膜穩定性。另外，硫酸鋇係可爲 球狀。 另外，硫酸鋇微粒也有可能相當於大粒徑微粒 ，在此種情況下，大粒徑微粒之平均粒徑和硫酸鋇 性樹脂之平均粒徑係相同。 若在聚酯薄膜中並未添加大粒徑微粒時，則硫 平均粒徑較佳爲0 · 1 # m以上、小於1 μ m，更佳爲 以上、小於1 // m，且進一步更佳爲〇 . 5 μ m以上、/J' m ° 由於使用此等無機微粒將微細氣泡包含在白色 膜，可使該聚酯薄膜之視比重低於一般的聚酯薄膜 用硫酸鋇等無機微粒以使其含有氣泡的情況，若欲 著液晶顯示器反射板用基材應有之機械特性下，也 學特性符合條件時，則較佳爲將視比重設定爲1.2 1.4以下，更佳爲ι·2以上、ι·35以下以獲得高反射 視比重爲在本發明之範圍內時，則可在仍然保持著 度下使微細氣泡大量存在，以獲得高反射率。亦即 徑，較 時，則 爲大粒 ，進一 、5 μ m 可獲得 板狀或 之情況 之熱塑 酸鋇之 0 . 3 // m 、於1 # 聚酯薄 。在使 在保持 欲使光 以上、 率。若 薄膜強 ，在用 -22- 200829963 作爲液晶顯示器反射板時，關於畫面之亮度，則可顯著發 揮具有優越的亮度。 〔微粒之配合方法〕 用於將硫酸鋇微粒或金紅石型二氧化鈦等之無機微粒 配合於聚酯組成物之方法是可使用各種方法。其代表性方 法係包括如下所述之方法：（甲）在合成聚酯時之酯交換 反應或酯化反應結束之前添加微粒之方法、或在開始聚縮 合反應之前添加微粒之方法；（乙）在聚酯添加微粒而予 以熔融捏合之方法；（丙）製造在如上所述之（甲）項或 (乙）項之方法中添加大量微粒之母體混合物切粒（ master pellet)，且將該等與未含添加劑之聚酯予以捏合， 以使其含有特定量添加物之方法；（丁）直接使用如上所 述之（丙）項之母體混合物切粒之方法。 不相溶性熱塑性樹脂或硫酸鋇微粒之配合方法，從微 粒之分散性的觀點而言，則特佳爲採取如上所述之（丙） 項或（丁）項之方法。 不相溶性熱塑性樹脂或硫酸鋇微粒，較佳爲製膜時的 濾網是使用由線徑爲2 0 # m以下之不銹鋼細線所構成之平 均網眼爲10至100/zm，較佳爲平均綱眼爲15至5〇#m2 不織布型濾網來過濾即將由模具擠出前的熔融高分子。採 取此等措施即可減少粗大凝集微粒的個數。 〔光穩定劑〕 本發明之白色聚酯薄膜，由於在儲存時，則將受到源 於來自外部的光之紫外線所曝照，且在使用時，則將受到 -23- 200829963 來自附屬於背光單元的螢光管之紫外線所曝照，因此必須 使用光穩定劑。 在本發明中，較佳爲在聚酯層（B )中具有光穩定劑。 另外，也可在不至於損及特性之範圍內，使光穩定劑包含 在聚酯層（A )中。光穩定劑的含量相對於聚酯薄膜全體之 總重量，較佳爲〇 · 〇 2重量％以上、2 0重量％以下，更佳爲 0 · 1重量％以上、1 5重量％以下，更進一步最佳爲〇 · 5重量 %以上、15重量％以下。 另外，若本發明之聚酯薄膜是採用模式1時，則較佳 爲在聚酯層（B )含有特定量之光穩定劑。對於聚酯層（B )之光穩定劑的含量，相對於聚酯層（B )之總重量，較佳 爲0.1至20重量％，更佳爲0·5至15重量％、更進一步最 佳爲1至5重量％。 若光穩定劑的含量爲小於〇· 1重量％時，則有耐光性不 足夠，使得在長期使用之期間薄膜即劣化，容易造成反射 特性降低之問題。相反地，若爲超過20重量％時，則有可 能因光穩定劑的著色而導致反射特性降低，因此不佳。 液晶顯示器反射板用聚酯薄膜係經製膜後，有可能進 入塗布、乾燥、蒸鍍等之後續加工步驟的熱步驟的情況。 並且，由於其係經設置後，則爲屬直接會受到來自附屬於 背光單元的螢光管的發熱之薄膜，及爲能耐受在捲筒狀態 下的長期儲存，因此在本發明使用之光穩定劑較佳爲選擇 具有優越的耐熱性，及與如前所述之聚酯的相溶性爲佳且 能使其均勻分散，同時著色少而不至於對樹脂及薄膜之反 -24- 200829963 射特性造成不良影響者。因此只要其爲能符合上述條件之 光穩定劑’則並無特殊的限制，例如，可適用：柳酸系、 二苯甲酮系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系、三氮畊系、 丙二酸酯系等之紫外線吸收劑；位阻型胺系等之紫外線穩 定劑；例如各種具有萘二甲酸等之光穩定性的二羧酸成分 者，其中，特佳爲因在接近於可見光域的3 5 0 nm附近之長 波長部未具有吸收峰値而具有優越的色調之丙二酸酯系或 萘二甲酸。更具體的適用例如下所示： (紫外線吸收劑） 「丙二酸酯系」：四乙基·2,2，-(1，4-伸苯基-二次甲基）-雙丙二酸酯、丙二酸〔（4 -甲氧基苯基）-亞甲基〕-二甲基 酯； 「柳酸系」：柳酸對-三級-丁基苯酯、柳酸對-辛基苯酯； 「二苯甲酮系」：2,4 -二羥基二苯甲酮、2 -羥基-4-甲氧基 二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-5-磺酸基二苯甲酮、2,2’_4，4’_ 四羥基二苯甲酮、2，2，-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2、二 羥基-4,4，-二甲氧基二苯甲酮.、雙（2 -甲氧基-4-羥基-5-苯 甲醯基苯基）甲烷； 「苯并三唑系」：2- (2，-羥基- 5，-甲基苯基）苯并三D坐、 (2，-羥基- 5，-丁基苯基）苯并三唑、2_(2’-羥基_3’，5’-二_ 三級-丁基苯基）苯并三唑、2·(2，-羥基-3，-三級-丁基-5’-甲基苯基）-5-氯苯并三唑、2-(2，-羥基-3’，5’-二-三級·甲 基苯基）-5 -氯苯并三唑、2- (2，-羥基-3，，5，-二-三級-丁基 苯基）-5 -氯苯并三唑、2 ·( 2，-羥基· 5，-三級-辛基苯基）苯 -25- 200829963 并三唑、2- (2’-羥基- 3’，5’-二-三級-戊基苯基）苯并三唑 、2,2’-亞甲基雙〔4-(1，1，3,3-四甲基丁基）-6-(211-苯并 三唑-2-基）苯酚〕、2-(2’-羥基- 5’-甲基丙烯醯氧基苯基 )-2H-苯并三唑、2-〔 2’·羥基-3’- ( 3，’，4”，5”，6”-四氫鄰苯 二甲醯亞胺基甲基）-5’-甲基苯基〕苯并三唑； 「氰基丙烯酸酯系」：丙烯酸乙基-2-氰基-3,3’-二苯酯； 「三氮阱系」：2- ( 2,4-二羥基苯基）-4,6-雙-(2,4-二甲 基苯基）-1，3,5 -二氣哄、2,4 -雙〔2 -經基-4 -丁氧基本基〕· 6-(2,4-二丁氧基苯基）-1，3,5-三氮畊； 如上所示以外：2-乙氧基-2’ -乙基草酸雙苯胺、2- ( 4,6-二 苯基-1，3,5 -二氣哄-2-基）-5-〔（己基）氧基〕-苯酣、2-( 4,6·雙（2,4-二甲基苯基）-1，3,5-三氮阱-2-基）-5-羥基苯基 、2-乙基，2’-乙氧基草酸一縮苯胺。 (紫外線穩定劑） 「位阻型胺系」：癸二酸雙（2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基）酯 、琥珀酸二甲基-1-(2-羥基乙基）-4-羥基-2，2,6,6-四甲基 哌啶聚縮合物； 如上所示以外：硫化雙（辛基苯基）鎳、〔2-硫代雙（4-三級-辛基苯酚鹽）〕-正-丁基胺鎳、3,5-二-三級-丁基-4-羥基苯甲基-磷酸一乙基鎳錯合物、二丁基二硫胺甲酸鎳、 3’，5’-二-三級-丁基-4’-羥基苯甲酸2,4-二-三級-丁基苯酯、 3’，5’-二-三級-丁基-4’-羥基苯甲酸2,4-二-三級-丁基苯酯、 2,2,4,4-四甲基-7-氧基-3,20-重氮基-二螺-[5，1，11，2]-廿一 烷-21-酮、2,2,4,4-四甲基-21-側氧基-7-氧基-3,20-重氮基 -26- 200829963 二螺[5.1.11.2] -廿一烷- 20 -丙酸十二烷基酯/十四煩 2，2,4,4-四甲基-7-氧基-3,20-重氮基-20 ( 2,3-環氧基 二螺-[5.1 .11.2]-廿一烷-21-酮之高分子、丙二酸，I 氧基苯基）-亞甲基〕·，雙（1，2,2,6,6·五甲基-4-哌® 、2，6 -萘二甲酸。 該等光穩定劑之中，較佳爲適用具有優越的與 溶性之四乙基-2,2’- ( 1，4-伸苯基-二次甲基）-雙朽 、丙二酸〔（4-甲氧基苯基）-亞甲基〕-二甲基醋 4，4’-四羥基二苯甲酮、雙（2-甲氧基-4-羥基-5-苯畔 基）甲烷、2,2’-亞甲基雙〔4- ( 1，1，3,3-四甲基丁基 2H-苯并三唑-2-基）苯酚〕、2-(4,6-二苯基-1，3,5-2-基）-5-〔（己基）氧基〕-苯酚、2,6-萘二甲酸（ 中，則也簡稱爲「NDC」）。 如上所述之光穩定劑，可以單獨使用、或倂用 上，也可爲高分子。並且，也可爲對於聚酯等的岁 成分。 尤其係只要其爲例如2,6-萘二甲酸之具有光賴 二羧酸時，則也可爲將該二羧酸作爲二羧酸成分戶J 聚酯（包含共聚合物）。具體而言，其係包括：仿 萘二甲酸乙二醇酯（在下文中，則也簡稱爲「PEN」 在PET將2,6-萘二甲酸予以共聚合之共聚合物等£ 在此情況下，薄膜中之光穩定劑的含量則爲存在方> (包含共聚合物）中之光穩定劑成分之數量。 另外，可在並無性能降低之範圍內，添加無il 基酯、 -丙基） (4-甲 丨基）酯 聚酯相 二酸酯 、2,2，- 1醯基苯 )-6-( 三氮阱-在下文 I兩種以 ?聚合物 I定性之 ί構成之 J如，聚 )、或 另外， >聚酯等 I系光穩 -27 - 200829963 定劑。無機系光穩定劑雖然有氧化鈦、氧化鋅等，但是對 於提高光穩定性之目的，則適合使用二氧化鈦。 另外，若使用無機系光穩定劑之情況時，則該無機系 光穩定劑即可兼用作爲如上所述之大粒徑微粒、或用於形 成微細氣泡之無機微粒。 在添加二氧化欽的情況，其平均粒徑只要不至於損及 光學特性，則並無特殊的限制，但是較佳爲如上所述之大 粒徑微粒之平均粒徑以下（若無大粒徑微粒時，則爲小於 1.0// m )，更佳爲大粒徑微粒之平均粒徑以下且爲 以上、5 a m以下。 另外，二氧化鈦的含量，相對於聚酯薄膜之總重量， 較佳爲1重量％以上、40重量％以下’更佳爲5重量％以上 、2 0重量％以下，且進一步更佳爲5重量％以上、1 5重量％ 以下。若二氧化鈦的含量爲多於40重量％時，則將導致製 膜不穩定，並且，有可能導致因二氧化鈦微粒所具有光隱 蔽性而降低光學特性的情況。相反地，若二氧化鈦之添加 量爲少於1重量％時，雖然光學性能不會降低，但是有可能 造成不易顯現光穩定性提高之功效的情況° 另外，若本發明之聚酯薄膜是採用模式1時，則較佳 爲將特定量之二氧化鈦包含在聚酯層（B )。另外，也可在 不至於損及特性之範圍內使二氧化鈦包含在聚酯層（A )。 對於聚酯層（B )之光穩定劑的含量，較佳爲相對於聚酯層 (B )之總重量爲5至2 0重量％ ’更佳爲5至1 5重量％。 若二氧化鈦的含量爲多於20重量％時，則有可能導致因二 -28 - 200829963 氧化鈦微粒所具有之光隱蔽性而降低光學特性的情況。相 反地，若二氧化鈦之添加量爲少於5重量％時，雖然光學性 能不會降低，但是有可能造成不易顯現光穩定性之提高功 效的情況。 光穩定劑係在紫外線域之光，特別是在3 4 0 n m至3 5 0 nm之波長域具有吸收波長之峰値，但是在其大部分，光之 吸收域已達可見光域（波長爲3 80 nm以上）。此現象，當 在白色聚酯薄膜添加光穩定劑時，則將會顯現呈帶黃色。 由於呈帶黃色，作爲液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜來 使用時，則將會導致亮度降低，同時也對螢光管等其他之 光學構件之設計造成影響。因此，對於光穩定劑也有要求 必須抑低帶黃色的情況。 經使用在可見光域並無吸收波長之光穩定劑，例如， 四乙基-2,2’-(l，4-伸苯基-二次甲基）-雙丙二酸酯、丙二 酸〔（4-甲氧基苯基）-亞甲基〕-二甲基酯、2-乙基，2’-乙 氧基草酸一縮苯胺、2，6-萘二甲酸，即可抑低帶黃色。 如上所述，從並無與聚酯之相溶性、在可見光域無吸 收波長的觀點而言，最佳爲丙二酸〔（4-甲氧基苯基）-亞 甲基〕-二甲基酯、及2,6-萘二甲酸。 〔含抗靜電劑之層（C )〕 本發明之白色聚酯薄膜，基於其用途上的需要，特別 是在加工、組配步驟中不宜有麈埃附著。因此，較佳的是 在白色聚酯薄膜之至少一面上設置含抗靜電劑之層（C )。 在本發明中，含抗靜電劑之層（C)較佳爲基於在製造 -29- 200829963 薄膜時的防止環境污染或防爆性之需要，而經塗布水性塗 液並加以乾燥後，至少朝一方向加以延伸所形成之塗膜層 ，且較佳爲在由聚酯層（A)和聚酯層（B)所構成之基材 薄膜加以雙軸配向的製造步驟內所形成。該延伸之時序， 雖然並無特殊的限制，但是較佳爲經塗布塗液後至少朝單 軸方向延伸。具體而言，適合使用塗布水性塗液後加以雙 軸向延伸之方法’或縱向（薄膜之長度方向）延伸後塗布 水性塗液，然後再朝橫向延伸之方法。該水性塗液之塗布 方法係適合使用各種塗布方法，例如：逆向塗布法、凹版 輪轉塗布法、棒式塗布法（bar coat method )、使用計量 棒（metering bar )之棒式塗布法、模具塗布法、 和噴霧塗布法等，但是並不受限於該等方法。 水性塗液可以幫助塗液之穩定性爲目的，而使其含有 若干量之有機溶劑。該有機溶劑係包括：例如，甲基乙基 酮、丙酮、醋酸乙酯、四氫呋喃、二噁烷、環己酮、正-己 烷、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、正-丙醇、異丙醇。也可 含有數種有機溶劑。 在本發明中，對於水性塗液可在不至於損及本發明之 目的範圍內，配合其他之界面活性劑、紫外線吸收劑、顔 料、潤滑劑、抗阻塞劑（a n t i _ b 1 〇 c k i n g a g e n t )、水溶性高 分子樹脂、噁唑啉、三聚氰胺、環氧樹脂、吖呒（aziridiiie) 等之交聯劑或其他抗靜電劑之添加劑。 在本發明之水性塗液中之固體成分濃度，從塗膜之外 觀的觀點而言，較佳爲5至30重量％，更佳爲5至20重量 -30-

200829963 % 〇 含抗靜電劑之層（C )的厚度較佳爲〇 . 〇 1至2 β 佳爲〇·1至l//m。若厚度爲太薄時，則有可能導致 性或抗靜電性不足夠的情況，若厚度爲太厚時，則 導致易滑性差的情況。 在本發明中，含抗靜電劑之層（C)之表面電阻率 23°C、相對濕度爲50%下，其表面電阻率値爲ΐχίο13 以下，較佳爲1〇7Ω/□以上、1013Ω/□以下。若表面 率値爲小於1 〇7 Ω /□時，則有界面密著性及製膜性差 況，若表面電阻率値爲大於1 0 13 Ω /□時，則有抗靜霉 足夠，以致有污染防止性不足夠的情況。在本發明之 電阻率値係以如下所述之方法所測定者。在使用川口 製作所（Kawaguchi Electric Works Co·，Ltd.)製造二 電阻率測定器（MMAII-17A )的情況下，則在23 °C RH之大氣下，將試料放置1天後，外加500 V之電遷 置1分鐘後，測定塗布面之表面電阻率。此時，電 式係同一公司所製造（型號P-618)者，主電極之 9 0 mm、對置電極之內徑爲45 mm之同心圓電極。 〔抗靜電劑（P )〕 爲顯現如上所述之抗靜電性（表面電阻率値） 在含抗靜電劑之層（C )之抗靜電劑（P )係包括： 金屬粉、氧化錫-銻系導電劑、具有抗靜電性之界面 等’但是可供使用之抗靜電劑，基於與如前所述之 穩定劑時所需要的要求事項相同之要求，較佳爲選 i，更 溶劑 可能 ，在 Ω /□ 電阻 的情 性不 表面 電機 .表面 X 5 0 % :並放 之型 徑爲 添加 如， 性劑 擇光 具有 -31 200829963 耐熱性，且著色少而不至於對樹脂及薄膜之反射特性造成 不良影響者。只要其爲符合該等條件之抗靜電劑時，則並 無特殊的限制，例如較佳爲包含由聚伸乙基磺酸鹽基等所 構成之化合物、或含有羧酸鹽基等之化合物之聚陽離子聚 合物（polycation polymer) (P-1)，及導電性高分子聚合 物（P-2 )。抗靜電劑之添加量，相對於含抗靜電劑之層（ C )之總重量，若爲由聚陽離子聚合物所構成之抗靜電劑（ P-1 )時，則爲1 〇至60重量份，較佳爲1 5至5 0重量份。 若該比率爲小於1 0重量份時，則抗靜電性將會降低，若爲 60重量份以上時，則具有抗靜電劑之層（C )將不穩定化 ，以致產生凝集、龜裂等，使薄膜白濁•抗靜電性降低， 且耐熱性也容易降低。 若爲導電性高分子聚合物（P-2 )的情況，其添加量以 對於含抗靜電劑之層（C )之總重量之比率計，則較佳爲5 至4 0重量份，更佳爲5至30重量份。若爲5重量份以下 時，則抗靜電性將會降低，相反地，若爲40重量份以上時 ，則具有抗靜電劑之層（C )將不穩定化，以致產生凝集、 龜裂等，使薄膜白濁•抗靜電性降低，且耐熱性也容易降 低。在另一方面，在下文中，則詳加說明聚陽離子聚合物 (P-1 )、及導電性高分子聚合物（P-2 )。 〔聚陽離子聚合物（P-1 )〕 可作爲本發明之抗靜電劑而選取之聚陽離子聚合物（ P -1 )，基於具有耐熱性、著色少且不至於對樹脂及薄膜之 反射特性造成不良影響的要求，較佳爲包含由聚伸乙基磺 -32- 200829963 酸鹽基等所構成之化合物或含有羧酸鹽基等之化合物的共 聚合聚酯。 「磺酸鹽基之陽離子成分」係包括：例如，磺酸基對 苯二甲酸、5-磺酸基間苯二甲酸、4-磺酸基間苯二甲酸、4_ 磺酸基萘-2,7-二甲酸等，但是並不受限於該等。「羧酸鹽 基之陽離子成分」係包括：例如，偏苯三甲酸、偏苯三甲 酸酐、均苯四甲酸、均苯四甲酸酐、4 -甲基環己烯 Η甲酸、均苯三甲酸、1，2,3,4-丁烷四甲酸、5- ( 2,5-二側 氧基四氫呋喃基）-3-環己烯-1，2-二甲酸、環戊烷四甲酸、 2,3,6,7·萘四甲酸、1,2,5,6-萘四甲酸、雙偏苯三甲酸乙二醇 酯、2,2，，3,3，-二苯基四甲酸、噻吩-2,3,4,5-四甲酸、伸乙 基四甲酸等，但是並不受限於該等。該等之磺酸及羧酸中 ，最佳爲適用具有優越的耐熱性及與如後所述之聚酯層（A )或（B )之密著性的磺酸基對苯二甲酸、5-磺酸基間苯二 甲酸、4-磺酸基間苯二甲酸。 「磺酸鹽基、羧酸鹽基之陰離子成分」係包括：銨離 子、鉀離子、鈉離子、鋰離子等，但是基於抗靜電性或造 膜性的觀點，則較佳爲使用銨離子、鋰離子。 聚陽離子聚合物也適合使用以下式（I)所示之結構爲 主要的重覆單元之高分子： 〔化1〕 -CHR'-CR2- R4

I I CONHR3- (〇R3)P"N+- (ReO)q-H [Y-] - -. (1) 1 R5 -33- 200829963 (但是，式中之R1、R2是分別爲Η或CH3 ; R3是碳原 子數爲2至1 〇之伸院基；r4、r5是分別爲碳原子數爲1至 5之飽和烴基；R6是碳原子數爲2至10之伸院基；P是1 至20之數目；q是1至40之數目；Y —是鹵素離子、單或 聚鹵化烷基離子、硝酸鹽離子、硫酸鹽離子、烷基硫酸鹽 離子、硫酸鹽離子或烷基硫酸鹽離子。）。在上式（Ο之 抗靜電劑之中’式（I)中之Y是以R7s〇3所不之院基硫 酸鹽離子（但是，R7是碳原子數爲r至5之飽和烴基）； —(〇R3)m —之R3爲伸乙基；p是1至20之數目；一（R6〇)n -之R6爲伸乙基；q是1至40之數目者，係塗膜與聚酯薄 膜之黏著性、塗膜之耐熱性是優良’尤其是具有優越的制 電性，因此爲較佳。 該聚陽離子聚合物（P-1 )，適合以例如如下所述之方 法來製造。亦即，將丙烯酸酯單體以乳化聚合製成重量平 均分子量爲2,000至1 00,000之聚丙烯酸酯，接著，與 N，N-二烷基胺基烷基胺（例如，N，N-二甲基胺基丙胺、 N，N-二乙基胺基丙胺等）進行反應以使其醯胺化，最後加 以四級羥基烷基化反應以導入四級陽離子對即可製造。 聚陽離子聚合物（P-1)，較佳爲上式（I)中之Y -是 CH3S〇3 _、C2H5S03 —、或 C3H7S〇3 — ; —（〇R3)p 一是— (OC2H4)p—;且p是1至5。另外，較佳爲—（R6〇)q―是一 (C2H40)q—，且 q 是 1 至 10。 聚陽離子聚合物（P-1)，也適合使用以下式（II)、 (III)所代表的高分子。 -34- 200829963

芳烷基。該等之中，較佳的是碳原·ϊ 如上所述之R11 基、環烷基、芳基、 數爲1至6之烷基。 〔化3〕 X = Β ri_ x- ^ - R17 -七 R14 Ρs 〇3 »13

X

R 18 (III) C 1， C H( ,C 2 Η 5 S 〇3 如上所述之尺13至Rl6是各自爲碳原子數爲i至10之 烷基、環烷基、芳基、芳烷基等；R17、R18是各自爲碳原 子數爲2至1 〇之伸烷基、伸環烷基、伸芳基、伸芳烷基、 含有雜原子（Ο、N等）之二價之脂肪族基。該脂肪族基係 —CH2CH(OH)CH2 可例示一CH(OH)CH2 ch2ch2ch2nhcoch2ch2ch2- 〇 該等可製成爲均聚合物，也可與其他不飽和單體製成 爲共聚合來使用。與其他不飽和單體製成爲共聚合來使用 時，則如上所述之重覆單元較佳爲以5 〇莫耳％以上來構成 。若小於50莫耳％時，則抗靜電性將不足夠。其他不飽和 單體係包括：例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁 -35- 200829963 酯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙 酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、巴豆酸甲 酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸丙烯酯、丙烯醯 胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、乙烯、苯乙烯、 醋酸乙烯酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙.烯、偏二氯乙烯 、二乙烯基苯、丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、反丁 烯二酸。 〔導電性高分子聚合物（P-2)〕 又本發明中可選用之導電性高分子聚合物（P-2 )係包 括：例如，將噻吩和/或噻吩衍生物予以聚合所獲得之抗靜 電性聚合物、將吡咯和/或吡咯衍生物予以聚合所獲得之抗 靜電性聚合物。 將噻吩和/或噻吩衍生物予以聚合所獲得之抗靜電性聚 合物是以如下所述之式（I )、和/或式（II )所示之單元爲 主成分之單獨聚合物或共聚合物，也可爲含有少量的其他 之聚合單元爲共聚合成分之共聚合物。 〔化4〕 R1 R2

I I C-c II II ……(I) — c c— \s/ -36- 200829963 o — cnc 2 Ηc OICHC, >m (π) s \1/ 在上式（1)中r1、R2是各自爲氫原子（一 Η);碳原 φ 子數爲1至20之脂肪族烴基；脂環族烴基或芳香族烴基； 羥基（-ΟΗ);末端具有羥基之基（―R3OH:R3是碳原 子數爲1至20之二價之烴基（例如，伸烷基、伸芳基、伸 環烷基、伸烷基•伸芳基等））；烷氧基（一 OR4 : R4是 碳原子數爲1至20之經基）；末端具有院氧基之基（-R3OR5·· R5是碳原子數爲1至4之烷基）；羧基（―COOH ):羧基鹽基（一 C00M: Μ是鹼金屬元素、第四級胺或四 鱗）：末端具有羧基之基（—R3CO〇H);末端具有羧基鹽 • 基之基（―R3COOM);酯基（一 COOR5);末端具有酯基 之基（—R3CO〇R5 );磺酸基（—s〇3H );磺酸鹽基（— S〇3M);末端具有磺酸鹽基之基（一 r3s〇3m);磺醯基（ 一 S02R4);末端具有磺醯基之基（―r3s〇2R4);次磺酸 基（一 S( = 0)R’4 );末端具有次磺酸基之基（—r3s( = 〇)r4 );醯基（—C( = 0)R6: R6是碳原子數爲}至1〇之烴基） ;末端具有醯基之基（―R3C( = 〇)R6);胺基（―NH2); 具有末端的胺基之基（-R3NH2 );胺基之氫原子的一部分 或全部被取代之基（—NR7R8·· R7是氫原子、碳原子數i -37- 200829963 至3之烷基、—CH2OH或一 CH2OR6、R8是碳原子數爲1至 3之烷基、一CH2OH或—CH2OR6);在末端具有胺基之氫 原子的一部分或全部被取代之基的基（—r3NR7R8 );胺甲 醯基（一 CONH2);末端具有胺甲醯基之基（—r3c〇nh2 或r3nhconh2 ) ·，胺甲醯基之氫原子的一部分或全部被取 代之基（一 CON R7R8 );在末端具有胺甲醯基之氫原子的 一部分或全部被取代之基（—R3CONR7R8);鹵素基（—F _ 、一 C1、— Br、— I ) ; R4之氫原子的一部分爲鹵素元素所 取代之基；以—〔NRW9—〕 〔 X—〕所示之基（R9是氫原 子或碳原子數爲1至20之烴基，X —是F—、Cl_、Br_、I"· 'R^OSC^— 'R^SOs'NCh —或以 RkOO —所示之離子）； 磷酸鹽基（一 P〇0)(0M)2 );末端具有磷酸鹽基之基（— R3P( = 0)(0M)2 );環氧乙烷基；或末端具有環氧乙烷基之 基。 此外’對於噻吩和/或噻吩衍生物予以聚合所獲得之抗 φ 靜電性聚合物，爲使抗靜電性趨於優良的情況下，例如可 相對於1 0 0重量份抗靜電性聚合物，配合〇 . 1至5 0 0重量 份之摻雜劑。該摻雜劑係包括：例如，LiCl、R1GCOOLi ( R1G:碳原子數爲1至30之飽和烴基）、R1GS03Li、 R10COONa、R10SO3Na、R10CO〇K、R1()S03K、四乙基錢、 I2、BF3Na、BF4Na、HCIO4、CF3S03H、FeCl3、四氰基喹 啉（TCNQ ) 、Na2B1GCl1()、酞青素、卟啉、麩醯胺酸III、 烷基磺酸鹽、聚苯乙烯磺酸、聚苯乙烯磺酸鈉（鉀、鋰） 鹽、苯乙烯·苯乙烯磺酸鈉（鉀、鋰）鹽共聚合物、苯乙 -38- 200829963 烯礆酸陰離子、苯乙烯磺酸•苯乙烯磺酸陰離子共聚合物 〇 特別是較佳爲以如上式（π )所示之單元爲主成分的 單獨聚合物或共聚合物，且經組合聚苯乙烯磺酸作爲摻雜 劑者（下式（IV))。 〔化6〕 CH丨？c=c/+ I - \s 2clolc=c 2 ο 0 一Η2 性聚 電獨 靜單 抗之 之分 得成 獲主 所爲 合元 聚單 以之 予示 物所 生式 衍構 咯結 LL 吐列 域下 和以 咯如 吡例 將是 經物 合 聚 共 爲 作 元 單 合 聚 他 其 之 量 少 有 含 爲 可。 也物 ,合 物聚 合共 聚之 共分彳 或成 7 物合化 合聚 t aRICnc.

I1R r34 = c/ -39- 200829963 其中，R1是氫或烷基；R2至R3是各自爲氫、 含有羧酸（鹽）基或磺酸（鹽）之基、含有鹵素之 基或醚基。 抗靜電性聚合物係將該等之吡咯、吡咯衍生物 的方法（例如氧化聚合法、電解聚合法等）予以聚 造。該「吡咯、吡咯衍生物」係包括：例如，Ri至： 之·咯；R1、R3是氫、且R2是烷基之吡咯衍生物 氫、且R2及R3是烷基之吡咯衍生物。另外，該「 生物」係包括：例如，吡咯，N-烷基吡咯之N-取代 在3位或3、4位具有C1至C6之烷基、烷氧基或鹵 3-烷基吡咯、3,4·二烷基吡咯、3-烷氧基吡咯、3,4-基吡咯、3 -氯吡咯、3，4 -二氯吡咯。 〔媒介材（Q )〕 另外’具有抗靜電劑之層（C )的媒介材，經選 與聚酯層（A )或（B )之界面密著性的成分，藉此 φ 其顯著地提高造膜性。只要爲能符合此條件的成分 並無特殊的限制，其係包括：例如，聚酯樹脂、丙 樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂、尿 及苯酚樹脂等，但是較佳爲使用共聚合聚酯樹脂及 丙烯酸系樹脂。用於構成該共聚合聚酯樹脂之「酸 係包括：例如，對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二 2,6-萘二甲酸、i，4-環己烷二甲酸、己二酸、癸二酸 二氫茚二甲酸、二聚酸等。該等之成分可使用兩種 並且’進一步可與該等之成分一起將順丁烯二酸、 烷基、 基、酯 以習知 合來製 R3是氫 ;R1是 吡咯衍 吡咯， 素基之 二烷氧 擇具有 即可極 時，則 烯酸系 素樹脂 共聚合 成分」 甲酸、 、苯基 以上。 反丁烯 -40- 200829963 二酸、伊康酸等之不鮑和多元酸、或對、羥基苯甲酸、對_ (/3 基乙氧基）苯甲酸等之羥基羧酸以少量比率來使用 。不飽和多兀酸成分或羥基羧酸成分之比率充其量爲〗〇莫 耳％，較佳爲5莫耳％以下。另外，「多元醇成分」係包括 :例如，乙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇、二甘醇、二丙二 醇、1，6-己一醇、1，4-環己烷二甲醇、伸茬基二醇、二羥甲 基丙酸、甘油、三經甲基丙烷、聚（伸乙基氧基）二醇、 聚（四亞甲基氧基）二醇等。該等可使用兩種以上。其中 ’經選擇含有間苯二甲酸與二甘醇之共聚合聚酯，藉此即 可將界面之密著性予以最適化，而且可提供耐溶劑性，又 因也具有優越的製膜時之薄膜回收性，因此適合利用。該 作爲聚合成分的間苯二甲酸之量較佳爲65至95莫耳％，進 一步更佳爲7 0至9 5莫耳％。另外，作爲該聚合成分的二甘 醇之量較佳爲50至95莫耳％，進一步更佳爲60至90莫耳 %。其他之共聚合成分雖然可使用習知的二羧酸與二醇，但 是並不受限於此等。該聚合聚酯之較佳的玻璃轉移點之範 圍爲0至60°C，進一步更佳爲10至45。(：。 另一方面’ 「共聚合丙烯酸系樹脂之構成成分」係包 括：例如，丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁 酯、丙烯酸鈉、丙烯酸銨、丙烯酸2 -羥基乙酯、甲基丙烯 酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯 、甲基丙烯酸鈉、甲基丙烯酸銨、甲基丙烯酸2 _羥基乙酯 、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸丙烯酯、乙烯基磺 酸鈉、甲基烯丙基磺酸鈉、苯乙烯磺酸鈉、丙烯醯胺、甲 -41 - 200829963 基丙烯醯胺、N-經甲基甲基丙嫌釀胺等。 與例如苯乙烯、醋酸乙烯酯、丙jt希腈、甲 烯、偏一氯乙燦' 一乙嫌基苯等之其他不截 另外，如前所述之丙烯酸系共聚合物 質丙烯酸系共聚合物，例如，經將該丙燦 聚酯、聚胺基甲酸酯、矽酮、環氧樹脂、 改質之欣段聚合物、或接枝聚合物來使用。 如上所述之媒介材的含量，相對於用 電劑之層（C )的樹脂之總量，較佳爲6 〇三 該含量爲太少時，則有可能導致耐溶劑性、 )或聚酯層（B )的界面密著性差的情況， 有可能導致抗靜電性差的情況。 〔界面活性劑（R )〕 在本發明之抗靜電性塗膜，較佳爲配， )以使塗膜與聚酯薄膜之黏著性製成爲強 性積層薄膜之抗阻塞劑製成爲優良者。此 β ( R)」係包括：例如，環氧烷單獨聚合物 物、脂肪族醇·環氧烷加成物、經長鏈脂 •環氧烷加成聚合物、多元醇脂肪族酯、 基醇等之「非離子系界面活性劑」：具有 物、具有烷基吡啶鑰鹽之化合物、具有磺 之「陽離子系或陰離子系界面活性劑」； 離子界面活性劑」係對於塗膜與聚酯薄膜 靜電性聚酯薄膜之抗阻塞劑的功效是優異 該等之單體也可 基丙烯腈、氯乙 ί和單體倂用。 ，也可製成爲改 酸系共聚合物以 苯酚樹脂等加以 於形成具有抗靜 g 9 5重量份。若 或與聚酯層（A 若爲太多時，則 ¥界面活性劑（R 固、且使抗靜電 種「界面活性劑 、環氧烷共聚合 肪族取代之苯酚 長鍵脂肪族釀胺 四級銨鹽之化合 酸鹽之化合物等 其中，由於「非 之黏著性、或抗 ，因此爲較佳。 -42- 200829963 界面活性劑的含量，相對於用於形成具有 層（C)的樹脂之總量，較佳爲1至1 5重量份 至10重量份。若該比率爲小於1重量份時，則 水性塗液對於聚酯薄膜的濕潤性不足夠的情況 1 5重量份時，則有可能導致塗膜對於聚酯薄膜 足夠、或抗阻塞劑不足夠的情況。 〔製膜方法〕 其次，將就本發明之白色聚酯薄膜之製造 明’但是並不受限於此等實例。將作爲不相溶 脂的聚甲基戊烯、作爲低比重化劑的聚乙二醇 甲酸丁二醇酯與聚四亞甲基二醇共聚合物，混 二甲酸乙二醇酯，並將其予以充分混合•乾燥 至加熱成270至3 00°C之溫度的擠壓機A。將含 及必要時所含有的Si02等無機物添加劑之聚對 二醇酯以慣用方法供應至擠壓機B，也可在T 嘴內以能使聚酯層（B )之高分子位於兩表層之 積層成爲聚酯層（B) /聚酯層（A) /聚酯層（E 成。 3夸該熔融的薄片，在滾筒表面溫度冷卻成 的滾筒上以靜電力使其密著冷卻固化，並將該 引導至加熱成80至120 °C的輥群，朝著長度方 延伸2.0至5·0倍，然後在2〇至5 〇〇c之輥群力[ 考*’以使用計量棒的棒式塗布方式塗布用於形 劑之層（C )的塗布液，其後，一面以鋏具把持 抗靜電劑之 ，較佳爲3 有可能導致 ，若爲超逼 的密著力不 方法加以說 性熱塑性樹 、聚對苯二 合於聚對苯 ，然後供應 有光穩定劑 苯二甲酸乙 模三層擠出 狀態，予以 >)之三層構 10 至 60°c 未延伸薄膜 向予以縱向 以冷卻。接 成含抗靜電 經縱向延伸 -43- 200829963 的薄膜之兩端、一面引導至拉幅機，並在加熱成90至140 °(：之大氣中朝著正交於長度方向的方向予以橫向延伸。延 伸倍率係縱、橫向各自加以延伸成2.5至4.5倍，但是其面 積倍率（縱向延伸倍率X橫向延伸倍率）則較佳爲9至1 6 倍。若面積倍率爲小於9倍時，則將導致薄膜之白度不良 ，相反地，若爲超過1 6倍時，則有在延伸時即容易破裂使 得製膜性惡化之傾向。爲賦予藉此經雙軸向延伸的薄膜之 平面性、尺寸穩定性，則在拉幅機內實施150至23 0°C之熱 固定，並均勻地緩慢冷卻後，冷卻至室溫然後予以捲取， 即可製得本發明之液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜。 藉由如上所述所製得之本發明之液晶顯示器反射板用 白色聚酯薄膜，其在至少一面之表層是高光澤、擴散反射 少，且在薄膜內部已形成微細氣泡’而可達成高反射率， 因此用作爲反稜柱型（antiPrism type )方式的液晶顯示器 之反射板時，則可獲得高亮度。另外’對於紫外光之耐久 性也是優異者。 另外，本發明之液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜之 構成，如前所述’在爲使高反射率和製膜性之兩者並存上 ，較佳爲必須爲使用聚酯層（A )和（B )之積層結構’且 該層（A )係具有如上所述之微細氣泡的層。另外，薄膜表 面較佳爲聚酯層（B ) ’且爲順利提高鏡面反射性’則必須 爲相對於聚酯層（B )(用於含有無機微粒和/或有機微粒 之層）之總重量，將〇·5重量％以下’較佳爲0.1重量％以 下，更佳爲0.07重量％以下之無機微粒和/或有機微粒包含 -44- 200829963 在聚酯之層。另外，反稜柱方式係因其構成所然而使第1 圖之反射板12密著在導光板13之結構，且已知容易造成 由於無機微粒脫落而導致導光板受到傷痕之問題。若微粒 添加量爲超過〇·5重量％時，則容易引起由於該微粒脫落所. 造成的傷痕，因此添加量較佳爲〇·5重量％以下，更佳爲 0.1重量％以下。 〔物性之測定及功效之評估方法〕 本發明之物性値之評估方法及功效之評估方法如下。 (1)薄膜厚度（各層合計厚度） 將薄膜試料以校正過之數位式測微器（M-30，Sony Precision Technology製造）測定十處之厚度，並以其平均 値作爲薄膜的厚度。 (2 )各層的厚度 將薄膜取樣成5 m m X 1 c m，然後使用薄片切片機在冰 中朝截面方向予以切斷。使用透射型電子顯微鏡HU-12型 (日立製作所股份有限公司（Hitachi，Ltd·)製造），觀察 切斷的試料之聚酯層（A)、及聚酯層（B)之截面並從放 大成25 0倍之截面照片換算積層厚度來測定。 (3 )平均粒徑 (無機微粒） 使用日立製作所股份有限公司製造之S - 2 1 0 0 A型掃描 型電子顯微鏡以1 0,000倍之倍率，對於無機微粒則就添加 入樹脂（薄膜）之前的微粒’隨機選定1 〇〇個微粒。對1 00 個微粒測定粒徑’由粒徑最大者移除5個及由最小者移除5 -45- 200829963 個’然後由剩餘的9 0個計算得平均粒徑（若微粒非爲球狀 時’則近似爲形狀最接近之橢圓，而以其橢圓之（長徑+短 徑）/2來計算得）。 (不相溶性樹脂） 將薄膜試料切出成四方形，以包覆盒加以固定後，以 環氧樹脂予以包覆。然後，將包覆過的試料以切片刀（ ULTRACUT-S )平行於製膜方向的截面切成50 nm厚的薄 膜切片後，使用日立製作所股份有限公司製造之S-2 100A 型掃描型電子顯微鏡，以1 0,000倍之倍率加以觀察、攝影 ，並隨機選定100個微粒。對100個微粒測定粒徑，並由 粒徑最大者移除5個及由最小者移除5個，然後由剩餘的 9 0個計算得平均粒徑（若微粒非爲球狀時，則近似爲形狀 最接近之橢圓，而以其橢圓之（長徑+短徑）/2來計算得） 〇 (4 )製膜穩定性 以下列基準評估是否能穩定地製膜： 〇： 可以1小時以上穩定地製膜； X : 1小時以內即產生斷裂，以致無法進行穩定的製 膜。 (5 )塗膜密著性 將製膜後之薄膜切取〇· 5 mX〇. 5m之尺寸，以目視觀察 塗布面，並將遺漏塗布特有的橢圓型缺點的個數加以計數 〇： 缺點個數爲3 0個以下； -46 - 200829963 X : 缺點個數爲30個以上。 (6 )反射率 在 Hitachi High-Technologies Corp·製造之分光光度計 (U - 3 3 1 0 )裝上積分球，測定將標準白色板（氧化鋁）爲 100%時，在400至700 nm波長之反射率。由所獲得之圖表 以5 nm間隔讀取反射率，計算平均値作爲平均反射率。 (7 )表面電阻率（抗靜電性） 使用川口電機製作所製造之表面電阻率測定器（ MMAII-1 7A )，將試料在23°C x50% RH之大氣下放置一天 。外加5 0 0 V之電壓放置1分鐘後，測定塗布面之表面電 阻率。所使用的電極之型式是相同公司所製造（型號P-6 1 8 )者，即主電極之外徑爲90 mm、對置電極之內徑爲45 mm之同心圓電極。 (8 )表面粗糙度 表面平均粗糙度Ra及十處平均表面粗糙度Rz係使用 小坂硏究所製造之觸針式表面粗糙度計（型號：SE-3FA ) 來測定。條件如下所示，且以5次測定之平均値爲表面平 均粗糙度値。 • 觸針尖端半徑：0.5//m; • 觸針荷重：5毫克； • 測定長度：〇 . 8 m m ; • 切斷値· 〇.〇8mm。 (9)麈埃附著性（Ash Test) 將切斷成A4尺寸之白色聚酯薄膜在23°C、50% RH之 -47- 200829963 測定大氣下予以調濕24小時。將經調濕之薄膜表面以摩擦 布（100%羊毛）來回摩擦10次。將該薄膜立即緩慢地使其 接近於已在70 °c預乾燥過1小時之1·5克烟草灰散開成10 cmx 1 0 cm之範圍的桌面上，並使其接觸。然後以目視判定 烟草灰的附著情況。△以上是合格。 〇： 薄膜即使接觸到灰也不附著； △: 薄膜一接觸到灰即附著； X : 薄膜一接近灰即附著。 (1 〇 ) 色調 使用 Suga試驗機公司製造之比色計（colormeter) SM-6，以C光· 2°視野的反射模式測定Lab色調。 (1 1 ) 紫外線照射試験 使用岩崎電氣股份有限公司（I w a s a k i E1 e c t r i c C 〇 .， Ltd·)製造之 I-Super UV Tester (型號：SUV-W131)對試 料照射紫外線，測定照射前後之色調b値，以評估耐光性 。另外’在本發明中，其照射UV之量係以3 65 nm波長爲 100 mW/cm2，且UV照射時間爲4小時。 (1 2 ) 比重 將薄膜精確取樣爲10 cmxl〇 cm，且以電子天秤（梅特 勒托利多股份有限公司（Mettler-Toledo Ltd·)製造之 AC 100)精確稱重至〇·ι毫克單位。取出經稱重之試料後， 使用恆壓厚度測定器測定薄膜各層合計厚度，並使用下式 計算得比重：

X 比重=(稱重値（克））/ (各層合計厚度（# m )) -48- 200829963 1 00 〇 (13) 畫面之明亮度（亮度） 如第1圖所不：，將神綱電機（S a m s ο n L t d .)製造之液 晶監視器（75 OB )之四燈型背光之反射薄膜12變更爲以各 實施例、比較例所製造之反射薄膜來測定。亮度測定係使 用100 V之家庭用電源，且以切換ΟΝ/OFF開關來施加電 壓。並等待冷陰極管之亮度成爲均勻•一定。然後，以亮 度計1 5 ( T 〇 p c ο η公司製造之B Μ - 7 f a s t )，在5 0 0 m m測定 ^ 距離下測定亮度。測定次數爲三次，且計算其平均値。亮 度之値的評估，則使用將東麗公司製造之反射薄膜E6SL ( 薄膜各層合計厚度爲2 5 0 a m )爲100的相對評估法。 《實施例》 茲將本發明根據實施例加以說明。 〔實施例1至1 9〕 將聚酯層（A )之原料高分子，以如表1所示之配合比 0 混合如下所示之原料。將擠壓出溫度設定於320°C，供應至 加熱成270至3 00°C之擠壓機A來製造。 • 聚對苯二甲酸乙二醇酯切粒（東麗股份有限公司（ Toray Industries，Inc.)製造之 F20S) • 分子量爲4,000之聚乙二醇、聚對苯二甲酸丁二醇酯 與聚四亞甲基二醇之共聚合物（東麗-杜邦股份有限公 司（DuPont-Toray Co·，Ltd.)製造之 “Hytrel”） • 在聚對苯二甲酸乙二醇酯係將10 mol%間苯二甲酸與5 mol%聚乙二醇予以共聚合之共聚合物（東麗股份有限 -49- 200829963 公司製造之T794M) • 聚甲基戊烯（三井化學股份有限公司（Mitsui Chemicals，Inc·)製造之 TPX820 ) • 具有如表1所揭示之平均粒徑的二氧化矽微粒 • 聚萘二甲酸乙二醇酯（Aldrich公司製造、d = 1.328、 m.p. 250-29 0°C ) 另一方面，將聚對苯二甲酸乙二醇酯之切粒，以如表 2所示之比率混合如下所列舉之光穩定劑a至d中之任一種 、平均粒徑爲3.2/zm之二氧化矽微粒、平均粒徑爲0.2// m之二氧化鈦，在1 8 0 °C真空乾燥3小時後，供應至加熱成 28〇°C之擠壓機B，以製造聚酯層（B )之原料高分子。 a: 丙二酸酯系光穩定劑（Clariant Japan股份有限公司製 造之“B-CAP”） b: 丙二酸酯系光穩定劑（Clariant Japan股份有限公司製 造之 “ P R · 2 5 ”） c: 三氮阱系光穩定劑（汽巴精化股份有限公司（Ciba

Specialty Chemicals Inc.)製造之 “CGX006”） d： 二苯甲酮系光穩定劑（旭電化股份有限公司製造之 “Adekasutabu LA-51”） 。 用於形成含抗靜電劑之層（C )的塗布液之組成如下所 述。將 Nippon Carbide Industries, Inc·製造之塗劑 NIKAS OL RX-70 13ED (丙烯酸系聚酯樹脂乳液：在表3中 ，則記載爲X)、及日本NSC股份有限公司（Nippon NSC Ltd·)製造之塗劑Versatile YE-910 (聚酯磺酸鋰鹽系）抗靜 -50- 200829963 電劑：在表3中，則記載爲Υ )，以固體成分質量比計， 將RX-7013ED和YE-910以如表3所示之比率予以混合， 用水予以稀釋，並將互應化學股份有限公司（Goo Chemical Co.，Ltd.)製造之界面活性劑ry-2，以0.1 %總 液比添加入來以製造。另外，塗布層（C )係設置在薄膜之 一表面，並假設該面爲A面。 以層構成及層厚度能成爲如表1之方式，將聚酯層（A )和（B)之原料高分子藉由積層裝置加以積層，並以T模 成型成薄片狀。再將該薄膜在表面溫度爲25 °C之冷卻筒上 加以冷卻固化所獲得之未延伸薄膜引導至經加熱調整成溫 度爲85至98 °C之七支輥群，朝著長度方向實施3.4倍之縱 向延伸，然後在25 °C之輥群加以冷卻。接著，以使用計量 棒之棒式塗布方式塗布用於形成含抗靜電劑之層（C)的塗 布液，以形成C層。將所製得之塗布薄膜的兩端一面以鋏 具把持、一面引導至拉幅機在加熱成130°C之大氣下，朝著 0 正交於長度方向的方向實施3.6倍之橫向延伸。其後則在 拉幅機內實施190 °C之熱固定，且均勻地徐冷，在冷卻至室 溫後，予以捲取以製得厚度爲250 // m之薄膜。所製得之薄 膜用作爲反射板基材時所應有之物性係如表9所示。其抗 靜電性是在至少一側之薄膜表面皆爲優良。 另外’光穩定劑之種類、含重是如表7所不。另外’ 藉由將其包含在薄膜中之二氧化矽、硫酸鋇、二氧化鈦、 聚甲基戊烯係全部在薄膜內使其形成微細氣泡。 〔實施例20至52〕 -51 - 200829963 將如表4、5所示之聚酯層（A)及聚酯層（B)之原 料分別供應至加熱成28 0°C之兩台擠壓機，然後使用多層進 料合層裝置，以層構成及層厚度能成爲如表4所示之方式 使其合流，然後在仍然保持著其積層狀態下由擠模成型成 薄片狀。再將該薄片藉由表面溫度爲25 °C之冷卻筒冷卻固 化所獲得之未延伸薄膜，在90 °C加熱朝著長度方向（縱方 向）延伸2.9倍，然後在25 °C輥群加以冷卻。在該經單軸 向延伸薄膜之一面或兩面，以4 g/m2 (濕式）之塗布量用 微凹版輪轉塗布法塗布如下所述之水性塗液。 但是在表4、5中，所使用之共聚合聚酯係表示將二羧 酸成分或二醇成分以如表所示之共聚合成分、及以如表所 示之共聚合量（莫耳％ )予以共聚合所獲得之聚酯。另外， 表中所列舉之IPA係代表間苯二甲酸（二羧酸成分）， CHDM係代表環己烷二甲醇（二醇成分）。 另外’該「水性塗液」係使用將由酸成分是對苯二甲 酸（67莫耳％ )、間苯二甲酸（27莫耳％ )及5_磺酸間苯 二甲酸鈉（6莫耳％ )，二醇成分是乙二醇（3 0莫耳％ )、 二甘醇（40莫耳％)及新戊二醇（3〇莫耳％)所構成之共 聚合聚酯（T g = 5 1 °C )(在表6中，則以q代表）用作爲 媒介材（Q);將聚苯乙烯磺酸鈉（CHEMISTAT SA-9、三 洋化成股份有限公司（Sanyo Chemical Industries Co.，Ltd. )製造）（在表6中，則以p-〗代表）：或聚噻吩（ polythiophene)水分散體（BAYTRON P、拜耳公司（Bayer Corp.)製造）（在表6中，則以p-2代表）用作爲抗靜電 -52- 200829963 劑（P ) •，將聚氧化乙嫌月桂基醜（在表6中，則以r代表 )用作爲界面活性劑（R );並以如表6所示之比率含有各 成分的固體成分組成之1 〇重量％水性液。另外，若爲將塗 布層（C )設置於薄膜之一表面的情況，則假設該表面爲A 面。此時，薄膜構成爲A/B之雙層構成時，則在聚酯層（A )之表面設置塗布層（C)，並假設該表面爲A面。將塗布 層（C )設置於薄膜之兩表面時，則分別假設其爲A面、B 面。 接著，一面以鋏具保持經使塗液乾燥的薄膜之兩端、 一面引導至拉幅機，在加熱成120 °C的大氣中，朝著正交於 長度方向的方向（橫方向）加以延伸3.7倍率。然後，在 拉幅機內在2 1 0 °C實施熱固定，予以冷卻至室溫，以製得雙 軸向延伸薄膜。所製得之薄膜用作爲反射板基材時所應有 之物性係如表1 0所示。其抗靜電性是在至少一側之薄膜表 面皆爲優良。 另外’光穩定劑之種類、含量係如表8所示。另外， 藉由將其包含在薄膜中之二氧化矽、硫酸鋇、二氧化鈦、 聚甲基戊烯係全部在薄膜內使其形成微細氣泡。 〔比較例1、2、3〕 使用如表1至3所揭示之原料，且以與實施例1相同 的方式•條件進行製膜。由於未加入光穩定劑，結果所製 得者之耐久性差。 〔比較例4、5〕 使用如表1至3所揭示之原料，且以與實施例1相同 -53- 200829963 的方式·條件進行製膜。由於未加入光穩定劑，耐久性差 ’且由於不相溶性熱塑性樹脂之量少，結果所製得者之反 射率低。 〔比較例6〕 使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例20相同 的方式•條件進行製膜。由於作爲無機微粒的二氧化鈦之 粒徑小’形成微細氣泡，結果所製得者之反射率低。 〔比較例7、8〕 使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例2 0相同 的方式•條件進行製膜。由於作爲無機微粒的二氧化鈦之 粒徑大’氣泡成長成大者，結果所製得者之反射率低。 〔比較例9〕 使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例20相同 的方式•條件進行製膜。由於無機微粒的含量少且全部的 厚度薄，因此氣泡少，結果所製得者之反射率低。 〔比較例1 0〕 使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例2 0相同 的方式•條件進行製膜。雖然無機微粒的含量是足夠，但 是因爲全部的厚度薄，因此氣泡少，結果所製得者之反射 率低。 〔比較例1 1、1 2〕 雖然使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例2 0 相同的方式•條件製膜，但是因爲共聚合之比率低，在製 膜中經常發生薄膜斷裂事故，以致無法製得試料。 -54- 200829963 〔比較例1 3〕 使用如表4至6所揭示之原料，且以與實施例20相同 的方式•條件進行製膜。由於未添加光穩定劑，因此所製 得者之耐久性差。

-55 - 200829963 聚酯層（A) | 層厚度 /^s i (N o m (N o m <N o m CM o m <N o m CN ο m CN o CO (N o CM o cn <N ο m (N O m CN o (N o m (N o m (N o cn CN o S o o o o m <N > < (N ο ό 添加劑 含量 i _ _ 1 f 1 f 1 m 1 I 1 1 1 I 1 1 1 1 m 1 1 f 1 f 1 I 1 種類 1 1 1 1 1 光穩定劑d I 1 1 s 1 1 1 1 t t 光穩定劑a 1 l 1 I 1 1 1 1 裝 稍 m II oo 00 OO T < 00 1 i 00 Τ·Ή OO ”__H OO OO T_— 00 00 vmmi 00 ί-Η oo 00 w i O) oo 00 r—H 卜 卜 r-H 卜 卜 f 00 OO 卜 寸 rn 卜 含量 (重量份） s <N CN (N CN (N to ο 二氧化砂 平均 粒徑 a 1 1 1 1 1 1 t 1 1 I 1 1 1 1 1 1 <N rn (N cn (N cn 〇 扁 1 扁 1 (N cn 含量 (重量份） 1 t 1 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 1 1 ( 〇 1—( f f o 1 1 1 1 τ—H d § CU 含量 (重量份） 1 1 1 1 1 I I 1 1 1 1 1 1 1 t 1 1 〇 污 1 1 1 1 1 餵 K 4〇 Hytrel § ¢1 dmil pit] in *〇 in o VO in (ry ^r\ in ο vn T794M § _1 _ 'w^ 〇 > < o o o 〇 r-H O o 〇 o ο O o o O O O O O 〇 o O τ—H 〇 〇 ο O Η W § mW _ Ό i〇 v〇 v〇 v〇 <N VO Ό »r> v〇 v〇 yn v〇 »〇 o v〇 S v〇 a\ cK VO 〇\ VO o\ CN 〇\ v〇 VO o g 〇\ r4 層構成 B/A/B B/A/B j B/A/B | B/A/B | B/A/B | B/A/B B/A/B B/A/B I B/A/B J | B/A/B | 1 B/A/B J B/A/B I B/A/B I I B/A/B I | B/A/B I B/A/B 1 MA J 1僅A 1 丨僅A 1僅A B/A/B B/A/B B/A/B B/A/B 僅A 1實施例1 1實施例2 實施例3 實施例4 1實施例5 vo {_ 1實施例7 實施例8 實施例9 o 握 ίϋ m 辑 u 1實施例12 實施例13 實施例14 實施例15 實施例16 卜 i 辑 IK 1實施例18 1 實施例19 1實施例20 1比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 | Γ900ΧΟΟ,,)蘅轵^^浓»喊川r^0,£ ϋ^ιηκ .·1 霞繫 200829963 (N撇 /^\ 0Q 幽 am mu 厳 層厚度 /^s o o O o O o ο 〇 〇 ο ο ο ο ο ο 1 I 1 1 O »r> ί—H 1 含量 § _ tlmj] 8 m m m cn m v〇 vn f-Ή 1—Η ιη m τ—Η ro Ο m I 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 添加 種類 cd 蘅 g| x> 蘅 n O 蘅 蘅 蘅 TJ 蘅 T3 蘅 T3 蘅 1光穩定劑d 1 Τ3 蘅 {Η S Τ3 Μ η ο 蘅 η II ο 蘅 η I 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 骡 氍 II /^v 1 1 1 t I 1 1 1 I 1 1 I I 1 1 1 1 1 1 1 1 p 1 1 1 含量 § _ w t 1 i 1 1 1 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 雅 1 1 I 1 〇 1 1 1 丨二氧化鈦 11 /^s CN 〇 <N o <N 〇 1 1 1 1 1 1 1 1 雪 (Ν Ο ο 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 含量 § _ _ o r»*4 o o f 1 1 1 1 1 1 1 1 m ο 1 1 1 1 1 1 1 1 1 i 1 祕 Π 平均 粒徑 (N ΓΠ <N rn (N cn <N m CN rn (N cn (Ν cn (Ν rn (Ν rn CN cn (Ν cn ΟΟ Ο (Ν ΓΠ (Ν cn (Ν cn (Ν Γ〇 1 I 1 1 (Ν rn 1 I I 1 _ <ro § _ S O s o S § s o S 〇 S o S 〇 S 〇 Ο S ο Ο S Ο S Ο S ο S ο ! 1 1 1 S 〇 1 ft I 1 S 含量j § Hffifl W 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 I I I I ο ο 1 i 1 1 1 1 1 1 1 餵 <π 圈 Hytrel § _ « o O o O O O 〇 〇 ο ο ο ο ο ο ο ο 1 1 1 1 〇 o o o 1 T794M , _ 1 § m _ o o o o o o 〇 〇 ο ο ο ο ο ο ο ο 1 1 1 1 o o o o 1 Η ω i mH w 'w^ 86.95 | 86.95 1 I 86.95 ! 99.65 I 98.45 I I 96.95_I | 93.95 1 | 98.45 | 1 98.45 1 1 98.48 1 οο σ\ 1 98.45 1 1 93.95 1 1 86.95 1 I 89.95 I ΙΟ οο 1 1 1 t I 99.95 | o Os o r-H o o 着 層構成 B/A/B I B/A/BJ I B/A/B I I B/A/B I I B/A/B I B/A/B I B/A/B 1 | B/A/B」 1 B/A/B 1 1 B/A/BJ 1 B/A/BJ 1 B/A/B 1 1 B/A/BJ 1 B/A/B 1 I B/A/B 1 Β/Α/Β 僅A」 < 1僅A 1 僅A j | B/A/B」 I B/A/B I b/a/bJ I B/A/B I 僅A 辑 IK m 键 u 1實施例3 I 寸 m 辑 M 孽 u V〇 辑 1¾ 實施例7 實施例8 ΟΝ U ο 孽 IK 1實施例11 I 2 ί 壁 Μ 丨實施例13 1 2 ί 辑 ικ ϊ 辑 |< ν〇 ί 滔 Μ 實施例17 00 1 辑 u 實施例19 1實施例20 鎰 jd 比較例2 比較例3 I 1比較例4 I 1比較例5 LLn ..Ηω^

Γ900ΧΟΟ,,)®职驊宋條隹减ill r^st H^IMEr^uf£ i^InK 200829963

薄膜全體 大粒徑微粒以外之無機微粒1 平均 粒徑 (μηι) | CNj ο (Ν Ο (Ν Ο 藤 1 1 1 1 1 1 I 1 (Ν d (Ν Ο I I I 1 I 1 1 ο ^Ηί I 1 1 含量 (重量份） (Ν <Ν (Ν 1 1 1 I 1 1 * I I Ό ο <Ν I ! 1 1 I 1 1 (Ν 1 I I 種類 二氧化鈦 二氧化欽 二氧化鈦 1 1 1 1 1 ! 1 1 1 二氧化鈦 二氧化鈦 1 1 1 1 1 1 1 硫酸鋇 t 1 1 聚甲基戊烯 平均 粒徑 (μιη) 〇〇 〇〇 00 f-Η 〇〇 〇〇 〇〇 〇〇 1 < 00 〇〇 r-H 00 ΟΟ 寸 rn ΟΟ τ—Η Os 1—( ΟΟ ΟΟ τ-Η ΟΟ 1 蜻 00 ^-Η r^； t-H 寸 rn r—H 含量 _ _ Ό VD p i VO 1' < v〇 Ό Ό v〇 v〇 ν〇 00 ν〇 r-H Ό 1—Η ν〇 (Ν ι··鹂 (Ν (Ν (Ν ν〇 r—Η ν〇 〇〇 大粒徑微粒 平均 粒徑 (μιη) <Ν rn <Ν cn (N rn <Ν ΓΠ CM rn <N cn (N cn (N rn <N rn (N rn <Ν 寸 rn <Ν ΓΟ ίΝ cn οα rn CN rn <Ν rn (Ν rn (Ν cn Ο τ—Η (Ν rn 〇〇 卜 τ—H 寸 rn <N rn 含量 § _ ilmil _ 0.013 0.013 0.013 0.013 0.013 0.013 | 0,013 1 0.013 0.013 | 0.005 1 0.125 ΟΟ 0.013 0.013 0.013 ο ，一 ο τ—Η Ο ο »>—Η Ο 0.013 CN oo H 驟 \1ml] 禪 二氧化ϊ夕 二氧化矽 二氧化矽 二氧化矽 二氧化矽 二氧化矽 二氧化砍 二氧化矽 二氧化矽 二氧化矽 二氧化砂 聚甲基戊烯 二氧化矽 二氧化ΐ夕 二氧化石夕 二氧化5夕 1二氧化砂 二氧化矽 二氧化石夕 二氧化鈦 二氧化矽 聚甲基戊烯 聚甲基戊烯 聚甲基戊烯 二氧化石夕 層厚度 /^v 〇\ 250 250 〇 (N 1 250 1 1 250 I L·250—―1 丨」50一丨 250 丨 250 — 1 1 …250 1 § 1 250 ] ο (Ν 1 250—丨 250 〇 1 200 1 1 200 200 250 g > < 250 1 r ◦ _ 劍 Α面 (質量份） ο ο ο 〇 〇 〇 v-H 〇 ο ο ο ο ο ο Η 〇 Ο ο ο 〇 ρ··Η ο X (質量份） Os g 1 1 I 1 層構成 Β/Α/Β Β/Α/Β Β/Α/Β Β/Α/Β B/A/B B/A/B B/A/B B/A/B B/A/B Β/Α/Β B/A/B Β/Α/Β Β/Α/Β Β/Α/Β 1 Β/Α/Β 1 Β/Α/Β 僅A 僅A 僅A 1僅Α 1 1 B/A/B 1 Β/Α/Β B/A/B B/A/B 丨僅A 1實施例ι 1實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實娜!J9 實施例ίο 實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 1實施例15 實施例16 實施例Π 實施例18 實施例19 實施例20 1比較例1 (Ν 孽 鎰 J_3 比較例3 比較例4 比較例5 。回<脈陋緇鎞叫。回«—^鲣齡食麵5|筚(0)»5柜剡 丨oos - 200829963

I丨寸嗽 < 1¾ am mn. 駿 層厚度 3 s s 〇 V—H o (N t—H r-H o cs m m rn ΓΛ Ψ—4 m CO m m m 1—< rn cn cn m ο (Ν o rj s 含量 Φ n_ Umi] β 1 1 1 1 1 1 1 I 1 1 1 1 1 1 1 1 1 ο rn o rn O rn o rn 1 1 1 I 1 1 1 1 1 1 1 o rn η i 種類 I 1 1 1 1 I 1 t 1 I 1 1 I t 曹 1 1 Λ e 驊 Xi 蘅 88 朱 o s n m 朱 Ί3 g w II 1 t 1 I 1 1 1 1 1 1 1 Λ Μ 義 m « *N 祕 11 Si /^s ra (N CN (N CN rs <N (N (N CN <N 1〇 ^Η CnJ CN CN r^j (N «Ν (N (N Γν| <N <N (Ν τ—Η <N v〇 〇 o — (N 含量 § _ dmi] β O O O o O o O O O O o JQ jr> JO JO tn jn JO in jn JO Ο 〇 o o 種類 祕 11 m 11 nnc <m 氍 潔 1硫酸鋇 骤 氍 fii 職 氍 ig nn; <m 趦 fil 骤 M 揠 血； <m 氍 骤 m 握 囬( <Η5ί 氍 ϋ 骤 趑 攆 nn( <m 繇 撻 ϋπζ <Η» 氍 S Μ m m Μ Π s 趑 權 tm( <m 趑 «i s 氍 握 rm; m 渥 S M fii 硫酸鋇1 im( <m 趦 攆 <Η» 氍 標 職 氍 «1 職 氍 fil OK； 氍 據 S 氍 fil s 氍 «1 mK m 揠 <H^ 氍 S m ϋ m 1! II ✓gs 3 1 1 1 1 I 1 1 I I 1 1 1 t I 1 (N rn I <N rn <N rn (N cn <N rn (N rn (N rn 1 CN rn (N cn (N I 1 1 1 (N nS 含量 § _ _ 1 1 » 1 f 1 I t 肅 1 1 1 I 1 1 s o I s % g o g 〇 s o S o s o f s o »〇 o 〇 ΙΛ> s ο 1 1 1 ) s d § PL, 含量 § _ 1 1 t 1 1 1 9 i 1 1 1 1 o 1 1 1 1 1 I 1 t o o o o o ο 1 1 1 1 1 餾 鏃 € 含量 Φ M ilmi| β ο ο § s § s s S s s § s 沄 Ό | 69.95 | ο I 51.95 | I 51.95 | ! 51.95 | 51.95 | 44.95 | 34.95 | 44.98 | o 44.95 1 § § s s <N 共聚合量 _1 ? W M ο ο o o o 〇 o o o o ο ο o rq (Ν 〇 ο o 〇 o 〇 o 〇 o o o o ο ο o O丨 o CN 共聚合 歲分 騷 limit P 1 NDC 1 1 NDC J & & < & < & < < < & I NDC 1 1 NDC 1 委 & & < & 主骨架 1 s s ¢1^ Pu S a. S CU. PLh (X. H PQ Dh ω Η PJ s Pm H m Pu, Η ω &Η Η ω 〇Η w Oh 〇,； c3 a. CU ω Oh m Pu m Oh ω eu ω Oh s PL, ω Oh m CU CU CL, ω cu. S P-. ¢1^ H m 0-i 層構成 I B/A/B I I B/A/B ! | B/A/B | I B/A/B I I B/A/B I | B/A/B I L B/A/B」 I B/A/B I B/A/B I B/A/B I | B/A/B I B/A/B B/A/B Β/ΑίΒ Β/Α/Β % I f § § % B/A/B B/A/B B/A/B B/A/B < _ m 辑 w 辑 M 實施例23 滔: u 習 u 實施例26 S Jg in 00 CN u a 匡 辑 u 握 u m 習 CN rn 握 IK ro m 奪 IK 辑 u ΓΟ 辑 m 港 u 辑 n 〇〇 ro 握 n 〇\ CO 辑 W 〇 i 镗 u Ϊ 辑 in i 握 1¾ i 滔 i 1« i 辑 IK i g fc ί 辑 魏 ί 辑 U $ ί fc 孽 u § K CS vn 1實施例53 | iifrnigrlj醛：ΜαΗο:瀣frH 浒酲：vdl:_frn_ :uaN:arnga:T2 瀣 frn 撇鏃：MHd:餵氍 in 擀諒鏃：13d 200829963

(N·寸« 聚酯層（A) 層厚度 (μιη) 1—( m s 寸 τ-Η (N \〇 蘅 a ip? 含量 _ U 1 1 1 1 1 I I 1 種類 _1 1 1 1 I 1 I 1 i 二氧化砂以外之無機微粒 平均! 粒徑I S d o O \ < o o (N 1—t in 含量 (重量份） 〇 o m 種類1 _i 二氧化欽 1二氧化鈦1 因鈦 硫酸銀 二氧化鈦 硫酸鋇 i碳酸鈣 硫酸鋇 二氧化石夕 II 1 I (N rn t 1 1 1 1 含量 <;重量份） 1 1 S O s I 1 1 1 ω Oh 含量 (重量份） 1 1 1 1 1 1 1 1 共聚合聚酯 含量 (重量份） 〇 ο 69.95 o in 共聚合量 1 (莫耳％) 1 〇 T—Η ο o f—^ (N o vn O OO CN 共聚合 成分 種類 NDC NDC NDC < Oh NDC < P-j CHDM < a. 主骨架 Η m cu cu cu H pa cu H W eu H m Oh H m PL> H ω CU 層構成 B/A/B % % B/A/B B/A/B B/A/B B/A/B 僅A 比較例6 比較例7 比較例8 比較例9 比較例10 比較例11 比較例12 比較例13 frnsgrljl®:saH3:氍frn 浒SE:VdI :繇Ε-:Γ 撇 ϋαΜ 餸Η-Η 滿齩：N3d : lsn:rz^frn 擀寂踩：13d -09- 200829963

I丨ς撇 /^S 0Q _ am ms. κ fe( ft I 22.5 | 1 22.5 | »〇 iT) l〇 in in in η P; P； $ P； P： in 1 8 iW <ίϋ § _ ω 1 K O o rn o o rn o cn ο ΓΛ 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 o cn 〇 rn 1 雪 1 種類 1 1 a cd a JD a "Ο 1 1 i 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 慕 1 1 1 雅 1 cd cd 1 1 1 i〇： n 码 m ¢: 驊 攝; in fe n 譚 η Wx n 鹏 »： 藜 獅 /^Ν 'W (N <N ^--4 <N (N (N (Ν <N (N (N (N (N »〇 <r> <N (N (Ν (N (N (N (N (N i—l (N (N CN P·叫 (Ν (N 〇 rn Ο rn 1 繼 祕 _ <111 m w in 〇 o vn Ο 〇 〇 uS Ο 〇 wS 〇 〇 O o in o rn ο rn «η 〇 wS o wS Ο 〇 〇 〇 o o 〇 〇 i/S 〇 Ο o 〇 ο US t 1 娜 11 祕 H 骤 經 fii 骡 氍 揠 骡 瀣 攆 骡 氍 渥 骡 鍫 骡 m 渥 骤 氍 渥 骤 饀 渥 mi( 氍 握 血( M m 握 rm< 繇 權 im( -0+¾ 繇 握 m 1] 祕 il 血( m ig πχ <tH M tii 皿( m 灌 rmc m 渥 ππ( •on 瀣 ϋ 骡 氍 Μ ΕΠ( 繇 ϋ HOC 氍 攆 血( <m 氍 M m fii m 渥 血( m m 骤 氍 til 血( ϋ ΠΠ( fii 祕 11 獅 <N cn 1 (N ro (N rn CN ΓΟ <N cn <N rn <N cn <N rn 1 <N CO 〇 uS (N ΓΠ (Ν 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 » 1 1 (N rn (N rn (Ν rn <N rn 1 _ <rn _ tlmil iptj | 0.05 1 | 0.05 I 0.05 I 0.05 I 0.05 I 0.05 1 0.05 I 0.05 I (N 〇 I 0.05 | I 0.05 | 1 0.05 1 1 I 雪 雪 » 1 1 1 1 1 1 1 1 1 0.05 | 0.05 | 0.05 1 0.05 | 1 I PEN ffllifl <iU i m _ 9 1 1 1 I I 1 1 〇 ο o 〇 O ο ο 1 I in *r» in »T) 1 1 ο O 1 si _ i _ w 1 92.45 1 92.5 | 93.95 | 91.95 | 89,95 1 91.95 1 91.95 | 1 91.95 1 I 84.95 | oo 1 84.8 | 1 84.95 | | 84.95 | 1 84.95 1 S； 1 92.5 j 1 92.5 .. J 家 g 家 家 91.95 | 91.95 | 84.95 1 84.95 | 4n 裒 « 〇 ο 〇 〇 〇 O o ο 〇 ο 〇 〇 〇 CN cs 〇 ο O 〇 〇 o ο ο 〇 ο O o ο 〇 〇 ο 〇 1 |l 駿 t1m" w I NDC INDC I IPA I IPA I IPA I IPA I IPA 1 IPA LIPAi 1 IPA J LIPAJ L IPA 1 |—_ IPA ——」 1 IPA j L IPA 1 I NDC | 1 NDC 1 LIPAJ L IPA J LIPAJ L IPA 1 L IPA 1 1 IPA J L IPA J L IPA J 1 IPA I i IPA J LIPAJ LIPAJ 1 IPA I IPA I IPA I 1 ιφπ 州 I PET 1 PET I PET I PET 1 PET I PET I PET 1 PET I PET 1 PET I PET I 1 PET | I PET I 1 PET | 1 PET J | PET | 1 PET 1 I PET | 1 PET 1 I PET | I PET I I PET 1 1 PET I 1 PET I | PET 1 PET J ,PET I PET I PET 1 PET I PET I PET I 1 層構成 1 B/A/B I B/A/B I B/A/B B/A/B B/A/B I B/A/B I B/A/B , I B/A/B 1 1 B/A/BJ I B/A/B I B/A/B I B/A/BJ I B/A/B I B/A/B 1 I B/A/B I 1 a/b」 § § 1 a/b j § 1 A/B I 1 A/B I 1 A/b i 1 A/b I 1 A/b I I I B/A/B I I B/A/B I B/A/B B/A/B < _ CS m 辑 w IK u H (N u u 辑 κ oo (N U 5 m g u IK $ 辑 u (N m m 辑 1¾ m m 辑 Μ m U VO CO 爆 辑 κ IK OO cn m 握 w Os m 章 辑 im 〇 i 键 IK i i 辑 K i 辑 1« 孽 {_ U Ϊ 辑 IK i u i IK i Jg IK m 辑 1¾ (N m 撰 u m m 辑 IK ®ώ:=:^ίΏ»:2αΗυ:^ΐΗ 浒酲：νΡΗΙ:氍fru· ϋαΜ :逍Μιι:::2·&:::職鼷：Mwd : IMaHKl瀣 l·:::浒菰齩：13d 丨I 9丨 200829963 •· <N-S 撇 聚酯層（B) 層厚度 (μπι) <rv (N (N t < rn rn 1 _ <rn (重量份） 1 1 1 1 1 « o cn 1 添加 種類 1 意 1 1 1 1 光穩定劑a 1 藜 寒 壊 II (μπι) | S 〇· ο ο ο ο τ-Η 1—i ^—4 (N 1 含量| (重量份） Ι> Ο cn o rn O 1 勝 II 材質 二氧化鈦 二氧化鈦 二氧化ι太 硫酸鋇 二氧化駄 硫酸鋇 碳酸鈣 1 二氧化矽 平均 粒徑 1 〇〇 d 1 I (Ν rn (N cn <N rn <N ro I 含量 (重量份） 〇 〇 1 1 s ο s O s o S d 1 ω a. 含量 (重量份） 1 1 1 1 1 1 1 1 共聚合聚酯 _ im (重量份） 92.45 in σ\ (Ν 〇\ 96.95 92.45 96.95 91.95 1 共聚合量 1 (莫耳％) 1 〇 v 1 i Ο ο CN o O 00 1 共聚合 成分 種類 NDC NDC NDC C Oj NDC g CHDM 1 主骨架 Η W Oh W Pu [2 Ρη H W CU H W W Oh; H W Oh 1 層構成 B/A/B § § B/A/B I B/A/B B/A/B B/A/B 僅A 比較例6 比較例7 比較例8 比較例9 比較例10 比較例11 比較例12 比較例13 sfrHsgrl]醛：saHo:瀣 frn 擀SE:vdI :瀣 l·:::撇 ϋακ : ms^H^瀣&-:Γ 搬踩：N3d :餵anN]氍frn 擀寂踩：Hwd 丨Z9_ 200829963

表6 -1 層構成 塗布層（c) A面 B面 p-i P-2 q r p-i P-2 q r (重量份） (重量份） (重量份） (重量份） (重量份） (重量份） (重量份） (重量份） 實施例21 Β/Α/Β - 40 50 10 - - - 實施例22 Β/Α/Β - 40 50 10 - - - - 實施例23 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例24 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例25 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例26 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例27 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例28 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例29 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例30 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - 實施例31 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例32 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例33 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例34 Β/Α/Β - 35 60 5 - - - - 實施例35 Β/Α/Β - 35 60 5 - - - - 實施例36 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例37 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例38 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例39 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例40 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例41 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例42 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例43 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例44 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例45 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例46 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例47 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例48 Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例49 Β/Α/Β - 10 90 - 50 - 50 - 實施例50 Β/Α/Β - 80 10 10 30 - 60 10 實施例51 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例52 Β/Α/Β 30 - 60 10 - - - - 實施例53 僅A - 35 60 5 25 - 70 5 比較例6 Β/Α/Β - - - - - - - 比較例7 Α/Β - - - - - - - - 比較例8 Α/Β - - - - - - - - 比較例9 Β/Α/Β - 40 50 10 - 40 50 10 比較例10 Β/Α/Β - 30 60 10 - 30 60 10 比較例η Β/Α/Β - - - - - 30 60 10 比較例12 Β/Α/Β - 30 60 10 20 - 70 10 比較例13 僅A - 35 60 5 - - - - 若將塗布層（C)設置於薄膜之一表面時，則假設該表面爲A面。若薄膜構成爲A/B之雙層構 成時，則在層（A)之表面設置塗布層（C)，並假設該表面爲A面。若將塗布層（C)設置於 薄膜之兩表面時，則分別設爲A面、B面。 -63- 200829963

表6-2 層構成 薄膜全體 厚度 大粒徑微粒 大粒徑微粒以外之無機微粒 材質 含量 平均 材質 含量 平均 粒徑 粒徑 (μπι) (重量份） (μιη) (重量份） (μιη) 實施例21 B/A/B 150 二氧化砂 0.011 3.2 二氧化駄 23.7 1.5 實施例22 B/A/B 150 二氧化鈦 23.7 1.5 - - - 實施例23 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例24 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例25 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例26 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例27 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例28 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 L2 實施例29 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例30 B/A/B 150 硫酸鋇 31.9 1.2 - - - 實施例31 B/A/B 150 二氧化矽 0.046 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例32 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 5.0 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例33 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例34 B/A/B 170 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 33.7 1.5 實施例35 B/A/B 170 硫酸鋇 33.7 1.5 - - - 實施例36 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 二氧化駄 23.7 1.5 實施例37 A/B 150 二氧化欽 23.7 1.5 - - - 實施例38 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例39 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例40 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例41 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例42 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例43 A/B 150 二氧化矽 0.036 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例44 A/B 150 硫酸鋇 33.8 1.2 - - - 實施例45 A/B 150 二氧化矽 0.014 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例46 A/B 150 二氧化矽 0.36 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例47 A/B 150 二氧化矽 3.6 3.2 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例48 A/B 150 二氧化矽 0.036 5.0 硫酸鋇 33.8 1.2 實施例49 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例50 B/A/B 150 二氧化砂 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.2 實施例51 B/A/B 150 二氧化砂 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.0 實施例52 B/A/B 180 硫酸鋇 30 3.8 二氧化砍 0.011 3.2 實施例53 僅A 120 二氧化矽 0.05 3.2 硫酸鋇 45 1.2 比較例6 B/A/B 150 - - - - - - 比較例7 A/B 50 二氧化鈦 23.7 10 - - - 比較例8 A/B 150 二氧化鈦 23.7 10 - - - 比較例9 B/A/B 20 二氧化砂 0.017 3.2 硫酸鋇 7.6 1.3 比較例10 B/A/B 20 二氧化砂 0.017 3.2 二氧化鈦 23.7 1.5 比較例11 B/A/B 150 二氧化矽 0.011 3.2 硫酸鋇 31.9 1.3 比較例12 B/A/B 270 二氧化矽 0.036 3.2 碳酸鈣 30.1 1.2 比較例13 僅A 150 - - - 硫酸鋇 50 1.5 若將塗布層（C)設置於薄膜之一表面時，則假設該表面爲A面。若薄膜構成爲A/B之雙層構 成時，則在層（A)之表面設置塗布層（C)，並假設該表面爲A面。若將塗布層（C)設置於 薄膜之兩表面時，則分別設爲A面、3面。 -64- 200829963 表7

聚酯層A 聚酯層B 薄膜全體 光穩定劑 光穩定劑 光穩定劑 種類 含量 種類 含量 種類 含量 (重量份） (重量份） (重量份） 實施例1 - - 光穩定劑a、 二氧化鈦 13 光穩定劑a、 二氧化鈦 0.6 實施例2 - - 光穩定劑b、 二氧化鈦 3 光穩定劑b、 二氧化鈦 0.6 實施例3 - - 光穩定劑c、 二氧化鈦 3 光穩定劑c、 二氧化欽 0.6 實施例4 - - 光穩定劑d 0.3 光穩定劑d 0.06 實施例5 - - 光穩定劑d 1.5 光穩定劑d 0.3 實施例6 光穩定劑d 3 光穩定劑d 3 光穩定劑d 3 實施例7 - - 光穩定劑d 6 光穩定劑d 1.2 實施例8 - - 光穩定劑d 1.5 光穩定劑d 0.3 實施例9 - - 光穩定劑d 1.5 光穩定劑d 0.3 實施例10 - - 光穩定劑d 1.5 光穩定劑d 0.3 實施例11 - - 光穩定劑d 1.5 光穩定劑d 0.3 實施例12 - - 光穩定劑d 3 光穩定劑d 0.6 實施例13 - - 光穩定劑c、 二氧化鈦 3.3 光穩定劑c、 二氧化鈦 0.06 實施例14 - - 光穩定劑c、 二氧化欽 13 光穩定劑c、 二氧化鈦 0.6 實施例15 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例16 - - NDC 8.9 NDC L8 實施例Π 光穩定劑a 3 - - 光穩定劑a 3 實施例18 NDC 8.9 - - NDC 8.9 實施例19 NDC 17.7 - - NDC 17.7 實施例20 NDC 17.7 - - NDC 17.7 比較例1 - - - 0 - 0 比較例2 - - - 0 - 0 比較例3 - - - 0 - 0 比較例4 - - - 0 - 0 比較例5 - - 攀 0 - 0 NDC=萘二甲酸 光穩定劑 a b c d 丙二酸酯系光穩定劑（“B-CAP”） 丙二酸酯系光穩定劑（“PR-25”） 三氮阱系光穩定劑（“CGX006”） 二苯甲酮系光穩定劑（“LA-51”） -65 - 200829963 表8

聚酯層A 聚酯層B 薄膜全體 光穩定劑 光穩定劑 光穩定劑 種類 含量 種類 含量 種類 含量 湩量份） (重量份） (重量份） 實施例21 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 實施例22 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 實施例23 - - 光穩定劑a 1.0 光穩定劑a 0.2 實施例24 - - 光穩定劑a 3.0 光穩定劑a 0.6 實施例25 - - 光穩定劑a 5.0 光穩定劑a 1.0 實施例26 - - 光穩定劑b 3.0 光穩定劑b 0.6 實施例27 - - 光穩定劑c 3.0 光穩定劑c 0.6 實施例28 - - 光穩定劑d 3.0 光穩定劑d 0.6 實施例29 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例30 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例31 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例32 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例33 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例34 - - NDC 8.9 NDC 2.1 實施例35 - - NDC 8.9 NDC 2.1 實施例36 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 實施例37 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 實施例38 光穩定劑a 3 NDC 4.5 光穩定劑a、NDC 3.4 實施例39 光穩定劑b 3 NDC 4.5 光穩定劑b、NDC 3.4 實施例40 光穩定劑c 3 NDC 4.5 光穩定劑c、 NDC 3.4 實施例41 光穩定劑d 3 NDC 4.5 光穩定劑d、 NDC 3.4 實施例42 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例43 NDC 17.7 NDC 4.5 NDC 14.4 實施例44 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例45 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例46 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例47 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例48 NDC 8.9 NDC 4.5 NDC 7.8 實施例49 - - 光穩定劑a 3.0 光穩定劑a 0.6 實施例50 - - 光穩定劑a 3.0 光穩定劑a 0.6 實施例51 - - NDC 8.9 NDC 1.8 實施例52 - NDC 8.9 NDC 1.5 實施例53 光穩定劑a 3 - - 光穩定劑a 3.0 比較例6 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 比較例7 NDC、 二氧化欽 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 比較例8 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC ' 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 比較例9 - - - - - - 比跡！110 NDC、 二氧化鈦 38.6 NDC、 二氧化鈦 18.8 NDC、 二氧化鈦 32.7 比較例11 - - NDC 8.9 NDC 1.8 比較例12 - - 光穩定劑a 3.0 光穩定劑a 1.2 比較例13 - - - - - NDC:萘二甲酸 光穩定劑 a： 丙二酸酯系光穩定劑（“B-CAP”) b： 丙二酸酯系光穩定劑（“PR-25”） ο- 三氮哄系光穩定劑（“CGX006”） ά： 二苯甲酮系光穩定劑（“LA-51”） -66- 200829963

亮度 (假設東麗 250E6SL 爲 100) 100,3 | 100.3 | 100.6 I 100.2 I 99.8 1 97.5 | 96.5 1 99.8 1 99.8 100.0 1 98.4 | 100.0 1 100.8 98.6 1 100.6 1 99.0 1 97.9 1 982 | 98.4 1 97.9 100.5 100.7 1 100.0 1 96.5 1 97.9 1 tlmil Pit s s s ΓΟ v〇 m ν〇 m v〇 m ό m v〇 ro \〇 m v〇 s 00 m \〇 s oo tr> OO 0.63 0.64 0.75 0.95 0.85 o o o 〇 Ο o ο o O o o 〇 o o o o o o o <ζ> m vi 蒜鹚 1 s JO 鼷 CN CN 卜 rn 5 寸 吁 对 wS m m· ON rj 卜 rn 13.0 14.5 寸· 10.5 oo CA 卜^ 19.5 20.0 19.7 20.0 14.5 ig x> E 0Q CS r- oi o Ο (Ν 卜 rn (Ν »Τ> 0 01 o <N o <N a\ (N 寸 H m o 寸 o (Ν Ο rn -0.2 cs o ro 騾 A面 - <N 卜 (N Ο (Ν (Ν o cs 〇 (N o (N Os (N v〇 (N rn 寸· o 寸· 寸 o 寸 o <Ν Ο rn -0.2 (N 〇 (N rn 陋 X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X B | A面 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X 〇 X 卿 a Η \ NO 〇 v〇 〇 v〇 〇 NO 〇 \〇 Ο NO 〇 <1016 AO 〇 VO 〇 v〇 o o \o 〇 Ψ ^ SD 12 2 ψ < v〇 A ν〇 2 ψ·— IS 2 vg VO PQ a Λ Λ Λ Λ Λ Λ 八 八 八 八 △ 八 △ △ △ 4 τ—( H f-H 涅 μ terfl pr u * m \ O o 〇 〇 Ο 〇 Ο 〇 〇 〇 〇 o o o o o o ο o <1016 VO o o NO 〇 < a X X X X X X X X X X X Λ X X X r—t X X X X X X r-^ Λ Λ X Λ c2 i? K m oa (μπι) 2.80 2.75 2.75 2.80 2.80 2.75 2.75 2.80 2.75 1.25 9.85 0.90 2.85 2,75 2.80 2,80 2.65 2.60 2.60 5.95 0.60 0.95 0.90 0.90 2.35 Kh m Ig M +·胆 m g in in g S JO § WO CN ^r> 00 OO in g § in \n 0.60 0.95 0.90 0.90 2.30 * < 3 CN CN r4 <N oi (N οά (N csi — 〇< 〇 <si CS <N CS rsi VO cd 5Γ β n- m H in ^r> IT) m 〇 1.05 IT) u^i ir> 0.35 wo g CQ 3 o 〇 o 〇 <d O ο 〇 O o o 〇 o o 〇 o O 〇 〇 o o o o m m m 百 v〇 Γ-· Ό νο 卜 卜 o s 卜 ir> 的 to m g 0.08 0.04 m < 3 〇 o o o Ο o ο o o o — o o 〇 〇 〇 〇 o o ο o o o B面 <N — 一 寸· 卜 oo 寸 oo 'O 寸 〇\ m Ό 00 (N 卜 cs rsj 卜 sl f-H s 2 ε； s s s OO ON s s § s S； oo 〇\ 〇\ On 〇\ as S； g s v〇 On l〇 On ^ u rn 104.6 103.8 O) »〇 Os 寸 104.3 \〇 00 , 〇\ 寸 oo in < f-H ε； s s s r-H 00 Os g g ^«H s oo ON 〇\ ON Os ε； s s ON m 1 1 1 1 1 1 1 s S C23 劍1 A面 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 1 1 〇 « M担 1 m 祕_ 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 m 寸 in 卜 OO On o CS m 寸 in v〇 oo 〇\ <N ro 寸 S S 孽 s 1 鎰 m 羣 鎰 羣 鎰 ㈣ IK 辑 握 辑 握 習 滔 辑 辑 留 辑 辑 i§ 擇 辑 辑 滔 鎰 鎰 IK u IK *κ u IK K S w w w m * u IK JJ AJ jJ aj 200829963

1丨01漱 亮度 (假設東麗 250E6SL 爲 100) 1 100.3 1 1 100.4 1 1 100.7 1 | 100.5 1 1 100.5 1 1 100,4 1 1 100.4 1 1 100.2 1 | 100.8 1 丨励.8 1 1 100.5 1 | 100.5 1 | 100.8 1 1 100.7 1 1 100.8 1 1 100.7 1 [ 100.7 1 | 101.2 1 101.2 1 | 101.2 1 1 loi.o I ；101.4 1 101.5 1 101.5 1 101.4 1 101.2 1 100.6 1 101.2 1 100.4 1 100.4 1 99.5 1 99.5 1 98.0 1 比重 1 1.23 1 1.23 1 1.22 1 1.22 1 1.22 1 1.22 1 1.22 Γνί <Ν 1 1.22 Li^gJ Lll2J LJL22J Lj^lJ Ll^lJ U.22, Li^iJ JL·23 .n 1.23 1 1.23 1 rn (N 1.22 1 1.22 1 1.23 1 1.23 1 1.22 1 紫外線照射 試驗後之 色調b値 1 10.2 1 10.2 寸 rn 〇 (N Ο <Ν Ο (Ν <Ν rn rn 寸 | 10.9 | 10.9 1 10.9 _^__ ___ ___ rn rn o (N 口· oi cn 寸 ro Ο rn 寸 rS ΓΟ cn rn 对 rn 寸 <N 卜 Η (Ν Η 色調MU B面 卜 Ο 卜 〇 m Ο uo 〇 寸· ν〇 Ο Ο r4 rn o o ο o o <N o Γνί o rs o (N o »·-Η (N o o 5 ο Ο ο ο o’ o’ 卜 〇 卜 Ο Ο Ο ο ο (Ν Ο A面 卜 ο 卜 〇 m d iT) 〇 寸· C? ο (Ν rn o o <D o 〇 (N o 04 o <N o (N o 〇 in o ο ο ο ο Ο Ο ο Ο ο ο o o o o VO o 00 ο ο ο (Ν Ο 塵埃 附著性 B面 X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X X 〇 〇 X X 〇 A面 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 <i 〇 〇 〇 〇 表面電阻率値 丨B面 \ a 丨 >1χ1016 | >1χ1016 | >1χ1016 | >lxl016 1 >lxl016 1 >1χ1016 Ό Ο X Λ | >ΐχΐο16 | | >ΐχΐο16 | | >ΐχΐο16 | 1 >ΐχΐο16 | I >ΐχΐο16 | I〉lxio16 | 1 >ΐχΐο16 | | >ΐχΐο16 | 1 >i_16 | | >ΐχΐο16 | I >ixio16 1 | >ΐχΐο16 1 1 >ΐχΐο16 | | >ΐχΐο16 | 丨 >1χ1016 1 1 >ΐχΐο16 1 Ό Ο X Λ 1 >ΐχΐο16 1 >1χ1016 1 ! >lxl016 I > lxio16 1 8χ108 1 5χ108 1 > lxio16 1 > ΙχΙΟ*6! 6χ108 1 丨A面 1 8xl09 丨 8xl09 | 5xl08 | 5xl08 1 5χ108 1 5χ108 1 5χ108 | 5xl08 | 5xl08 | 5xl08 1 5xl08 | 5xl08 1 5xl08 1 | 8xl09 1 i 8xl09 1 | 8xl09 1 | 8xl09 1 | 6xl08 1 [6xl08 1 | 6xl08 1 | 6xl08 1 1 6xl08 1 1 6xl08 1 6χ108 1 6xl08 1 6x108 1 6xl08 | 6xl08 | 5xl0u | 7χ109 1 5χ108 1 5xl08 1 9χ109 1 丨B面 1 (μπι) 1 2.70 |〇.85 | 2.65 | 2.65 1 2,65 1 2.60 1 2.70 I 2.70 | 2.65 1 0.75 1 4.70 I 3.25 丨——㊈j | 2.20 1 in in un in· 1 155 i Π.20 1 Π.20 1 1 1-20 1 i.肋1 1—20 1 1.20 1 1.20 1 1.20 1 1.20 1 1.20 | 1.20 | 1.20 | 1.20 1 2.65 1 2.65 1 2.65 1 1 A厘 ί (μηι) 1 3.20 1 0.90 | 2.80 1 2.75 1 2.80 1 2.80 1 2.85 | 2.80 | 2.80 丨〇.亙j | 5.20 1 | 3.30 1 | 2.80 | | 3.20 1 1 2.55 1 L—里——J 1 3.40」 1 4.10 1 丨 2.85 1 | 4.90 1 | 3.00 1 1 4.10 1 4.10 1 4-10 1 4.10 1 4.10 1 11.20 | 6.25 | 3.90 | 3.50 1 2.80 1 2.80 1 3.30 cd 1 丨B面 1㈣） 1 0.15 1 0.08 | 0.20 j | 0.20 1 1 〇·2〇 _ ； 1 0.19 1 1 0.19 ! | 0.20 | | 0.20 | | 0.07 | | 0.40 | 0.35 | 0,20 | I 0.15 i i 〇-〇7_] | 0.08 | | 0.08 1 | 0.07 1 rwi | 0.07 ] | 0.08 1 1 0.07 1 1 0.08 1 1 0.07 1 1 0.08 1 ί 0.07 1 | 0.07 1 ! 0.07 1 _1 0.07 1 0.20 1 0.19 1 0.20 I A面 3 1 0.15 1 0.08 | 0.20 | 0.20 1 0.20 1 0.19 1 0.19 | 0.20 | 0.20 | 0.07 ' | 0.42 | 0.38 | 0.20 1 ο-is J 1 0.07 I 1 0.25J 00 1 0-25 | 1 〇_·ΐ5ΐ 1 0-25J 丨0-24」 1 〇·25 —J 1 0.25 1 1 0.15」 1 0-18」 L 0.35」 0-95 1 0.40 I 0.20 | 0.20 1 0.19 J 0.20 1 0.30 平均 反射率 B面 1 101.1 1 100.2 I 100.2 1 99.3 1 97.4 100.2 Ο I 97.8 I 99.7 o 199.4 I 100.7 J | 103.3 1 1 101.9 I | 96.1 1 195,41 L97.3J | 97.3 I 1 97,3 I 1 97.3 1 1 97.3」 97.3 1 97.3 1 97.3 97.3 97.3 97.1 1 98.1 I 99.2 1 98.1 1 97.1 1 A面 1 lol.i 1 100.2 I 100.3 98.8 1 97.3 ； 99.9 100.1 97.7 99.6 99.2 100.1 I 99.4 J I 100.8 I s I 101.9 1 98.2 97_3——」 | 101.4」 I 99.8 I 1 99.1 97.2 100.9 100.2 100,9 97.3 98.9 I 100.9 100.9 1 οο σ\ 97.1 塗膜 密著性 B面 — 1 - t 1 « * 1 1 1 • 1 1 1 1 1 I 1 1 t 1 1 I 1 I I 1 » 1 X 〇 1 I 〇 A面 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X 〇 〇 〇 製膜 穩定性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 <1 〇 〇 〇 〇 〇 〇 辑 * 1實施例22 I 實施例23 辑 魏 實施例25 實施例26 實施例27 g u 實施例29 實施例30 實施例31 實施例32 實施例33 實施例34 1實施例35 1 實施例36 實施例37 實施例38 1實施例39 I 〇 M 實施例41 實施例42 實施例43 g U 實施例45 辑 魏 實施例47 U 實施例49 實施例50 辑 Κ 累 u 丨009 _ 200829963

亮度 (假設東麗 250E6SL 爲励） 80.5 93.5 100.2 72.0 70.5 I 1 98.0 比重 1.42 1.24 1.24 1.25 1.25 I 1 1.21 震5 K % 1 ^ 11.2 1 00 wS I 1 as 00 色調b値 i B面 卜 ο Ο <Ν Ο 5 d 1 1 ο ο A面 卜 ο ο (Ν Ο 2 1 1 ο ο 塵埃附著性; _1 B面 X X 〇 〇 〇 1 1 X A面 X X 〇 〇 〇 1 1 〇 表面電阻率値 ts CQ (Ω/D) 8χ109 > ΙχΙΟ16 7χ109 5χ108 5χ108 1 1 > ΙχΙΟ16 A面 (Ω/Π) 7χ109 > ΙχΙΟ16 6χ109 8χ109 8χ109 1 1 7χ109 十處平均 表面粗糙度RZ 丨B面| (μπι) 0.65 13.80 13.80 3.30 3.30 Β 1 σ\ ri I A面| (μπι) 0.60 14.50 14.50 3.30 3.30 1 1 ΟΝ Η k « £ ψ B面 a 0.07 1.55 0.17 0.17 1 1 0.25 1 i jhL |θ ^ s A面 (μπι) 0.07 2 0.17 0.17 1 1 0.25 平均反射率 B面 83.3 72.1 82.8 οο 58.2 1 t 100.4 A面 83.4 tn 84.8 64.9 1 1 100.4 塗膜密著性 m CQ 〇 1 〇 〇 〇 1 1 1 A面 〇 1 〇 〇 〇 1 1 〇 製膜 穩定性 〇 〇 〇 〇 〇 X X 〇 比較例6 比較例7 比較例8 比較例9 比較例10 比較例11 比較例12 比較例13 200829963 〔產業上之利用性〕 本發明係適合用作爲被要求耐光性、及除塵性能之反 射薄膜用基材。 【圖式簡單說明】 第1圖係売度測定系統之不意圖。 【主要元件符號說明】 11 螢 光 管 12 反 射 薄 膜 13 導 光 板 14 擴 散 薄 膜 15 売 度 計 -70-

Claims (1)

1. 200829963 十、申請專利範圍： 1 · 一種液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜，其係在具有 微細氣泡之聚酯薄膜含有光穩定劑，且該薄膜之至少 一側之表面的平均反射率爲97%以上。 2· 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜是具有在具有微細氣泡 之聚酯層（A)之至少一面上加以積層含有光穩定劑 之聚酯層（B )之結構。 3. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中在該聚酯薄膜之至少一面上塗布含 有抗靜電劑之層（C )，且層（C )之表面電阻率値爲 ΙχΙΟ13 Ω /□以下。 4. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜表面之中心面平均粗糙 度Ra爲0. 1以上且十處之平均粗糙度RZ爲1·〇以上 〇 5 . 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中包含在該聚酯薄膜之光穩定劑的含 量相對於聚酯薄膜之總重量爲〇·〇2重量％以上、20重 量％以下。 6. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中包含在該聚酯薄膜之光穩定劑爲丙 二酸酯系光穩定劑。 7. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 -7 1 - 200829963 色聚酯薄膜’其中包含在該聚酯薄膜之光穩定劑爲 2,6 -萘二甲酸或其共聚合物。 8. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中在該聚酯薄膜含有二氧化鈦微粒， 且其含量相對於聚酯薄膜之總重量爲1重量％以上、 4 0重量％以下。 9. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中在該聚酯薄膜含有平均粒徑爲1.0 /z m以上之微粒（以下稱爲大粒徑微粒），且其含量 相對於聚酯薄膜之總重量爲〇 · 〇 1重量％以上、5重量 %以下。 i 〇 .如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中該大粒徑微粒爲二氧化矽微粒。 11.如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜係因含有與聚酯不相溶 性之熱塑性樹脂而形成微細氣泡。 1 2.如申請專利範圍第1 1項所述之液晶顯示器反射板用 白色聚酯薄膜，其中與該聚酯不相溶性之熱塑性樹脂 爲聚甲基戊烯，在聚酯薄膜中之平均粒徑爲大粒徑微 粒之平均粒徑以下，且相對於聚酯薄膜之總重量爲含 有5重量％以上、25重量％以下。 1 3 .如申請專利範圍第1 1項所述之液晶顯示器反射板用 白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜之比重爲0.5以上、 1.2以下。 -72- α α200829963 14.如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器反射板用白 色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜係因含有無機微粒而形 成微細氣泡。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所述之液晶顯示器反射板用 白色聚酯薄膜，其中爲形成該微細氣泡所含有之無機 微粒是硫酸鋇，且該硫酸鋇之平均粒徑爲〇 . 1 # m以 上、5.0 // m以下且爲大粒徑微粒之平均粒徑以下，且 相對於聚酯薄膜之總重量爲含有5至70重量％。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項所述之液晶顯示器反射板用 白色聚酯薄膜，其中該聚酯薄膜之比重爲1·2以上、 1.4以下。 17. 一種液晶顯示器反射板用白色聚酯薄膜，其係如申請 專利範圍第2項所述之聚酯薄膜，且其芯層部爲該聚 酯層（A )、一側或兩側之表層部爲該聚酯層（B )。

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