TW200809852A - Substrate processing apparatus - Google Patents

Description

200809852 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於例如爲了製造如光碟的平板狀記錄媒體 ，處理所成形的基板的基板處理裝置。 【先前技術】 光碟或光磁碟等的光學讀取式的圓盤狀記錄媒體，是 不僅再生專用者，還廣泛普及可重寫所記錄的資訊者。此 種記錄媒體，是保護被形成的基板的記錄面，或爲了實現 依記錄面的多層化的高密度記錄，藉由黏貼基板彼此間所 製造。 此種記錄媒體的製造，例如，如以下地進行。亦即注 射成形兩枚聚碳酸酯製基板而在濺鍍室藉由濺鍍來形成金 屬膜。又，於兩枚基板的接合面，藉由旋塗進行塗佈紫外 線硬化型的黏接劑。將塗佈黏接劑的一對基板插入在真空 室，在真空中黏貼雙方的黏接面。將互相黏貼的基板從真 空室取出至大氣壓，對此藉由照射紫外線，會黏接劑被硬 化。藉由此，兩枚基板是被牢固地黏接，完成光碟。 然而，若在黏貼前的基板存在著彎曲或變形，則如上 述地所製造的光碟，黏接層的厚度等也不會成均勻，當被 使用於資訊的讀寫的雷射被照射至光碟時，會無法正確地 到達至記錄面的所定位置的可能性。因此，在該光碟用基 板，排除產生在成形後的彎曲或變形，成爲確保製品穩定 的品質上極重要。 -4- 200809852 (2) 例如，連續地被注射成形的基板，是剛成形之後，溫 度較高而容易變形。如此，在後續工程以旋塗形成黏接層 之際，放置其板等，藉由空著時間進行處理，進行著抑制 變形。但是，在各基板的溫度有參差不齊的情形之故，因 而無法得到最適當的放置時間，此成爲主要原因而降低最 終製品的良品率。 爲了應付此，如專利文獻1所述地，藉由鼓風來強制 地冷卻多數基板的技術，或如專利文獻2所述地，提案著 旋轉基板之同時，進行鼓風而有效率地進行冷卻的技術。 專利文獻1 :日本特開2000- 1 3 793 1號公報 專利文獻2 :日本特開平5 - 1 09 1 26號公報 【發明內容】 然而，在僅藉由鼓風的冷卻，於各基板空氣無法均勻 地接觸，結果，溫度會產生參差不齊。又，在旋轉基板本 身的方式中，藉由離心作用或芯搖晃，會有過度力量施加 於基板，而有產生變形的可能性之故，因而在擺動上有影 響。 本發明是爲了解決如上述的習知技術的問題點而被提 案者，其目的是在於提供不會左右於放置時間，不會對基 板給予過度力量，均勻地可處理的基板處理裝置。 爲了達成如上述的目的，本發明是一種基板處理裝置 ，其特徵爲：具備：保持基板的保持部，及配置於被保持 在上述保持部的基板近旁的整流部。上述整流部是具有： -5- 200809852 (3) 至少接近於基板的其中一方的一面而相對的對面部；及在 藉由上述保持部被保持成不會旋轉的上述基板與上述對面 部之間，導入處理用媒體的導入部。 在如以上的發明中，在被保持成不會旋轉的基板與接 近於此的對面部之間，藉由流通從導入部被導入的媒體， 對於基板有效率地進行均句處理。 其他態樣是上述整流部是具有旋轉上述對面部的驅動 部，爲其特徵者。 在如上的態樣中，藉由旋轉對面部，可將處理用媒體 均勻地普及於基板表面。 其他態樣是在上述對面部形成隆起部或溝部，爲其特 徵者。 在如以上的態樣中，藉由對面部的隆起部或溝部，媒 體的流動被促進，成爲可進行效率優異的處理。 其他態樣是上述對面部是配置於基板的兩面側，爲其 特徵者。 在如以上的態樣中，藉由從基板的兩面側進行處理， 以更短時間，成爲可進行均勻的處理。 其他態樣是在上述對面部，位於基板的周緣近旁，設 有與基板之間隔變窄的突出部，爲其特徵者。 在如以上的態樣中，流進對面部與基板之間的媒體， 是在藉由突出部使得與基板之間隔變窄的部位會提高流速 之故，因而處理被促進。 其他態樣是在上述整流部，設有冷卻上述對面部的冷 -6 - 200809852 (4) 卻裝置，爲其特徵者。 在如以上的態樣中，因冷卻對面部，因此成爲可提高 冷卻性能，同時成爲可進行更均勻的冷卻。 其他態樣是在上述整流部，設有加熱上述對面部的加 熱裝置，爲其特徵者。 在如以上的態樣中，因加熱對面部，因此成爲可提高 加熱性能，同時成爲可進行更均勻的加熱。尤其是，欲乾 燥對於基板的塗佈物之際，持續防止基板的變形，可實現 均勻的處理，縮短乾燥時間。 以上如說明地，依照本發明，可提供不會被放置時間 所左右，不會對基板給予過度力量，均勻地可處理的基板 處理裝置。 【實施方式】 以下，參照圖式具體地說明用以實施本發明的最佳形 態（以下，稱爲實施形態）。 (構成） 首先，參照第1圖至第3圖來說明本實施形態的構成 。又，本實施形態，是冷卻固化被注射成形的基板的裝置 ，而針對於注射成形機及搬入及搬出基板的搬運裝置等， 因可適用公知的所有技術，因此省略說明。 亦即，如第1圖所示地，本實施形態是具備：載置基 板1的保持部2，及接近於基板1所配置的整流部3。保 -7- 200809852 (5) 持部2是承載著注射成形後的基板1的手段設有藉白 入於基板1的中心穴以保持基板1的銷2 1。 整流部3是藉由設成可旋轉的板3 1，及將該板 行旋轉的驅動部（未圖示）所構成。板3 1是具備：冷谷| G被導入至中央的導入部32，及覆蓋基板1的其中一 一面般地相對的對面部3 3。如第2圖所示，對面部 成爲設置放射狀地隆起於平坦面的散熱片34的構成 如第3圖所示地，如上述的保持部2及整流部 令板31的旋轉軸成爲水平般地並置多數於冷卻室4 在該冷卻室4設有被連接於冷卻氣體供給源（未圖开 給氣部4 1，及冷卻氣體G被排出的排氣部42。 [作用] 將具有如上述的構成的本實施形態的作用加以彭 亦即，在注射成形機中被成形。藉由搬運裝置所搬i 基板1，是被導入到冷卻室4內，並藉由銷2 1被插^ 中心孔，而被保持在保持部2。在冷卻室4內，冷谷| G從給氣部4 1被供給，同時藉由驅動部進行旋轉板： 於是就如第1圖所示地，從導入部3 2流進冷谷丨 G，沿著基板1的表面從中心側朝外側般地流著冷谷f G。此流動是在與接近於基板1的板31的對面部3 3 成爲均勻之故，因而基板1均勻地被冷卻。 (效果） 3被插 31進 P氣體 -方的 33是 〇 3，是 內。 匕）的 明。 來的 在其 氣體 1 ° 氣體 氣體 之間 -8- 200809852 (6) 依照如以上的本實施形態，並不是僅從外部噴上氣體 的冷卻，而是藉由板3 1，沿著各基板1般地流通冷卻氣體 G之故，因而可將冷卻氣體G均勻地普及到基板1的表面 。又，各基板1別地均勻地進行強制冷卻之故，因而也不 會發生依放置時間的參差不齊。 如此地，可將多數基板1連續地冷卻至一定溫度，而 在黏貼後的黏接層的厚度上不會產生影響之故，因而可提 昇良品率。又，不需要爲了確保放置時間而被延長的搬運 路等的區域之故，因而整體上可實現小型的裝置。又，不 是施轉基板1本身之故，因而可防止發生依基板1的變形 的擺動。 (其他實施形態） 本發明是並不被限定於如上述的實施形態者。例如如 第4圖所示地，覆蓋基板1的兩面般地，配設一對整流部 3也可以。藉由此，從基板1的兩面均勻地可進行冷卻。 同時地處理的基板數，也不被限定於在上述實施形態所例 示的數。亦即，保持部及整流部的設置數是自由，一個也 可以，或多數也可以。例如，如第5圖所示地，不必設置 冷卻室而僅藉由一組保持部2及整流部3所構成。又，如 第6圖及第7圖所示地，在轉盤T設置複數組保持部2及 整流部3也可以。 冷卻氣體是在對面部的表面與基板的表面之間隔變窄 的部位，藉由文氏管（Venturi )效果，流速變快。尤其是 -9 - 200809852 (7) ，如第1圖及第4圖所示地，藉由板31的旋轉’對面部 3 3表面的氣體分子被吸引，產生朝外周的渦狀氣流’又在 圓周近旁中，與基板1之間隔變窄之故（參照第1圖及第 4圖），藉由產生於通過比入口還窄的出口的氣流的文氏 管效果，因其流速變快，而處理被促進。如第5圖所示地 ，因積極地利用該文氏管效果，因此在對面部33的圓周 近旁，圓環狀地連續或是以所定間隔設置複數與基板1之 間隔變窄的突出部3 5也可以。 又，在上述實施形態中，於對面部形成散熱片，惟若 在基板表面可普及冷卻氣體的形狀，任何形狀都可以。其 數也自由。例如設置放置狀溝也可以，或是同心圓狀的隆 起部或溝部，渦卷狀的隆起部或溝部等也可以。如第8圖 所示地如設置漸開線（involute )(渦形）泵的形狀的散 熱片，以促進氣流也可以。隆起部是平板狀或突起狀也可 以，溝部是凹處或穴也可以。藉由變粗或波狀起伏加工對 面部的表面也可以。又整流部是並不一定進行旋轉。若發 生冷卻氣體被導入至導入部的氣流，即使停止對面部，也 可使冷卻氣體得到均勻地普及的效果。 又，如第9圖所示地，於整流部3的近旁設置冷卻裝 置5，藉由板31本身也被冷卻，而提高冷卻效果也可以。 在板本身設置冷卻裝置也可以。又，冷卻氣體的種類是考 量各種的惰性氣體或空氣等，惟並不被限定於特定者。 又，對於基板的處理，並不被限定在冷卻之故，因而 所導入的媒體也自由。例如，藉由導入加熱氣體，進行對 -10- 200809852 (8) 於基板的均勻加熱也可以，或是藉由導入離子氣體，進行 對於基板的均勻除電也可以。因此於此，例如將第9圖的 冷卻裝置5作爲加熱裝置，也可提高加熱能力。在板本身 設置加熱裝置也可以。 如此地，作爲進行加熱時的用途，列舉有乾燥處理。 例如在基板爲了旋轉塗佈的色素的乾燥適用本發明，藉由 利用加熱氣體及加熱裝置的雙方或一方，與冷卻的情形同 樣地，持續防止基板的變形，無參差不齊地可進行各基板 別的均勻處理，而也可縮短乾燥時間。 針對於基板，其大小、形狀、材質等是自由，可適用 於在將來被採用的所有者。因此，不僅是記錄媒體的碟用 ，可適用於液晶或有機EL用的基板等所有基板。亦即， 在申請專利範圍所述的「基板」，是並不被限定於圓盤狀 等，廣泛地包含平面狀製品的槪念。尤其是，針對於保持 部的保持方法，也不被限定在保持中心穴的態樣，而吸附 保持其中一方的一面，或握持緣的態樣也可以。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明的一實施形態的縱斷面圖。 第2圖是表示第1圖的實施形態的對面部的仰視圖。 第3圖表表示第I圖的實施形態的對冷卻室的配置例 的縱斷面圖。 第4圖是表示本發明的其他的實施形態（在基板的兩 面配置對面部）的縱斷面圖。 -11 - 200809852

第5圖是表示本發明的其他的實施形態（在對面部形 成突出部）的縱斷面圖。 第6圖是表示本發明的其他的實施形態（在轉盤配置 對面部）的前視圖。 第7圖是表示第6圖的側面圖。 第8圖是表示本發明的其他的實施形態的對面部的散 熱片的縱斷面圖。 第9圖是表示本發明的其他的實施形態（在對面部配 置冷卻裝置）的縱斷面圖。 【主要元件符號說明】 1 :基板 2 :保持部 3 :整流部 4 :冷卻室 5 :冷卻裝置 21 :銷 31 :板 3 2 :導入部 3 3 :對面部 34 :散熱片 3 5 :突出部 4 1 :給氣部 42 :排氣部 -12-

Claims (1)

1. 200809852 (1) 十、申請專利範圍 1 一種基板處理裝置，其特徵爲： 具備：保持基板的保持部，及配置於被保持在上述保 持部的基板近旁的整流部， 上述整流部是具有： 至少接近於基板的其中一方的一面而相對的對面部； 及 在藉由上述保持部被保持成不會旋轉的上述基板與上 述對面部之間，導入處理用媒體的導入部。 2 ·如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，上述整流部是具有旋轉上述對面部的驅動部。 3 .如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，在上述對面部形成隆起部或溝部。 4 .如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，上述對面部是配置於基板的兩面側。 5 .如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，在上述對面部，位於基板的周緣近旁，設有與基板之間 隔變窄的突出部。 6. 如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，在上述整流部，設有冷卻上述對面部的冷卻裝置。 7. 如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其中 ，在上述整流部，設有加熱上述對面部的加熱裝置。 -13-