TW200823600A - Photosensitive resin composition and spacer for liquid crystal panel - Google Patents
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Description
200823600 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種感光性樹脂組成物及液晶面板用間 隔物’更詳細而言’係關於一種適用於形成設置於液晶面 板之兩塊基板間之間隔物的感光性樹脂組成物、以及由該 • 感光性樹脂組成物形成之液晶面板用間隔物。 【先前技術】 於液晶顯示裝置之液晶面板中’係採用以兩塊玻璃基板 等透明基板夾持液晶材料之結構,因此必須於兩塊基板間 形成間隔物,以填充液晶材料。 以前為形成間隔物,而採用將成為間隔物之珠狀粒子 «於基板之整個面上之方法,但存在如下問題:像素顯 示部分亦附著有珠狀粒子,造成影像之對比度或顯示晝質 降低。因此’近年來提出各種利用感光性樹脂組成物形成 . 該間隔物之方法(參照專利文獻卜2等)。該方法係將感 • 紐樹脂組成物塗佈於基板上,透過特定之光罩曝光後, 進行顯影而形成點狀等之間隔物者,可僅於像素顯示部分 以外之規定部分形成間隔物。 【專利文獻1】日本專利特開2006— 184841號公報 【專利文獻2】日本專利特開2〇〇6〜3〇8961號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而’該間隔物大多形成於基板±形成之⑽上、保護 膜上、或配向膜上。另外,於宜此技ji/ 士 於某些情形時,該間隔物亦形 5 200823600 亡或者覆蓋TFT(ThinFu〜—, :日日體)之絶緣膜上。如此,間隔物形成於各種基材 ,…i而對該基材之密著性不足時 ^ 小足%,例如於顯影時有產生 圖案剝落之虞。 因此,至今為止為彌補如上述 粤Pi „ ^ 4 <山者性不足,而縮短顯 ‘ 間以應對該密著性不足 仫右顯影時間短,則導致如 . •由於顯影不良而產生显物 rτ 王/、物、或者由於拖尾 • 形狀而造成CD值偏差等。尤其於基板尺寸增 二’難以於基板中保持固定顯影時間,故難以縮短顯影 %間以應對上述密著性不足。 因此,業界期待提高該間隔物對形成有間隔物之基板之 基材的密著性本身,使得可以實現顯影時間的延長。尤直 最近有減小高精細顯示器用間隔物的剖面積之趨勢,因此 預想業界對密著性之要求會進一步提高。 • 1本發明❹於上述Μ之課題而開發出來,其目的在於 ,鲁冑供-種可形成對各種基材之密著性均高之液晶面板用間 隔物的感光性樹月旨組成物、以及由該感光性樹脂組成物形 成之液晶面板用間隔物。 [解決問題之技術手段] 本發明者等人為達成上述目的而反覆進行積極研究,結 果發現:可藉由使感光性樹脂組成物中含有特定結構之石夕 烷化合物,而解決上述課題,從而完成本發明。具體而言, 本發明係提供如下所述感光性樹脂組成物及液晶面板用間 隔物。 6 200823600 本發明之第一態樣係一種感光性樹脂組成物,其係含有 (A )光聚合性化合物、(B )光聚合起始劑以及(c )密著 增強劑之感光性樹脂組成物,其特徵在於:上述(c )成分 係具有含氮原子之基團的石夕燒化合物,且與該氣原子鍵結 之氫原子為1個以下。 本發明之第二態樣係一種液晶面板用間隔物,其特徵在 於:其係由本發明之感光性樹脂組成物所形成。 [發明之效果] 根據本發明,可提供一種可形成對各種基材之密著性均 高之液晶面板用間隔物的感光性樹脂組成物、以及由該威 光性樹脂組成物形成之液晶面板用間隔物。 【實施方式】 以下,就本發明之實施形態加以說明。於本說明蚩中, 所謂「(曱基)丙烯酸」,係表示丙烯酸及曱基丙烯酸中之一 者或兩者。同樣地,所謂「(甲基)丙烯酸酯」,係表示丙烯 酸_及甲基丙烯酸酯中之一者或兩者。 [感光性樹脂組成物] 本發明之感光性樹脂組成物含有(A)光聚合性化合物、 (B)光聚合起始劑以及(c)密著增強劑。以下,就本發 明之感光性樹脂組成物中所含之各成分加以說明。 [(A)光聚合性化合物] 乂上述(A)光聚合性化合物(以下,稱為(A)成分)係 受到紫外線等光之照射而聚合、硬化之物質。作為該(A) 成分,以具有乙烯性不飽和基之樹脂或單體為佳,更佳為 7 200823600 將該等加以組合。藉由將具有乙烯性不飽和基之樹脂與具 有乙稀性不飽和基之單盤加以組合’可提高硬化性,使圖 案形成變得容易。再者,本說明書,將具有乙烯性不飽和 基之化合物中,質量平均分子量為1000以上者稱為「具有 乙烯性不飽和基之樹脂」,將質量平均分子量小於者 稱為「具有乙烯性不飽和基之單體」。 <具有乙烯性不飽和基之樹脂>
作為具有乙浠性不飽和基之樹脂,可列舉:(曱基)丙稀 酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸單甲酯、反丁 稀二酸單乙酯、(曱基)丙烯酸2 —羥基乙酯、乙二醇單甲_ (甲基)丙細酸醋、乙一醇早乙謎(甲基)丙稀酸酉旨、(甲基) 丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯醯胺、丙烯腈、曱基丙烯腈、(曱 基)丙烯酸甲酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸異丁 酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸节g旨、乙二 醇二(曱基)丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二 (甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、丁二醇二 曱基丙烯酸酯、丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、三經甲基丙燒 三(曱基)丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四(曱基)丙稀酸醋、季 戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙稀酸酯、 二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙稀 酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、咔哚環氧二丙稀酸 酯(cardoepoxy diacrylate)等聚合而成之寡聚物類;使 (甲基)丙烯酸與將多元醇類與一元酸或多元酸進行縮合而 獲得之聚酯預聚物進行反應而獲得的聚酯(甲基)丙稀酸 8 200823600
酉曰’使多元醇與具有2個異氰酸酯基之化合物進行反應 後、與(甲基)丙烯酸反應而獲得的聚㈣(甲基)丙稀酸 ,:使雙齡A型環氧樹脂、雙紛F型環氧樹脂、雙驗s型 ,氧樹脂、苯紛或甲㈣盤清漆型環氧樹脂、可溶輕型 環氧樹脂、三㈣甲烧型環氧_、多m酸多縮水甘油酯、 多T醇多縮水甘油醋、脂肪族或脂環族環氧樹脂、胺環氧 樹脂、二羥基苯型環氧樹脂等環氧樹脂,與(甲基)丙烯酸 進行反應而獲得之環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂等。進而,可 使用使多元酸酐與環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂進行反應而獲
得之樹脂。 I 具有乙烯性不飽和基之樹脂中,就可提高解析性及保存 穩定性之方面而言,以具有由下式(a—1)所表示之結構 單元(al)以及含有交聯性基之結構單元(a2)之共聚物 (A1 )為佳。 [化1]
Ra0
(R0_a 200823600 [式(a—l)中,pa。矣一长 , x不氧原子或甲基,IT1表示單鍵或 石反數為1〜5之伸烷基,Ra2 2 表不石反數為1〜5之烷基(其中, # _二個以上時,該等Ra2彼此可相同,亦可不同), 二;之,數,b表示0〜4之整數-+…以下。] 上过R係、風原子或甲基,以甲基為佳。 上述R係單鍵或碳數為1〜5之直Μ & 4 i ^ ϋ Α。 ^之直鏈狀或支鏈狀伸烷
暴具體而舌可列舉··亞甲I 甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙 基、伸正丁基、伸昱 其 伸異丁基、伸弟三丁基、伸戊基 基、伸新戊基等。苴中,以w ^ ^ 抑 ,、中,以早鍵、亞f基、伸乙基為佳。 尤八為早鐽時,可提高所獲得之硬化物的耐熱性,故較佳。 a表示1〜5之整數,就易於製造等方面而言,以&係! 為佳。另外’於將與結之碳原子作為基準(“立)時, 笨環中之羥基之鍵結位置以4位為佳。 上达『2係碳數為1〜5之直鏈狀或支鏈狀院基。呈體而 言’:列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基:異丁 】第一丁基戊基、異戊基、新戊基等。其中,就易於 製造之方面而言,以甲基或乙基為佳。另外,b表示〇〜4 之整數。 作為上述結構單元(al ),具體而言,可列舉由下式(& —1—l)、(a—l〜2)所表示者。尤其以由式(a—1〜1) 所表示之結構單元為佳。 [化2] 200823600
C2H4
(a-1 -1) vJ OH (a-1-2) 該結構單元(a 1 )可藉由 合性早體與其他聚合性I (A1)中。 使由下式(a-體進行共聚合 1 ) 所表示之聚 而導入至共聚物 [化3]
Ra0
(a-1)’ [式(a— 1 ) ’ 中,Ra°、rm、 上述結構單元(a2)係具有 聯性基係受熱而交聯者,例如 、a及b與上述相同。] 交聯性基之結構單元。該交 可列舉:含有乙烯性不飽和
II 200823600 基之有機基、含有環氧基之有機基、含有氧雜環丁基 (oxetanyl )之有機基。 ^ 其中’就可提高所獲得之硬化物之耐熱性&強度等方面 而言,以具有含有環氧基之有機基者為佳。作為:… 構單元“2),例如可列舉:自丙稀酸縮水甘油_、甲基; 烯酸縮水甘油酯、丙烯酸石-甲昊 土 1敗P甲基細水甘油酯、甲基丙 酸/5 -甲基縮水甘油酯、 r 1工π私 θ α—乙基丙烯酸縮水甘油酯、α — 正丙基丙稀酸縮水甘油酿…正丁基丙稀酸縮水甘油醋、 丙稀酸-3, 4-環氧丁醋、甲基丙烯酸_3 士環氧丁醋、丙烯 酸_6’7_環氧庚醋、曱基丙稀酸-U-環氧庚酿、乙基丙 烯酸-6, 7-環氧庚酯、鄰乙嬌芊 ㈣G烯苄基縮水甘油醚、間乙烯苄基 縮水甘油醚、對乙烯苄基缩 ^ 丞細水甘油醚、甲基丙烯酸(3, 4- 環氧環己基)曱酯等聚合性單體 早體何生者。該等結構單元(a2) 可單獨或者組合2種以上使用。 =之結構單元(a2),可列舉由下式(a_2)所表示之 該式(a—2)所表示之結構單元,就可提高製 ,令二&本之優勢以及所獲得之硬化物的耐溶劑性 之方面而言較佳。 [化4] 12 200823600
(a - 2) [式(a—2)中,γ表示氫原子或甲基。] 另外,上述共聚物(Α1)亦可具有除結構單 以外之結構單元⑽。該結構單元(a3)若為自具)有(乙稀) 性不飽和基之化合物衍生之結構單元,則無特別限定。 作為如此之結構單元(a3)’例如可列舉選自不飽和缓酸
類(甲基)丙婦酸醋類、f审A、Μ V 岬日頰1甲基)丙烯醯胺類、烯丙基化合 物、乙浠鱗類、乙稀_類、笑 、 本乙烯類或者(甲基)丙烯腈等 之結構單元。 作為不飽和緩酸類,例如可列與 ^ J外舉·(曱基)丙烯酸、丁烯 酸等一元羧酸;順丁烯二酸、 反丁烯二酸、甲基順丁烯二 酸、甲基反丁烯二酸、亞甲I — 一 土丁 一 專二元緩酸,該等二 元鲮酸之酸酐等。 作為丙稀酸酉旨類’例如可别輿· J歹j舉·丙細酸甲g旨、丙烯酸乙 醋、丙烯酸丙酯、丙烯酸里 ^ ^ ^ χ 文共丙S曰、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊 酯、丙烯酸乙基己酯、丙、膝缺古 内坪酸辛酯、丙烯酸第三辛酯等直 鏈或支鏈丙烯酸烧基酯;兩梯分 丙埽k %己酯、丙烯酸二環戊|旨、 13 200823600 丙烯酸2-甲基環己酯、丙烯酸二環戊酯、丙烯酸二環戊氧 基乙酯、丙烯酸異莰酯等脂環族丙烯酸烧基酯;丙烯酸氯 乙酯、丙烯酸2, 2-二甲基羥基丙酯、丙烯酸2-羥基乙醋、 丙烯酸5-羥基戊酯、三羥甲基丙烷單丙烯酸酯、季戊四醇 單丙烯酸1旨、丙烤酸苄酯、丙烯酸甲氧基节醋、丙稀酸吱 喃甲酯、丙烯酸四氫呋喃甲酯、丙烯酸芳基酯(例如丙稀 酸苯酯)等。
作為甲基丙烯酸酯類,例如可列舉:曱基丙烯酸曱酯、 甲基丙烯酸乙酯、曱基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、 曱基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第 二丁酯、曱基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸 辛酯等直鏈或支鏈曱基丙烯酸烷基酯;曱基丙烯酸環己 酯、甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸2-甲基環己酯、甲 基丙烯酸二環戊氧基乙s旨、甲基丙烯酸異莰自旨等脂環族甲 基丙烯酸烷基醋;甲基丙烯酸节酿、甲基丙烯酸氯节醋、 曱基丙稀酸2-經基乙酯 稀酸5-經基戊酯、曱基 、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙 丙烯酸2,2-二曱基-3-羥基丙酯、 三羥甲基丙烷單曱基而、膝缺& 工 T 土丙烯酸酯、季戊四醇單曱基丙烯靡 酉旨、曱基丙烯酸呋喃甲酯、甲石 _ 甲基丙烯酸四氫呋喃甲酯、号 基丙婦酸方基醋(例如甲装 】甲基丙烯酸笨酯、曱基丙烯酸甲聋 8曰、甲基丙烤酸蔡酉旨)等。 醯胺(烷基之碳數以1〜1〇兔杜 縫 ϋ為‘,例如可列舉甲基、2 丙基、丁基、弟三丁基、庚 宁I、ϊ衣己基、羥基2 14 200823600 节基等)、N-芳基丙烯醯胺(作為芳美 芍方暴例如可列舉笨基、 甲苯基1基苯基、萘基、料笨基等)n烧基丙稀 酿胺(烧基之石炭數以卜1〇為佳)、N,N_二芳基㈣㈣(作 為芳基,例如可列舉苯基)、N一甲美 , τ丞本基丙烯醯胺 '恥 羥基乙基-N-甲基丙烯醯胺、n〜2— , Μ α ^胺乙基-乙醯基丙 烯醯胺等。 作為甲基丙烯醯胺類,例如可1與· J列舉·甲基丙烯醯胺、恥 烷基曱基丙烯醯胺(烷基之碳數以 與田苴r # ίυ為佳,例如可列 舉甲基、乙基、第三丁基、乙基 丞己基羥基乙基、環己美 等)、Ν-芳基甲基丙烯醯胺(作 土 以為方基,例如可列舉笨基、 曱本基、硝基苯基、萘基、 ϋ本基專)、Ν,Ν〜二烷基甲美 丙浠醯胺(作為燒基,可列舉 土 —* 牛乙基、丙基、丁基等)、ΝΝ- ΐ方基甲基㈣醯胺(作㈣基’例如可列舉苯基)、Ν_ 么土乙基Ν甲基甲基丙烯醯胺、Ν-甲基—Ν—苯基甲基丙烯 酿胺、Ν-乙基-Ν-苯基甲基丙烯酸胺等。 作為烯丙基化合物,例如 泣工你 婦丙酉日類(例如乙酸 烯丙S日、己酸烯丙酯、辛酴 辛酉夂烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕櫚 酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、苯 ,、 + 丫%L婦丙自曰、乙醯乙酸 醋、乳酸烯丙酯等)、烯丙氧基乙醇等。 作為乙烯_類,例如可列與 了列舉·统基乙烯Μ例如可列舉 己基乙烯醚、辛基乙烯醚 I癸基乙烯醚、乙基己基乙嬌·、 甲乳基乙基乙婦_、乙梟其 、 虱基乙基乙烯醚、氯乙基 卜甲基~~2,2-一甲其兩龙 签g歸驗、 τ 土…基丙基乙烯醚 / Ar ^m 乙基丁基乙~醚、羥基 乙暴、二乙二醇 ~乙_、二f胺基乙基乙烯醚、二 15 200823600 乙胺基乙基乙烯醚、丁胺基乙基乙烯醚、苄基乙烯醚、四 氫呋喃甲基乙烯醚等)、乙烯基芳基醚(例如可列舉乙烯基 苯醚、乙烯基甲苯醚、乙烯基氯苯醚、乙烯基—2,4—二氯笨 醚、乙烯基萘醚、乙烯基蒽醚等)。 作為乙烯酯類,例如可列舉··丁酸乙烯酯、異丁酸乙烯 6曰一甲基乙酸乙烯酯、二乙基乙酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、 己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、二氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙 酸乙烯酯、丁氧基乙酸乙烯酯、苯基乙酸乙烯酯、乙醯乙 酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、沒—苯基丁酸乙烯酯、苯曱酸乙烯 酯、水揚酸乙烯酯、氯苯曱酸乙烯酯、四氯笨曱酸乙烯酯、 萘甲酸乙烯酯。 作為苯乙烯類,例如可列舉:苯乙烯、烷基苯乙烯(例 如可列舉曱基苯乙烯、二曱基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙 基笨乙烯、二乙基苯乙稀、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、 己基笨乙烯、環己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、 氯曱基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙 醯氧基曱基笨乙烯等)、烷氧基苯乙烯(例如可列舉甲氧基 苯乙烯、4-甲氧基—3—曱基苯乙烯、二甲氧基笨乙烯等)、 鹵苯乙烯(例如可列舉氯笨乙烯、二氣苯乙烯、三氯苯乙 烯、四氯笨乙烯、五氯苯乙烯、溴笨乙烯、二溴苯乙烯、 碘笨乙烯、氟笨乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙 烯、4-氟-3-三氟曱基苯乙烯等)。 上述共聚物(A1)中之結構單元(al)以ι〇〜8〇莫耳% (以莫耳比計算時,(al) : ( a2 )為1 : 9〜9 : 1 )為佳, 16 200823600 更佳為20〜80莫耳%(以莫耳比古十曾 矢今% wt异時,(al ) : ( a2 )為2 : 8〜8:2),最佳為2〇〜7〇莫耳%。藉由設為上述範圍,可 提咼感光性樹脂組成物之顯影性。 90 可 60 *另外,上述共聚物(A1)中之結構單元(a2)以 莫耳%為佳’更佳為20〜80莫耳%。藉由設為上述範圍 提商感光性樹脂組成物之熱硬化性及耐化學性。
★進而’上述共聚物(A1)中之結構單元(⑻以〇 — U :耳%為佺’更佳為0〜30莫耳進而更佳為卜10莫耳% 最佳為不含結構單元(a3)。 上述共聚物(A1 )之質量平均分子量(Mw :藉由凝膠滲 透層析法⑽)敎之經苯乙烯換算而得之敎值)以 _〇〜50000為佳,更佳為5〇〇〇〜3〇〇〇〇。藉由將質量平均 分子量設4 2_以上’可容易地形成膜狀;藉由設為5〇〇〇〇 以下’可獲得適度之顯影性。 上述共聚物(A1)可藉由眾所周知之自由基聚合而製造。 亦即’可藉由將可衍生出上述結構單元UU、U2)及(a3) 之聚合性單體以及眾所周知之自由基聚合起始劑溶解於聚 合溶劑中後,進行加熱攪拌而製造。 <具有乙細性不飽和基之單體> 具有乙稀性不鮮基之單體巾有單官能單體及多官能單 體。 作為單官能單體,可列舉:(曱基)丙烯醯胺、經甲基(甲 基)丙烯醯胺、甲氧基曱基(甲基)㈣酿胺、乙氧基甲基(甲 基)丙稀醢胺、丙氧基甲基(曱基)丙烯醯胺、丁氧基曱氧基 17 200823600 甲基(甲基)丙烯酿胺、N-經甲基(甲基)丙烯醯胺、N_羥基 曱基(曱基)丙炸醢胺、(曱基)丙稀酸、反丁烯二酸、順丁 _ 一酸、順丁烯二酸針、亞甲基丁二酸、亞曱基丁二酸酐、 甲基順丁烯二酸、甲基順丁烯二酸酐、丁烯酸、2一丙烯醯 胺基-2 -甲基丙磺酸、第三丁基丙稀酿胺石黃酸、(甲基)丙稀 酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基) 丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸 2-經基乙酯、(甲基)丙稀酸2 -經基丙酯、(甲基)丙稀酸2一 羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基-2-羥基丙酯、鄰苯二 甲酉文2 -(甲基)丙_1氧基-2-經基丙酉旨、單(曱基)丙烯酸 甘/由酉曰、(甲基)丙細酸四氫u夫π南甲醋、(甲基)丙缚酸二甲 胺酉曰、(曱基)丙稀酸縮水甘油I旨、(甲基)丙烯酸2,2 2-三 氟乙酯、(甲基)丙烯酸2, 2, 3, 3-四氟丙酯、鄰笨二甲酸衍 生物之半(甲基)丙烯酸酯等。該等單言能單體可單獨或者 組合2種以上使用。 另一方面,作為多官能單體,可列舉:乙二醇二(甲基) 丙稀酉文酉曰、一乙二醇二(曱基)丙烯酸酉旨、四乙二醇二(曱基) 丙烯酸酯、丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基) 丙烯SiL自曰、丁二醇二(甲基)丙浠酸酯、新戊二醇二(甲基) 丙稀酸醋、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙燒 二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸甘油酯、季戍四醇三 丙烯酸醋、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙稀酸醋、 一季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(曱基)丙烯酸醋、季 戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、 18 200823600 一季戊四醇五(甲基)丙稀酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙埽 酸酯、2, 2-雙(4_(甲基)丙烯醯氧基二乙氧基苯基)丙烷、 2, 2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基多乙氧基苯基)丙烷、(甲基) 丙烯酸2-羥基-3_(甲基)丙烯醯氧基丙酯、乙二醇二縮水 甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二縮水甘油醚二(甲基) 丙浠酸醋、鄰苯二甲酸二縮水甘油醋二(甲基)丙烯酸酯〇 三丙烯酸甘油醋、甘油多縮水甘油醚多(甲基)丙烯酸醋、 (甲基)丙埽酸胺基曱酸醋(亦即’甲笨二異氮酸醋)、三甲 基六亞甲基二異氰酸酯及六亞甲基二異氰酸酯等與(甲基) 丙烯酸2,基乙醋之反應物、亞曱基雙(曱基)丙烯酿胺、 (甲基)丙烯酿胺亞甲趟、多元醇與甲基(甲基)丙烯醯 胺之縮合物等多官能單體或三丙烯基縮曱醛 (tnaCrylformal)等。該等多官能單體可單獨或者組合 2種以上使用。 相對於感光性樹脂組成物之固形分,該具有乙稀性不飽 t基之早體之含量以5〜5°質量%為佳,更佳為10〜4。質 之範圍。藉由設為上述範圍, 、 I靶w,而具有易於取得靈敏度、 頌衫性、解析性之平衡的傾向,故較俨 上述/圍里°仏’更佳為1❶〜40質量。/°之範圍。藉由設為 衡的傾向,故較佳。 敏度、顯雜、解析性之平 [(β )光聚合起始劑] 上述(Β )光聚合起始劑( 、下%為(Β)成分),若係 19 200823600 根據上述(A )成分之種類而適當選擇者即可。 作為該(B)成分,例如可列舉:丨-羥基環己基苯酮、2一 羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、卜[4 — (2-羥基乙氧基)苯 基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1 —酮、卜(4—異丙基苯基)一2 — 羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)—2-羥基一2一 甲基丙烷-1-酮、2, 2-二甲氧基-1>2一二苯基乙烷<—酮、雙 (4-二甲胺基苯基)酮、2-甲基444-(甲硫基)苯基]一2—味 啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基—味啉基苯基)一 丁烷-1-酮、乙酮,1-[9-乙基-6 -(2-甲基苯甲醯基)一 9H-咔 唑-3-基],1-(鄰乙醯肟)、2, 4, 6-三甲基苯甲醯基二苯基氧 化膦、4-苯甲醯基-4,-甲基二甲基硫醚、4一二甲胺基苯甲 酸、4-二甲胺基苯曱酸甲酯、4一二甲胺基苯甲酸乙酯、4一 二甲胺基苯甲酸丁酯、4-二甲胺基一2—乙基己基苯甲酸、4一 一甲胺基-2-異戊基苯甲酸、苯偶醯-泠―甲氧基乙基縮醛、 本偶醯二甲基縮酮、卜苯基—丨,2—丙二酮—2 —(鄰乙氧基羰基) 肟、鄰笨甲醯基苯甲酸甲酯、2, 4一二乙基噻噸酮、2_氯噻 噸酮(2-Chlorothioxanthone)、2, 4-二曱基噻噸酮、卜氯一4一丙氧 基噻噸_、噻噸、2-氣噻噸、2,4-二乙基噻噸、2_曱基噻 噸、2-異丙基噻噸、2-乙基蒽醌、八曱基蒽醌、丨,2_苯幷 蒽醌、2, 3-二苯基蒽醌、偶氮雙異丁腈、過氧化苯甲醯、 過氧化異丙苯、2-酼基苯幷咪唑、2-巯基笨幷鸣唑、2-魏 基笨幷噻唑、2 —(鄰氯苯基)—4, 5 —二(間甲氧基笨基)—咪唑 I物、一苯曱酮、2-氯二苯曱酮、p,p’—雙(二曱胺基) 一笨曱_、4, 4,—雙(二乙胺基)二笨甲酮、4, 4,—二氯二苯 20 200823600 甲酮、3, 3-二甲基-4-曱氧基二笨甲酮、苯偶醯、安息香、 安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香正丁醚、 安息香異丁醚、安息香丁醚、苯乙酮、2, 2-二乙氧基苯乙 酮、對二甲基苯乙酮、對二甲胺基苯丙酮、二氯笨乙酮、 二氯本乙酮、對第三丁基苯乙酮、對二甲胺基苯乙酮、對 第二丁基二氯苯乙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、α,α-二 氯-4-苯氧基笨乙酮、噻噸酮、2—曱基噻噸酮、2-異丙基噻 嘲嗣、二笨幷環庚酮、4-二甲胺基苯甲酸戊酯、9-苯基吖 啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、i,5 —雙(9_吖啶基)戍烷、丨,3一 雙(9-吖啶基)丙烷、對甲氧基三嗪、2,4, 6一三(三氯甲基)一 均二嗪、2-甲基一4, 6一雙(三氯曱基)一均三嗪、2一 [2 — (5一甲 基咬喃基)乙烯基]-4,6—雙(三氣曱基)_均三嗪、 2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]—4, 6-雙(三氯曱基)一均三嗪、 2 [2一(4一一乙胺基-2一甲基苯基)乙烯基]-4, 6-雙(三氯曱 基)-均二嘻、2-[2-(3, 4-二曱氧基苯基)乙烯基]—4, 6-雙 (二亂甲基均三嗪、2一(4一曱氧基苯基)—4,6-雙(三氯甲 基)-均三嗪、2-(4—乙氧基苯乙烯基)_4,6—雙(三氯甲基)一 均二^秦、2 —(4—正丁氧基苯基)-4,6-雙(三氯曱基)-均三 秦2’ 4雙—二氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、 2,4—雙—三氯甲基—6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、2,4 -又二乳甲基~6 — (3 一溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基—均三嗪、 2’ 4雙-二氯甲基—6_〈2—溴—4—甲氧基)苯乙烯基苯基一均三 、 ^ ’就靈敏度方面而言,尤其以使用肟系光聚合 起始^為佳。該等(B)成分可單獨或者組合2種以上使用。 21 200823600 相對於感光性樹脂組成物 Λ , ΟΛ 取物之固形为,(Β)成分之含量以 為上佳為1〜20質量%之範圍。藉由設 2逑乾圍,可獲得充分之耐熱性、耐化學性,另外,可 知尚成膜性,且抑制光硬化不良。 另外,亦可於該(B)成分中組合光起始助劑。 作為該光起始助劑,例如 — _ _ 了列舉·二乙_胺、甲基二乙 醇胺、三異丙醇胺、4-二 ▼胺基本甲酸甲酯、4一二甲胺基 本甲ϊ文乙酯、4-二甲胺基苯甲酸 土丰甲酉夂異戊酯、4-二甲胺基苯甲 馱2-乙基己酯、笨甲酸2—二 甲收暴乙酉曰、N,n-二甲基對甲 2苯胺其4,4、雙(二甲_二苯甲酮、9秦二甲氧基葱、 2:乙基…。-二甲氧基葱、91〇_二乙氧基葱、a—乙基 -9, 10-二乙氧基蒽等。該等# 导先起始助劑可單獨或者組合2 種以上使用。 [(C)密著增強劑] 人域⑷密著增強劑(以下’稱為(c)成分)係具有 3鼠原子之基團的石夕燒化合物’係與該氮原子鍵結之氮原 子為1個以下之化合物。作為該化合 ^ 例如可列舉:作 為一級或二級胺之胺糸石夕烧化合物、里皇 羽異鼠酸酯系矽烷化合 物、酮亞胺系矽烷化合物。藉由使用 密著性。化合物,可提高 作為上述fe糸石夕烧化合物’例如可 』列舉由下式(c—η 所表示之化合物。 [化5] 22 200823600 (c-t) ei[式(2C—U中,RCI及Rc2表示氫原子或有機基(其中, R之至少1個為有機基),R。3、RC;4及RC5相互獨立表 ""、反數為1〜6之燒氧基或有機基(其中,Rc3、R。4及RC5之 至少1個為烷氧基),n表示!〜6之整數。]
,作為上述R及R所表示之有機基,例如可列舉:碳數 為1〜1〇之一級或二級烷基、碳數為3〜7之環烷基碳數 為6〜10之芳基、碳數為7〜1〇之芳烷基等。具體而言可 列舉:甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛 基、壬基、癸基、異丙基、異丁基、2_甲基丁基、異戍基、 :己基、第二丁基、2_戊基、3_戊基、環丙基、環丁基、 環戊基、環己基、環庚基、苯基、曱苯基、二甲苯基、2,4,6〜
一甲苯基、卜萘基' 2_萘基、苄基、苯乙基、冷-苯乙 基等。該等之中’以電子供予基為佳,特佳為苯基。 上述胺系矽烷化合物中’特佳之化合物,可列舉由下式 kH)所表示之Ν-苯基个胺基丙基三甲氧+基料。
Η —N—(gh2) och3 3 — Si—OCH3 OCH3 (CM -1) 例如可列舉由下式(c 作為上述異氰酸酯系石夕燒化合物 _ 2 )所表示之化合物。 23 200823600 [化7]
Rc3 〇 = N —(CH2) —Si —R°4 (c-2)
Rc5 [式“-2” ’rmn與上述相同。] 作為上述酮亞胺糸梦烧化合物,例如可 c 夕舉由下式 一 3)所表示之化合物。 [化8]
Rc7 R03
Rc6—C=N-(CH2)-Si-R^ (c 一 3) R05 [式(c - 3)巾,r6及R-表示氫原子或有機基,Rc3、RC4、 Γ5及n與上述相同。] 、作為上述r6及IT所表示之有機基,例如可列舉:碳數 為1〜10之一級或二級烷基、碳數為3〜7之環烷基、碳數 為6〜1〇之芳基、碳數為7〜1〇之芳烷基等。具體而言可 列舉:甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛 基壬基、癸基、異丙基、異丁基、2—甲基丁基、異戊基、 ,己基、第二丁基、2 —戊基、3-戊基、環丙基、環丁基、 環戊基、環己基、環庚基、苯基、甲苯基、二甲苯基、2,也6一 -甲苯基、:[-萘基、2-萘基、节基、苯乙基、石一苯乙 基等。 相對於感光性樹脂組成物之固形分,(c )成分之含量以 0·01〜0.5質量%為佳,更佳為〇 〇5〜〇·3質量%之範圍。 24 200823600 藉由設為上述範圍,可進一步提高密著性。 [有機溶劑] 為改善塗純以及調整減,本發明之感光 物以包含有機溶劑為佳。作為該有機溶劑,例如可列舉成 士二醇早甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丙醚、乙二醇 單正丁醚、二乙二醇單甲喊、二乙二醇單㈢、二乙二醇 單正丙醚、二乙二醇單正丁乙二醇單甲鍵、三乙二 醇單乙醚、丙二醇單甲_、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丙 趟、丙二醇單正丁鱗、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙趟、 :丙二醇:正丙醚、二丙二醇單正丁醚、三丙二醇單甲醚、 三丙二醇單乙趟等(多)院二醇單院基喊類;乙二醇單甲縫 乙酸醋、乙二醇單乙醚乙酸s旨、=乙二醇單甲_乙酸醋、 二乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單 乙輕乙酸輯等(多)燒二醇單统基趟乙酸醋類;二乙二醇二 甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚、四氫呋喃 等其他醚類,甲基乙基酮、帛己酮、2一庚酮、3 —庚酮等酮 類,2-羥基丙酸甲酯、2_羥基丙酸乙酯等乳酸烷基酯類; 2 &基2甲基丙酸乙酯、3_甲氧基丙酸曱酯、3甲氧基丙 酸乙醋、3-乙氧基丙酸甲醋、3_乙氧基丙酸乙醋、乙氧基 乙1乙S曰、逐基乙酸乙酯、2_羥基_3_甲基丁酸甲酯、乙酸 3-曱氧基丁酯、乙酸3_甲基_3_曱氧基丁酯、丙酸3_甲基 3甲氧基丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙 酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸正戊酯、乙酸異戊酯、丙酸 正丁 S曰、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁 25 200823600 酉曰、丙酉同酸甲醋、丙酉同酿7 丁 叼〗齔乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯乙酸 甲酯、乙醯乙酸乙醋、2 —氧代丁酸乙酯等其他酷類;甲笨、 一甲笨等芳香族烴類;N〜甲基吡咯啶酮、IN—二甲基甲醯 胺、N,F二甲基乙醯胺等醯胺類等。該等溶劑可單獨或者 組合2種以上使用。
有機溶劑之含量並無特別限定,以能夠於基板等上進行 塗佈之濃度’根據塗佈膜厚進行適t設定。感光性樹月^ 成物之黏度以5〜500 cp為佳,更佳為1〇〜5〇CK範圍, 進而更佳為20〜30 cp之範圍。另外,固形分濃度以$〜 100質量%為佳,更佳為20〜50質量%之範圍。 [其他成分] 本發明之感光性樹月旨組成物中,可根據需要而含有熱取 合抑制劑、消泡劑、界面活性劑⑽加#卜 …κ 上述熱聚合抑制劑可為先前眾所周知者,可列舉對笨_ 酚、對苯二酚單乙醚等。 一 上述/肖泡劑可為先前眾所周知者,彳列舉石夕氧〜 化合物等。 ’、鼠系 /料面活㈣可為先前眾所周知者,可列舉陰 糸、陽離子系、非離子系等之化合物。 [感光性樹脂組成物之調配方法] 本發明之感光性樹额成物可藉心下方相配 輥研磨機、球磨機、砂磨機㈣拌機將上述各成分混〜 :煉)’根據需要…Κ薄膜過遽器等過遽器。進: 26 200823600 [液晶面板用間隔物之形成方法] 以下’就使用本發明之感光性樹脂組成物形成液晶面板 用間隔物之方法加以說明。 首先使用輥式塗佈機、反向塗佈機(⑺以打)、 棒式塗佈機等接觸轉印型塗佈裝置或者旋塗機(Spinner、 疑轉式塗佈裝置)、淋幕式塗裝機(f Igw⑺) 等非接觸型塗佈裝置,將感光性樹脂組成物塗佈於需形成 間隔物之基板上,使其乾燥而除去溶劑。 繼而,透過負型光罩照射紫外線、準分子雷射光等活性 此里線,使其部分曝光。曝光時可使用高壓水銀燈、超高 壓水銀燈H碳弧料發出紫外線之光源。能量線之 π射里根據感光性樹脂組成物之組成而有所不同,例如以 30〜2000 mJ/cm2左右為佳。 尨而,利用顯影液對曝光後之感光性樹脂層進行顯影, 從而形成間隔物。顯影方法並無特別限定,例如可使用浸 消法、噴射法等。作為顯影液之具體例,可列舉:單乙醇 胺、二乙醇胺、三乙醇胺等有機系之物質,或者氫氧化鈉、 氫氧化鉀、碳酸鈉、氨、四級銨鹽等之水溶液。 繼而,對顯影後之間隔物實施後烘烤處理,使其加熱硬 化。後烘烤處理之溫度以150〜25(rc為佳。 因本發明之感光性樹脂組成物對各種基材之密著性提 高,以上述方式使用本發明之感光性樹脂組成物形成間隔 物時’即使延長顯影時間,亦不產生圖案剝落。亦 顯 衫寬谷度(development latitude)大。因此,印使其板 27 200823600 層存在臈厚較厚之部分,亦可藉由延長顯影 %間而將其確實溶解除去。 另外,於使用喷射法進行顯影時, ^^ ^ u基板面内之噴射壓 差之寬合度亦得以改善,而使產率得到提 進=於間隔物上形成配向膜後,即使進行摩擦處理, ’、不㈢因摩擦處理而產生圖案剝落。 [實施例] 以下,利用實施例對本發明進行更詳細的說明,但本發 明並不受該等實施例限定。 x 〈貫施例1 > 使用由下式(a—i—i)所表 <、、、。構早το ( al )與由下 式〔a-2—1)所表示之結構單 , 再早70 (a2)之莫耳比為40 : 之(A — 1 )樹脂(質量平均分子 』刀卞里為9000 )以及二季戍 四醇六丙烯酸酯(DPHA),作為(A)成分。 [化 9] ^
甲基苯曱醯基)-9H- 28 200823600 咔唑-3-基],1_(鄰乙醯肟)(汽巴精化(Ciba Specialty Chemical)公司製造 ’ iRGACURE OXE02),作為(B)成分。 使用(C一 1) N-苯基-τ-胺基丙基三甲氧基石夕燒(信越 化學工業公司製造,ΚΒΜ573 ),作為(C)成分。 使用BYK-Chemie Japan公司製造之ΒΥΚ310,作為界面 活性劑。 將上述各成分與有機溶劑混合,以攪拌機攪拌2小時 後’以5 # m之薄膜過濾器過濾,調配感光性樹脂組成物。 各成分之調配量示於表1中。 <實施例2 > 除使用(C—2) N,N-二甲基_3-胺基丙基三甲氧基石夕燒作 為(C)成分,且改變有機溶劑以外,以與實施例1相同之 方式調配感光性樹脂組成物。 <實施例3 > 除使用(C—3) N-乙基-3-胺基丙基甲基二曱氧基矽烷作 為(C )成分’且改變有機溶劑以外,以與實施例1相同之 方式調配感光性樹脂組成物。 〈實施例4 > 除使用自甲基丙烯酸衍生之結構單元、自甲基丙稀酸縮 水甘油酯衍生之結構單元、自苯乙烯衍生之結構單元之莫 耳比為20 : 40: 4G之(A-2)樹脂,代替(A_n樹脂以 外,以與實施例1相同之方式調配感光性樹脂組成物。 <比較例1 > 除不使用(C)成分,且改變有機溶劑以外,以與實施例 29 200823600 1相同之方式調配感光性樹脂組成物。 <比較例2 > 除使用(C—4)3-胺基丙基三乙氧基矽烧作為(c)成分, 且改變有機溶劑之調配量以外,以與實施例i相同之方式 調配感光性樹脂組成物。 <比較例3 > 除使用(C—5) 3-曱基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷作 為(C)成分,且改變有機溶劑以外,以與實施例1相同之 方式調配感光性樹脂組成物。 <比較例4 > 除不使用(C)成分,且改變有機溶劑以外,以與實施例 4相同之方式調配感光性樹脂組成物。 [表1] (A)成分 (B)成分 (c)成分 界面活性劑 有機溶劑. 種類 質量份 種類 質量份 種類 質量份 種類 質量份 種類 質· 實施例1 A—1 100 B— 1 10 C-l 0.2 BYK310 0.15 MA 161_ DPHA 30 AN 100_ 實施例2 A— 1 100 B— 1 10 C一 2 0.2 BYK310 0.15 MEC 200 — 一 DPHA 30 PM 實施例3 A-1 100 B— 1 10 C一 3 0.2 BYK310 0.15 PM 180 DPHA 30 EEP 80 實施例4 A—2 100' B—1 10 C-l 0.2 BYK310 0.15 ΜΑ 160_ DPHA 30 AN 100 _ 比較例1 A-l 100 B-l 10 一 一 BYK310 0.15 MEC 200 DPHA 30 PM 50 比較例2 A—l 100 B— 1 10 C-4 0.2 BYK310 0.15 MA 180^ DPHA 30 AN 81_ 比較例3 A-l 100 B-l 10 C-5 0.2 BYK310 0.15 MEC 20〇_ DPHA 30 PM 50 比較例< :A—2 100 B-l 10 一 一 BYK310 0.15 PM 180_ 30 200823600 DPHA 30 ΕΕΡ 80 溶劑:MA=乙酸3-甲氧基丁酯 AN=環己酮 PM=丙二醇單曱醚乙酸酯 EEP ==丙酸乙氧基乙囊旨 <評價> 使用上述貫施例1〜4、比較例1〜4中調配之感光性樹 脂組成物,評價其對各種基材之密著性。作為基材,使用 玻璃基板(道康寧(Dow Corning)公司製造,1737玻璃)、 形成有彩色濾光片之玻璃基板、形成有保護層之玻璃基 板、形成有IT0層之玻璃基板、以及形成有聚醯亞胺層作 為配向膜之玻璃基板此5種,後四種係以如下方式製作。 形成有彩色濾光片之玻璃基板係藉由如下方式製作:利 用旋塗法’以使膜厚成為1.5 /zm之方式於上述1737玻璃 上塗佈碳分散型黑色光阻劑(東京應化工業製造,CFpR BK),繼而利用紫外線(ϋν)曝光裝置(T〇pc〇n),以I線 換算為lOOmJ之曝光量進行曝光,使用〇〇4%之£〇11於25 度顯影60秒,其後於烘箱中以2〇〇度實施3〇分鐘後烘烤 處理。所獲得之膜相當於彩色濾光片之黑色矩陣。 开/成有保護層之玻璃基板係藉由如下方式製作:以使膜 厚成為2 之方式,於上述1737玻璃上塗佈熱硬化型保 護膜液〇PWr (JSR公司製造),於供箱中以·度洪烤 3 0分鐘。 形成有ΙΤ0層之玻璃基板係藉由如下方式製作:利用濺 、又 以使表面電阻值成為10 Ω之方式於上述1737玻璃 31 200823600 上形成2000 A之ΙΤΌ。 形成有聚醯亞胺層之玻璃基板係藉由如下方式製作·使 用摩擦布’對於上述1737玻璃上形成為3〇〇〇 a之膜,以 3000之旋轉數加以摩擦。 於上述各基材上,塗佈上述實施例1〜4、比較例1〜4 中調配之感光性樹脂組成物後,於10(rc乾燥9〇秒,獲得 具有約3 之膜厚的感光層。繼而,透過負型光罩,以 曝光量25 ffiJ/cm2對該感光層選擇性照射紫外線,使用⑶ —150CRUSR公司製造广純水=1: 1〇〇之溶液作為顯影 液進行喷霧顯影,藉此形成點狀圖案。以未曝光部完全溶 解之時間(BP( breakpoint):顯像點)為基準,使顯影= 間於BP+U)秒〜BP+4Q秒之範圍内變化。其後,以:水 進行喷霧清洗’於2肌對所形成之圖案實施4()分鐘錢 烤處理,藉此形成直徑為2〇 # m之點狀間隔物。 繼而’將顯影時未產生圖案剝落 .· 杀到洛可形成間隔物者記為 〇’將-部分產生圖案剝落’但可形成間隔物者記為△, 將產生圖案剝落,無法形成間隖你本 ' /风間隔物者,己為X,評價間隔物之 密著性。將結果示於表2、3中。 32 200823600
[表2] 基材 顯影時間 BP+10 秒 BP+20 秒 BP+30 秒 BP+40 秒 實施例1 玻璃 〇 〇 〇 〇 彩色濾光片 〇 〇 〇 〇 保護膜 〇 〇 〇 〇 ΙΤ0 〇 〇 〇 〇 聚醯亞胺 〇 〇 〇 〇 實施例2 玻璃 〇 〇 〇 Δ 彩色遽光片 〇 〇 〇 〇. 保護膜 〇 〇 〇 〇 ΙΤ0 〇 〇 〇 〇 聚醯亞胺 〇 〇 〇 〇 實施例3 玻璃 〇 〇 〇 △ 彩色遽、光片 〇 〇 〇 〇 保護膜 〇 〇 〇 〇 ΙΤ0 〇 〇 〇 〇 聚醯亞胺 〇 〇 〇 〇 實施例4 玻璃 〇 〇 〇 Δ 彩色濾光片 〇 〇 〇 〇 保護膜 〇 〇 〇 〇 ΙΤ0 〇 〇 〇 〇 聚醯亞胺 〇 〇 〇 〇
33 200823600 [表3]
基材 顯影時間 BP+10 秒 BP+20秒 BP + 30 秒 BP+40 秒 比較例1 玻璃 〇 X X X 彩色滤·光片 〇 X X X 保護膜 〇 X X X ΙΤ0 〇 X X X 聚醯亞胺 〇 X X X 比較例2 玻璃 〇 X X X 彩色濾光片 〇 X X X 保護膜 〇 X X X ΙΤ0 〇 X X X 聚醯亞胺 〇 X X X 比較例3 玻璃 〇 X X X 彩色濾光片 〇 X X X 保護膜 〇 X X X ΙΤ0 〇 X X X 聚醯亞胺 〇 X X X 比較例4 玻璃 〇 X X X 彩色遽光片 〇 〇 Δ X 保護膜 〇 Δ △ X ΙΤ0 〇 〇 △ X 聚醯亞胺 〇 〇 △ X
由表2、3可知:於含有特定矽烷化合物作為(C )成分 之實施例1〜4中,由於對各種基材之密著性提高,故即使 將顯影時間延長至BP+ 40秒時,亦未產生圖案剝落。與此 相對,於不含(C )成分或者含有與本發明不同之矽烷化合 物的比較例1〜4中,對任一基材,於BP + 2 0秒〜BP + 3 0 秒之顯影時間内均產生圖案剝落。 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無 34
Claims (1)
- 200823600 十、申請專利範園: 1. 一種感光性樹脂組成物,其係含有⑴光聚合性化合物、 光聚α起始相及(c)密著增強劑之感光性樹脂組成 物’其特徵在於: 上遠(C)成分係具有含氮原子之基團的戟化合物,且 與該氮原子鍵結之氫原子為1個以下。 2 ·如申睛專利範圍第1 、 ®乐1項所述之感光性樹脂組成物,其中 上述(C )成分含有選自作么_ 一 目作為_級或三級胺之胺系矽烷化合 物、酿1亞胺系矽烷化合物 物乂及異氰酸酯系矽烷化合物中之至 少1種。 •如申明專利乾圍第2項所述之感光性樹脂組成物,其中 上述胺系矽烷化合物係由下式表示, [化1] Rc2 R03 麝 ~N-(CH2) -Si-R〇4 Rc5 (c一1) [式(c—1)中,H RC2表示氫原子或有機基(其中,r1 及以2之至少1個為有機基),〜及R、互獨立表 數為1〜6之烷氧基或有機基(其中m γ之至少1 個為烷氧基),n表示i〜6之整數]。 4. 如申請專·圍第3項所述之感紐樹脂組成物,盆中 上述Rel及R。2係有機基。 5. 如申請專利範圍第3項所述之感光性樹脂組成物,盆中 上述Rel及/或Γ2係電子供予基。 200823600 6.如申請專利範圍第3 上述Γ1及/或Γ2係苯基 項所述之感 光性樹脂組成物, 其中 申#專㈣圍g 1項所述之感光性樹脂組成物,其係 用於形成、液晶面板用間隔物。 種液ro面板用間隔物,其特徵在於:其係由如申請專 利範圍第1項至第7項中任一項所述之感光性樹脂組成物形 成0 零Μ 36 200823600 七、指定代表圖·· (一)本案指定代表圖為:無。 (-一)本代表圖之元件符號簡单說明: 無 Φ 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006316280A JP4833040B2 (ja) | 2006-11-22 | 2006-11-22 | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル用スペーサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200823600A true TW200823600A (en) | 2008-06-01 |
TWI366069B TWI366069B (en) | 2012-06-11 |
Family
ID=39547161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096143749A TWI366069B (en) | 2006-11-22 | 2007-11-19 | Photosensitive resin composition and spacer for liquid crystal panel |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4833040B2 (zh) |
KR (1) | KR100911076B1 (zh) |
CN (1) | CN101196688B (zh) |
TW (1) | TWI366069B (zh) |
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TWI501027B (zh) * | 2008-11-18 | 2015-09-21 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition and display device |
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KR102450387B1 (ko) | 2015-05-13 | 2022-10-04 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 |
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CN115960303B (zh) * | 2022-12-30 | 2024-09-13 | 阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司 | 具有热交联结构的树脂及其制备方法、光敏性树脂组合物、微透镜及其制备方法和光学设备 |
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-
2006
- 2006-11-22 JP JP2006316280A patent/JP4833040B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-10-31 KR KR1020070110318A patent/KR100911076B1/ko active IP Right Grant
- 2007-11-19 TW TW096143749A patent/TWI366069B/zh active
- 2007-11-20 CN CN2007101939106A patent/CN101196688B/zh active Active
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JP2008129463A (ja) | 2008-06-05 |
JP4833040B2 (ja) | 2011-12-07 |
KR100911076B1 (ko) | 2009-08-06 |
TWI366069B (en) | 2012-06-11 |
KR20080046560A (ko) | 2008-05-27 |
CN101196688A (zh) | 2008-06-11 |
CN101196688B (zh) | 2012-05-30 |
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