TW200643132A - Pressure-sensitive adhesive compositions, pressure-sensitive adhesive sheets and surface protecting films - Google Patents

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TW200643132A TW95107388A TW95107388A TW200643132A TW 200643132 A TW200643132 A TW 200643132A TW 95107388 A TW95107388 A TW 95107388A TW 95107388 A TW95107388 A TW 95107388A TW 200643132 A TW200643132 A TW 200643132A
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200643132 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 使用其 以及表 本發明係關於具有抗靜電性之黏著劑組成物 之作成片狀或膠帶狀等形態之抗靜電性黏著片類 面保護膜。 ' 本發明之抗靜電性之黏著劑組成物所構成之黏著片 類’適用於容易產生靜電之塑膠製品等。其中,特別 於電子機器等忌避靜電之用途所使用之抗靜電性黏著片、 及用以保護偏光板、波長板、光學補償膜、反射片等之光 學構件表面所使用之表面保護膜。 【先前技術】 表面保護膜,-般係透過塗布於保護膜側之黏著劑貼 合於被保護體,而用以防止被保護體於加工、搬送時所產 生之傷痕及辦污。例如,液晶顯示器之面板,係藉由將偏 光板或波長板等光學構件透過黏著劑貼合於液晶單元而形 成。貼合於液晶胞之該等光學構件,係透過黏著劑來貼合 用以防止傷痕及髒污之保護膜。 一 ’、、、:後將δ亥光學構件貼合於液晶胞等,而於不需要保 蒦膜之1¾ #又將保濩膜剝離以除去。一般而t,保護膜或光 予構件’係、由塑膠材料所構成,故電氣絕緣性高,而於摩 擦或剝離時會產生靜電。因A,將保護膜從偏光板等光學 構:牛幻離日7亦會產生靜電。若以殘存靜電之狀態下,施加 私壓於液晶,則液晶之配向損失、且面板亦產生缺陷。因 此為了防止如此之不良情況,係對表面保護膜施以各種 200643132 抗靜電處理。 例如’於黏著劑中添加1種以上之界面活性劑,而將 7面/舌性劑從黏著劑中轉印至被黏著體之抗靜電方法,已 被揭T (例如’參照專利文獻1 )。然,該發明,界面 f丨生劑谷易滲出至黏著劑表面,當使用於保護膜時,有污 卞被^著體之虞。因此,當將添加有低分子之界面活性劑 之Ά著d使用於光學構件用保護膜時,難以於不損及光學 構件之光予特性之下,發揮足夠之抗靜電特性。 又’將聚鱗多元醇與鹼金屬鹽所構成之抗靜電劑添加 方、丙稀酸黏著劑中,以抑制抗靜電劑滲出至黏著劑表面之 方法,亦已揭示(例如,參照專利文獻2)。然而,該方 法中,亦無法避免抗靜電劑的滲出,其結果,當實際上使 用於表面保遵膜時’若施以經時或高溫下的處王里,則會因 參出現象而發生對被黏著物的污染。 再者,作為改善上述污染者,曾揭示賦予黏著劑組成 物之基體聚合物本身抗靜電性之方法(例如,參照專利文 獻3 )。泫揭不中,提出一種含有反應性界面活性劑之(甲 基)丙稀酸^合物所構成之黏著劑組成物。然而,該方法 中,對於抑制不具抗靜電性之被黏著體側之剝離電壓,無 法得到很大的效果,其結果乃明瞭:;亏染之減低級被黏著 體側之剝離電壓的抑制係難以兼具。 專利文獻1 :曰本特開平9-165460號公報。 專利文獻2:日本特開平6-128539號公報。 專利文獻3:日本特開平9-208910號公報。 200643132 【發明内容】 本發明,參照上述情形,1 ,、目的在於獒供一種黏著劑 組成物、使用其之抗靜電 料一丨 疔冤性黏者片類、以及表面保護膜, 5亥黏著制組成物,可祥、戈 /一不/、抗砰電性之被黏著體其剝離 w之抗靜電性及抑制經時剝 j離冤& 並可減低對被黏著體 之/了乐,且接著可靠性優異。
本發明人等,為τ站a , L 為了解決上述問題深入探討之結果發 :本::以下所示之黏著劑組成物可達成上述目的,而完 亦即’本發明之黏著 I、工γ a 組成物,其特徵在於,含有(甲 基)丙烯酸糸聚合物及離 聚人物且右抑雜性液體而成,该(甲基)丙烯酸系 水口物具有早體單位為 活性劑0.0U0重量述通式⑴所表示之反應性界面 [式(I)中之 Rl、R 、 乂 甲基。Ht 2 R3 ’係表示相同或相異之氫或 甲丞心,係表示碳數〇〜3〇 係表示不具尺4)。反及 / 70每土(又,碳數為0時, 之烷撐基。m #矣- 6係表不相同或相異之碳數〇〜3〇 m係表不〇〜50之俞 〇〜1〇〇之數之數(可不為整數),η係表示 〜双、可不為整备、 不為整數)'X,r 一 ,m+n係表示1〜150之數(可 藉由本f aB糸表不氧或陰離子性親水基。] 猶田本發明之 々 ㈣組成物,如實施例之結果所示 200643132 般,將具有作為單體單位之〇·〇1〜2〇重量%之特定反應性 界面活性劑的(曱基)丙烯酸系聚合物作為基體聚合物,並 且由於含有離子性液體,故將其交聯之黏著劑層,可減低 對被保護體的污染性,且剝離時之抗靜電性、特別是不抗 靜電之被黏著體的抗靜電性優異。使用該特定之反應性界 面活性劑作為單體單位之基體聚合物、與離子性液體之交 聯物發揮該特性之理由尚不明瞭,但可推測為,與一般之 Φ 反應性界面活性劑相比,由於離子性液體適度地配位於基 體聚合物中之_基上而使離子性液體難以滲出,故可實現 兼具經時之優異抗靜電性與低污染性。 又,本發明之離子性液體,係指室溫(25t)下呈液 狀之熔融鹽(離子性化合物)。 本發明之黏著性組成物,藉由使用該離子性液體作為 抗靜電劑,可抑制抗靜電劑之滲出,且即使於經時及高溫 下對被黏著體之接著可靠性亦優異。藉由使用離子性液體 • 可抑制滲出之理由雖未明瞭,但可推測為,與界面活性劑 等相比對基體聚合物的相溶性較高之故。又,由於離子性 液體其本身即顯示優異之導電性,即使於被黏著體之污染 為微量即能得足夠的抗靜電性能。 又,由於上述離子性液體於室溫下為液狀,故與固體 的鹽相比,對黏著劑之添加及分散、溶解較容易進行。並 且由於離子丨生液粗無蒸氣壓(不揮發性),故不會經時消 失’而可持續得到抗靜電性。 本發明中,基體聚合物係使用(甲基)丙烯酸系聚合物, -200643132 其具有單體單位為以下述通式(i)所表示之反應性界面活性 劑0.01〜20重量%。
Ri r2 、f3 r4 °^6〇)^6〇^. ⑴
[式()中之心R2、及,係表示相同或相異之氫或 甲基。尺4,係表示碳數〇〜3〇之烷撐基(又,碳數為〇時, 係表示不具R4 )。Rs及,係表示相同或相異之碳數〇〜 之烷撐基 係表示0〜50之數(可不為整數) η係表示 〇〜100之數(可不為整數),m+n係表示hbO之數(可 不為整數)。X,係表示氫或陰離子性親水基。] 又,本發明中之(甲基)丙烯酸系聚合物,係指丙烯酸 系聚合物及/或曱基丙烯酸系聚合物。又,(甲基)丙稀酸烧
酯,係指丙烯酸烷醋及/或曱基丙烯酸烷酯,而(甲基)丙烯 酸S旨’係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸醋。 土 工:%肀 _ ^…^瓦 3、喻鑷鹽、 或含磷鑌鹽之彳壬一種以上為佳。特別是,該離子性液體, 較佳為包含下述通式(A)〜(D)所表示者之任一 一 ^ 卜 $乂上之陽離 子。精由具有該等陽離子之離子性液體,可得到抗
能更優異者。 A
'Η' R
Κι' (C) (D) 9 * 200643132 [弋()中之Ra ’表示碳數4〜2〇之烴基,而亦可包含 雜原子Rb及Rc,表示相同或不同之氫或碳數丨〜丨6之烴 基,亦可包含雜原子。其中,#氮原子含雙鍵時,無&。] [弋()中之Rd ,表示碳數2〜2〇之烴基,而亦可包含 雜原子,R、p ητ rv . _ e f及Rg,表示相同或不同之氫或碳數i〜l6 之烴基,亦可包含雜原子。] [弋()中之Rh,表示碳數2〜20之烴基,而亦可包八
雜原子,R.、R B D 士 —丄 ^ 1 j及Rk,表不相同或不同之氫或碳數i〜l6 之烴基,亦可包含雜原子。]
[式(D)中之z,表示氮、硫、或磷原子,R1、R
及R° ’表不相同或不同之碳數1〜20之烴基,而亦可包含 雜原子。#中,當Z為硫原子時,| R。。] B 本卷明之黏著劑组成物中,可含有適當之含醚基化合 2藉由黏著劑組成物含有該含醚基化合物,可作成抗靜 :〖生^優異之黏著劑組成物。使用含醚基化合物造成抗靜 ^ =提幵之之理由雖未明確,但藉由併用含醚基化合物, 可提昇對氟等非極性材料之親和性,而可使離子性液體有 效率地進行對被黏著體之轉印。 乃一万面,本發 p w…/日 六付馓社於,將上述 所2载之黏著性組成物交聯以形成。藉由該(甲基)丙烯酸 :艰合物之構成單位、構成比率、交聯劑之選擇及適當調 二加比率等進灯父冑,可製得财熱性、耐候性更優異之 W著劑組成物。 以 X,本發明之黏著片類 其特徵在於,係將上述任一 10 -200643132 記載之黏著劑組成物交聯形成之黏著劑層,形成於支持體 上以構成。藉由本發明之黏著“員,由於具備可達成上述 作用效果之黏著劑組成物交聯形成之黏著劑層,而可謀求 剝離時不抗靜電之被黏著體之抗靜電性、且被黏著體之污 染性減低、可靠性優異之黏著片類。 又’本發明中之黏著片類,除了黏著片、亦包含黏著 膠帶、、雙面黏著膠帶、黏著膜等片、膠帶、膜狀之形態。 並且將本务明之黏著劑組成物使用於表面防護膜 日守,,錢所使用之塑膠基材,以進行過抗靜電處理者為 仏^猎由對塑膠基材施以抗靜電處理,可更有效地降低被 黏著體之剝離電壓,而得到抗靜電性能更優異者。 【貫施方式】 7本發明之黏著劑組成&其特徵在於,含冑(甲基)丙歸 酸系聚合物及離子性液體而成,該(甲基)丙烯酸系聚合物 具有單體單位為以下述通式⑴所表示之反應性界面活性劑 0.01〜20重量% 〇 RK f3 °^R5〇)rireR5〇7rx. (i) C = C 一R Λ R2/ 4 [式⑴中之R!、R2、及尺3,係表示相同或相異之氫或 曱基。R4 ’係表示碳數0〜3G之垸撐基(又,碳數為〇時, 係表示不,、R4 ) 及尺6,係表示相同或相異之碳數〇〜3〇 之烧撐基。m係表示〇〜5〇之數(可不為整數),n係表示 11 •200643132 〇〜100之數(可不為整數),m+n係表示卜150之數 不為整數)。X,係表示氫或陰離子性親水基。] 可 、又,本發明中之離子性液體,係指室溫(2 液狀之熔融鹽(離子性化合物)。 下呈 離子性液體,較佳為使用含氮鑌 =鹽,而基於可得到更優異之抗靜電性能一或含 =由下述通式(A)〜(D)所表示之有機 ’較佳 離子成分所構成者。 风77、及陰
雜原子,之煙基,而亦可 基,亦可包含雜原子。q l不同之氨或碳數 [式(B)中之Rd,表亍备乳原子含雙鍵時,無] 雜原子,Re、Rf“ 7數2〜20之煙基,而亦可 之煙基,亦可包含“子7相同或不同之氣或碳數 [式(c)中之Rh,表示殘數2 ^ 雜原子,Rm,表 20之煙基,而亦可^ 之烴基,亦可包含雜原子。;相同或不同之氫或碳數】 [式(D)中之2,表示,
及H4 V、题4、硫、或磷原子,R 。…同或不同之雙數^烴而广、 &悬,而亦可命 12 200643132
雜原子。其中,當z為硫原子時,無U 以式⑷所表示之陽離子,可舉例如^线陽離子 =陽離子、料炫鑌陽離子、具有料琳骨架之陽離子、 具有吡咯骨架之陽離子等。 具體例’可舉例如乙基^定鑌陽離子、1_丁^比〜 ::離=基,鑌陽離子、i•丁基_3甲…鏞: 陽離子基㈣鑌陽離子、1_己基·3,^定鑌 險碓子、1-己基-3,4-二甲基吡啶鏽陽離子、" 嘻燒錄陽離子、卜甲基_ι·乙基料烧鑌陽離子’、"^比 烧鑌陽離子、i甲基小…略炫鑌陽離二_ :土小戍基料院鑌陽離子、卜甲基己基^各燒鐵陽離 、庚基料絲陽離子、丨乙基小丙基。比 麵陽離子、1-乙基_i_ 丁基吡咯烷鑌陽離子、丨·乙基_i疋 °比°各院鑌陽離子、卜乙基小己|°比錢鑌陽離子、i•乙| 土 ^咯魷鑌陽離子、1,1_二丙基吡咯烷鑌陽離子、“ 基-1-丁基対院鑌陽離子、u二丁基11比錢鑌陽離子、= 丙基哌σ疋趣陽離子、丨_戊基哌啶鏽陽離子、1,1 _二 啶鏽陽離子、卜曱基]_乙基哌啶鑌陽離子、b甲基]广哌 哌啶鏽陽離子、”基小丁基哌啶鏽陽離子、二基:基 基哌啶鏽陽離子、丨_甲基己基哌啶鏽陽離子、1_甲基戊 庚基旅咬鏽陽離子、1_乙基·1·丙基㈣鑌陽離子、^烏K 丁基辰°疋_陽離子、1 -乙基-1 -戊基哌啶鏽陽離子、κ乙 :己基哌。疋銪陽離子、^乙基_ i _庚基哌啶鏽陽離子、1 1 一丙基哌啶鑷陽離子、卜丙基-1-丁基哌啶鏽陽離子、丨’丙 13 200643132 基小丁基哌咬鑌陽離子、ι丙基-1·戊基旅咬鑌陽離子、κ 丙基·1-己基旅°定錯陽離 則隹子、1-丙基-1-庚基哌啶鏽陽離子、 二丁基㈣鑌陽離子、r丁基·“戊基派D定鏽陽離子、i 丁基-1-己基旅啶鏽陽離子、 美 料1 丁基小庚基哌啶鏽陽離子、 甲基柄㈣陽離子、卜乙基_2_苯基心陽離子、12 二甲基射陽離子、乙基㈣陽離子等。 ,' 〃以式(B)所表示之陽離子,可舉例如口米唾錄 籲虱嘴咬鑌陽離子、二氫哺咬鏽陽離子等。 四 具體例’可舉例如a二甲基咪唾鑌陽離 乙基咪唑鏘陽離子、丨_乙A ,3_ — 1乙基-3-甲基咪唑鑌陽離 3-曱基咪唑鏘陽離子、^己夷 1-丁基- 其3田I丄 土 土口米σ坐鐵陽離子、;I妾 基-3-甲基咪唑鏘陽離子、〗_癸 1-辛 十-貌其、土 土咪唾鑌陽離子、;[ 十一说基㈠基味唾錯陽離子、h十 于 陽離子、;U十六烷A 疋基甲基咪唑鑕 曱基咪唑鏽陽離子、丨2_二 十八烷基-3_ X ,一基丙基咪唑鑌陽離子、j 》2,3-一甲基咪唑鏽陽離子、^丁 勿雕于1- 陽離子、;U已基_2 3 —田直, 土 · ’弘二曱基咪唑鑌 匕暴2,3-一甲基咪唑鏽陽離子 ,4,5,6·四氫嘧啶鑕陽離子、】,2,3_= ,_一甲基_ 鏘陽離子、^‘四f基’ 一基_1,4,5,6-四氫嘧啶 1,2,3,5-四尹基1456 : ,,’&四氫喷啶鑰陽離子、 — 『基_1,4,5,6-四氫喷咬鑽陽離子 于 一風嘧啶鑌陽離子、込夂二 ,3•—甲基-1,4· 三甲基-ι,6-二氫蝴陽二子 =氫:卿^ 二氫㈣鑌陽離子、以从四甲基二3,4-四尹基十4-等。 土 ,—氫嘧啶鑌陽離子 14 200643132 以式(c)所表示之陽離子 唑啉鑌陽離子等。 可舉例如吡唑鑌陽離子、吡
具體例,可舉例如丨_甲基吡唾鏽 鏽陽離子、1-乙美2审1 甲基吡唑 一 --甲基吡唑啉鑌陽離子、1-乙基_2 3 5 二甲基吡唑鑌陽離子、丨_丙基 ,, ..^ 二甲基σ比唑鏽陽離子、 -丁基-2,3,5-三甲基咄唑鑌陽離子等。 以式(D)所表示之陽離子,可舉例如四炫基鍵陽離子、 二k基疏陽離子、㈣基鎮陽離子、及上述㈣之 以烯基、烷氧基、或環氧基取代者等。 具體例,可舉例如四甲銨陽離子、四乙錄陽離子、四
丙錢陽離子、四丁餘1¾虚4丄、A 卞四丁鉍%離子、四戊銨陽離子、四己銨陽離 子、四庚銨陽離子、三乙基甲銨陽離子、三丁基乙録陽離 子、三甲基癸録陽離子、三辛基甲録陽離子、三戊基丁錢 陽離子、2己基甲銨陽離子、三己基戊銨陽離子、三庚基
甲銨陽離子、三戊基丁録陽離子、三庚基己録陽離子、I 乙基二己銨陽離子、二丙基二己銨陽離子、庚基二 銨陽科、N,N-二乙基4甲基_N-(2_甲氧基乙基)料離 子、環氧丙基三甲銨陽離子、二烯丙基二甲銨陽離子、N,l 二甲基-N,N-二丙銨陽離子、N,N-二丙基_N,义二己銨陽離 子、N,N-二甲基乙基-N_丙銨陽離子、n,N-二甲基乙 基-N·丁銨陽離子、N,N-二甲基-N_乙基-Ν·戊銨陽離子、n 二甲基-Ν·乙基己銨陽離子、Ν,Ν_二甲基_Ν_乙基_Ν•庚 叙%離子、Ν,Ν - 一甲基-Ν-乙基-Ν_壬i安陽離子、ν,Ν -二甲 基丙基-Ν-丁銨陽離子、Ν,Ν•二甲基丙基_Ν_戊銨陽 15 200643132 離子、N,N_二甲基善丙基I己錄陽離子、N,N_二甲基_N 丙基秦庚銨陽離子、N,N•二甲基-N. 丁基_N_己㈣離子、 •二甲基I 丁基I庚銨陽離子、N,N-二甲基_N_戊基_N 己錢陽離子、三甲基戊録陽離子、N,N.二乙基_N_甲基_N 丙銨%離子、Ν,Ν·二乙基_N_甲基_N_戊銨陽離子、η二 乙基甲基·N_庚敍陽離子、n,n_二乙基|丙基·& μ 陽離子、i乙基甲敍陽離子、三乙基丙錢陽離子、三乙基 戊錢陽離子、二^ p其蚀哩私 一乙己基鉍%離子、二丙基-N_甲基 乙銨陽離子、Ν,Ν·二丙基_N_甲基_N_戊銨陽離子、N,N-二 丙基-N-丙基_N_己敍陽離子、N,N_二丙基·ν,ν_二己録陽離 子、Ν,Ν_二丁基-Ν-甲基-Ν-戊銨陽離子、Ν,Ν·二丁基·Ν_甲 基-Ν-己録陽離子、Ν,Ν_二甲基·Ν,Ν_二己錢陽離子、三辛 基甲錢陽離子、Ν-甲基-Ν_乙基_Ν_丙基_Ν_戊錄陽離子;三 甲錄陽離子、三乙疏陽離子、三丁鎮陽離子、三己鎮陽離 子、二乙基甲錡陽離子、二丁基乙銃陽離子、二曱基癸銃 陽離子;四甲鱗陽離子、四乙鱗陽離子、四丁鎸陽離子7 四戊鱗陽離子、四己鱗陽離子、鱗陽離子、四庚鱗陽離子、 四辛‘陽離子、:乙基甲鱗陽離子、三丁基乙鱗陽離子、 三甲基癸鱗陽離子等。 八中’較佳為使用四甲銨陽離子、四乙錢陽離子、四 丙銨陽離子、四丁銨陽離子、四戊銨陽離子、日己鐘陽離 子、四庚銨陽離子、三乙基甲銨陽離子、三丁基乙銨陽離 子一甲基癸銨陽離子、三辛基甲銨陽離子、三戊基丁鈹 陽離子、三己基甲銨陽離子、三己基戊銨陽離子、三庚基 16 200643132 甲錄陽離子、三戊基丁録陽離子、三庚基己錄陽離子、二 乙基二己銨陽離子、二丙基二己銨陽離子、庚基二甲其己 錄陽離子、N,N-二乙基-N_甲基-Ν·(2·甲氧基乙基)錄_ 子、%虱丙基三甲銨陽離子、二烯丙基二f銨陽離子、Ν,趴 二甲基-N-乙基-N-丙銨陽離子、N,N_二甲基乙基·ν_ 丁 銨陽離子、Ν,Ν-二甲基·Ν_乙基_Ν_戊錄陽離子、ν,ν_二甲 基-Ν-乙基_Ν_己銨陽離子、Ν,Ν_二甲基_ν乙基_ν·庚銨陽 φ 離子、Ν,Ν_二甲基-Ν·乙基-Ν-壬銨陽離子、Ν,Ν-二甲基·Ν_ 丙基-Ν-丁録陽離子、Ν,Ν_二甲基_Ν_丙基_ν_戍錢陽離子、 Ν,Ν-二甲基_Ν_丙基-Ν_己錄陽離子、ν,ν_二甲基_ν-丙基| 庚錢陽離子、Ν,Ν_二甲基·Ν_ 丁基_Ν_己錄陽離子、❹二 γ基-Ν-丁基_Ν•庚銨陽離子、Ν,Ν_:甲基_ν_戊基·&’己錢 陽離子二甲基戊錄陽離子、Ν,Ν_二乙基_Ν_甲基養丙銨 陽離子、Ν,Ν-二乙基-Ν_甲基_Ν_戊錢陽離子、ν,ν二乙基-甲土 Ν庚銨陽離子、Ν,Ν•二乙基_N_丙基I戊銨陽離 • ^ Ν’Ν·一乙基_N,N_二己銨陽離子、三乙基甲銨陽離子、 三乙基丙銨陽離子、三乙基戊錢陽離子、三乙己基錄陽離 子、N,N_二丙基甲基·N_乙銨陽離子、N,N-二丙基_N-甲 基-N-戊銨陽離子、Ν,Ν·二丙基_N_丙基_n_己銨陽離子、⑽_ HN- 丁基_N_己銨陽離子、n,n_二丙基_n,n_:己銨陽 離子N,N — 丁基_N_甲基_N_戊銨陽離子、N,N_二丁基_n_ 甲基-N-己鏔陽離子、三辛基甲錢陽離子、&甲基_ν·乙基_ Ν-丙基-Ν-戊錢陽離子等四烧基錢陽離子;三甲疏陽離子、 三乙疏陽離子、三丁疏陽離子、三己疏陽離子、二乙基甲 17 200643132 #瓜陽離子、二τ基乙疏陽離子、二 ☆曰 基銃陽離子,·四甲鱗陽離+、 /六‘陽離子等三烷 工 子四乙鱗陽離子、四丁妙塔+奋 子、四戊鱗陽離子、四己鱗陽 四丁鱗㈣ 镇陽離; 庚鱗陽離子、四辛 離子、三乙基甲鱗陽離子、辛 苴八A# rr日 J暴乙鱗%離子、二甲 基癸鱗%離子等四烷基鎸陽離子等。 一甲 件,=^面’陰離子,只要滿足能成為離子性液體的條 並無特別限定。具體而言,可使用如cr、Br_、【_、
、Al2Cl7_、BFr、PF「、ci〇4-、n〇3-、ch3COO ' F3C〇〇-.cH3S〇3-CF3S〇3-(CF3S02)2n-.(CF3S02)3C
、AsF6—、SbF6-、NbF6-、TaF6-、F(HF)n—、(cn)2n—、 C4F9S〇3 > (C2F5S02)2N- ^ C3F7CO〇- . (CF3S02)(CF3CO)N /、中特別疋含氟原子的陰離子成分,由於可得到 低炫點的離子性化合物,故較佳。 本發明所使用之離子性液體的具體例,可由上述陽離 子成分與陰離子成分的組合中適當選擇來使用。 可舉例如四氟硼酸1 - 丁基吡啶鏽、六氟磷酸i _ 丁基吡 咬鑌、四氟硼酸卜丁基_3_甲基吡啶鏽、三氟甲磺酸丁基 甲基吡啶鏽、1-丁基-3-甲基吡啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞 胺、1-丁基-3-甲基吡啶鏽雙(五氟甲磺醯)亞胺、1-己基吡 °定錄四氟硼酸酯、1,1-二甲基吡咯烷鏽雙(三氟曱磺醯)亞 胺、1_甲基_丨-乙基吡咯烷鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_甲基_ 1 -丙基吡咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、i _甲基-1 - 丁基吡咯 燒鑷雙(三氟甲磺醯)亞胺、1_曱基-1-戊基叱咯烷鏽雙(三氟 甲磺醯)亞胺、卜甲基-1 -己基吡咯烷鑌雙(三氟甲磺醯)亞 18 200643132 甲基-卜庚基吡咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、^丨-二乙基吡 咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、^乙基-;1_丙基吡咯烷鑌雙(三 氟甲磺醯)亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞 胺、1-乙基_1_戊基吡咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_乙基_ 1-己基u比咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_乙基-^庚基吼咯 烧鎘雙(二氟甲石頁醯)亞胺、1,1 _二丙基π比略烧鐵雙(三說甲 磺醯)亞胺、1_丙基-1_丁基吡咯烷鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、 1-丙基-1-戊基吡咯烷鑌雙(三氟曱磺醯)亞胺、丨_丙基_丨-己 基比各燒麵雙(二氟甲石頁酿)亞胺、1-丙基-丨-庚基吼^各烧鐵 雙(二氟甲績醯)亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鑌雙(三氟甲磺醯) 亞胺、1-丙基哌啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、;[_戊基哌σ定鏽雙 (三敦甲磺醯)亞胺、1,1-二丁基哌啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞 胺、甲基-1-乙基哌啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_甲基 丙基呢啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-甲基_1_丁基哌σ定鏽雙 (三氟曱磺醯)亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鏽雙(三氟甲確醒) 亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_甲基_ 1_庚基派咬鐵雙(三氣甲石黃酿)亞胺、ι,ΐ -二乙基派咬鑌雙(二 氟甲石黃醯)亞胺、1 -乙基-1 -丙基哌啶鑌雙(三氟甲石黃酿)亞 胺、b乙基-1-丁基哌啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-乙基β1_ 戊基哌啶鏽雙(三氟曱磺醯)亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鏽雙 (三氟甲磺醯)亞胺、1·乙基-卜庚基哌啶鑌雙(三氟甲續酸) 亞胺、1,1 -二丙基哌啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-丙基_ i _ 丁基哌啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-丙基-1-戊基哌啶錄雙 (三氟甲磺醯)亞胺、1-丙基·1-己基哌啶鑌雙(三氟甲碏醯 19 200643132 亞胺、1 -丙基-1 -庚基哌啶鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨_丙基 哌啶鋤雙(二氟甲磺醯)亞胺、1-戊基哌啶鑌雙(三氟甲磺醯) 亞胺、1,1-二丁基哌啶鑌雙(三氟曱磺醯)亞胺、^丙基吡咯 烷鎬雙(五氟乙磺醯)亞胺、1-戊基吼咯烷鏽雙(五氟乙磺醯) 亞胺、1,1·二曱基吡咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、丨_甲基-^ 乙基吡咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、b甲基丙基吡咯烷
鎬雙(五氟乙磺醯)亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鑌雙(五氟乙 磺醯)亞胺、1-曱基-1-戊基咣咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、 1-甲基-1-己基吡咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、卜甲基4•庚 基吡咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、二乙基吡咯烷鏽雙(五 氟乙磺醯)亞胺、1-乙基-丨-丙基吡咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞 月女、1-乙基-1-丁基吡咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、乙基_ 1 ·戊基吡咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、丨_乙基_丨_己基吡咯 烷鑌雙(五就乙磺醯)亞胺、乙基庚基吡咯烷鑌雙1(五氟 乙磺醯)亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、卜 丙基-1-丁基吼咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、丨·丙基_丨_戊基 。比咯烷鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、丙基·i-己基呲咯烷鑌雙 (五就乙石黃酿)亞胺、L丙基]-庚基吼洛烧鑌雙(五氟乙石黃酿) 亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、丨_丙基哌 =鑌雙(五氟乙磺酿)亞胺、L戊基㈣錯雙(五氣乙石黃酿)亞 胺、1,1-二甲基哌啶鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、卜甲基_1_乙 基㈣鑌雙(五氟乙續醯)亞胺、卜甲基小丙基派σ定錯雙(五 =乙石只醯)亞胺、L甲基小丁基派口定鑌雙(五氣乙石黃酿)亞 胺、1-甲基-1-戊基哌啶鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、甲基 20 -200643132 己基辰疋麵雙(五氟乙磺醯)亞胺、丨-曱基_ι_庚基哌啶鏽雙 (五氟乙〜i)亞胺、丨,丨·二乙基哌啶鑌雙(五氟乙磺醯)亞 胺、1-乙基-1-丙基哌啶鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、卜乙基-卜 丁基哌啶鑌雙(五氟乙磺醯)亞胺、^乙基_丨_戊基哌啶鏽雙 (五氟乙石頁醯)亞胺、1 -乙基_丨_己基哌啶鏽雙(五氟乙磺醯) 亞胺、1 -乙基_ 1 -庚基哌啶鏽雙(五氟乙績醯)亞胺、丨,丨_二 丙基哌啶鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、1ββ丙基-丨_丁基哌啶鏽雙 (五氟乙磺醯)亞胺、1 -丙基_ 1 ·戊基哌啶鏽雙(五氟乙磺醯) 亞胺、1 -丙基_ 1 -己基哌啶鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、;1 _丙基_ 1 -庚基♦ σ定鏽雙(五氣乙確醯)亞胺、1,1 -二丁基旅咬鏽雙(五 氟乙磺醯)亞胺、四氟硼酸2-曱基-1-吡咯啉、四氟硼酸^ 乙基-2-苯基0引°朵、四氟侧酸1,2 -二甲基σ引ϋ朵、四氟硼酸1_ 乙基12卡ϋ坐、六氟鱗酸1 -乙基-3 -甲基咪n坐鑌、四氟侧酸1 _乙 基-3-甲基咪唑鑌、乙酸1 ·乙基-3-甲基咪唑鏽、三氟乙酸1 -乙基-3-甲基咪唑鏽、七氟丁酸1-乙基-3-甲基咪唑鏽、三 氟甲磺酸1-乙基-3-曱基味唑鏽、過氟丁磺酸丨_乙基-3·曱 基咪唑鏽、1-乙基_3_甲基咪唑鏽二氰胺、1-乙基-3-甲基咪 唑鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺、丨-乙基-3-甲基咪唑鑌雙(五氟乙 磺醯)亞胺、卜乙基_3_甲基咪唑鏽三(三氟甲磺醯)甲基化 物、四氟棚酸卜丁基-3 -甲基咪σ坐鑌、六氟鱗酸1 - 丁基-3 -甲基咪唑錨、三氟乙酸卜丁基-3 -曱基咪唑鑌、七氟丁酸j _ 丁基-3-甲基咪唑鑌、三氟甲磺酸1- 丁基-3-甲基咪唑鑌、 過氟丁磺酸卜丁基-3-甲基咪唑鏽、1·丁基-3-甲基咪唑鏽雙 (三氟甲磺醯)亞胺、卜己基甲基咪唑鏘溴化物、1-己基_ 21 200643132 3 _甲基味。坐鑌氣化物、四氟侧酸1 -己基-3 -曱基1^米σ坐鏽、六 氟磷酸1-己基-3-甲基咪唑鏽、三氟曱磺酸1·己基-3-曱基 咪唑鏽、四氟硼酸1-辛基-3-甲基咪唑鏽、六氟磷酸1·辛基 -3-甲基咪唑鏽、四氟硼酸1-己基-2,3-二甲基咪唑鏽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、四氟磺酸1-甲 基吡唑鏽、四氟磺酸3-甲基吡唑鏽、1-乙基-2,3,5-三甲基 吡唑鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑 鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鏽雙 • (三氟甲磺醯)亞胺、1-乙基-2,3,5-三甲基吡唑鏽雙(五氟 乙磺醯)亞胺、1-丙基-2,3,5-三曱基吡唑鏽雙(五氟乙磺醯) 亞胺、1-丁基·2,3,5-三曱基吡唑鏽雙(五氟乙磺醯)亞胺、l· 乙 基-2,3,5-三 甲基吡 唑鏽雙 (三氟 甲磺醯 ) 三氟乙 醯胺、1-丙基-2,3,5-三甲基吡唑鏽雙(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、1-丁基-2,3,5-三甲基吡唑鏽雙(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、 Ν,Ν·二甲基-Ν-乙基_Ν-丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν_乙基-Ν-丁銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲 ® 基-N-乙基-Ν·戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν-乙基-Ν-己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν-乙基-Ν-庚銨雙(三氟曱磺醯)亞胺、Ν,Ν-二曱基-Ν-乙基_Ν-壬 銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν·二甲基-Ν,Ν·二丙銨雙(三 氟曱磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν-丙基-Ν- 丁銨雙(三氟甲 磺醯)亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν-丙基_Ν-戊銨雙(三氟曱磺醯) 亞胺、Ν,Ν-二甲基-Ν-丙基-Ν-己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、 1^,1^-二甲基-]^-丙基-^^-庚敍雙(二氣曱石黃酿)亞胺、]^,]^- 22 200643132 二甲基-N-丁基-N-己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N-二甲 基丁基-N-庚銨雙(三氟曱磺醯)亞胺、N,N-二曱基-N-戊基_N-己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N-二甲基·Ν,Ν-二 己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三甲基庚銨雙(三氟甲磺醯) 亞胺、Ν,Ν-二乙基-Ν-甲基-Ν-丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、 Ν,Ν-二乙基-Ν-甲基-Ν-戊銨雙(三氟曱磺醯)亞胺、Ν,Ν-二乙基-Ν-甲基-Ν-庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二乙 基-Ν-丙基-Ν·戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三乙基丙銨雙 ® (三氟曱磺醯)亞胺、三乙基戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、 三乙基庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二丙基-Ν-甲基-Ν-乙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二丙基-Ν-甲基·Ν-戊銨 雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν-二丙基-Ν-丁基-Ν_己銨雙(三 氟甲磺醯)亞胺、Ν,Ν_二丙基-Ν,Ν-二己銨雙(三氟甲磺醯) 亞胺、Ν,Ν-二丁基-Ν-甲基-Ν-戊銨雙(三氟曱磺醯)亞胺、 Ν,Ν-二丁基-Ν-甲基-Ν-己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三辛 基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、Ν-甲基-Ν-乙基-Ν-丙基-Ν-戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、1 - 丁基吼啶鏽(三氟甲磺醯) 二氟^乙酸胺、1-丁基-3-甲基σ比σ定錢(三氟1甲石黃酿)三氟^乙 醯胺、1 -乙基-3-甲基咪唑鏽(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、 四己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、四氟硼酸Ν,Ν-二乙基-Ν-甲基-Ν-(2-甲氧基乙基)銨、Ν,Ν-二乙基-Ν-甲基-Ν-(2-甲氧 基乙基)銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、四氟硼酸二烯丙基二甲 銨、三氟甲磺酸二烯丙基二甲銨、二烯丙基二甲銨雙(三 氟甲磺醯)亞胺、二烯丙基二甲銨雙(五氟乙磺醯)亞胺、 23 •200643132 三氟甲續酸環氧丙基三甲銨、環氧丙基三甲銨冑(三貌甲 石黃醯)亞胺、環氧丙基三甲錢雙(五I乙績醯)亞胺、二稀 丙基一甲銨(三氟甲磺醯)2氟乙醯胺、環氧丙基三甲銨 (三敗甲績醯)三氟乙醯胺、二浠丙基二甲銨雙(五氟乙綠 醯)亞胺、二烯丙基二甲基雙(五氟乙項醯)亞胺、卜辛基_3 甲基喃唾鑌氯化物、i-癸基_3_甲基啼嗤鑌氯化物、“十二 烧基I甲基味嗤鏽氯化物、“十四院基-3-甲基㈣鐵氣化 物、!-十六烧基-3-甲基味唾鑷氯化物、L己基_2,3_二甲基 味蝴臭化物、^己基_2,3_二甲基口米唾鏽氯化物、三敗; 石黃酸r丁基対Hr己基。比咬錄氣 氯化物等。 g丞比疋麵 ,中,特別以使用式⑷、式⑻、式(〇所表示之環狀 ㈣_子成分為佳。藉由❹該㈣狀之氮鑌陽離子成 :即使於黏著劑組成物(及黏著劑層)中之含量少,亦 ::效地減低被黏著體的剝離電壓。環狀陽離子,即使為 方族、’其不飽和鍵可飽和、亦可為具有飽和度者。 合成,述之離子性液體’可使用市"、亦可以下述方法 雜,二之合成方法’只要可得到目標物離子性液 ft ^ ea ^ 一 〇係使用如文獻,,離子性液 之二之最前線與未來 和法等 "氧化物法、酸醋法、錯合物形成法、及中 24 -200643132 ,以下顯示以函化物法、氫氧化物法,法、錯合物 形:法、及中和法合成含氮鑌鹽之合成方法為例,但:他 之含硫鏽鹽、含鱗鐵鹽等其他離子性液體 二 法製得。 了 μ同樣方 、齒化物法’係藉由下述式⑴〜(3)所示之反應來進行之 方法。首先,使3級胺與鹵化烷反應製得_化物(反應式 (0,鹵素可使用氣、溴、碘)。 • 將所得之鹵化物、與具有目標物離子性液體之陰離子 構造(A—)之酸(hA)或鹽(MA、M係銨、鋰、鈉:鉀等 目標物陰離子與形成鹽之陽離子)反應,而製得目標物離 子性液體(R4NA)。 (Ί ) R3 M +RX —R4 N X (X : C ί , B r , 1 )
(2) R4NX + H A->R4N A + HX (3) RJX + MA—R4NA + MX(M:NH4,Li, K, Ag 等) 氫氧化物法,係藉由下述式(4)〜(8)所示之反應來進行 之方法。首先,將鹵化物(Rex )以離子交換膜法電解(反 應式(4)) 、〇H型離子交換樹脂法(反應式(5))、或與氧 化銀(Ag2〇 )之反應製得氫氧化物(RaoH )(鹵素可使 用氯、溴、峨)。 (4) R4NX-f H2O^R4NOH + 1 /2 H2+1 /2X2 (X : C I , B r, I } (5) N X-h P—O H-*R4 N O H-f P —X ( P — 〇 H : Ο H型離子交 脂)
(6) R4MX+1/2Ag:20+1 /2Η20—R4NOH + AgX (7) r4noh + ha —r4ma + h2o (8) R4NOH-fMA~-RAN A4-MOH (M : NH^, Li, N a, K, Ag 等) 25 200643132 酸酯法,係藉由下述式(9)〜(11)所示之反應來進行之 方法。首先,使3級胺(R3N)與酸醋反應而製得酸_物 (反應式(9),酸醋,可使用硫酸、亞硫酸、麟酸、亞麟酸、 碳酸等無機酸的酯、或甲績酸、曱基膦酸、甲酸等有機酸 的酯)。 將所得之酸酯物,與上述鹵化法同樣地使用反應式 (10)〜(1 1)之反應,製得目標物離子性液體(R4NA )。又, 酸酯亦可使用曱基三氟甲磺酸酯、甲基三氟乙酸酯等,而 > 直接製得離子性液體。
丨O Y (9) RsN + R〇 丫 —
〇 OR OR O 〇R ii 丨 I II i (OY: OS OR OS OR, OP OR, OPOR, 〇COR, 〇SR, 〇PR OCR 等) II ’ II Π jl IJ || li ⑽ R4NO 丫+ HA —R4NA + HO 丫
Coy » ocor的場台時 、ocor+ha—r4na + co2 + roh) ii ii o o (Π) R4NOY+MA —RaNA + MOY (M : NH4, Li, Na, K, Ag 等) 錯合物形成法,係藉由式(12)〜(15)所示之反應來進行 之方法。首先,將4級銨之鹵化物(R4nx ) 、4級銨之氳 氧化物(R4NOH) 、4級銨之碳酸酯化物(r4N〇c〇2CH3) 等、與氟化氫(HF)或氟化銨(nH4F)反應,製得氟化4 級銨鹽(反應式(12)〜(14))。 將所製得之氟化4級鏔鹽,與BFi、A1F,、PF<、ASF、 Sbh、NbFs、TaFs等氟化物進行錯合物形成反應,藉此可 製得離子性液體。(反應式(丨5)) 26 200643132 (⑵ R4MX + H F—R4NF + HX (X : C I , B r , I) (13) R4NY + HFt —R4NF + HY (Y : OH, 0C02CH3) (H) R4Ny+mh4F—R4NF + NH3 + HY (Y : oh, oco2ch3) (1¾ R4NF+MFny —R4NMFn * iMFnq : β fr3, a I F3, P F5, AS F5, S b F5, N b Fs, T a F5 等) 中和法,係藉由式(1 6)所示之反應來進行之方法。可 藉由使 3 級胺與 HBF4、HPF6、CH3COOH、CF3COOH、 cf3so3h、(cf3so2)2nh、(cf3so2)3ch、(c2f5so2)2nh 等 有機酸反應而製得。 C16) R3NJ + HZ4R3HN + Z-. LH2:HBF4f HPF6, CH3CO〇H, CF3CO〇H, CF3S03H, kCF3S02) (CF3S02) 3gh,(c2f5so2) 2nh 等有機酸] 上述(1)〜(16)所記載之R,係表示氫或碳數ido之烴 基,而亦可包含雜原子。
離子性液體之凋配量,由於會隨所使用之聚合物與離 子性液體之相溶性而改變,故無法—概而論,但一般而言, 對基體聚合物100重量份’以0.01〜40重量份為佳、〇 〇1〜3〇 重量份較佳、G.G3〜2〇重量份更佳、㈣3〜1()重量份又又更 佳、0.03〜4.9重量份特佳、G.G5〜2重量份最佳。若未滿〇 〇1 重量份’則無法得到足夠的抗靜電特性,而若超過4〇重 量份,則對被黏著體之污染有增加的傾向。 基)丙烯酸系聚合物, 示之反應性界面活性 本發明中’基體聚合物係使用(甲 其具有單體單位為以下述通式⑴所表 劑0.01〜20重量%。 27 200643132
R 3 一 R—C li C / \ 1 2 R R °^R5〇)„7tR6〇*)rX. (1) [式(I)中之R!、R2、及,係表示相同或相異之氫或 甲基。R4,係表示碳數0〜30之烷撐基(又,碳數為〇時, 係表不不具R4 )。Rs及R0,係表示相同或相異之碳數〇〜3〇 之烷撐基。m係表示〇〜50之數(可不為整數),n係表示 0〜100之數(可不為整數),m+n係表示i〜l5〇之數(可 _ 不為整數)。X,係表示氫或陰離子性親水基。] 本發明所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物,只要是相當 於上述者之具有黏著性的甲基)丙烯酸系聚合物即可,並無 特別限定。 ^ 上述式⑴所表示之反應性界面活性劑中,,以碳數 0〜10之烷撐基為佳,以碳數〇〜4之烷撐基為更佳。又,當 碳數為0時,係表示無R4。 石反數1〜4之烧撐基,可舉例如亞甲基、乙撐基、^ i 丙撐基、1,3-丙撐基、二曱基乙撐基、丁撐基、2,3_丁 撐基、1,3-丁撐基、L4-丁撐基、異丁撐基等。 上述式(I)所表示之反應性界面活性劑中,較佳為, 石反數2〜20之烷撐基,而特佳為,碳數3〜18之烷撐基、或 以下述式(II)或下述式(HI)所表示之烧氧基甲基乙撐基。
CH. OR -CH丄二 ⑴) 28 200643132 [式(II)中之R,表示碳數1〜18之烷基。]
CH.OR (ill)
I 一chch2— [式(III)中之R,表示碳數1〜18之烷撐基。]
碳數3〜18之烷撐基,可舉例如L2-丙撐基、1,3-丙撐 基、二甲基乙撐基、1,2-丁撐基、2,3·丁撐基、1,3-丁撐基、 1〆-丁撐基、異丁撐基、戊撐基、己撐基、庚撐基、辛撐 基、壬撐基、癸撐基、十二烷撐基、十四烷撐基、十六烷 撐基、十八烷撐基等。 碳數1〜18之烷基,可舉例如甲基、乙基、丙基、2_甲 丙基、正丁基、二級丁基、三級丁基、異丁基、戊基、3_ 甲戊基、己基、2-乙己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十 四烷基、十六烷基、十八烷基等。 上述式(I)所表示之反應性界面活性劑中
1〜4之烷撐基為佳,以碳數為2之乙撐基為特佳。 上述式(I)所表示之反應性界面活性劑中,m個(1〇)基 及η個(R^o)基,可分別為封端鍵結、隨機鍵結等之任一種 鍵結,並且亦可為封端鍵結與隨機鍵結兩者組合之鍵結形 j。又,封端鍵結時’(10)基與化6〇)基之排列順序^隨 思。亚且,m個(R5〇)基,可為相同亦可為不同,當為不同 時’可為封端鍵結、隨機鍵結、或封端鍵結與隨:鍵結兩 者組合之鍵結形式。 ° m,係表示氧烷撐基或烷氧基曱基氧乙撐基之平均力 29 200643132 成莫耳數,為〇〜5〇的數 〜数、可不為整數),而以0〜40之範 圍為佳、〇〜20之範圍為特佳。 η,係表示氧烷撐基之平均加成莫耳數,為〇〜1〇〇的 數(可不為整數), 而以1〜70之範圍為佳、5〜50之範圍 為特佳。 又 為整數 ’m與η不同日專袁 J于马0,而m+n為ι〜15〇的數(可不 …上述式⑴所表示之反應性界面活性劑中,X,係表示 氫或陰離子性親水基。 陰離子性親水基,可與 了舉例如,下述式(1 V)或下述式(V) 所表示者。 s 〇 3 Μ1 (IV) 锻 [式(IV)中之Μ】,表+ _ ^ . Μ 衣不虱、鹼金屬、鹼土類金屬、 基、烷醇銨基。1 2 Μ ο 3 ΙΜ ο πρ~' ο [式(V)中之Μ2及 <,砉+ ηT 卜 3表不相同或不同之氫、鹼金屬、 ^ 土類金屬、銨基、烷醇銨基。] 上述反應性界面活性劍 4之具體例可舉例如拉帖母魚 PD-l〇4(花王公司萝、^ ^ 110、拉帖母魯PD-420 (花王公司製)、 拉帖母魯PD-430 (花王八q制、 t ; A司製)、拉帖母魯PD-450 ( # 王公司製)等。 〈化 30 200643132 反應性界面活性劑,可單獨使用亦可混合2種以上使 用,但以占(曱基)丙烯酸系聚合物之總單體成分令之 0.01〜20重量%為佳,0.05〜10重量%為更佳、〇1〜5重量〇/〇 為特佳。反應性界面活性劑之含量若少於〇〇1重量%,則 無法充分獲得本發明之離子性液體的滲出抑制效果及被保 護體之污染減低效果,故不佳。另一方面,若超過2〇重 置%,則離子性液體的滲出抑制效果變高、抗靜電效果減 低,故不佳。 _ 又,本發明中,除上述反應性界面活性劑之外,亦可 使用用以調整具有碳數之烷基之(甲基)丙烯酸酯及(甲 基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉化點、剝離性之其他聚合性單 體成分。 具有碳數1〜14之烷基之(甲基)丙烯酸酯之具體例,可 舉例如(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯 酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、 •(甲基)丙烯酸異了醋、(甲基)丙烯酸己酉旨、(甲基)丙烯酸2_ 乙己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲 基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正 癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲 基)丙烯酸正十三烷酯、(甲基)丙烯酸正十四烷酯等。 其中,使用於本發明之表面保護膜時,較佳為使用(甲 基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸 二級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲 基)丙烯fee 2-乙己酯、($基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸 31 200643132 a辛酉曰(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲 基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯等。 上述具有碳數1〜14之烷基之(甲基)丙烯酸酯,可單獨 使用:亦可混合2種以上使用,但整體含量以占(甲基)丙 烯酸系聚合物之總單體成分中之50〜99.99重量%為佳,
60’重量%為更佳、7()〜96重量%為特佳。藉由使用該具 有厌數1〜14之烷基之(甲基)丙烯酸酯,可適當調節與離子 性皁體之良好的相互作用、及良好的接著性。 又’其他聚合性單體成分,可於不損及本發明效果之 範圍内,使用用以調整(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉化 點、剝離性之聚合性單體等。 其他聚合性單體成分,可適當使用例如,含磺酸基單 體、含磷酸基單體、含氰基單體、含乙稀酯單體、芳香族 乙烯化合物等凝集力、耐熱性提昇成分;及含羧基單體、 含酉文酐基單體、含經基單體、含醯胺基單體、含胺基單體、 S亞胺基單體、含環氧基單體、丙烯醯嗎琳、乙烯驗類 等具有提昇接著力及作為交聯化基點作用官能基之成分。 该其他成分可使用1種或併用2種以上。 而當使用具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸官能基之(曱 基)丙烤酸酯時,(甲基)丙烯酸系聚合物之酸價,以調整為 29以下為佳。若(曱基)丙烯酸系聚合物之酸價超過29,則 抗靜電特性會有變差的傾向。 酸價之調整,可根據具有酸官能基之(甲基)丙烯酸酯 的調配量加以調整,可舉例如,具有羧基之(甲基)丙烯酸 32 200643132 系聚合物為丙稀酸2乙己8旨、與㈣酸共聚合成 丙:酸系聚合物時’對於丙烯酸2_乙己酷、與丙烯酸:合 汁里100重量份,藉由將丙烯酸調整為3.7重量份以下, 可滿足上述酸價之值。 含有石黃酸基之單體,可舉例如苯乙稀續酸、烯丙基績 酸、2-(曱基)丙烯醯胺_2_甲基丙續酸、(甲幻丙婦酿胺丙 T、績丙基(甲基)丙稀酸酉旨、(甲基)丙烯醯氧萘續酸、乙 細續酸納等。 含麟酸基之單體,可舉例如2·録乙基丙㈣磷酸 酯0 含氰基之單體,可舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈。 乙稀酉旨類,可舉例如乙酸乙稀醋、丙酸乙婦醋、月桂 酸乙烯酯等。 /芳香族乙烯化合物,可舉例如苯乙烯、氯化苯乙烯、 氯化:基苯乙烯、α_甲基苯乙烯、其他取代苯乙烯等。 〃含竣基之單體,可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙稀酸 羧土 -曰(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來酸、富 馬酸、丁烯酸、異丁烯酸等。 含酸野基之單體,可舉例如馬來酸針、衣康酸酐、上 述含羧基單體之酸酐體等。 工基單體,可舉例如(甲基)丙烯酸2·羥基乙酯、(甲 基)丙婦& 2-經基丙醋、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基) 丙浠酸6-經基己醋、(甲基)丙稀酸8_經基辛酉旨、(甲基)丙 稀酸心經基癸酿、(甲基)丙烯酸12經基月桂醋、丙稀酸(4_ 33 200643132 羥基曱基環己基)曱酯、N-羥甲基(曱基)丙烯醯胺、乙烯醇、 稀丙醇、2-經基乙基乙稀_、4-經基丁基乙稀鱗、二乙二 醇單乙烯醚等。 含醯胺基之單體,可舉例如丙烯醯胺、曱基丙烯醯胺、 一乙基丙烯醯胺、N-乙烯基Ώ比咯烷酮、N,N_二曱基丙烯醯 月女、N,N-二曱基甲基丙烯醯胺、N,N_二乙基丙浠醯胺、N,N-一乙基曱基丙烯醯胺、N,N、亞曱基基雙丙烯醯胺、N,N-二 曱胺丙基丙烯醯胺、Ν,Ν·二甲胺丙基甲基丙烯醯胺、二丙 酉同丙稀醢胺等。 含胺基之單體,可舉例如(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(曱 基)丙烯酸Ν,Ν-二曱胺基乙酿、(曱基)丙烯酸Ν,Ν_二甲胺 基丙酯、(曱基)丙烯龜嗎琳等。 3亞版基之單體,可舉例如環己基馬來酸酐縮亞胺、 異丙基馬來酸if縮亞胺、Ν_環己基馬來酸針縮亞胺、衣康 亞胺等。 3 %氧基之單體,可舉例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲 基)丙稀酸甲基環氧丙醋、烯丙基環氧丙基鱗等。 乙軸,可舉例如甲基乙稀喊、乙基乙烯醚、異丁 基乙細鱗等。 口 f早肌,q平殉便用、亦可混合2種 以上使用,但整體冬旦/ 里乂占(甲基)丙烯酸系聚合物之總單 體成分中之0〜49.99重量0/或社 ” Λ 里/〇為it,以0.5〜40重量%為更佳、 而以1〜2 0重量%炎4 士 …、土。藉由使用上述之其他聚合性單體 烕分,可適當調筋齟齡η β 〃 性単體之良好的相互作用、及良 34 200643132 好的接著性。 本發明所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物,較佳為重量 平均分子量為10萬〜500萬,而以20萬〜4〇〇萬為更佳、3〇 萬〜300萬又更佳。當重量平均分子量小於i"時,黏著 劑組成物的凝集力變小而有產生殘膠的傾向。另一方面, 當重量分子量超過500萬時,聚合物的流動性降低使對偏 光板的親和性不足’偏光板與表面保護膜之間有發生膨脹 的傾向。重量平均分子量,係指藉由Gpc (㈣p顏— on chromatography,凝膠滲透層析法)所測得者。 又,作為基體聚合物之該(甲基)丙烯酸系聚合物,通 常係使用玻璃轉化溫度(Tg)為_1〇(rc以上者,而以_9〇。〇〜〇 °C為佳、而以.8G°C〜-IGt為更佳。若玻璃轉化溫度較〇£>c 高,則聚合物難以流動而使對偏光板之親和性不^,則偏 光板與表面保護膜之黏¥劑組成物構成之層間有發生膨服 的傾向。又’(甲基)丙稀酸系聚合物之玻璃轉化溫度⑽), 可藉$適當改變所使用之單體成分及其組成比’來調整至 上述靶圍内。本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物,可使用溶 液聚合、乳化聚合、整體聚合、懸浮聚合等—般作為丙稀 酸系聚合物之合成方法所使用之聚合方法來製得。又,所 裝知之來口物,可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共 物等。 本發明之黏著劑組成物’藉由將(甲基)丙烯酸系聚合 物進行適當之交聯’可製得耐熱性更優異之黏著片類。交 聯方法之具體手段’係使用交聯劑,其係對異氰酸醋化合 35 200643132 物、裱氧化合物、二聚氰胺系樹脂、氮碳雜環丙烷化合物 等(甲基)丙_系聚合& ’添加具有可和竣基、羥基、胺 基、醯胺基(作為適當交聯化基點)#反應的基之化合物 並使其反應。#中,主要由可獲得適度之凝集力的觀點考 量’以使用異氰酸醋化合物、或環氧化合物為特佳。該等 化合物,可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 其中,異氰酸西旨化合物,可舉例如曱苯擇二異氮酸酿、 苯二甲基二異氰酸酯等芳香族里氱 六一氰Θ夂酉曰、異佛爾酮二異氰 酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲其一苺备缺此处 月 ,、52甲暴一異虱酸酯等脂肪族異 氰酸酯等。
更具體而言,異氰酸酯化合物,可舉例如丁撐二異氰 酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類、 環戊撐二異氰酸醋、環己撐二異氰酸_、異佛爾酮二異氰 酸酯等脂環族異氰酸酯類、2,4-甲苯撐二異氰酸酯、4,4、 二苯基曱烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異 氰酸酯類;三羥甲基丙烷/甲苯撐二異氰酸酯3聚物加成物 (曰本聚氨基甲酸酯工業公司製,商品名可魯聶德L)、 三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯3聚物加成物(日本聚 氨基甲酸酯工業公司製,商品名可魯聶德HL )、六亞甲 基一異氰酸醋之三聚異氰酸酯體(曰本聚氨基甲酸酯工業 公司製’商品名可魯聶德HX )等異氰酸酯加成物等。該 等異氰酸醋化合物,可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 環氧化合物,可舉例如N,N,N,,N,-四環氧丙基-m·二甲 苯一胺(二曼瓦斯化學公司製,商品名TETRAD-X)、或 36 200643132 1,3·雙(N,N-二環氧丙基胺甲基)環己烷等。該等化合物,可 單獨使用、亦可混合2種以上使用。 二聚氰胺系樹脂’可舉例如六羥$基三聚氰胺等。 氮雜環丙烷衍生物,可舉例如市售品之商品名、 商口口名TAZM、商品名TAZO (以上,相互藥工公司製) 等。该等化合物,可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 該等交聯劑之使用量,可根據與需交聯之(甲基)丙烯 酸系聚合物的平衡、以及黏著片之使用用途來加以適當選 擇。為了藉丙烯酸黏結劑之凝集力以得到足夠之耐熱性, 一般而3,對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物丨〇〇重量份, 以含有0.01〜15重量份為佳,而以含有〇·5〜1〇重量份為更 佳。當含量少於0·01重量份時,以交聯劑所形成之交聯不 足夠,而使黏結劑組成物之凝集力變小,可能有無法獲得 足夠耐熱性之情形,且亦有導致糊殘留之傾向。另一方:: 當含量㈣15重量份時,聚合物的凝集力變大、流動性 降低,使其對被黏著體之親和性不足,而有成為剝離之原 因的傾向。 又’實質之交聯劑亦可使用具有2個以上放射線反應 性不飽合鍵之多官能單體,以放射線等進行交聯。 具有2個以上放射線反應性不飽合鍵之多官能單體, 可使用具有2個以上如乙烯基、丙烯醯基、 ^ 丙烯醯基、 乙烯苄基等可藉放射線照射進行交聯處理 、更化)之1種 或2種以上之放射線反應性不飽合鍵之多官能單體成分。 又,一般而言,多官能單體亦可併用2種以上。 37 200643132 多官能單體之具體例,可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯 酸酯、一乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙稀 酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、丨,6-己二醇二(甲基)丙 烯酸酯、三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二乙烯笨、 N,N’-亞甲基雙丙烯醯胺等。 多g旎單體的使用量,可根據與需交聯之(甲基)丙烯 酸系聚合物的平衡、以及黏著片之使用用途來加以適當選 擇。為了藉丙烯酸黏結劑之凝集力以得到足夠之耐熱性, 一般而言,對該(甲基)丙烯酸系聚合物1〇〇重量份,以調 配0· 1〜30重罝份為佳。又,若由柔軟性、接著性的觀點考 量,對(甲基)丙烯酸系聚合物100重、量份,以調配調配1〇 重量份以下為隹。 放射線,可舉例如紫外線、雷射線、α射線、p射線、 γ射線、X射線、電子射線等,但由控制性、良好處理操作 性、及成本的觀點考量,以紫外線較佳。而以使用波長 200〜40〇nm的紫外線為更佳。紫外線,可使用高壓水銀燈^ 微波激發型燈、化學燈等適當光源來照射。又,當使用紫 外線作為放射線時,會於丙烯酸黏著劑層添加光聚合起始 劑。 光聚合起始劑’只要是可因應放射線反應性成分的種 類,糟由照射可成為其聚合反應激發劑之適當波長紫外 線,而生成自由基、或陽離子的物質即可。 光自由基聚合起始劑,可舉例如’安息香、安息香甲 38 200643132 醚、安息香乙喊、鄰苯甲醯苯甲酸甲基_對安息香乙驗、安 息香異+丙ϋ、α_甲基安息香等安息香類;节基二甲基縮嗣、 一氯苯乙酮2,2-—乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯酮等 苯乙酮類、2-羥基_2_甲基苯丙酮、2_羥基_4,-異丙基_2_甲 基苯丙酉同等苯丙酮類;二苯甲嗣、甲基二苯甲嗣、對氯二 苯甲酮、對二甲胺二苯甲酮等二苯甲酮類、2_氯噻噸酮、2_ 乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等噻噸酮類;雙(2,4,6-三甲 基苯曱醯)_苯膦氧化物、2,4,6三甲基苯甲醯二苯鱗氧化 物、(2,4,6-三甲基苯甲醯)_(乙氧基)_苯麟氧化物等酿膊氧 化物類;β二苯基乙二酮、二苯并環庚_、心醯基㈣等。 光陽離子聚合起始劑,可舉例如芳香族重氮鐵鹽、芳 香族碘鏽鹽、芳香族銃鹽等鏽鹽、鐵—丙二烯錯合物、二 茂鈦錯合物、芳基矽烷醇—銘錯合物等有機金屬:合物、 硝基节醋、石黃酸衍生物、磷酸醋、苯齡續酸酯、重氮基苹 西昆、[經基亞胺石黃酸鹽等。該光聚合物起始劑,亦可併用 2種以上。 光聚合起始劑,對於(甲基)丙烯酸系聚合物ι〇〇重量 份,通常調配(Μ〜10重量份,而較佳為調配〇2~7重量份 的範圍。 並且,亦可併用胺類等光聚合起始輔助劑。該光起始 輔助劑’可舉例如2-苯甲酸二甲基氨基乙輯、二甲胺苯乙 酮、苯甲酸對二甲基氨基乙酿、苯甲酸對二甲基氨基異戊 酿等。該光聚合起始劑,亦可併用2種以上。聚合起始劑, 對(甲基)丙烯酸系聚合4勿100 t量份,通常調酉己〇〇5〜1〇 39 200643132 而車又佳為調配0 · 1 ~7重量份的範圍。 再者’本發明之黏著片類所使狀㈣劑組成物,可 '1用用途適當添加習知之各種增黏劑、表面潤滑劑、平 s人 氧化刎、抗腐蝕劑、光安定劑、紫外線吸收劑、 " 切有機矽烷耦合劑、無機或有機之充填劑、金 屬粉、顏料等粉體、粒子狀、fl狀物等習知之各種添加劑。 本發明之黏著劑組成物中,可含有適當之含醚基化合 # :。藉由黏著劑組成物含有該含謎基化合物,可作成抗靜 s更优異之黏著劑組成物。使用含醚基化合物造成抗靜 電,f昇^之理由雖未明確,但藉由併用含醚基化合物, Y提升對a等非極性材料之親和性,而可使離子性液體有 效率地進行對被黏著體之轉印。 。本么明中之含醚基化合物,只要為含有醚基之化合物 即可,並無特別限定,可使用習知之含有醚基化合物。 一忒3醚基化合物,具體而言,可舉例如聚醚聚多元醇 •口物含有環氧化物基之化合物等。其中,聚醚聚多元 7化合物、含有烷撐二醇基之(曱基)丙烯酸系聚合物、及 來氧化烷撐基烷基苯醚、聚氧化烷撐基烷醚、聚氧化烷撐 ^烷基烯丙醚等醚型界面活性劑,由於可容易獲得與基體 聚合物之相溶性的平衡,故較佳。 聚醚聚多元醇化合物,可舉例如聚乙二醇、聚丙二醇 (一知型)、聚丙二醇(三醇型)、聚丁醚二醇、及上述 行生物、聚丙二醇—聚乙二醇一聚丙二醇之嵌段共聚物、 ^丙_酉予一聚乙二醇之嵌段共聚物、聚乙二醇一聚丙二醇 200643132 一聚乙二醇之嵌段共聚物、聚丙二醇一聚乙二醇之無規共 聚物等聚乙二醇與聚丙二醇之無規共聚物及嵌段共聚物。 又’二醇鏈之末端,可保持為羥基、或以烷基、苯基 等取代。 含有少兀禮一醇基之(曱基)丙烯酸系聚合物,可使用以 含有烧撐二醇基之(甲基)丙烯酸酯作為必須成分之(曱基)丙 烯酸系聚合物。 對該(甲基)丙烯酸酯之氧烷撐基單位,可舉例如具有 石反數1〜6之烧撐基者等,可舉例如,氧甲烯基、氧乙浠基、 氧丙烯基、氧丁烯基等。 又,(甲基)丙烯酸酯之氧烷撐基單位之加成莫耳數, 由離子性液體配位之觀點考量,以U0為佳、2〜3〇更佳。 再者,氧烷撐基鏈之末端,可保持為羥基、或以烷基、 苯基等取代。 含有烷撐二醇基之(甲基)丙烯酸系聚合物,可舉例如 甲氧基一一"乙一^手(甲基)丙細酸醋、甲氧基一三乙二醇(曱 基)丙烯酸酯等甲氧基一聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型;乙氧 基一二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基一三乙二醇(曱基)丙 稀酸酯等乙氧基一聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型;丁氧基_ 二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基一三乙二醇(甲基)丙稀酸 酯等丁氧基一聚乙二醇(甲基)丙浠酸S旨型;苯氧基_二乙 二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基一三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等 苯氧基一聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型;甲氧基一二丙二醇 (甲基)丙稀酸_寺甲氧基一聚丙二醇(甲基)丙浠酸酉旨型;2_ 41 • 200643132 乙己基一聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基酚一聚乙二醇(甲 基)丙烯酸酯等。 又,上述成分以外,亦可使用(甲基)丙烯酸曱酯、(曱 基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級 丁西旨、(曱基)丙稀酸二級丁 |旨、(曱基)丙稀酸異丁 g旨、(曱 基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙己酯、(甲基)丙烯酸正 辛酯、(曱基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基) 丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、 (甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、(甲 基)丙烯酸正十四烷酯等具有碳數i — 4之烷基之(甲基)丙 烯酸酯。 "並且,亦可適當使用含磷酸基之(甲基)丙烯酸酯、含 氫基之(甲基)丙烯酸酯、乙烯酯類、芳香族乙烯化合物、 含酸野之(f基)丙稀酸0旨、含經基之(甲基)丙婦酸醋、含酿 胺基之(甲基)丙《醋、含胺基之(甲基)丙烯酸醋、含亞胺
基之(甲基)丙烯酸醋、含烷氧基之(甲基)丙烯酸醋、N_丙 烯醯嗎啉、乙烯醚類等。 含磷酸基之單體 酯0 可舉例如2-备基乙基丙烯醯磷酸 甲基丙烯腈。 丙酸乙稀酯、月桂 乙烯酯類,可舉例如乙酸乙 酸乙烯酯等。 芳香族乙烯化合物,可舉例 ^ 氯化甲基苯乙烯、α_甲基苯 _、虱化苯乙烯 其他取代苯乙烯等。 42 200643132 含酸酐基之單體,可舉例如馬來酸酐、衣康酸酐、上 述含羧基單體之酸酐體等。 含羥基單體,可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲 基)丙烯酸2-羥基丙酯、(曱基)丙烯酸4_羥基丁酯、(曱基) 丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8_羥基辛酯、(曱基)丙 烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯、N-羥甲基(曱基)丙烯醯胺、乙烯醇、 烯丙醇、2-.基乙基乙浠鱗、‘經基丁基乙烯醚、二乙二 醇單乙烯醚等。 含驢胺基之單體,可舉例如丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、 二乙基丙烯酸胺、N-乙烯基吡咯烷酮、N,N_二甲基丙烯醯 胺、N,N-二甲基甲基丙烯醯胺、N,N_二乙基丙烯醯胺、N,N-二乙基甲基丙烯醯胺、N,N,-亞甲基基雙丙烯醯胺、N,N-二 甲胺丙基丙烯醯胺、N,N-二甲胺丙基曱基丙烯醯胺、二丙 酮丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯嗎啉等。 含胺基之單體’可舉例如(曱基)丙烯酸胺基乙酯、(甲 基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N•二甲胺 基丙酯等。 含亞胺基之單體’可舉例如環己基馬來酸酐縮亞胺、 異丙基馬來酸酐縮亞胺、小環己基馬來酸酐縮亞胺、衣康 亞胺等。 含環氧基之單體’可舉例如(曱基)丙烯酸環氧丙酯、(甲 基)丙烯酸曱基裱氧丙酯、烯丙基環氧丙基醚等。 乙稀鍵類,可舉例如曱基乙烯醚、乙基乙烯醚、異丁 43 200643132 基乙稀醚等。 各有蜿撐二醇基之(甲基)丙烯酸酯聚合物中所含之八 烧撐二醇基之(甲基)丙烯酸酯之比率, -έ 0〜70重量〇/〇為 仏。S烧樓二醇基之(甲基)丙稀酸酿的比率若未$ 1〇重: %,則與離子性液體的相溶性變差而無法得到足夠之♦里 特性,另一方面,若超過70重量%,則與基體聚合物U 基)丙烯酸系聚合物的相溶性變差而無法得到足夠之 性。 ▼私特 又,該(甲基)丙烯酸系聚合物可單獨使用,亦可加 組合使用。 取#醚型界面活性劑,可舉例如聚氧化烷撐基脂肪酸s旨、 聚氧化烷撐基山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧化烷撐基山梨 糖醇脂肪酸s旨類、聚氧化烧撐基㈣類、聚氧化燒撐基烧 基烯丙醚類、聚氧化烷撐基烷基苯醚類、聚氧化烷撐基衍 生物、聚氧化炫撐基錢類、聚氧化烧撐純胺脂肪酸醋 等非離子性界面活性劑;聚氧化烷撐基烷醚硫酸酯鹽類、 聚氧化烷撐基烷醚磷酸酯鹽類、聚氧化烷撐基烷基苯醚硫 酉文Sg鹽類、聚氧化烧撐基烧基苯醚構酸酯鹽類等陰離子性 界面活性劑;具有氧化烷撐基之陽離子性界面活性劑、或 兩離子性界面活性劑等。該等醚型界面活性劑,於分子中 亦可具有(甲基)丙烯醯基、烯丙基等反應性取代基。 該醚型界面活性劑中,較佳為使用聚氧化乙稀脂肪酸 酉曰類、聚氧化乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧化乙烯山 梨糖醇脂肪酸酯類、聚氧化乙烯烷醚類、聚氧化乙烯烷基 44 200643132 烯丙醚類、聚氧化乙烯烷基苯醚類、聚氧化乙烯衍生物、 聚氧化乙烯烷胺類、聚氧化乙烯烷胺脂肪酸酯等具氧乙稀 基之非離子性界面活性劑;聚氧化乙烯烷醚硫酸酯鹽類、 聚氧化乙烯烷醚磷酸酯鹽類、聚氧化乙烯烷基苯醚硫酸酉旨 鹽類、聚氧化乙烯烧基苯_鱗酸g旨鹽類等具氧乙烯基之险 離子性界面活性劑;具氧乙烯基之陽離子性界面活性劑、 或兩離子性界面活性劑等。該等醚型界面活性劑,於分子 中亦可具有(甲基)丙烯醯基、烯丙基等反應性取代基。 该具有氧烷撐基之界面活性劑,其氧烷撐基單位之加 成莫耳數,由與離子性液體的相互作用觀點考量,以丨〜“ 為么、2〜40為更佳。若氧烷撐基單位之加成莫耳數未滿1, 則難以取得與離子性液體及基體聚合物之相溶性的平衡, 而使對被黏著體之滲出有增加的傾向,故不佳。另一方面, =烧擇基單位之加成莫耳數超過5(),則由於離子性液體 文氧烷撐基束缚,而使抗靜電特性有降低的傾向,故不佳。 醚型界面活性劑,具體而言, 土 # NF 1Π 『舉例如亞典卡利亞索 ㈣、亞典卡利亞索*、亞典卡利亞索普^ 上,亞:卡利亞索普叫〇、亞典卡利亞索t SR,(以 司f 艾瑪魯建(Emulgen) 12〇(花王公 努建(第—卫業製藥公司製)等。 該含醚基化合物之㈠# 為10000以下者,而巧使用數千均分子量 W 00〜5000者為更佳。數平均八工θ 右超過_00,則對被黏 千句刀子篁 平均分子量,係指一(凝膠渗透的傾 /逐層析法)測定所得者。 45 200643132 上述含醚基化合物,可單獨使用、亦可混合2種以上 使用,而其調配量,對基體聚合物⑽重量份,以⑽〜⑺ 重量份為佳、以0.05重量份〜5重詈份 知為更佳。若未滿0.01
重量份,則無法得収夠的帶電特性,而若超㉟重旦 份’則被黏著體之渗出會增加’而有使黏著力降低的傾向里 另一方面,本發明之黏著劑層,係將如以上之黏著劑 組成物交聯所形成者。X,本發明之黏著片類’係將該黏 著劑層形成於支㈣上所構成者。此時,黏㈣組成物的 交聯,-般係於黏著劑組成物的塗布後進行,自亦可將交 聯後之黏著劑組成物構成之黏著劑層轉印至支持膜等。
如上述當添加任意成分之光聚合起始劑時,可將該黏 著劑組成物直接塗布於被保護體上、或塗布於支持基材的 單面或兩面後,藉由光照射以製得黏著劑層。冑常,係將 波長300〜400nm、照度為uoomw/ew ――左右照射使其進行光聚:,卜二二 劑層。 於膜上形成黏著劑層之方法並無特別限定,例如,可 將該黏著劑組成物塗布於支持膜上,將聚合溶劑等乾燥除 去以將黏著劑層形成於支持膜上’藉此製得黏著劑層。之 後亦可進行以黏著劑層之成分移行之調整、或交聯反應 之凋整等為目的之保養。又,將黏著劑組成物塗布於支持 膜上以製作黏著片類時,為了能均勻地塗布於支持膜上, 亦可於該組成物中再添加聚合溶劑以外之丨種以上之溶 劑0 46 200643132 又,本發明之黏著劑層之形成方法,可使用黏著片類 之製造時所使用之公知方法。具體而言,可舉例如輥塗法、 照相凹版塗布法、逆輥塗布法、輥刷法、喷塗法、氣刀塗 布法、含浸及簾塗布法、及以模塗機等之擠壓塗布法。 本發明之黏著片類,係將該黏著劑層以厚度成為 3〜100μηι (較佳為5〜5〇μηι)左右之方式,塗布形成於聚酯 膜等塑膠膜、紙、或不織布等多孔質材料所構成之各種支 φ 持體之單面或兩面,而成為片狀或膠帶狀等型態者。特別 是為表面保護膜時,較佳為使用塑膠基材作為支持體。 塑膠基材,只要可形成片狀或膜狀者並無特別限定, 可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚_丨_丁烯、聚_4_甲基_丨_戊烯、 聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、乙烯·丙烯共聚物、乙烯·丨_丁 烯/、水物乙稀·乙酸乙烯共聚物、乙烯·丙烯酸乙酯共聚 物、乙烯.乙烯醇共聚物等聚烯烴膜;聚乙烯對苯二甲酸酯、 聚乙烯萘二甲酸酯、聚丙稀對苯二甲酸酯等聚酯膜;聚丙 籲稀酸醋膜、聚氨基甲酸g旨膜、聚乙烯膜、尼龍6、尼龍M、 局部芳香族聚酉i胺等聚醯胺膜;聚氣化乙稀膜、氯化乙稀 共水物膜、聚一氯亞乙烯膜、聚碳酸酯膜等。 上述膜之厚度,通常為5〜2〇〇μιη、較佳為ι〇〜ι〇〇μιη 左右。 塑膠基材,可視需要以矽酮系、氟系、長鏈烷基系或 脂肪酸at胺系之脫模劑、氧化石夕粉等進行脫模、及防污處 理、酉夂處理、驗處理、底漆處理、電晕處理、電浆處理、 紫外線處理等易接著處理、及塗布型、混練型、蒸嫉型等 47 • 200643132 抗靜電處理。 又,使用於本發明之表面保護膜之塑膠 靜電處理者較佳。 Λ &机 施於塑膠基材之抗靜電處理,並無特別限定,例如, 可使用—般所使用之於膜之至少—面設置抗靜電層之方 法、或將混練型抗靜電劑混練於塑膠基材中之方、、 於膜之至少一面設置抗靜電層之方法,可舉^如,涂 布由抗靜電劑與樹脂成分所構成之抗靜電性樹脂; 性聚合物、導電性物質之導電性樹脂之方法、 物質蒸鍍或鍍敷之方法。 抗靜電性樹脂所含之抗靜電劑,可舉例如第[級銨鹽、 ^定鏽鹽、第丨、帛2、第3胺基等具有陽離子性官能基 之%離子型抗靜電劑,·石黃酸鹽、硫酸西旨鹽、麟酸鹽、構酸 醋鹽等具有陰離子性官能基之陰離子型抗靜電劑;烷基甜 :鹼及其衍生物、咪唑啉及其衍生物、丙胺酸及其衍生物 2兩性型抗靜電齊| ;胺醇及其衍生物、甘油及其衍生物、 聚乙二醇及其衍生物等非離子型抗靜電劑·以及將具有該 2離子型、陰離子型、兩性離子型之離子導電性基之單體 聚:或共聚合所製得之離子導電性聚合物。該等化合物, 可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 ^具體而言,陽離子型之抗靜電劑,可舉例如烷基三甲 知鹽、酮醇醯胺丙基三甲銨硫酸甲酯、烷基苄基甲銨鹽、 ^基氣化膽驗、聚二甲胺乙基甲基㈣酸S旨等具有4級銨 基之(甲基)丙烯酸酯共聚物;聚乙烯苄基三甲銨氣化物等 48 -200643132 具有4級銨基之苯乙烯共聚物;聚二烯丙基二甲銨氯化物 等具有四級銨基之二浠丙基錄共聚物等。該等化合物,可 單獨使用、亦可混合2種以上使用。 陰離子型之抗靜電劑,可舉例如烧基績酸鹽、烧基苯 績酸鹽、烷基硫酸酯鹽、烷基乙氧基硫酸酯鹽、烷基磷酸 酯鹽、含磺酸基之苯乙酸共聚物。該等化合物可單獨使用、 亦可混合2種以上使用。
兩性離子型之抗靜電劑,可舉例如烷基甜菜驗、烷基 咪唑鎬甜菜鹼、碳甜菜鹼接枝共聚物。該等化合物可單獨 使用、亦可混合2種以上使用。 井雕于型之抗靜電劑,可舉例如脂肪酸烷基醇醯胺、 二(2-羥基乙基)烷基胺、聚氧化乙烯烷基胺、脂肪酸甘油 酉曰來氧化乙二醇脂肪酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧 化山:糖知酐脂肪酸酯、聚氧化乙烯烷基苯醚、聚氧化乙 烯’兀醚、^乙二醇、聚氧化乙烯二胺、聚醚與聚酯與聚醯 冓成之^來物、甲氧基聚乙二醇(曱基)丙烯酸酯等。該 等化2可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 …導電性聚合物’可舉例如聚苯胺、聚料、聚嘆吩等。 5玄寺導電性聚合物,可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 導電性物質,可舉例如氧化錫、氧化 化鎘、氧化鈦、氧 ^ 鎳、鉻、鈦、鐵、鉢 、錫、銻、金、銀、鋼、铭、 等導 碘化銅、及該等合金或混合物。該 寺ϋ物質’可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 w電性樹脂及導電性樹脂所使用之樹脂成分,可使 49 200643132 用聚酯、丙烯酸酯、聚乙婦、氨 戈l悉1r酉曼酯、三聚考脸、 氧樹脂等汎用樹脂。再者,為古 月 衣 人士為间分子型抗靜電劑時,亦可 “樹脂成分。又,抗靜電樹脂成分中,亦可含 六 聯劑之羥甲基化、或烷基醇化= ,,'、乂 叶一永虱胺糸、尿素系、乙二 醛系、丙烯醯胺系等之化合物、 一 合物。 衣虱化合物、異氰酸酯化 抗靜電層之形成方法,例如, _ 14 」將上述^几靜電性樹脂、 ν電性聚合物、導電性樹脂,有 力械,合劑或水等溶劑稀釋, 將該塗液塗布於塑膠膜上、並— 補擇 進仃乾紐,藉此以形成。 上述形成抗靜電層時所使用之有機溶劑,可舉例如甲 乙酮、丙酮、乙酸乙醋、四氯吱喃…惡烧、 己烷、甲苯、二甲苯、曱醇、 ^ · 乙醇、正丙醇、異丙醇等。 該寺溶劑可單獨使用、亦可混合2種以上使用。 上述抗靜電層形成時之塗布方法,可適當使用公知之 塗布方法,具體而言,可舉 ,、 』戈祝塗法、照相凹版塗布法、 逆輥塗布法、輥刷法、噴塗法 贾土凌虱刀塗布法、含浸及簾幕 塗布法、及以模塗機等之擠壓塗布法。 石亥抗靜電性樹脂層、導雷地思 等電性聚合物、導電性樹脂的厚 度,通常為〇·01〜5μιη、較佳為0·03〜1μιη左右。 導電性物質之蒸鍍嗖铲齡古i 观次鍍敷方法,可舉例如真空蒸鍍、 濺鍍、離子鍍、化學蒸鍍、喰裳 予“、、級賀務熱分解、化學鍍敷、電錢 法等。 该導電性物質層的厚产 予又 通㊉為20〜10000A、較佳為 50〜5000人。 #、 50 •200643132 又,混練型抗靜電劑,可適當使用上述抗靜電劑。 /❸練型抗靜電劑之調配量,對塑膠膜之總重量,係使 用20重量%以下、較佳為0.05〜10重量%之範圍内。混練 方法,/、要可將該抗靜電劑均勻地混練至塑膠膜所使用之 樹脂内的方法即可,並無特別限定,可使用例如加熱幸昆、 班布里混合機、加壓捏練混合機、雙軸混練機等。 塑膠膜,亦可視需要以石夕酮系、氣系、長鏈烧基系或 鲁月旨肪酸酿胺系之脫模劑、氧化石夕粉等進行脫模、及防污處 1、酸處理、鹼處理、底漆處理、電暈處理、電漿處理、 紫外線處理等易接著處理。 本發明之黏著片類,可視需要於黏著劑表面貼合隔板 、(或剝離襯墊、剝離片)以保護黏著面。構成隔板之基材, :、、、、、、氏或塑膠膜’但由表面平滑性優異之觀點考f,較佳為 使用塑膠膜。 _
"亥膜,/、要可保護該黏著劑層即可並無特別限定,可 彳士 ♦乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚甲基戊烯、 :烯.丙烯共聚物、乙烯小丁烯共聚物、乙烯·乙酸乙烯共 物〔烯·丙烯酸乙酯共聚物、乙烯·乙烯醇共聚物等聚 蛵:;t乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯萘二甲酸酯、聚丙 肯對苯二甲酸酯等聚酯膜;f丙烯酸酯膜、f乙烯膜、尼 ^ 6龍6,6、局部芳香族聚醯胺等聚醯胺膜;聚氯乙稀 、、偏氣乙烯膜、聚碳酸酯膜等。 ϋ亥膜之厚度,通常為5〜200Pm、較佳為10〜1〇〇μηι左 右。该膜之黏著劑層貼合面,係以矽酮系、氟系、長鏈烷 51 200643132 基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、氧化石夕粉等施以適 模劑處理。 肌 本發明所使用之黏著劑組成物、黏著劑層、及黏“ <員可使用於特別容易產生靜電之塑膠製品,其中,特 適用於用以保護液晶顯示器所使用之偏光板、波長板 學補償膜、光擴散片、;5 H梦 w心反射片•之光學構件表面的表面伴 護膜。 你
【實施例:J 以下’說明具體顯示本發明 — —知/3之構成與效果之實施 寻。又’貫施例等之許價項目係如下述方式進行。 <酸值的測定>
酸價’係使用自動滴定裝置(平沼產業 晴-550)進行測定,並以下式求得。 I
A={(Y-X)xfx5e611}/M • A :酸價 • γ ·樣品溶液之滴定量(ml) X ·僅含5〇g混合溶劑之溶液的滴定量(mi ) • f:滴定溶液之因子 • Μ :聚合物樣品之重量(g ) 測定條件係如下所示。 •樣品溶液:將聚合物樣品約〇·5 劑(甲苯I丙醇/蒸餾水=5〇/49ι5,重=合溶 溶液。 置里比)作成樣品 •滴定溶液:(UN、2_丙醇性氫氧化鉀溶液(和光純 52 200643132 藥工業公司製,石油製品中和值試驗用) •電極:玻璃電極:GE-101、比較電極:re-201 •測定模式:石油製品中和值試驗1 <分子量的測定> 分子量,係使用 GPC裝置(東索公司製、HLC-8220GPC)進行測定,測定條件係如下所示。 樣品濃度:0.2wt% ( THF溶液) 樣品注入量·· 1 〇 μ 1 •溶析液(eluent) : THF •流速:0.6ml/min •測定溫度:40°C •管柱: 樣品管柱· TSKguardcolumn SuperHZ-H(l 隻)+ TSKgel SuperHZM-H(2 隻) 參考管柱·· TSKgel SuperH-RC(l 隻) •偵測器:折射計RI) 又,分子量係以聚苯乙烯換算值求得。 <玻璃轉化溫度(Tg)之測定> 所製得(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉化溫度 (Tg)(°C ),係以下述順序之動黏彈性測定所決定。 將厚度20μιη之丙烯酸系聚合物之片積層為厚度約 2mm,將其衝壓為φ 7.9随,製作成圓柱狀顆粒,作為玻 璃轉化溫度(Tg)測定用樣品。 使用該測定用樣品,將該測定用樣品固定於♦ 7 9匪 53 200643132 平订板之夾具上,藉由動黏彈性測定裝置(雷歐美德立克 斯公司製,ARES ),測定損失彈性模數G,,之溫度依存性, 當所付之G,曲線為極大之溫度,即為玻璃轉化溫度幻 (C )。測定條件係如下所示。 •測定:剪切模式 •溫度範圍:-7 〇 〜15 0。(3 •昇溫溫度:5。(: /min •頻率:1Hz 鲁 < 丙烯酸系聚合物之調製〉 (丙浠酸系聚合物(A)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒甑,裝填2-丙烯酸乙己酯198重量份、反 應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD_42〇 ) 2重量 份、2-丙烯酸羥基乙酯8重量份、聚合起始劑2,2,-偶氮二 異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯386重量份,邊缓慢地攪 _ 拌邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於65°c附近進行6 小時聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物(A)溶液(3 5重量 °/〇 )。該丙烯酸系聚合物(A),Tg=〜 i〇°c以下、重量平均 分子量為45萬、酸價為〇·〇。 (丙烯酸系聚合物(B)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒瓶,裝填2-丙烯酸乙己酯198重量份、反 應性界面活性劑(旭電化公司製、亞典卡利亞索普ER-1 〇 ) 2重量份、2-丙烯酸羥基乙酯8重量份、聚合起始劑2,2,- 54 200643132 偶氮二異丁腈0·4重量份、及乙酸乙酯386重量份,邊緩 慢地授摔邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於65 °C附近 進行6小^聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物(B)溶液(35 重量°/〇 )。該丙烯酸系聚合物(B),Tg=— 10°C以下、重量 平均分子量為44萬、酸價為〇·〇。 (丙烯酸系聚合物(c)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒瓶,裝填2-丙烯酸乙己酯200重量份、2-丙烯酸經基乙酯8重量份、聚合起始劑2,2,-偶氮二異丁腈 0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份,邊緩慢地攪拌邊導 入氮氣’並將燒瓶内的液溫保持於65它附近進行6小時聚 合反應’調製成丙烯酸系聚合物(c)溶液(4〇重量% )。該 丙烯酸系聚合物(C),Tg= — 10°C以下、重量平均分子量為 55萬、酸價為〇.〇。 (丙烯酸系聚合物(D)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒瓶,裝填2-丙烯酸乙己酯199重量份、反 應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯pd_420 ) i重量 份、2-丙烯酸羥基乙酯8重量份、聚合起始劑2,2,-偶氮二 異丁猜0 · 4重里份、及乙酸乙g旨3 8 6重量份,邊緩慢地撲 拌邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於65它附近進行6 小時聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物(D)溶液(35重量 % )。邊丙沐酸糸聚合物(D) ’ Tg= ~ 1 〇 °c以下、重量平均 分子量為41萬、酸價為〇.〇。 55 200643132 (丙烯酸系聚合物(E)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒瓶,裝填2-丙烯酸乙己酯199重量份、反 應性界面活性劑(旭電化公司製、亞典卡利亞索普NE-10 ) 1重量份、2-丙烯酸經基乙酯8重量份、作為聚合起始劑 之2,2 -偶氮二異丁腈〇·4重量份、及乙酸乙醋386重量份, 邊緩慢地攪拌邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於65°C 附近進行6小時聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物(E)溶液 (35重量。/〇)。該丙烯酸系聚合物(E),Tg=— 1(rc以下、 重量平均分子量為45萬、酸價為0·0。 (丙烯酸系聚合物(F)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒甑,裝填2-丙烯酸乙己g旨1 99.6重量份、 反應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD-420 ) 0.4 重量份、2-丙烯酸羥基乙酯8重量份、作為聚合起始劑之 2,2 -偶氮二異丁腈〇·4重量份、及乙酸乙酯386重量份, 邊緩地授拌邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於65 〇c 附近進行6小時聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物溶液 (35重量。/〇 )。該丙烯酸系聚合物(F),Tg=— l〇°C以下、 重量平均分子量為45萬、酸價為〇.〇。 (丙烯酸系聚合物(G)) 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴 入漏斗之四口燒瓶,裝填2-丙烯酸乙己酯199.4重量份、 反應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD-43〇 ) 〇·6 56 200643132 重量份、2-丙烯酸羥基乙酯8重量份、作為聚合起始劑之 2,2’-偶氮二異丁腈〇·4重量份、及乙酸乙酯386重量份, 邊緩慢地攪拌邊導入氮氣,並將燒瓶内的液溫保持於61 °C 附近進行6小時聚合反應,調製成丙烯酸系聚合物(G)溶液 (35重量% )。該丙烯酸系聚合物(G),Tg= — l〇°C以下、 重量平均分子量為51萬、酸價為0·0。 〈抗靜電劑溶液之調製> (抗靜電劑溶液〇)) 將陽離子系界面活性劑之月桂基三甲銨氯化物(東京 化成工業公司製,於25°C呈固狀)10重量份,以乙酸乙 酯20重量份與異丙醇2〇重量份稀釋,調製成抗靜電劑溶 液(a) ( 20重量%)。 <抗靜電處理膜之製作 "將抗靜電劑(索魯貝克斯公司製,微索魯巴RMd_i42, 以氧化錫與聚酯樹脂為主成分)1〇 ^量份,以纟重量
,與甲醇70 f量份所構成之混合溶劑稀釋’藉此調 抗靜電劑溶液。 村所侍之抗靜電劑溶液,使用梅 太认取„ 傅州棒(mayer bar)塗 布於來對苯二甲酸乙二醇酯(PET ) 10A〇 」膜(厚度38μιη)上, 3〇 C乾燥1分鐘將溶劑除去而 no,、 成抗靜電層(厚声
Ο·2μη〇 ,以製作成抗靜電處理膜。 X
[實施例1] (黏著劑組成物之調製) 以乙酸乙 將該丙烯酸系聚合物(Α)溶液(35重量 57 200643132 酉旨稀釋成20重量%,於該溶液丨〇〇重量份中,加入脂肪族 胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL-Al,於25°C呈液 狀)0.14重量份、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體 (曰本聚氨基曱酸酯工業公司製,可魯聶德Ηχ ) 〇·4重量 份、交聯觸媒二月桂酸甘油二丁錫酯(丨重量%乙酸乙酯 /合液)0.4重里份,於25°C下進行約1分鐘之混合攪拌, 调製成丙烯酸黏著劑溶液(1)。
(黏著片之製作) 將該丙稀酸黏著劑溶液⑴,塗布於上述抗靜電處理膜 之抗靜電處理面的相反面’以UG°C加熱3分鐘,形成产 度2〇_之#著劑層。接著,將I面施有石夕酮處理之厚: 25μηι之聚對苯二甲酸乙二醇酯臈的矽酮處理面二 該黏著劑層的表面,製作成黏著片。 、5於 [實施例2] 使用1-丁基曱基口比咬鑌雙(三氟曱 ==公WP-IL,於坑呈液狀 二St知胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL:, 揭 广液狀)〇·14重量份,除此之外,以與實於 ,式調製成丙烯酸黏著劑溶液(2)。 、、㈠·1同 (黏著片之製作) (υ,:=_:著劑溶液(2)取代該丙烯酸”劑溶、r [實施例3],與貫施例1以同樣方^製作成點著片。4 58 -200643132 (黏著劑組成物之調製) 將該丙稀酸系聚合物(D)溶液(35重量% ),以乙酸乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液1〇〇重量份中,加入脂肪族 胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL-A1,於25°C呈液 狀)〇· 1重量份、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體 (曰本聚氨基甲酸酯工業公司製,可魯聶德Ηχ ) 〇 · 4重量 份、交聯觸媒二月桂酸甘油二丁錫酯(1重量%乙酸乙酉旨 浴液)〇 · 4重f份’於2 5 C下進行約1分鐘之混合授捧, _ 調製成丙烯酸黏著劑溶液(3)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(3)取代該丙烯酸黏著劑溶液 (1),除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [實施例4 ] (黏著劑組成物之調製) 使用丨-丁基-3 -曱基咄啶鑌雙(三氟曱磺醯)亞胺(曰本 春卡立德公司製,BMP-IL,於25°C呈液狀)〇·〇8重量份, 取代脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL_A1, 於25 C呈液狀)〇· 1重量份,除此之外,與實施例3以同 樣方式調製成丙稀酸黏著劑溶液(4)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(4)取代該丙烯酸黏著劑溶液 (1) ’除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [比較例1 ] (黏著劑組成物之調製) 59 -200643132 ,取代丙稀 與貫施例1 使用丙烯酸系聚合物(B)溶液(35重量%) 酸系聚合物(A)溶液(35重量%),除此之外, 以同樣方式調製成丙烯酸黏著劑溶液(5)。 (黏著片之製作) 使用該丙婦酸黏著劑溶液(5)取代該丙歸酸黏著劑 ⑴,除此之外,與實施例…樣方式製作成 :- [比較例2] (黏著劑組成物之調製) 未使用該脂肪族胺系離子性液體,除此之外,與〜^ 例1以同樣方式調製成丙烯酸黏著劑溶液⑹。’、貧知 (黏者片之製作) 使用3亥丙稀酸黏著劑溶液⑹取代該丙婦酸黏著劑 ⑴’除此之外,與實施例i以同樣方式製作成黏著片:〜 [比較例3] (黏著劑組成物之調製) 將δ亥丙烯酸系聚合物(C)溶液(40重量。/。),以乙分 醋稀釋成2G重量% ’於該溶液1GG重量份中,加人該2 電溶液⑷(20重量%) 1〇重量份、六 :’ 之一承/、氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製, 轟t HX ) 〇·4重量份、交聯觸媒二月桂酸甘油二丁錫妒2 重量%乙酸乙_溶液)〇·4重量份,A 25t下進行約二八 1 鉍之此0攪拌,調製成丙烯酸黏著劑溶液(7)。 (黏著片之製作) 使用4丙烯酸黏著劑溶液(?)取代該丙烯酸黏著劑溶、、广 200643132 (1),除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [比較例4] (黏著劑組成物之調製) 除使用1-丁基-3-甲基吡啶鏽雙(三氟曱磺醯)亞胺(曰 本卡立德公司製,BMIML,於25。〇呈液狀)〇12重量份, 取代脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業製,il_ai, 於25°C呈液狀)G.14重量份之外,與比較例i以同樣方式 調製成丙烯酸黏著劑溶液(8)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(8)取代該丙烯酸黏著劑溶液 (1),除此之外,與實施例i以同樣方式製作成黏著片。 [比較例5] (黏著劑組成物之調製) 將該丙烯酸系聚合物溶液(35重量%),以乙酸乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液1〇〇重量份中,加入脂肪族 胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL-A1,於25°C呈液 狀)0.1重里份、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體 (曰本聚氨基甲酸酯工業公司製,可魯聶德Ηχ ) 〇·4重量 伤、父聯觸媒二月桂酸甘油二丁錫酯(1重量%乙酸乙酯 溶液)0.4重量份,於25t下進行約i分鐘之混合攪拌, 調製成丙烯酸黏著劑溶液(9)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(9)取代該丙烯酸黏著劑溶液 (1) ’除此之外,與實施例1以同樣方式製作,成黏著片。 61 * 200643132 [比較例6] (黏著劑組成物之調製) 未使用該脂肪族胺系離子性液體,除此之外,與實施 例3以同樣方式調製成丙烯酸黏著劑溶液(丨〇)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(丨〇)取代該丙烯酸黏著劑溶 液(1),除此之外,與實施例i以同樣方式製作成黏著片。 [比較例7] (黏著劑組成物之調製) 使用1-丁基-3 -甲基吡啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺(曰本 卡立德公司製’ BMP_IL,於25t呈液狀)〇 〇8重量份, 取代脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業製,江一卜 2 呈液狀)(M重量份’除此之外’與比較例5以同 樣方式調製成丙烯酸黏著劑溶液(11)。 (黏著片之製作) 使用^烯酸黏著劑溶液⑴)取代該丙烯酸黏著劑溶 此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [貫施例5 ] (黏著劑組成物之調製) 卡立=二厂基_3_甲基吼°定鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺(日本 代二二司製,·IL,於25t呈液狀)〇 2重量份,取 公司製Λμρ甲基°比°定鎮雙(三敦甲石黃酿)亞胺(日本卡立德 外,盥實施[丨必,於25t呈液狀)0·08重量份,除此之 、“歹1 4以同樣方式調製成丙烯酸黏著劑溶液(12)。 62 200643132 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(! 2)取代該丙稀酸黏著劑溶 液⑴二除此之外,與實施例!以同樣方式製作成黏著片。 [實施例6 ] (黏著劑組成物之調製)
將該丙烯酸系聚合物(D)溶液(35重量%),以乙酸乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液1〇〇重量份中,加入1_丁美 -3-曱基吡啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺(日本卡立德公司集二 bmp-IL,於25t呈液狀)〇18重量份、甲氧基聚乙:醇 單:基丙稀酸目旨(日本油脂公司製,普蘭瑪mE_4G()) 0.〇3 重量份、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯冑(曰 氨基曱酸醋工業公司製,可魯暴德Ηχ) 〇·7重量份、交聯 觸媒二月桂酸甘油二丁錫醋(1重量%乙酸乙醋溶液… 重量份,☆坑下進行約i分鐘之混合輯, 歸 酸黏著劑溶液(13)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(i 3 )取代該丙烯酸㈣ 液⑴’除此之外’與實施例i以同樣方式製作成黏〜 [實施例7] ° (黏著劑組成物之調製彡 將該丙烯酸系聚合物溶液(35重量 ’ 从G酸Λ 酯稀釋成20重量%,於該溶液1〇〇重量份中,加入1 -3-甲基吼咬鏽雙(三氟曱石黃酿)亞月安(日本卡立德公司:基 BMP-IL,於25°C呈液狀)〇18重量份、φ甲基聚乙一醇 63 200643132 單甲基丙稀酸醋(日本油脂公司製’普蘭碼觸]_)〇的 重量份、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚 氣基曱酸醋工業公司製,可魯愚德HX) 〇7重量份、交聯 觸媒二月桂酸甘油二丁錫酯(i重量%乙酸乙酯溶液)〇 4 重量份,& 25°C下進行約!分鐘之混合·,調製成丙稀 酸黏著劑溶液(14)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(14)取代該丙烯酸黏著劑溶 液(1)’除此之外,與實施例i以同樣方式製作成黏著片。 [實施例8] (黏著劑組成物之調製) 將該丙烯酸系聚合物(F)溶液(35重量%),以乙峻乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液丨〇〇重量份中,加入丨_ 丁義 -3-甲基吡啶鑌雙(三氟甲磺醯)亞胺(日本卡立德公司製, BMP-IL,於25t:呈液狀)〇11重量份、六亞曱基二異氰 鲁 fee酉曰之二聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製, 可魯聶德HX ) 0.48重量份、交聯觸媒二月桂酸甘油二丁 錫酯(1重量%乙酸乙酯溶液)〇·4重量份,於25〇c下進行 約1分鐘之混合攪拌,調製成丙烯酸黏著劑溶液(丨5)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(丨5 )取代該丙烯酸黏著劑落 液(1 )’除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [實施例9] (黏著劑組成物之調製) 64 -200643132 將該丙烯酸系聚合物(G)溶液(35重量%),以乙酸乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液1〇〇重量份中,加入κ丁基 -3-甲基吡啶鏑雙(二氟甲磺醯)亞胺(日本卡立德公司製, BMIML,於25°C呈液狀)〇·〇8重量份、六亞甲基二異< 氰 酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製, 可魯聶德ΗΧ) 0.4重量份、交聯觸媒二月桂酸甘油二丁踢 酯(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份,於25〇c下進行約 1分鐘之混合攪拌,調製成丙烯酸黏著劑溶液(16)。 • (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(16)取代該丙烯酸黏著劑溶 液(1),除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [實施例10] (黏著劑組成物之調製) 將該丙烯酸系聚合物(D)溶液(3 5重量。/。),以乙酸乙 酯稀釋成20重量%,於該溶液1 〇〇重量份中,加入丨_ 丁基 -2,3,5-三甲基吡唑鏽雙(三氟甲磺醯)亞胺(日本卡立德公 •司製,ILC-404-2,於25°C呈液狀)0.18重量份、六亞甲 基一異氣酸S旨之二聚異鼠酸S旨體(曰本聚氨基甲酸g旨工業 公司製,可魯聶德HX ) 0.7重量份、交聯觸媒二月桂酸甘 油二丁錫S旨(1重量%乙酸乙酿溶液)0 · 4重量份,於2 5 °C 下進行約1分鐘之混合撲:拌,調製成丙烯酸黏著劑溶液 (17)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(17)取代該丙烯酸黏著劑溶 65 •200643132 液(1),除此之外,血竇姑也 … 〃貫細例1以同樣方式製作成黏著片。 [比較例8] ^ (黏著劑組成物之調製) 使用該抗靜電劑溶液(a)(2〇重量%) 〇4重量份 代脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業製,Μ 二呈液狀…重量份,除此之外,與實施例3以同樣方 式调製成丙烯酸黏著劑溶液(18)。 7 (黏著片之製作) 使用該㈣酸黏著劑溶液⑽取代該丙稀酸黏著劑溶 (),除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [比較例9] (黏著劑組成物之調製) 、除使用該抗靜電劑溶液(a)(2G重量%) U重量份, 取代脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業製,IL A1, 於25。(:呈液狀)(Μ重量份之外、 外與貫施例3以同樣方式 凋裘成丙烯酸黏著劑溶液(丨9)。 (黏著片之製作) 使用該丙稀酸黏著劑溶液(19)取代該丙稀酸黏著劑溶 液⑴’除此之外’與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 [比較例10] (黏著劑組成物之調製) 除使用該抗靜電劑溶液⑷(20重量%) 〇 6重量份, 取代脂肪族胺系離子性液體(廣榮 一液狀)。,14重量份之外,與實二 66 200643132 調製成丙烯酸黏著劑溶液(20)。 (黏著片之製作) 使用該丙烯酸黏著劑溶液(2〇)取代該丙烯酸黏著劑溶 液(1)’除此之外,與實施例1以同樣方式製作成黏著片。 上述之實施例、比較例所得之黏著片,以下述之要領, 評價剝離電壓、經時剝離電壓、污染性、及黏著力。 <剝離電壓之測定> 將黏著片裁切成寬度70mm、長度130mm之尺寸,將 隔板剝離後,將貼合於預先除電之丙浠酸酯板(三菱麗陽 公司製,Acrylite®,厚度:lmm、寬度:7〇mm、長度:i〇〇mm) 之偏光板(日東電工公司製,SEG142 5 DU,寬度:70mm、 長度·· 100mm)的表面,使其以一邊的端部露出30mm的 方式以手輥壓延。 於23°C ><5 0%RH的環境下放置1天後,如圖1所示將 樣品固定於既定位置。將露出3 0mm之一端部固定於自動 捲繞機’以剝離角度150。、剝離速度3〇m/min的條件剝離。 此時所產生的偏光板表面之電位,以固定於既定位置之電 位測定機(春日電機公司製,KSD-0103 )測定,視為剝離 電壓。測定,係於20°C x25%RH的環境下進行。 <經時剝離電壓之測定> 將黏著片裁切成寬度70mm、長度130mm之尺寸,將 隔板剝離後,將貼合於預先除電之丙烯酸酯板(三菱麗陽 公司製,Acrylite® ’ 厚度:1mm、寬度:70mm、長度:1 〇〇mm ) 之偏光板(日東電工公司製,SEG1425DU,寬度:70mm、 67 * 200643132 長度:100mm)的表面,使其以—邊的端部露出3〇mm 方式以手輥壓延。 ' 於40°Cx25%RH的環境下放置14天後,如圖工所示 將樣品固定於既定位置。將露出3(hnm之一端部固定於^ 動捲繞機,以剝離角度15〇。、剝離速度3〇m/min的條件剝 離此柃所產生的偏光板表面之電位,以固定於既定位置 之電位測定機(春曰電機公司製,KSD_〇1〇3 )測定,視為 經時剝離電壓。測定,係於2〇艺x25%RH的環境下進行。…、 <污染性之評價> 測定該經時剝離電壓後,將剝離之黏著片,以與測定 後之偏光板間混入氣泡的方式,再度以手貼合,製作成評 價樣品。 將該評價樣品放置於23°Cx50%RH的環境下!個月 後二再以手將黏著片從被黏著體剝離,以目視觀察此時被 黏著體表面的污染狀態。評價係以下述基準進行。
•未確認有污染時:〇 •確認有污染時:X <黏著力之測定> ’富士踏克,厚 111 ’浸潰於60 C 以蒸館水洗淨’ 將三乙醯纖維素膜(富士軟片公司製 度· 90μηι)裁切成寬度7〇mm、長度l〇〇m 之氫氧化鈉水溶液(丨〇重量% ) 1分鐘後, 製作成被黏著體。 將該被黏著體放置於23°Cx50%RH的環境下24小時 後,將裁切成寬度25mm、長度100mm之黏著片,以〇 25MPa 68 200643132 之壓力壓層於該被黏著體上,製作成評價樣品。 於該壓層後,放置於23tx50%RH的環境下3〇 後’以萬能拉伸試驗機,測定以剥離速度3〇m/分、制= 度刚。剝離時之黏著力。測定,係於2rc x25%r 二 下進行。 长土兄 其結果不於表1。 表1】
明白,使用依照本發明所製作之黏著 1〜1 〇 ),所有實施例中對偏光板的剝 且亦沒有產生對偏光板之污染。 經日 藉由上述表1可 劑組成物時(實施例 離電壓經時皆被抑制 69 .200643132 相對於此,使用纺 一本發明相異的反應性界面活性劑時 (比較例1、4〜s、7、 ^ ),其結果,與實施例的結果相比, 對偏光板的經時剝籬雷 ^^ 才刻離電壓皆較高。又,使用沒有含有離子 性液脰的黏著劑会点、 、 τ (比較例2、6),其結果,剝離 黾壓皆較初期的狀能古。 士 ‘、n 再者,使用陽離子型界面活性劑 ^ 車乂例3 9、10 ),其結果,雖對偏光板的經時剝離
電壓皆安定且被抑制’但有污染的發生。X,當陽離子型 界面活性劑的添加量較少時(比較例8),其結果,初期 的剝離電壓高,且有污染的發生。因…較例,皆呈現 :法兼顧t疋地抑制對偏光板的經時剝離電I、與抑制污 木的發生之結果’而明瞭並不適用於抗靜電性黏著片用之 黏著劑組成物。 —又,本發明之實施例1〜10之黏著片,其18〇。剝離黏 者力皆A 0.1〜6N/25mm之範圍,而明瞭其為可適用於黏著 片用之黏著片。 【圖式簡單說明】 圖1,實施例中測定剝離電壓時所使用之電位測定部 之概略構成圖。 【主要元件符號說明】 1 電位測定器 2 黏著片 3 偏光板 4 丙稀酸S旨板 5 樣品固定台 70

Claims (1)

  1. .200643132 申請專利範圍: ι· 一種黏著劑組成物,其特徵在於,含有(甲基)丙稀 酸糸,合,及離子性液體而成,該(甲基)丙稀酸系聚合物 具有單體單位為以下述通4 ^式(I)所表示之反應性界面活性劑 0.01 〜20 重量 % R R 1、 3 R2/C"C^R-°^R5〇)nrtR6〇1rX. (I) 、 之Ri 、及尺3,係表示相同或相異之氫或 甲基U系表示碳數G〜3G之燒撐基(又,碳數為〇時: 係表7Γ不〔、R4 ),r5及,係表示相同或相異之碳數〇〜川 之J:兀撐基,m係表示〇〜5G之數(可不為整數),n係 讀之數(可不為整數),m+n係表示卜⑽之數(可 不為I數)’ x ’係表示氫或陰離子性親水基]。 2·如申請專利範圍第1項之黏著劑組成物,其中,該 離子性液體,係含氮鑌鹽、含硫鏽鹽、或含磷鑌鹽之任; 種以上。 3.如申請專利範圍第1項之黏著劑組成物,其中,該 離子性液體,係、包含下述通式(A)~(D)所表示之任—種以^ 之陽離子;
    Κ (D) I +) κ>ι:λ / \ ^ Κ (Α) 71
    200643132 [式(A)中之Ra,表示碳數4〜 雜原子,Rb及R,矣-4 之焱基而亦可包含 .〇表不相同或不同之氫或碳數丨〜16之@ 基,亦可包含雜原子;1 之垤 [式(Β)中之R^原子含雙鍵時,無 . R d表示碳數2〜2〇之烴基,而亦可包含 雜原子,Re、R及R ^ 5 μ # g,表不相同或不同之氳或碳數116 之烴基,亦可包含雜原子]; A数1〜16 [式(C)中之Rh,表 雜原子,R矣 之垣基’而亦可包含 J k,表不相同或不同之氫或碳數1M6 之烴基,亦可包含雜原子]; [式(D)中之z,矣+翁 一 表不虱、&、或磷原子,&、R 、R 及R〇,表示相同或不同之 — m n 人數1 20之煙基,而亦可 雜原子;其中,當z為硫原子時,無R。]。 4.如申請專利範圍第i項之黏著劑組成 含醚基化合物。 T 3有 5·種黏著劑層,其特徵在於,係將申請專利範圍第 1至4項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成者。 6· —種黏著片類,其特徵在於,係將申請專利範圍第 1至4項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成之黏著劑層, 形成於支持體之單面或兩面而構成。 曰 7· -種表面保護膜,其特徵在於,係將巾請專利範圍 第1至4項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成之黏著劑 層,形成於經抗靜電處理之塑膠基材所構成之支持體上的 早面或兩面而構成。 72
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