TW200532413A - Device for controlling chamber inner pressure and inner pressure controlled-type chamber - Google Patents
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Description
200532413 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明疋關於一種在半導體製造裝置等所利用的處理 室的內壓控制裝置及內壓被控制式處理室。 【先前技術】 近年來’在半導體製造裝置等,作爲對於處理室的氣 體供給裝置大都利用具備所謂壓力式流量控制裝置的氣體 供給裝置。 第8圖是表示其一例者,設置壓力式流量控制裝置c 1 C2’ C3與丨瓜體切換閥〇!’ D2,D3;成爲自動地進行藉由 來自控制裝置B的信號供給至處理室£的流體切換及其流量 調整的構成(日本特開平11— 212653號等)。 又’上述壓力式流量控制裝置C !,C2,C3,是成爲如 第9圖示地藉由在臨界條件下保持(p ! /f>2爲約2以上)流 通孔口 Ka的流體,在演算裝置iM中將孔口流通流量Qc演算 作爲Q c = K P ! ’與設定流量q s的相差q y成爲零般地開閉( 調整孔口上游側壓力P !)控制閥v Q的構成。又,A / D是信 號轉換器,A P是放大器(日本特開平8 — 3 3 8 5 4 6號)。 又,如第1 0圖所示地,上述處理室E是經由具備自動 壓力調整器APC及電導閥CV的較大口徑的真空排氣線Εχ 而錯由連繪地運轉真空VP,其內壓被保持在設定値 (1 (T 6 至 1 0 2 丁 0 r r )。 冰而’作爲上述真空泵v p,是廣泛使用組合輪機分子 -5- 200532413 (2) 泵的一次真空泵(高空泵V P,與渦旋泵等的二次真空泵 (低真空泵)VP2者;依一台壓縮比較大的大排氣容量的 真空泵的排氣系統,是在製造成本等上有問題之故,因而 並未被多利用。 又,保持處理室E的內壓,是僅藉由專心運轉控制真 空排氣系統側所進行,具體上利用調整自動壓力調整器 APC或電導閥CV的開度來保持所定的設定內壓。 但是,在上述第1 〇圖的處理室E中,不但須要以高壓 縮度,而且連續地運轉排氣流量較大的輪機分子泵等的一 次真空泵乂?1等,還必須減輕一次真空VP!或二次真空泵 VP2的負荷,而必須將真空排氣系統Ex的管徑作成較大徑 ,此外還需要電導閥CV或自動壓力調整器APC等。結果, 會提高真空處理室E的設備費用或運轉費用,有無法降低 該費用的缺點問題。 又,在上述第1 〇圖的處理室E中,僅以自動壓力調整 器APC等的運轉控制來控制處理室內壓之故,因而使得所 謂壓力控制的應答性較差而調整處理內壓較費時,結果有 降低處理的運轉率,或處理成品的品質產生參差不齊的缺 點問題。 另一方面,爲了提高處理室E的內壓控制的應答性, 有重疊於排氣側的控制來控制供給於處理室E內的氣體流 量的對策。 但是,欲藉由調整對於處理室E內的氣體供給流量, 高精確度而且廣範圍地調整處理室內壓,必須大幅度地提 -6- 200532413 (3) 高供給於處理室E的氣體的流量控制精確度。 然而,對於表示於上述第8圖的流體供給裝置,是所 使用的壓力式流量控制裝置C !〜C3具備不會受到處理室E側 的內壓變動影響的特性之故,因而只要保持臨界條件,即 使變動處理室內壓也可進行較穩定的供給氣體的流量控制 ,可發揮優異的實用性效用。
但是在該流體供給裝置也留下很多須解決的缺點問題 。其中特別急著須解決的問題,是提高低流量域的流量控 制精確度。
例如將額定流量爲I s LM (換算成標準狀態的氣體流 量)的壓力式流量控制裝置的流量控制精確度在設定1 〇 % 以下作成〇 . 1 % F . S .,則在設定1 %的控制流量値有最大包含 1 SCCM的誤差的可能性。所以,若控制流量成爲額定流 量的10%以下(例如10〜100 SCCM以下),則不能忽略上 述1 S C C Μ的誤差影響,結果,若額定容量爲1 S L Μ的流量 控制裝置,1 〇 〇 s C C Μ以下的小流量域是有無法高精度地 控制流量的缺點問題。 專利文獻1 :日本特開平1 1 — 2 1 2 6 5 3號公報 專利文獻2 :日本特開平8 — 3 3 8 5 4 6號公報 【發明內容】 本發明是用以解決具備習知的壓力式流量控制裝置的 真空處理室的內壓控制的如上述的缺點問題;亦即用以解 決(1 )處理室的內壓控制的應答性較低,(2 )氣體供給 200532413 (4) 裝置的壓力式流量控制裝置是小流量域的流量控制精確度 會降低使得流量控制範圍被限定在大約1至1 0 0 %的範圍, 1 %以下的流量範圍的高精確度的流量控制變成較難。結 果,藉由控制供給於處理室的氣體量,以高精確度較難調 整處理室內壓,(3 )很難降低真空處理室的真空排氣系 統的設備小型化,設備費或運轉費用等缺點問題者;本發 明的主要目的是在於提供一種使用在所要最大設定流量的 0 . 1 %至1 0 0 %廣範圍內,與真空處理室的內壓變動無關地 進行高精確度的流量控制的流體供給裝置,而在廣壓力範 圍內以高精確度且高應答性可進行真空處理室的內壓控制 的處理室內壓控制裝置,同時提供一種藉由適用該處理室 內壓控制裝置而以高精確度控制內壓的內壓被控制式處理 室。 申請專利範圍第1項的發明,屬於具有:供給氣體輸入 部,及供給氣體輸出部,及配置於該氣體輸入部與氣體輸 出部之間的氣體流量控制部,及將接受上述供給氣體輸出 的處理室的壓力資料給於上述氣體流量控制部的手段的處理 室的內壓控制裝置,其特徵爲:上述氣體流量控制部是具 備並列狀地連接的複數台,壓力式流量控制裝置及控制上 述複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置;上述壓力 式流量控制裝置包含:孔口,及孔口上游側的壓力檢測器 ,及設於壓力檢測器的上游側的控制閥,及藉由Qc = KP!( 式中K是常數)來演算從壓力檢測器的檢測壓力P!通過孔 口的氣體流量Qc而將與設定流量Qs的相差Qy輸出至控制 -8- 200532413 (5) 閥作爲驅動用信號的演算控制部所形成;作成將孔口上游側 壓力Pi保持在下游側壓力p2的約兩倍以上的狀態下所使用的 壓力式流量控制裝置,同時將上述複數台中的一台壓力式 流量控制裝置作爲控制供給於處理室的最大流量的最多1 0% 的氣體流量域的裝置,並將剩餘的壓力式流量控制裝置作 爲控制殘餘的氣體流量域的裝置;將上述壓力資料輸入至上 述控制裝置並調整對於上述壓力式流量控制裝置的控制信號 來控制對於上述氣體輸出部的氣體供給量,作爲發明的基 本構成者。 申請專利範圍第2項的發明是在碟狀基體第1項的發明 中,控制裝置是具備:設定供給於處理室的氣體流量的輸 入設定部,及將對於該輸入設定部的輸入値轉換成流控制 信號的第一信號轉換部,及將處理室內的檢測壓力轉換成 流量控制信號的第二信號轉換部,及來自兩信號轉換部的 流量控制信號的比較修正部;作爲將所修正的控制信號從 上述比較修正部發送至各壓力式流量控制裝置,並控制對 於處理室的氣體供給量的構成者。 申請專利範圍第3項的發明是在申請專利範圍第1項的 發明中,將並列狀地連接的壓力式流量控制裝置作爲兩台 ,其中一台作爲控制小流量域的小流量範圍的壓力式流量 控制裝置,另一台作爲控制大流量域的大流量範圍的壓力 式流量控制裝置者;又,申請專利範圍第4項的發明是將水 流量用的壓力式流量控制裝置的流量控制域作成供給於處理 室的最大流量的0.1至10%,又將大流量用的壓力式流量控制 -9- 200532413 (6) 裝置的流量控制域作成供給於處理室的最大流量的10至 100% 者。 申請專利範圍第5項的發明是在申請專利範圍第1項或 申請專利範圍第3項的發明中,藉由從控制裝置的信號轉換 部所發送的控制信號,作成從其控制流量較小的壓力式流 量控制裝置依次地開動複數台壓力式流量控制裝置的構成者 〇 申請專利範圍第6項的發明是在申請專利範圍第1項的 發明中,藉由將氣體流入至真空排氣系統,作成將排氣速 度可變更的真空排氣系統者。 申請專利範圍第7項的發明是在申請專利範圍第1項的 發明中〃將並列狀地連接的複數台的壓力式流重控制裝直 至少設四單元,作成將複數種類的氣體供給於處理室的構 成者。 申請專利範圍第8項的發明是在申請專利範圍第2項的 發明中,將發送至分擔各流量域的壓力式流量控制裝置的 控制信號的上昇率設定機構設於控制裝置,在從上述控制 信號之發送經過所定時間後,作成該壓力式流量控制裝置 供給設定流量的氣體流量的構成者。 申請專利範圍第9項的內壓被控制式處理室的發明,其 特徵爲:包含藉由真空泵所排氣的處理室及將所期望的氣 體流量加以控制並供給於該處理室的氣體供給手段;上述氣 體供給手段是具備並列狀地連接的複數台壓力式流量控制裝 置,及控制上述複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制 -10- 200532413 (7) 裝置;上述壓力式流量控制裝置包含:孔口,及孔口上游 側的壓力檢測器,及設於壓力檢測器的上游側的控制閥, 及藉由Qc = KPi (式中K是常數)來演算從壓力檢測器的檢 測壓力P i通過孔口的氣體流量Q c而將與設定流量Q s的相差 Qy輸出至控制閥作爲驅動用信號的演算控制部所形成;作 成將孔口上游側壓力P!保持在下游側壓力P2的約兩倍以上的 狀態下所使用的壓力式流量控制裝置,同時將上述複數台 中的一台壓力式流量控制裝置作爲控制供給於處理室的最大 流量的最多10%的氣體流量域的裝置,並將剩餘的壓力式流 量控制裝置作爲控制殘餘的氣體流量域的裝置;又在上述處 理室設置壓力檢測器,同時將該壓力檢測器的檢測値輸入 至上述控制裝置,藉由調整對於上述壓力式流量控制裝置 的控制信號來控制對於處理室的氣體供給量,作爲廣範圍 地高精確度控制處理室內壓的構成,作成發明的基本構成 者。 在本發明的處理室的內壓控制裝置中,將所必需的流 量範圍分割成複數流量域,最大流量的10%以下的小流量域 是作爲藉由小流量用壓力式流量控制裝置進行流量控制的構 成之故,因而在廣泛流量範圍內進行高精確度的流量控制 〇 又,即使重疊依分擔各流量域的壓力式流量控制裝置 的流量控制之際,也作成在控制信號的上昇率加上限制的 構成之故,因而可進行供給於處理室的氣體流量Q的連續性 控制。 -11 - 200532413 (8) 結果,迅速且正確地可調整對於處理室的供給氣體流 量,將處理室內壓可容易地調整,保持在所定設定壓。所 以,成爲削除習知的自動壓力調整APC或成爲可大幅度地削 減處理室的真空排氣系統的設備費。 又,真空泵是設備僅達成事先所決定的處理室的最低 壓力的排氣容量者就可以,不必如習知的處理室的真空排 氣系統地,大幅度充裕地估計真空泵的排氣容量。結果, 成爲可大幅度削減真空排氣系統的設備費。 【實施方式】 以下,依據圖式說明本發明的各實施例。 在第1圖中,A是氣體供給裝置,Gs是來自供給氣體輸 入部的供給氣體,FCS ( A )是小流量用壓力式流量控制 裝置,FCS ( B )是大流量用壓力式流量控制裝置,E是處 理室,P是處理室內壓,Q !是小流量用壓力式流量控制裝 置FCS ( A )的控制流量,Q2是大流量用壓力式流量控制 裝置FC S ( A )的控制流量,Q是對於處理室E的供給流量 ,V是調整閥,VP是真空泵,V!〜V3是控制閥,Li是氣體 供給管,L2,L3是排氣管路,1是控制裝置,la是輸入設定 部(流量%設定機構),lb是第一信號轉換部,lc是第二信 號轉換部,Id是比較修正部,le,le、If,1Γ,lg是控制 信號,2是壓力檢測部,3是壓力計,4是壓力式流量控制裝 置。 亦即,來自上述供給氣體輸入部的供給氣體Gs,在氣 -12 - 200532413 (9) 體供給裝置A及控制裝置1所構成的氣體流量控制部流量控 制部流量控制,並經由氣體供給管等所構成的供給氣體輸 出部供給於處理室E。 又,藉由上述供給氣體輸入部,氣體流量控制部及供 給氣體輸出部等形成有對於處理室E的氣體供給手段。 上述壓力式流量控制裝置FCS ( A )及FCS ( B )是基本 上與表示於第9圖的習知的壓力式流量控制裝置相同者,藉 由在孔口上游側壓力P!與下游側壓力P2之之間成立流體的臨 外條件的P!/P2大約2以上的條件,而藉由QczKP!(式中K是 常數)來演算流通孔口的氣體流量,又藉由該演算値Qc與 設定値Qs的相差信號Qy來自動開閉控制制設在上游側的控 制閥VQ來調整壓力P!,俾將孔口 Ka的實通過流量控制成上 述設定値Q s作成基本構成者。 又,在本實施例中,作爲小流量用壓力式流量控制裝 置F C S ( A )使用額定流量1 〇 〇 S C C Μ者,又,作爲大流量 用壓力式流量控制裝置FCS ( A )使用額定流量100 SCCM 者,構成在管最小5 SCCM至最大3 100 SCCM的流量範圍 內,連續地可進行高精確度的流量控制。 又,上述壓力式流量控制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B ) 的構成是公知之故,因而在此省略其詳細說明。 上述處理室E是內容量被設定在lie,藉由具有300< /mm的排氣流量的真空泵VP ’經由設置調整閥V的真空排 氣線L 2,L 3連續性地進行真空抽引’處理室E的內部是被 保持在10- 2至l〇2T〇ri·的中真空。 -13- 200532413 (10) 上述壓力式流量控制裝置4是調整供給於真空泵VP ( 或是排氣管路L3 )的氣體Gv的流量者,藉由供給該氣體 Gv俾降低真空泵VP的排氣能力,來控制處理室E的內壓。 又,藉由將氣體Gv供給於真空泵VP,就可減輕對於處理 室E的內壓的影響,同時可提高內壓調整的應答性。作爲 氣體Gv也可以與供給氣體Gs相同者,惟不相同者(惰性 氣體)也可以。 在上述氣體供給L1使用外徑6.3 5 mm0 ,內徑4.3 5 mm 0的不銹鋼管,又在排氣管L2使用外徑60.5mm 0 ,內徑 5 4.9 m m 0的不绣鋼管;在排氣管L 3使用外徑2 8 m m 0 ,內 徑2 4 m m 0的不錄鋼管。 上述控制裝置1是由輸入設定部1 a (流量%設定機構) 與第一、第二信號轉換部1 b,1 c,及比較修正部1 d所形成 ,在輸入設定部U (流量%設定機構)設定對於額定最大流 量的所期望的流量(% )。 亦即,以所定條件下連續地穩定運轉真空泵VP時的處 理室E的內壓P與對於處理室E的流入氣體供給量Q的關係, 是如下述地事先弄淸楚。結果,對於處理室E的內壓控制, 首先藉由參照對於處理室E的設定內壓P的所需氣體供給量Q 事先求得的表數値所求出,而對應於該所需氣體供給量Q的 流量%設定値被輸入至輸入設定部1 a。
具體上,在該輸入設定部1 a設有:將對應於設定壓力P 的所需流量Q以對於兩壓力式流量控制裝置FCS ( A ) ,FCS (B )的合計最大流量的流量(% )所顯示的流量%設定機 -14- 200532413 (11) ,及兩流量用壓力式流量控制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B )的 控制信號1 e,1 f的上昇率設定機構1 ,1 a”,爲了將處理室 E的內壓P控制成設定値所需要的處理氣體G s的流量,是藉 由輸入設定部1 a的流量%設定機構。 又,上述輸入設定部1 a的兩控制信號上昇率設定機構 1 a ·,1 a ’’,是流量設定在後最小設定流量0 %至最大設定流量 1 0 0 %之間的任意流量而開動兩壓力式流量控制裝置F C S ( A ),FCS ( B )之際,用以調整施加於各流量用壓力式流量 控制裝置FCS ( A ) ,( B )的控制信號1 e,1 f的上昇率的機 構,例如在以設定流量50 SCCM (輸入設定値1.613% )供給 氣體Gs中,增量至2000 SCCM (輸入設定値516%)時,由 僅開動小流量用壓力式流量控制裝置F C S ( A )切換成開動 兩壓力式流量控制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B ),惟大流量壓 力式流量控制裝置FCS ( B )者由0達到其1 900 SCCM成爲須 設置若千的時間延遲(在〇 — 1 Q 〇 %的流量變化爲約3 0 S C C Μ ),所以成爲對於FCS ( Β )的控制輸入信號1 f的上昇率被 調整的狀態。 上述第一信號轉換部1 b是將相當於相對應在設定壓力 P的流量%設定輸入的控制信號1 e,1 f輸出至各壓力式流 量控制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B )者。亦即,最大流量100 SCCM的壓力式流量控制裝置FCS ( A )的控制信號,是從0V (0 SCCM)設定在5V ( 1〇〇 SCCM)的數値,又,最大流量 3 000 SCCM的壓力式流量控制裝置FCS ( B )的控制信號也從 0V ( 0 SCCM )設定在5V ( 3000 SCCM )的數値,對於兩壓 -15- 200532413 (12) 力式流量控制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B )是對應於各該分擔 的控制流量Q !,的控制信號1 e,1 f從第一信號轉換部1 b 輸入至比較部1 d。 又,上述第二信號轉換部1 c是將來自檢測處理室內壓 P的壓力檢測器2的檢測信號1 P轉換成流量控制信號1 g所用 者,經轉換的流量控制信號1 g是被輸入至比較修正部1 d。 又,上述比較修正部1 d是進行來自第一信號轉換部1 b 的設定流量控制信號1 e,1 f與來自第二信號轉換部1 c的壓力 檢測値所求出的流量控制信號1 g的對比,若來自壓力檢測 器2的壓力檢測信號1P所算出的流量控制信號lg者大於設定 流量控制信號1 e,1 f時(亦即,供給流量Q較大,且處理室 內壓P比設定壓力位於正側而降低真空度時),是控制信號 1 e,1 f朝減少方向被修正,由此供給流量Q朝減少方向被修 正。又’相反地’藉由上述壓力檢測信號1 P所算出的流量 控制信號1 g小於設定流量控制信號1 e,1 f時(亦即,供給流 量Q不定’且處理室內壓P比設定壓力位於負側而上昇真空 度時)’則控制信號1 e ’ 1 f朝增加方向被修正,由此供給流 量Q成爲朝增加方向被修正。
在本發明,如第1圖的第一實施例所示地,將以壓力檢 測器2所檢測的處理室內壓的壓力檢測信號丨p使用作爲反 饋信號’修正對於各壓力式流量控制裝置F C S ( A ) ,F C S (B )的流量控制信號1 e,1 f,將修正後的控制信號]! e,i f 輸入於各壓力式流量控制裝置之故,因而處理室內壓P成爲 經常迅速地且高應答性被保持在設定値。 -16- 200532413 (13) 第2圖是表示上述控制裝置1的輸入設定部1 a的流量輸入 設定(% )與控制信號1 e,1 f的關係線圖。在第2圖中,曲 線L是表示小流量(1 〇 〇 S C C Μ )用壓力式流量控制裝置f C S (A )的控制信號1 e者,又曲線Η是表示水流量(3 000 SCCM )用壓力式流量控制裝置FCS ( Β )的控制信號if者, 例如在設定流量5 0 S C C Μ (設定流量% = 5 0 / 3 1 0 0 = 1 . 6 1 3 °/〇時 ,僅開動 FCS ( A ),控制信號 1 e,1 f=5 Vx 5 0/ 1 00 = 2.5 V 被 輸入至FCS ( A)。 同樣地,在設定流量爲2000 SCCM (設定流量 % = 2000/3 1 00 = 64.52% )時,FCS ( A )是以流量設定 %=100% 輸出100 SCCM的流量,控制信號le = 5V X 10〇/100 = 5乂被輸入至?03(八),又FCS(B)者是輸出流 量 1900 SCCM,成爲控制信號 lf=5Vx 1 9 00/3 00 = 3.17 V被輸 入至 FCS ( B )。 第3圖是表示第1圖的流體供給裝置A的各壓力式流量控 制裝置FCS ( A ) ,FCS ( B )的分擔控制流量Qi,Q2與對於 處理室E的全供給流量Q的關係者;全流量Q是成爲Q = 100/3 。設定%[僅開動FCS ( A ) ’ Q= 100 SCCM以下時)’又 Q = 3000/97。設定 % + 700/97 SCCM[開動 FCS ( A) ,FCS ( Β )的雙方,Q = 1 〇 〇 s C C M以上時)。
第4(a)圖至第4(c)圖是表示上述輸入設定部la的 控制信號上昇率設定機構1 a"的必需性的實驗資料;表示 開動 100 SCCM 的 FCS(A)與 3000 SCCM 的 FCS(B)的雙 方,將全流量由〇% ( 〇 SCCM )增加至1 〇〇% ( 3 1 〇〇 SCCM -17- 200532413 (14) )時的流量控制信號1 e及流量控制信號1 f的施加狀況,及 處理室壓力P (控制流量Q )的追隨性關係者。又,在該實 驗中,處理室排氣系統是被設定在全開狀態(調整閥V是 全開,真空泵VP以全輸出連續地被運轉的狀態)。 亦即,第4 ( a )圖是表示將對於輸入設定部1 a的設定 信號在約60 sec期間變化成0至100%時的處理室壓力P的變 化狀態者。 又,第4 ( b )圖是表示將對於輸入設定部1 a的設定信 號在約30 sec期間變化成0至100%時的處理室壓力P的變化 狀態者;又,第4 ( c )圖是表示將對於輸入設定部1 a的設 定信號階段狀變化時的處理室壓力P的變化狀態者。 在第4(a)圖及第4(b)圖中,可知處理室壓力P以 大約比例於流量設定% ( SET )的狀態下連續地增加,完 全地實現所謂壓力控制。 對於此,在第4 ( c )圖中,針對於流量設定% ( SET )的步驟變化[亦即,控制信號1 e (或流量Q !)及控制信 號1 f (或流量1 f (或流量Q2 )的步驟變化],可知對於處 理室的氣體供給流量Q是無法階段狀地變化,約2 0秒鐘, 處理室壓力P的控制無法追隨。 實施例2 第5圖是表示本發明的流體供給裝置的第二實施例的 設定流量與流量輸出的關係的線圖,在該第二實施例中, 使用額定流量1 〇 〇 S C C Μ與3 0 0 S C C Μ及5 0 0 S C C Μ的三台壓 -18- 200532413 (15) 力式流量控制裝置F C S ( A ) ,F C S ( B ) ,F C S ( C ),作 成對於5 SCCM至8100 SCCM的更廣的流量範圍內可進行 高精確度的流量控制的構成者。
在第5圖中,曲線L是表示1 0 S C C· Μ,曲線Η是表示3 0 0 SCCM,曲線Μ是表示5 0 0 0 S C C Μ的各壓力式流量控制裝 置FCS ( A ) ,FCS ( B ) ,FCS ( C )的流量特性者,又Q 是表示對於處理室E的供給流量者。 亦即,供給流量Q在1 0 0至3 1 0 0 S C C Μ以下時,藉由 Q = (3100-100)/(40-l) - (SET%-1) +100 =(3 0 0/3 9 ) · SET%+ ( 9 00/3 9 ) 求得流量Q。 又,供給流量Q在3 1 0 0至8 1 0 0 S C C Μ時,藉由 Q= ( 5 0 0/6 1 ) · SET%- ( 1 400/60 ) 求得流量Q。 又,在上述第1圖的第一實施例及第5圖的第二實施例 中’供給氣體Gs作爲一種類,惟在供給氣體Gs有二種類以 上GS1 ’ Gy .時,分別並到地設置複數台如第6圖所示地與 氣體種類數同類的第一實施例或如第二實施例的構成的氣體 供給裝置A,藉由切換開動切換閥,成爲將複數種氣體任意 地供給於處理室E。 又’在上述第一實施例或第二實施例中,將供給氣體 以或GS1 ’ Gy……作爲單獨種氣體,惟當然供給氣體(^或 GS1 ’ Gy…的任一爲例如Αι•與CF4的混合氣體(混合比率任 意)也可以。 -19- 200532413 (16) 以下,說明本發明的處理室的內壓控制裝置的開動。 參照第1圖,處理室E是具有1 1 <的內容積,其真空排 氣系統是由調整閥V與真空泵VP與管路L2與管路L2所形成 〇 又,在真空泵VP 使用具有30(W /min排氣量的真空 泵。 該處理室的內壓控制裝置是藉由將具有一定排氣能力 的真空泵VP連續地排氣的處理室E內的內壓P,利用詳細 地調整供給於其內部的流體流量Q,控制成W 2至l〇2Torr 左右的所定處理室壓力者。 參照第1圖,首先將調整閥V作成最大開度的狀態而 將真空排氣系統的流路阻力作成最小,同時開動真空泵 .VP而將處理室E真空抽引至對應於真空泵VP的排氣能力的 真空度。 之後,從事先求出的第7圖的處理室E及真空排氣系的 壓力一流量特性曲線,求出對於壓力P的供給氣體流量Q 。又,內壓P與供給流量Q之關係是被資料化,被記憶在 記億裝置。 然後,開動氣體供給裝置A,將爲了得到上述設定壓 力P所需要的流量Q的氣體Gs供給於處理室E內。 又,依供給氣體Gs的處理室E的內壓調整範圍,是真 空泵V P的排氣能力在一定條件下藉由調整閥V的開度調整 可加以變化,如下述地欲上昇(低真空度)處理室內壓時 ,則降低調整閥V的開度,而增大真空排氣系統的管路阻 -20- 200532413 (17) 力,又相反地欲降低(高真空度)處理室內壓時,則將調 整閥V作成全開狀態。 第7圖是表示上述第1圖的對於處理室E的供給流量Q 與處理室內壓P的關係線圖;表示將真空泵VP在額定下連 續運轉,同時將調整閥V作成最大開度或最小開度的狀態 時的壓力一流量特性者。 亦即,第7圖的曲線A是表示將調整V作成最大開度時 的壓力一流量特性者;曲線B是表示將調整閥V作成最小 開度狀態時的壓力一流量特性者。 又,曲線C是表示在處理室E內實現任意的處理條件( 1 )或處理條件(3 )的真空排氣系統的任意電導的力一流 量特性。 由第7圖也可知,在第1圖的處理室E及真空排氣系統中 ,藉由在5至3 100 SCCM之間流量控制對於處理室E的氣體供 給流量Q,同時適當地調整真空排氣系統的電導,可調整以 記(1 ) — ( 4 ) — ( 5 ) — ( 3 ) — ( 2 ) — ( 7 ) — ( 6 )所 圍繞的流量,壓力範圍,亦即若爲壓力,可調整處理室E內 的力在1 0至0.8 X 1 0 _ 1 Τ ο 1· r範圍。 當然,藉由變更真空排氣系的構成(真空排氣系統的 電導或真空排氣泵VP的排氣能力等)或流體供給裝置A的流 量控制範圍,上述第7圖的流量,壓力的調整範圍是成爲變 化,因應於在處理室E所要求的條件,流體供給裝置A的流 量範圍或真空排氣泵VP的排氣能力是適當地被選定。 又,藉由將氣體Gv經壓力式流量控制裝置4供給於真 -21 - 200532413 (18) 空泵VP (或是排氣管路l3 ),來調整真空泵VP的排氣能 力,由此也可將處理E的內壓保持在所定壓力値。 又,在上述第1圖的實施例中,將處理室E的內壓作爲 1 〇 5至1 〇 2 T 〇 r r左右,惟藉由變更壓力計及壓力式流量控 制裝置4的流量範圍,也可控制10+ 7至10— 6T〇rr左右的處 理室E的內壓。 又,在半導體製造裝置等,壓力控制範圍是通常被選定 在1(Τ 2至1(Τ Ιοί:!:的範圍,而流量控制範圍Q是被選定在3 SCCM 至 500 0 SCCM 的範圍。 又,壓力調整用而作爲供給至宜泵VP內的氣體Gv,利 用He或Ar等惰性氣體或是這些的混合氣體。 本發明是可利用在半導體製造裝置等的處理室以及對 於處理室的控制氣體的供給量或控制處理室的內壓等。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明的處理室的內壓控制裝置的第一 實施例的整體系統圖。 第2圖是表示第1圖的處理室的內壓控制裝置的輸入 設定(%)與控制信號(%)的關係的線圖。 第3圖是表示第1圖的處理室的內壓控制裝置的流量 設定(% )與各壓力式流量控制裝置的流量SCCM及對於 處理室E的供給流量Q的關係的線圈。 第4圖是表示對於第1圖的處理室的內壓控制裝置的 各壓力式流量控制裝置的控制信號的輸入狀態,與各壓力 - 22- 200532413 (19) 式流量控制裝置的流量輸出Q!,Q2及處理室內的壓力P 的關係的線圖;第4 ( a )圖是表示在60 sec期間將兩台壓 力式流量控制裝置的流量從〇 %變更至1 〇 〇 %的情形者;第 4 ( b )圖是表示在3〇Sec期間將流量從0%變更至100%的 情形者;第4 ( c )圖是表示階段狀地將流量從0%變更至 1 0 0 %的情形者。 第5圖是表示使用三台的壓力式流量控制裝置的本發 明的第二實施例的處理室的內壓控制裝置的流量設定 (% ),與控制流量Q的關係的線圖。 第6圖是表示使用複數氣體供給設備的處理室的內壓 控制裝置的實施例的整體系統圖。 第7圖是表示圖示於第1圖的處理室的內壓控制裝置 的可控制的處理室內壓P,及供給流量Q的關係的線圖。 第8圖是表示使用習知的壓力式流量控制裝置的對於 處理室的流體供給裝置的說明圖。 第9圖是表示壓力式流量控制裝置的構成圖。 第1 〇圖是表示習知的處理室的真空排氣系統的說明 圖。 【主 要元件 符號說明 ] A 氣 體 G s 供 給 FCS (A ) 小 流 FCS (B ) 大 流 供給裝置 量用壓力式流量控制裝置 量用壓力式流量控制裝置 -23- 200532413 (20) E P Q丨 Q2 Q V VP V i 〜v3 Li L2,l3 1 la 1 a1 , 1 a lb, 1 c
Id IP1 g , 1e’ , 1f lk 4 5 處理室 處理室內壓 小流量用壓力式流量控制裝置 FCS (A )的控制流量 是大流量用壓力式流量控制裝置 FC S (B )的控制流量 是對於處理室的供給流量 是調整閥 真空泵 控制閥 氣體供給管 排氣管 控制裝置 流量輸入設定部(流量%設定機構) 控制信號上昇率設定機構 信號轉換部 比較修正部 壓力檢測信號 1 f ’控制信號 切換操作部 壓力檢測器 壓力計 壓力式流量控制裝置 切換閥 -24-
Claims (1)
- 200532413 (1) 十、申請專利範圍 1 . 一種處理室的內壓控制裝置屬於具有:供給氣體 輸入部,及供給氣體輸出部,及配置於該氣體輸入部與氣 體輸出部之間的氣體流量控制部,及將接受上述供給氣體 輸出的處理室的壓力資料給於上述氣體流量控制部的手段的 處理室的內壓控制裝置,其特徵爲:上述氣體流量控制部 是具備並列狀連接的複數台,壓力式流量控制裝置及控制 上述複數台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置;上述壓 力式流量控制裝置包含:孔口,及孔口上游側的壓力檢測 器,及設於壓力檢測器的上游側的控制閥,及藉由Qc = KP! (式中K是常數)來演算從壓力檢測器的檢測壓力P !通過 孔口的氣體流量Qc而將與設定流量Qs的相差Qy輸出至控 制閥作爲驅動用信號的演算控制部所形成;作成將孔口上游 側壓力Pi保持在下游側壓力P2的約兩倍以上的狀態下所使用 的壓力式流量控制裝置,同時將上述複數台中的一台壓力 式流量控制裝置作爲控制供給於處理室的最大流量的最多 10%的氣體流量域的裝置,並將剩餘的壓力式流量控制裝置 作爲控制殘餘的氣體流量域的裝置;將上述壓力資料輸入至 上述控制裝置並調整對於上述壓力式流量控制裝置的控制信 號來控制對於上述氣體輸出部的氣體供給量。 2.如申請專利範圍第1項所述的處理室的內壓控制裝 置,其中,控制裝置是具備:設定供給於處理室的氣體流 量的輸入設定部,及將對於該輸入設定部的輸入値轉換成 流控制信號的第一信號轉換部,及將處理室內的檢測壓力 -25- (2) 200532413 轉換成流量控制信號的第二信號轉換部,及來自兩 換部的流量控制信號的比較修正部;作爲將所修正 信號從上述比較修正部發送至合壓力式流量控制裝 控制對於處理室的氣體供給量的構成者。 3. 如申請專利範圍第1項所述的處理室的內壓 置,其中,將並列狀地連接的壓力式流量控制裝置 台,其中一台作爲控制小流量域的小流量範圍的壓 量控制裝置,另一台作爲控制大流量域的大流量範 力式流量控制裝置者。 4. 如申請專利範圍第1項所述的處理室的內壓控 ,其中,將並列狀連接的壓力式流量控制裝置所爲 其將水流量用的壓力式流量控制裝置的流量控制域作 於處理室的最大流量的0.1至10%,又將大流量用的壓 量控制裝置的流量控制域作成供給於處理室的最大流 至1 0 0 %者。 5. 如申請專利範圍第1項或第3項所述的處理室 控制裝置,其中,藉由從控制裝置的信號轉換部所依次地開動複數台壓力式流量控制裝置的構成者。 6 .如申請專利範圍第1項所述的處理室的內壓控 ,其中,藉由將氣體流入至真空排氣系統,作成將 度可變更的真空排氣系統者。 7 .如申請專利範圍第1項所述的處理室的內壓 置,其中,將並列狀地連接的複數台的壓力式流量 信號轉 的控制 置,並 控制裝 作爲兩 力式流 圍的壓 制裝置 兩台7 成供給 力式流 量的10 的內壓 發送的 制裝置 制裝置 排氣速 控制裝 控制裝 -26- 200532413 (3) 置至少設四單元,作成將複數種類的氣體供給於處理室的 構成者。 8 .如申請專利範圍第2項所述的處理室的內壓控制裝 置,其中,將發送至分擔各流量域的壓力式流量控制裝置 的控制信號的上昇率設定機構設於控制裝置,在從上述控 制信號之發送經過所定時間後,作成該壓力式流量控制裝 置供給設定流量的氣體流量的構成者。 9. 一種內壓被控制式處理室,其特徵爲:包含藉由真 空泵所排氣的處理室及將所期望的氣體流量加以控制並供給 於該處理室的氣體供給手段;上述氣體供給手段是具備並列 狀地連接的複數台壓力式流量控制裝置,及控制上述複數 台壓力式流量控制裝置的開動的控制裝置;上述壓力式流量 控制裝置包含:孔口,及孔口上游側的壓力檢測器,及設 於壓力檢測器的上游側的控制閥,及藉由Qc = KP!(式中K 是常數)來演算從壓力檢測器的檢測壓力 P !通過孔口的 氣體流量Q c而將與設定流量Q s的相差Q y輸出至控制閥 作爲驅動用信號的演算控制部所形成;作成將孔口上游側壓 力P!保持在下游側壓力P:的約兩倍以上的狀態下所使用的 壓力式流量控制裝置,同時將上述複數台中的一台壓力式 流量控制裝置作爲控制供給於處理室的最大流量的最多1 0% 的氣體流量域的裝置,並將剩餘的壓力式流量控制裝置作 爲控制殘餘的氣體流量域的裝置;又在上述處理室設置壓力 檢測器,同時將該壓力檢測器的檢測値輸入至上述控制裝 置,藉由調整對於上述壓力式流量控制裝置的控制信號來 -27- 200532413 (4) 控制對於處理室的氣體供給量,作爲廣範圍地高精確度控 制處理室內壓的構成,作成發明的基本構成者。 -28-
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