TW200815123A - Silver particle powder and process therefor - Google Patents

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TW200815123A TW096133008A TW96133008A TW200815123A TW 200815123 A TW200815123 A TW 200815123A TW 096133008 A TW096133008 A TW 096133008A TW 96133008 A TW96133008 A TW 96133008A TW 200815123 A TW200815123 A TW 200815123A
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Description

200815123 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 程;^發Π關於微細銀粒粉末(特別是粒子徑在奈米級 的Ϊ路円:广I發明係有關適用於替代為了形成微細 的電路圖案的配線形成材料的銀粒材料,例如藉由嗔專法 成膜的配線形成用材料,及藉 … 稽田具二成膜過程之濺射法 —ermg)成膜的膜形成材料,以及代替濕式過程 ==成麟料㈣錄子財、絲子粉末分散液及銀 【先前技術】 由於固體物質的夫J、徵& B士甘,主 變為nm級程度(奈米級大小) 厂表面積變得非常大,所以雖然是固體,其盥氣體 ^液;間之界面變成非常大。因此、其表面的特性會大大 土改’k固體物質的性質。於金屬粒子粉末的情形,已知苴 =點,在整體狀態者有非常明顯的下降,因 米、 =度大小的粒子相比,有可㈣微細的配線二 末具有低電阻且高对.候生全屬屬;^粉末中,銀粒子粉 〜 性金屬價格也比其他貴金屬便 且’寸別可期望其成為有微細配線寬度的下—代配線材料。 作為為了形成電子零件等的電極及電路的方法之厚膜 州⑹法正被廣泛應用。厚膜膏是將金屬粉末之外,加 上玻璃粉末(glassfrit)、無機氧化物等而分散在有機载 而成的,把這膏藉由印劁十、;、主N · “ 11由㈣“潰(dipping)方法形成所預定 之圖以,加熱到50(rc以上將有機成分燒掉,使粒子間 319552 5 200815123 的j、、、D而成為導體。藉由厚膜膏法形成的配線與基板間 ”、者,則藉由在燒成步驟中軟化/流動的玻璃粉末而沾谭 土板’又’形成配線的金屬的燒結膜中,也藉由軟化/流動 的玻璃粉末浸透(玻璃鍵結),再於氧㈣基板上,_由氧 化銅或氧化鑛等的無機氧化物與基板形成反應性氧化物 (化學鍵結)而確保其密著。 與以往的厚膜膏所用的微米大小的粒子相比較,奈米 大=的粒子可在低溫燒結,例如銀的奈米粒子在二 下就可以燒結。僅考慮有關奈米粒子的燒結的話,雖在⑽ 1以上的高溫也可錢烤,但在高溫燒烤中,則受到形成 電極及電路的對象基板之耐熱性所限制,$了可使用的基 板種類受限制之外,尚有不能活用所謂的低溫燒結性的二 未粒子特徵之點是為不利。為了增加成為對象基板的種 ^員,燒烤溫度要在30(TC以下,較佳是在25〇。〇以下,更佳 是在20(TC以下,最好是在1(Krc以下時,低溫的話就有某 些程度之利點。 燒成溫度低到30(TC以下時,照以往的厚膜膏手法即 使添加玻璃粉末,玻璃粉末因也不會軟化/流動,所以不會 =濕基板,結果會產生對於基板之密著不良的問題。尤其 是對玻璃基板及聚醯亞胺膜(polyimide film)基板為首之各 種基板的密著性不良’所以期望改善與玻璃基板或聚酿亞 胺膜基板等的密著性。 關於對基板的密著,有用粒徑i.Oym以下的金粒子 與軟化,點4 5 0。〇以下㈤玻璃粉末與有機載體所成的低溫燒 319552 6 200815123 w 成型金糊賞的方法(專利文獻1},將平均粒徑為0 至 的貴金屬粒子用於由樹脂組成物與有機溶劑、或金屬 肥息溶液組成的貴金屬糊膏的方法(專利文獻2),將含有在 有機洛劑中分散金屬微粒子的金屬微粒子分散液及石夕烧偶 合劑(S1lane coupling agent)的糊膏,塗布在玻璃基板上, 在25〇m 300。(:以下的溫度燒成的方法(專利文獻3), 併用平均粒徑0.5至20#m與平均粒徑i至i〇〇nm的粒 T,將其分散在熱硬化性樹財,賴硬化性樹脂謀取密 ⑩著的方法(專利文獻4)等的提案。 [專利文獻1]日本特開平1〇_34〇619號公報 [專利文獻2]日本特開平ι1-66957號公報 [專利文獻3]日本特開2004-179125號公報 [專利文獻4]國際公開第02/035554號小冊 【發明内容】 (發明要解決的課題) • 專利文獻1是將金粒子的粒徑設為以往的約1/2以下 以下),並設玻璃粉末的軟化點為45(rc以下,則 在500至600 C的燒成溫度下,玻璃基板與金膜間玻璃粉 末會固定良好,提高密著強度。這個密著是由於所謂的玻 璃結合的關係,其前提是玻璃粉末會軟化/流動,所以在玻 璃粉末的軟化點以下的溫度之燒成,並未考慮在内。又, 因有添加溶解高分子量的乙基纖維素(ethyl cellul〇se)的有 機載體(organic vehicle),所以會殘留有機物,很難得到高 密著性與低電阻值以及平滑的燒結膜表面。有機物殘留 319552 7 200815123 時,則在形成的配線上形成介雷 直处浐士 ^ 办或;丨電體層時,以及配線被放在 真玉% i兄中呀,擔心會有由於右 a 男於有钱成分的脫離而引起的介 脰層的膨脹’或真空環培的 度下降。 八二衣楗的%境巧染等原因的電路信賴
2文獻2,由於制由平均粒徑為讀m㈣ =貝至屬粒子加人於樹驗成物財機㈣、或金屬肥專 組成的貴金屬糊膏,燒烤,而能得 j j膜厚度L5至,平滑且密實的貴金屬膜。 4者並沒有使用玻璃粉末。又,不論有無金屬肥喜溶液 之添加’都具有密著性。但是,與專敎獻丨㈣,因為 有添加溶解有高分子量乙基纖維素的有機載體,燒成時需 要50(TC以上的溫度’而有與專利文獻}情形同樣的問題。 依此方法,就沒有於油墨汁(ink)中添加溶解高分子量的乙 基纖維素等的有機載體。因此,燒成時沒有特別需要5〇〇 C以上的狐度,有可能在3〇〇°c以下燒烤。但是在油墨中 因添加有矽烷偶合劑,所以在油墨黏度之經時變化方面會 有問題。 胃 專利文獻3是將含有金屬微粒子分散於有機溶劑的金 屬微粒子分散液及矽烷偶合劑的糊膏,塗布在玻璃基板 上在250 C以上3001以下的溫度燒烤,而能得到對玻璃 基板上王現優良密著性、且有高密度低電阻的金屬薄膜。 專利文獻4是併用平均粒徑05至2〇//111與平均粒徑 1至1 OOnm之粒子,將其分散於熱硬化性樹脂中,由熱硬 化性樹脂得到密著性。由於以熱硬化性樹脂確保密著性, 319552 8 200815123 Π 300C以下燒成,但如有有機物殘留 :配線上形成介電體層時’或配 "1 擔心會有有機成分脫離而引起的介電體層的; 蝴原因的電路信賴 含有树月曰,要降低糊膏的黏度會有困難的問題。 液中題為課題’在銀粒子粉末分散 或咖化性樹脂 ==著改ί對於玻璃基板或聚醯亞胺膜基板等二 入所ir Α’在此所稱之銀粒子粉末分散液,係包 含所明被稱為糊膏的,高黏度銀粒子分散液。 (解決課題的手段) …為了要達成上述目的,在本發財,提供具有有機保 雜的銀粒子粉末,藉由TEM(透過型電子顯微鏡)觀察所 測定⑽徑藉由下述式⑴算出cv值達4〇%以上的,粒徑 分佈寬大的銀粒子粉末。平均粒徑〇雇例如是在細⑽ 以下。這個有機保護膜例如是由分子量⑽至麵的脂肪 酸(油酸等)及分子量100至1000的胺化合物所構成,前述 月旨肪酸及胺化合物之中至少其中一方為工分子中有!個以 上的不飽和鍵結。 cV值=100x[粒徑的標準偏差σ D]/[平均粒徑Dte川……d) —此處,TEM觀察的平均粒徑Dtem,係藉由在TEM觀 察的60萬倍擴大畫像中,測定沒有重疊的獨立粒子3〇〇 個的粒徑,而算出的平均值。各粒子的粒徑,係採用在畫 319552 9 200815123 像上測定的最大徑(長徑)。 ^發㈣提供的㈣子粉末分散液,是將上述銀粒子粉 於'弗點在6G至3GG°C的非極性或極性小的液狀有機 媒體中Μ。將此分散㈣布在基板上形成塗膜,之後, 糟由將前述之㈣燒烤,實現與基板密著性良好的銀燒成 此時之燒烤’可在氧化環境中,於3〇代以下且能產 生銀的燒結之溫度範圍實施。 作為這種銀粒子粉末的製造法,係在醇或多元醇 (p y〇i)巾以醇或多①醇作為還原劑,在有機保護劑的存 在下將銀化5物還原處理而使銀粒子析出的銀粒子粉末 的衣迈中使用刀子1100至1〇〇〇的脂肪酸及分子量1〇〇 至1000的胺化合物做為前述之有機保護劑,且此脂肪酸及 胺化合物中,至少其中—方之丨分子中要有^以上的不 飽和鍵結之物質為其特徵的製造法。上述脂肪酸,例如油 酸(oleic add)很適合用。χ ’做為還原補助劑之2級胺或 3級胺化合物中,至少要有其—方於共存的狀態下進行還 原處理為理想。 (發明的效果) 本發明之銀粒子粉末因具有寬廣的粒度分佈,所以推 測將此分散液塗布在基板上時,在基板的界面附近會聚集 有微小粒子,在界面的粒子密度會提高,結果在3〇〇它以 下的低溫燒成,也能確保對玻璃基板或聚醯亞胺膜基板等 的良好密著性。又,因不含矽烷偶合劑,所以可提供經時 變化問題少的油墨,因不含熱硬化性樹脂,所以可以提供 319552 10 200815123 黏度低的油墨。 【實施方式】 •[發明之佳實施形態] 本發明人等重複進行以往以液相法製造銀粒子粉末的 試驗,而開發了銀粒子粉末的製造法。其方法是在沸點85 至15(TC的醇中,將硝酸銀在85至15〇。(:之溫度下,例如 在由77子1 1 00至400的胺化合物所構成的有機保護劑之 /、存下,進行還原處理。又開發了另一種銀粒子粉末製造 •法在4點在85。〔以上的醇或多元醇中,將銀化合物(代 =f生的疋;δ反酸銀或氧化銀),在85 以上的溫度,在例如 刀子里100至400的脂肪酸所構成的有機保護劑共存下進 :遇原處理。料些手法時,可得分散性非常良好的銀奈 米粒子的粉末。 疋將由這些方法彳于到的銀粒子粉末的分散液,塗布 在基板上形成塗膜,之後,由前述塗膜之燒烤而得到銀燒 瞻成膜時二其對基板的密著性不一定充分。經詳細調查的結 果判疋其原因是銀粒子粉末的粒度分佈過份窄小整齊。 、於是再重複研究的結果,確認了如上述的還原處理合 成=粒子=,做為有機保護劑而複合添加「脂肪酸」與「二 =σ物」打,可使合成的銀粒子粒度分佈變寬廣,而使用 足樣的銀粒子粉末作為填充劑的銀燒成膜,與基板的 =有顾著的改善。但,上述脂肪酸與胺化合物中,至少有 “方要有1個以上的不飽和鍵結的物質所構成。 以下"兒明為了特定本發明之有關事項。 319552
II 200815123 〔平均粒徑dtem〕 .一本發明的銀粒子粉末,藉由TEM觀察測定的平均粒 拴DTEM為200nm以下,在1〇〇nm以下較好,5〇nm以下更 好’ 3〇nm以下最好。又,使用於噴墨時,要在2〇nm以下 為理想。關於平均粒# Dtem並沒有特別規定其下限,但 例如3nm以上者可以採用。平均粒徑Dtem可用醇或多元
的莫耳,、有機保護劑/Ag的莫取比、還原補助劑A 、、耳比、运原反應時的升溫速度、擾拌力、銀化合物種 I、I多元醇種類、還原補助劑種類、有機保護劑種類 寺加以控制。 〔CV 值〕 之銀粒子粉末具有寬廣的粒度分佈為其特徵。 粒具有由下述⑴式所算出的cv值達40%以上的 CV值徑之標準偏差σ D]/[平均粒徑D簡]... ..⑴ # 為了要鼻出標準偏差^的各個粒子的粒徑,是採用 時所測定的各個粒子的粒徑。值可 用2保護劑/Ag莫耳比、有機保護劑種類等加以控制。 媒體二二寬絲度分佈的銀粒子粉⑽ 等的密著====偶合劑或熱硬化性樹脂 不明:;: 著性有顯著地改善。其機制目前還 在,在:由於有各鼓小㈣的粒子混合存 在基板界面沉降的微細粒子填充較大粒子間的空隙, 3]9552 12 200815123 在界面附近的粒子填充密度提高,因而推測銀燒成膜與基 • 板間的接觸面積並未增大。cv值需要在4〇%以上,但 以上較理想,在50%以上更理想。 〔醇或多元醇〕 本發明是要在醇或多元醇之丨種或2種以上的溶液中 還原銀化合物。醇或多元醇是做為媒體及還原劑之作用。 用於此目的之醇,可使用丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁 醇、己醇、庚醇、辛醇、丙烯醇(ally! alc〇h〇1)、丁烯醇卜⑺砂! • alcohol)、環戊醇等。又多元醇類可使用二乙二醇 (diethylene glycol)、三乙二醇(triethylene glycol)、四乙二 醇(tetraethylene glyc〇l)等。其中尤其是以異丁醇及正丁醇 為適合使用。 〔有機保護膜及有機保護劑〕 構成本發明的銀粒子粉末的銀粒子,其表面由有機保 善膜所覆盍。此保護膜,係在醇或多元醇中的還原反應時, 修藉由有機保護劑之共存而形成。本發明中用「脂肪酸」與 版化合物」做為有機保護劑使用。其中至少有一方是具 有1個以上的不飽和鍵結物質所構成。藉由於不飽和鍵結 存在,可得具有優良的低溫燒結性的銀奈米粒子粉末。 又,脂肪酸及胺化合物,都分別採用分子量1〇〇至1〇〇〇 的物質。用分子量未滿100的物質就不能得到充分的凝集 抑制效果。相反的,分子量太大時,則雖然凝集抑制力強, 但將銀粒子粉末的分散液塗布而燒成時,會阻礙粒子間的 燒結,配線的電阻會變高,有時會失去導電性。因此,脂 319552 200815123 肪酸、胺化合物都需要用分子量1000以下的物質。使用分 > 子量在100至400之間者較為理想。 •本發明中可使用的代表性脂肪酸,可列舉如油酸(oleic acid)、亞麻油酸(linoleic acid)、次亞麻油酸(linolenic acid)、棕櫊油酸(palmitoleic acid)、肉豆蔻稀酸(myristoleic acid)。這些可單獨使用,也可複合使用。又,胺化合物使 用一級胺化合物較理想。本發明中可使用的代表胺化合 物,可舉列如:己醇胺(hexanol amine)、己基胺 修(hexylamine)、2-乙基己胺(2-ethylhexyl amine)、十二烧胺 (dodecyl amine)、辛胺(octyl amine)、月桂基胺(lauryl amine)、十四烧胺(tetradecyl amine)、十六烧胺(hexadecyl amine)、油胺(oleyl amine)、十八烧胺(octadecyl amine)) 等。這些也是可單獨使用,也可複合使用。 〔銀化合物〕 銀的原料,可使用各種銀鹽或銀氧化物等的銀化合 物。可舉例如氯化銀、硝酸銀、氧化銀、碳酸銀等,但工 0 業上使用硝酸銀較為理想。 〔還原補助劑〕 在進行還原反應時,使用還原補助劑較為理想。還原 補助劑可使用分子量100至1000的胺化合物。胺化合物 中,使用還原力強的二級胺或三級胺化合物為理想。還原 補助劑也與有機保護劑同樣,分子量未滿100則粒子的凝 集抑制效果低,又,分子量超過1000凝集抑制力雖高,但 塗布銀粒子粉末的分散液而燒成時,阻礙粒子間的燒結, 14 319552 200815123 配線的電阻提高,有時會失去導電性,所以這些是不適用。 ‘在本發明中可使用的代表性胺化合物,可舉例如二異丙胺 ^ (diisopropyl amine)、二乙醇胺(di- ethanol amine)、二苯胺 (diphenyl amine)、二辛胺(dioctyl amine)、三乙胺(triethyl amine)、三乙醇胺(triethanol amine)、N-N 二丁 乙醇胺 (N,N-dibutylethanol amine)。尤其是二乙醇胺、三乙醇胺為 合適。 〔液狀有機媒體〕 • 為了要製成分散有由還原所合成的銀粒子粉末的分散 液,在本發明中使用沸點在60至300°C的非極性或極性小 的液狀有機媒體。此處所指的「非極性或極性小」是指在 251:時的比介電係數在15以下,在5以下更為理想。比介 電係數超過15時,銀粒子的分散性惡化而有時會產生沉 降,因而並不理想。因應分散液的用途而可使用各種液狀 有機媒體,但碳化氫系可適合使用,尤其是可以使用異辛 •烧(isooctane)、正癸烧(n-decane)、異癸烧(isodecane)、異 己烧(isohexane)、正十一烧(n-undecane)、正十四烧 (n-tetradecane)、正十二烧(n-dodecane)、十三烧 (tridecane)、己烷(hexane)、庚烧(heptane)等的脂肪族碳化 氫,苯(benzene)、甲苯(toluene)、二曱苯(xylene)、乙基苯 (ethylbenzene)、十氫萘(decalin)、四氫萘(tetralin)等的芳 香族碳化氫等。這些液狀有機媒體可以使用一種或二種以 上,像燈油(kerosin)那樣的混合物也可以。更為了要調整 極性,使混合後的液狀有機媒體在25°C下的比誘電率變成 15 319552 200815123 15以下的範圍内,亦可添加醇系、酮系 極性有機媒體。 ^酉曰系夺的 〔銀粒子粉末的合成〕 下面說明本發明之銀粒子粉末的製造法。 本發明之銀粒子粉末,是在醇或多元醇中, 物在有機保護劑的共存下藉由㈣處 ^ =如前述,使用「脂肪酸」及「胺化合物」,成二 在莫耳比中,做成「脂肪酸」:「胺化合物」=〇.斯: 理相T·/之範圍就好,_:1至〇.〇1:1的範圍較為 心。液中的Ag離子濃度可在50mm〇1/L以上,例如在 至500mmol/L之程度就好。 通原反應是在80至200°C,理想是在85至15(rc之加 二下進行在媒體兼$原劑的醇或多元醇的反複蒸發盘 縮的還流條件下奋4丄工 $ "" ^ 、、件下貝轭就好。為了要高效率進行還原起見, 以使用上述的還原補助劑為理想。種種檢討的結果, ^助劑在接近還原反應的終了時添加較好,還原補助劑的 添加量以相對於Ag的莫耳比在(U至20之範圍為佳。 反應後的銀奈米粒子的懸濁液(反應完了後的泥聚狀 勿(slurry)) ’例如’用下面實施例所示的順序,經洗淨、 分散、分級等之步驟,可以製成合於本發明之銀粒子粉末 之分散液。 〔本發明之銀粒子粉末的用途〕 本發明之銀粒子粉末,適用於製造要形成微細電路圖 k的配線形成用材料,例如藉由喷墨法㈣w喊1】〇句的 319552 16 200815123 配線形成用材料,或代替藉由真空成膜過程的濺射法成膜 的膜形成用材料,以及代替藉由濕式過程的電鍍成膜法的 成膜材料。又本發明之銀粒末也適用於LSI基板配線及 FPD(平板顯示器;Flat panel Display)的電極、配線用途, 更能適用於微小的溝槽(trench)、通孔(Via hole)、接觸孔 (contact hole)的填埋等的配線形成材料。由於可以在低溫 燒烤,可適於做為具有可彎曲性(flexible)的膜上的電極形 成材料,在電子實裝上可當做接合材使用。做為導電性皮 •膜’可適用於電磁波遮蔽膜,或在透明導電膜等的領域利 用其光學特性的紅外線反射遮蔽等。利用低溫燒成性與導 電性,可適用於玻璃基板上的印刷、燒成,汽車窗玻璃的 防起務用熱線等。另一方面,做為分散液,則不限於噴墨 法,亦可以適用於旋轉塗布(spin c〇ating)、浸潰(dippingf 刮塗(biade coating)等各種塗布方法,也可適用於網版 (screen)印刷等。 _ 〔燒烤〕 —本發明之銀粒子粉末分散的分散液在基板上塗布後, 精由燒烤而可得銀燒成膜。燒烤是要在氧化環境下進行。 此處巧之氧化環境是非還原性的環境,包含常壓下所謂 =氣環境,以及減壓環境,或在惰性氣體環境令導入少 !氧氣的環境在内。燒成溫度可在⑽。则。C的低溫。 但因平均粒徑DTEM及塗膜的狀態之不同,產生銀之燒結 的下限溫度會有變化。纟戰不產生燒結的塗膜時二; 要在產生燒結的下限溫度至30代之間的範圍燒成。 319552 200815123 % 燒烤裝置’只要能實現上述環境及溫度者就可以而沒 的限制。例如’可舉例如熱風循環式乾燥器、輸送 帶式燒烤爐,m燒烤料。要在膜基板(例如聚酿亞胺膜 基板)上形成配線或電極時,考慮生產性則不是批次法 (batch式)’而是使用適於大量生產的對應於滾筒到滾筒 (roll-to-roll)方式的可以連續燒成的裝置為理想。燒烤時 間’則將形成塗膜的基板保持在上述溫度範圍1〇分鐘以上 為理想’保持6 0分鐘以上更為理想。 ⑩[實施例] 《實施例1》 在媒體兼還原劑的異丁醇64g中,添加作為有機保護 劑脂肪酸的油酸〇.6g及一級胺化合物的油胺u〇g,銀化 合物的硝酸銀結晶14g,用電磁攪拌器攪拌,使硝酸銀溶 解。將此溶液移到附有回流器的容器内,放在油浴上,容 裔内以400mL/min的流量通入惰性氣體的氮氣,將該液用 _電磁攪拌器以lOOrpm的回轉速度攪拌並且加熱,在1〇8 °C的溫度下回流6小時。還原補助劑的二乙醇胺是在溫度 達到108°C起5小時後添加26g。此時要達到i〇8〇c為止的 升溫速度設定為2QC/min。 對於反應終了後的泥漿狀物,用以下順序實施洗淨、 分散及分級步驟。 〔洗淨步驟〕 Π]反應後的泥漿狀物40mL以離心分離機(日立工機公司 製之CF7D2)在300〇rpm下進行30分鐘固相與液相分離, 319552 18 200815123 & 廢棄上面澄清液。 _ [2]對沉澱物加入極性大的曱醇40mL,以超音波分散機分 • 散。 [3] 重複3次上述之[1]至[2]步驟。 [4] 實施上述之[1]步驟而廢棄上面澄清液,得沉澱物。 〔分散步驟〕 [1]對於經過上述之洗淨步驟的沉澱物添加極性小的十四 烧 40mL。 ⑩[2]接著用超音波分散機處理之。 〔分級步驟〕 [1] 經過分散步驟的銀粒子與十四烷40mL的混合物,以 與上述同樣的離心分離機,以3000rpm進行30分鐘之固 相與液相分離。 [2] 回收上面澄清液。這個上面澄清液就成為銀粒子粉末 分散液。 0 對此分散液中的銀粒子進行TEM觀察,如前述由60 萬倍的畫像測定300個粒子的粒徑。由此結果,得平均粒 徑 DTEm= 5.2nm,CV 值=55.4%。 其次,將依上述順序所得之銀粒子分散液在玻璃基板 上用旋轉塗布法(spin coating)塗布而形成塗膜,在室溫下 放置5分鐘,將附有此塗膜的玻璃基板放在調整為200°C 的熱板上,保持如此狀態60分鐘進行燒烤,得到銀燒成膜。 對所得銀燒成膜,用下述方法調查其與基板的密著性 及容積電阻。 19 319552 200815123 〔密著性試驗〕 在銀燒成膜上’用切割機做成ι〇〇 格,在其上壓黏有每25mm寬 mm四方的方
紙膠帶(瓜Z15 22),之後剝開,^殘^玻璃 以100個方格全部殘留者當做密著性良好而/ 一目A _。’100個方格全部制離者當做密著性最不 為〇/_來評估密著性,而 取不好而表不 100/100,是為良好。 、艮粍成膜的密著性為 〔容積電阻值〕 藉由表面電阻測定裝置(三菱化學製LG购 表面電阻,與由螢光x線膜厚測定制 W疋 所得的膜厚度,經計算求得容 °° 1衣SFT92〇0) 銀燒成膜的膜厚度為0.51心,容積電阻值為、了果=例的 《實施例2》 實施例!之油酸加入量由0.6g增加到 件則與實施例1相同下,進行實驗。 g其他條 其結果,此例所合成的銀粒子粉末的平 =5.2nm,CV 值:=50·6%。 工 ΤΕΜ 所得銀燒成難上㈣著性試驗的結果 銀燒成膜對玻璃基板的密著性,以上性估= 麵〇〇,與實施例!同樣良好。 讀汗估法得 又,本例的銀燒成臈的膜厚度為〇 5切 值為心心⑽,容積電阻值也與實施例^積j阻 《比較例1》 ^樣良好。 319552 20 200815123 在實施例1中,不六、山缺 不加油酸,有機保護齋 胺l〗〇g。其他條件設定與實施例】相 、、彳早獨使用油 DTEm 2那 其結果,此例所合相銀粒 P行實驗。 =8.2nm,CV值=12 5〇/ η /如末的平均粒徑 限1人5义,沒有實現如上 樣寬廣的粒度分佈。 这貝轭例1 本例所得銀燒成膜,其膜厚产 ,、子度為,容積電阻 f、— # # em,就容積電阻值而言是良好的。但進行 上2著性試驗的結果,本例所得的銀燒成膜對玻璃基板 的么著性,以上述密著性評估法得〇/1〇〇,其密著性很差。 319552 21

Claims (1)

  1. 200815123 春 十、申請專利範圍: > 1· 一種銀粒子粉末,係具備有機保護膜的銀粒子粉末,而 •具有由TEM觀察所測定的粒徑以下述(1)式算出的 值在40%以上的粒度分佈 CV值= l〇〇x[粒徑的標準偏差σ〇]/[平均粒徑 Dtem] ......(1) 〇 2.如申請專利範圍第丨項之銀粒子粉末,其平均粒 -^TEM 在200nm以下者。 _ 3·如申請專利範圍第!項或第2項所記載的銀粒子粉末, 其中’前述有機保護膜是由分子量1〇〇至1〇〇〇的脂肪 -夂乂、刀子里1 〇 〇至1⑽〇的胺化合物所構成,而前述脂 肪酸及胺化合物中至少其中一方之丨分子中有丨個以上 的不飽和鍵結者。 4· 一種銀粒子粉末的分散液,其係將申請專利範圍第!至 3項的銀粒子粉末分散於沸點在60至300°C的非極性或 ⑩ 極性小的液狀有機媒體内而成。 5· 一種銀粒子粉末的製造法,其係製造申請專利範圍第i 至3中任一項的銀粒子粉末,其特徵是在醇或多元醇 中 乂醇或夕元醇為還原劑,在有機保護劑之存在下, 藉由退原處理銀化合物而釋出銀粒子的銀粒子粉末製 &中’別述有機保護劑是使用分子量100至1000之脂 肪馱及分子量100至1000之胺化合物,且此脂肪酸及 s物中至少一方為1分子中有1個以上的不飽和鍵 結者。 22 319552 200815123 •專利範圍第5項的銀粒子粉末之製 刖述脂肪酸為油酸。 衣/、中, 7. Π 圍第5項或第6項的銀粒子粉末製造法, :文為延原補助劑之2級胺及3級胺中,至少有一 疋在共存的狀態下進行還原處理者。 8, :種銀燒相’其係將申請專利範圍第*項之銀粒子粉 之分散液,塗布在基板上而形成塗膜,之後,將前述 塗膜燒烤而得。
    9· -種銀燒成膜之製造法,其係將申請專利範圍第4項 銀粒子粉末之分散液塗布於基板上形成塗膜,之後,、 前述塗膜在氧化環境中、3〇〇〇c以下燒烤。
    319552 23 200815123 m 七、指定代表圖:本案無圖式 (一)本案指定代表圖為:第()圖。 -(二)本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 本案無代表化學式
    319552
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